JPH05115B2 - - Google Patents
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- JPH05115B2 JPH05115B2 JP59223280A JP22328084A JPH05115B2 JP H05115 B2 JPH05115 B2 JP H05115B2 JP 59223280 A JP59223280 A JP 59223280A JP 22328084 A JP22328084 A JP 22328084A JP H05115 B2 JPH05115 B2 JP H05115B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- anion exchange
- pure water
- ultraviolet irradiation
- water
- water production
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
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- Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
Description
［産業上の利用分野］
本発明は純水製造装置に係り、特に紫外線照射
装置とアニオン交換装置とを組合せた水処理装置
において、所定の処理水質を維持しながらこの紫
外線照射装置における電力消費を低減することが
できるよう改良された純水製造装置に関する。 ［従来の技術］ 近年、LSIや超LSIの開発・量産が盛んに行わ
れている。このLSIや超LSIの製造においては、
多くの洗浄工程で純水が用いられていることか
ら、純水の製造技術についても種々研究がなされ
ており、超純水（理論純水に極めて近い純水）の
製造技術が開発されている。 純水は、通常、凝集、濾過、イオン交換処理法
などによつて製造されている。しかしながらこの
ような方法では細菌の除去は不可能であり、かつ
有機物、特に微量の有機物が処理水に残留するた
め、たとえば半導体製造に使用される超純水の要
求水質としては不十分であつた。 即ち、一般に天然水はタンニンやリグニンなど
の腐敗した動植物から由来する有機物質、微生物
たとえばシユードモナス、アクロバクター、エア
ロベクターなどを含有する。これらの有機物は凝
集濾過、逆浸透膜による処理、限外濾過膜による
処理、イオン交換法など、あるいはこれらを組合
せた処理方法によつても完全には除去できず、処
理水中にはなお微量の有機物が残存するのであ
る。 純水中の残存有機物濃度を減少させる処理方法
として、イオン交換処理や逆浸透処理された１次
処理水に紫外線を照射した後、陽イオン交換樹脂
と陰イオン交換樹脂からなる混合床にて仕上げ処
理する方法が公知である（例えば特公昭54−
19227、同56−28191）。 かかる、紫外線照射工程を内包する純水製造プ
ロセスによれば、１次処理水中に残存する微量有
機物質がイオン化され、この生じたイオン化物質
が混合イオン交換樹脂床にて除去されるので、そ
れだけ有機物濃度の低い純水が製造される。 ［従来の技術］ しかしながら、従来の紫外線照射工程を内包す
る純水製造プロセスにおいて、残存有機物濃度を
下げるには、極めて多量の紫外線を照射せねばな
らず、紫外線照射装置の電力消費量が多くならざ
るを得なかつた。 即ち、紫外線を照射することにより、有機物質
はイオン化物質に酸化分解され、紫外線照射量を
増加させればそれだけ多くの有機物質をイオン化
され得る。ところが、照射された紫外線のエネル
ギーにより、イオン化物質はさらに低分子化合物
にまで分解されるようになり、多量に照射された
紫外線のエネルギー量のうち少なからぬ部分がイ
オン反応以外の低分子反応に使用されてしまうの
である。（例えば、タンニンやリグニンなどに由
来する有機物質は紫外線によりギ酸、酢酸等の有
機酸に分解される。そして、さらに紫外線エネル
ギーが系に供給される場合には、CO2、N2、
H2Oにまで分解される。） このような、紫外線エネルギーの無駄な消費を
抑制するために紫外線照射量を減少させた場合に
は、イオン化物質生成量が少なくなり、残存有機
質濃度が高くなつてしまう。 以上のように、従来装置においては、高純度な
処理水を得るために原水中の有機物の酸化分解率
が高くなるように装置を運転した場合、紫外線照
射により、原水中の有機物が有機酸に酸化分解さ
れるにとどまらず、さらにCO2、N2、H2O等に
まで酸化分解される、いわば過剰酸化が行なわれ
ることとなり、電力効率が悪いという問題が生じ
ていた。 ［問題点を解決するための手段］ 本発明は上記従来の問題点を解決するために、
紫外線照射とこれにより生じたイオン化物質に除
去を行なう１処理工程を複数回行ない得るよう構
成したものであつて、 被処理水に紫外線を照射する紫外線照射装置
と、該紫外線照射装置からの処理水を処理するア
ニオン交換装置とから成る純水製造装置単位体
を、複数個直列に接続すると共に、最後段の純水
製造装置単位体の後段に混床式イオン交換装置を
設けてなることを特徴とする純水製造装置、 を要旨とするものである。 以下に本発明を本発明の純水製造装置の一実施
例を示す第１図を参照しながら詳細に説明する。 本発明の純水製造装置は、第１図に示す如く、
紫外線照射装置とアニオン交換装置とからなる純
水製造装置単位体１，２を複数個（第１図おいて
は２個）直列に接続すると共に、最後段の純水製
造装置単位体の後段に混床式イオン交換装置を設
けてなるものである。 第１図の純水製造装置においては、原水はまず
第１の紫外線照射装置１１ａに導入されて紫外線
照射され、これにより、含有される有機物の多く
が有機酸に酸化される。 有機酸を含む液は、次に第１のアニオン交換装
置１２ａに導入され、有機酸が除去される。第１
のアニオン交換装置１２ａを通過した液は、なお
少量の有機物を含有するが、この残留有機物は第
２の紫外線照射装置１１ｂにおいて紫外線照射さ
れてほぼ完全に有機酸に分解され、分解された有
機酸は第２のアニオン交換装置１２ｂにおいて除
去される。 このように、紫外線照射及びアニオン交換処理
を複数回施された液は、有機物を殆んど含まない
純度の高い純水となるが、第１図の如く更に混床
式イオン交換装置１３を付設し、混床式イオン交
換装置１３を通過させることにより、より純度の
高い純水となることができる。 第１図においては、純水製造装置単位体を２個
有する装置を記したが、本発明の装置は、この単
位体を３個以上有するものでもよい。 単位体の設置数は、原水中の有機物組成及び濃
度、目的とする処理水のTOC濃度等に基き、最
も効率的な処理が行われる段数を適宜選定すれば
良い。 また紫外線照射装置４における、有機物の酸化
分解をより完全なものとするために、酸化剤とし
て過酸化水素を添加し、過酸化水素存在下で紫外
線を照射して処理するのが好ましい。 この場合には、アニオン交換装置には過酸化水
素を分解し得る触媒樹脂を充填し、紫外線照射装
置からの液を触媒樹脂と接触させ過酸化水素を除
去するのが好ましい。 触媒樹脂としてはアニオン交換樹脂にパラジウ
ムを担持させたものが用いられ、その担持量はア
ニオン交換樹脂に対し0.1〜10％程度とするのが
好ましい。 アニオン交換樹脂としては、スチレン−ジビニ
ルベンゼン共重合体を母体とした強塩基性アニオ
ン交換樹脂が好適である。アニオン交換樹脂のイ
オン形は、Cl形でもOH形でも良いが、OH形の
方が処理能力が大きくより好ましい。Cl形のアニ
オン交換樹脂をOH形とするには、これに水酸化
ナトリウム等のアルカリを通液するのが良い。 アニオン交換樹脂にパラジウムを担持させるに
は、アニオン交換樹脂をカラムに充填し、次いで
演歌パラジウムの酸性溶液を通水するのが良い。
その際、パラジウム担持量は0.2〜10ｇ−Pd／
−樹脂程度とするのが好適である。 触媒樹脂としては具体的にはLewait OC−1045（パラジウムを担持したCl形強塩基アニ
オン交換樹脂、バイエル社製）あるいはこれを
OH形としたものなどが挙げられる。 なお、混床式イオン交換装置１３の混床を構成
する樹脂としては、強酸性カチオン交換樹脂のＨ
形と強塩基性アニオン交換樹脂のOH形とを混合
して用いる。具体的にはダイヤイオン （三菱化
成工業(株)製）とダイヤイオン PK228（同社製）
とを混合したものが好適である。 ［作用］ 本発明の純水製造装置によれば、紫外線照射に
よる酸化処理とアニオン交換処理とからなる処理
を、複数回施す。 即ち、本発明の装置においては、第１段目の紫
外線照射により原水中の有機酸の段階まで分解さ
れ、この有機酸は後続のアニオン交換装置で除去
される。アニオン交換装置を通過した液になお残
留する有機物は、その殆んどが、第２段目又はそ
れ以降の紫外線照射により有機酸に分解され、第
２段目又はそれ以降のアニオン交換装置により除
去される。 従つて、本発明装置においては、従来装置の如
く、１つの紫外線照射装置において、原水中の有
機物をほぼ完全に分解するために紫外線照射量を
高める必要がなく、電力効率の向上及び使用電力
量の低減を図ることが可能となる。また、各々の
紫外線照射装置に対する原水負荷が大幅に低減さ
れることから、これを小型化することができ、全
体の装置の小型化を図ることも可能となる。 しかも、最後段の純水製造装置単位体の後段に
混床式イオン交換装置を設けてあるため、より一
層純度の高い純水を得ることができる。 ［実施例］ 以下に比較例及び実施例を挙げて、本発明を更
に具体的に説明するが、本発明はその要旨を越え
ない限り以下の実施例に限定されるものではな
い。 なお実施例及び比較例で用いた原水の組成、紫
外線酸化装置及びアニオン交換装置の使用は以下
の通りである。 (イ) 原水組成 電気電導度 1.0μs／ｍ メタール 55ppm TOC 20ppm (ロ) 紫外線照射装置 反応槽容量 12.5 紫外線ランプ 0.4KW (ハ) アニオン交換装置 樹脂塔 215mmφ×500mmＨ アニオン交換樹脂 OC1045 触媒樹脂 Lewait200ml 再生剤 NaOH 比較例 １ 第２図の純水製造装置単位体を１個とした比較
のための装置を用い、原水12.5にH2O271ppm
（理論量の66％）を添加し、まず紫外線照射装置
１１において25分間紫外線照射し、その後アニオ
ン交換装置１２に通水し、処理水を得た。 紫外線照射の前後の液及び処理水について、
TOC濃度、H2O2濃度、電気電導度及びPHを測定
した結果を表１に示す。
装置とアニオン交換装置とを組合せた水処理装置
において、所定の処理水質を維持しながらこの紫
外線照射装置における電力消費を低減することが
できるよう改良された純水製造装置に関する。 ［従来の技術］ 近年、LSIや超LSIの開発・量産が盛んに行わ
れている。このLSIや超LSIの製造においては、
多くの洗浄工程で純水が用いられていることか
ら、純水の製造技術についても種々研究がなされ
ており、超純水（理論純水に極めて近い純水）の
製造技術が開発されている。 純水は、通常、凝集、濾過、イオン交換処理法
などによつて製造されている。しかしながらこの
ような方法では細菌の除去は不可能であり、かつ
有機物、特に微量の有機物が処理水に残留するた
め、たとえば半導体製造に使用される超純水の要
求水質としては不十分であつた。 即ち、一般に天然水はタンニンやリグニンなど
の腐敗した動植物から由来する有機物質、微生物
たとえばシユードモナス、アクロバクター、エア
ロベクターなどを含有する。これらの有機物は凝
集濾過、逆浸透膜による処理、限外濾過膜による
処理、イオン交換法など、あるいはこれらを組合
せた処理方法によつても完全には除去できず、処
理水中にはなお微量の有機物が残存するのであ
る。 純水中の残存有機物濃度を減少させる処理方法
として、イオン交換処理や逆浸透処理された１次
処理水に紫外線を照射した後、陽イオン交換樹脂
と陰イオン交換樹脂からなる混合床にて仕上げ処
理する方法が公知である（例えば特公昭54−
19227、同56−28191）。 かかる、紫外線照射工程を内包する純水製造プ
ロセスによれば、１次処理水中に残存する微量有
機物質がイオン化され、この生じたイオン化物質
が混合イオン交換樹脂床にて除去されるので、そ
れだけ有機物濃度の低い純水が製造される。 ［従来の技術］ しかしながら、従来の紫外線照射工程を内包す
る純水製造プロセスにおいて、残存有機物濃度を
下げるには、極めて多量の紫外線を照射せねばな
らず、紫外線照射装置の電力消費量が多くならざ
るを得なかつた。 即ち、紫外線を照射することにより、有機物質
はイオン化物質に酸化分解され、紫外線照射量を
増加させればそれだけ多くの有機物質をイオン化
され得る。ところが、照射された紫外線のエネル
ギーにより、イオン化物質はさらに低分子化合物
にまで分解されるようになり、多量に照射された
紫外線のエネルギー量のうち少なからぬ部分がイ
オン反応以外の低分子反応に使用されてしまうの
である。（例えば、タンニンやリグニンなどに由
来する有機物質は紫外線によりギ酸、酢酸等の有
機酸に分解される。そして、さらに紫外線エネル
ギーが系に供給される場合には、CO2、N2、
H2Oにまで分解される。） このような、紫外線エネルギーの無駄な消費を
抑制するために紫外線照射量を減少させた場合に
は、イオン化物質生成量が少なくなり、残存有機
質濃度が高くなつてしまう。 以上のように、従来装置においては、高純度な
処理水を得るために原水中の有機物の酸化分解率
が高くなるように装置を運転した場合、紫外線照
射により、原水中の有機物が有機酸に酸化分解さ
れるにとどまらず、さらにCO2、N2、H2O等に
まで酸化分解される、いわば過剰酸化が行なわれ
ることとなり、電力効率が悪いという問題が生じ
ていた。 ［問題点を解決するための手段］ 本発明は上記従来の問題点を解決するために、
紫外線照射とこれにより生じたイオン化物質に除
去を行なう１処理工程を複数回行ない得るよう構
成したものであつて、 被処理水に紫外線を照射する紫外線照射装置
と、該紫外線照射装置からの処理水を処理するア
ニオン交換装置とから成る純水製造装置単位体
を、複数個直列に接続すると共に、最後段の純水
製造装置単位体の後段に混床式イオン交換装置を
設けてなることを特徴とする純水製造装置、 を要旨とするものである。 以下に本発明を本発明の純水製造装置の一実施
例を示す第１図を参照しながら詳細に説明する。 本発明の純水製造装置は、第１図に示す如く、
紫外線照射装置とアニオン交換装置とからなる純
水製造装置単位体１，２を複数個（第１図おいて
は２個）直列に接続すると共に、最後段の純水製
造装置単位体の後段に混床式イオン交換装置を設
けてなるものである。 第１図の純水製造装置においては、原水はまず
第１の紫外線照射装置１１ａに導入されて紫外線
照射され、これにより、含有される有機物の多く
が有機酸に酸化される。 有機酸を含む液は、次に第１のアニオン交換装
置１２ａに導入され、有機酸が除去される。第１
のアニオン交換装置１２ａを通過した液は、なお
少量の有機物を含有するが、この残留有機物は第
２の紫外線照射装置１１ｂにおいて紫外線照射さ
れてほぼ完全に有機酸に分解され、分解された有
機酸は第２のアニオン交換装置１２ｂにおいて除
去される。 このように、紫外線照射及びアニオン交換処理
を複数回施された液は、有機物を殆んど含まない
純度の高い純水となるが、第１図の如く更に混床
式イオン交換装置１３を付設し、混床式イオン交
換装置１３を通過させることにより、より純度の
高い純水となることができる。 第１図においては、純水製造装置単位体を２個
有する装置を記したが、本発明の装置は、この単
位体を３個以上有するものでもよい。 単位体の設置数は、原水中の有機物組成及び濃
度、目的とする処理水のTOC濃度等に基き、最
も効率的な処理が行われる段数を適宜選定すれば
良い。 また紫外線照射装置４における、有機物の酸化
分解をより完全なものとするために、酸化剤とし
て過酸化水素を添加し、過酸化水素存在下で紫外
線を照射して処理するのが好ましい。 この場合には、アニオン交換装置には過酸化水
素を分解し得る触媒樹脂を充填し、紫外線照射装
置からの液を触媒樹脂と接触させ過酸化水素を除
去するのが好ましい。 触媒樹脂としてはアニオン交換樹脂にパラジウ
ムを担持させたものが用いられ、その担持量はア
ニオン交換樹脂に対し0.1〜10％程度とするのが
好ましい。 アニオン交換樹脂としては、スチレン−ジビニ
ルベンゼン共重合体を母体とした強塩基性アニオ
ン交換樹脂が好適である。アニオン交換樹脂のイ
オン形は、Cl形でもOH形でも良いが、OH形の
方が処理能力が大きくより好ましい。Cl形のアニ
オン交換樹脂をOH形とするには、これに水酸化
ナトリウム等のアルカリを通液するのが良い。 アニオン交換樹脂にパラジウムを担持させるに
は、アニオン交換樹脂をカラムに充填し、次いで
演歌パラジウムの酸性溶液を通水するのが良い。
その際、パラジウム担持量は0.2〜10ｇ−Pd／
−樹脂程度とするのが好適である。 触媒樹脂としては具体的にはLewait OC−1045（パラジウムを担持したCl形強塩基アニ
オン交換樹脂、バイエル社製）あるいはこれを
OH形としたものなどが挙げられる。 なお、混床式イオン交換装置１３の混床を構成
する樹脂としては、強酸性カチオン交換樹脂のＨ
形と強塩基性アニオン交換樹脂のOH形とを混合
して用いる。具体的にはダイヤイオン （三菱化
成工業(株)製）とダイヤイオン PK228（同社製）
とを混合したものが好適である。 ［作用］ 本発明の純水製造装置によれば、紫外線照射に
よる酸化処理とアニオン交換処理とからなる処理
を、複数回施す。 即ち、本発明の装置においては、第１段目の紫
外線照射により原水中の有機酸の段階まで分解さ
れ、この有機酸は後続のアニオン交換装置で除去
される。アニオン交換装置を通過した液になお残
留する有機物は、その殆んどが、第２段目又はそ
れ以降の紫外線照射により有機酸に分解され、第
２段目又はそれ以降のアニオン交換装置により除
去される。 従つて、本発明装置においては、従来装置の如
く、１つの紫外線照射装置において、原水中の有
機物をほぼ完全に分解するために紫外線照射量を
高める必要がなく、電力効率の向上及び使用電力
量の低減を図ることが可能となる。また、各々の
紫外線照射装置に対する原水負荷が大幅に低減さ
れることから、これを小型化することができ、全
体の装置の小型化を図ることも可能となる。 しかも、最後段の純水製造装置単位体の後段に
混床式イオン交換装置を設けてあるため、より一
層純度の高い純水を得ることができる。 ［実施例］ 以下に比較例及び実施例を挙げて、本発明を更
に具体的に説明するが、本発明はその要旨を越え
ない限り以下の実施例に限定されるものではな
い。 なお実施例及び比較例で用いた原水の組成、紫
外線酸化装置及びアニオン交換装置の使用は以下
の通りである。 (イ) 原水組成 電気電導度 1.0μs／ｍ メタール 55ppm TOC 20ppm (ロ) 紫外線照射装置 反応槽容量 12.5 紫外線ランプ 0.4KW (ハ) アニオン交換装置 樹脂塔 215mmφ×500mmＨ アニオン交換樹脂 OC1045 触媒樹脂 Lewait200ml 再生剤 NaOH 比較例 １ 第２図の純水製造装置単位体を１個とした比較
のための装置を用い、原水12.5にH2O271ppm
（理論量の66％）を添加し、まず紫外線照射装置
１１において25分間紫外線照射し、その後アニオ
ン交換装置１２に通水し、処理水を得た。 紫外線照射の前後の液及び処理水について、
TOC濃度、H2O2濃度、電気電導度及びPHを測定
した結果を表１に示す。
【表】
比較例 ２
原水12.5にH2O2120ppm（理論必要量）を添
加し、アニオン交換装置を使用せず紫外線照射装
置のみによりTOC除去を行なつたところ、処理
水のTOC濃度が1.7ppmになるのに60分間の紫外
線照射が必要であつた。 実施例 １ 第１図に示す実施例装置を用いて原水の処理を
行つた。即ち、原水12.5にH2O270ppmを添加
し、第１の紫外線照射装置において25分間紫外線
照射し、その後第１のアニオン交換装置に通水す
る。第２のアニオン交換装置から排出される液を
第２の紫外線照射装置において10分間紫外線照射
し、その後第２のアニオン交換装置に通液した
後、混床式イオン交換装置に通液し処理水を得
た。（即ち、本実施例における処理は、比較例１
で得られた処理水を更に10分間紫外線照射し、そ
の後、触媒樹脂床及び混床式イオン交換を行なつ
たものに相当する。） 第２の紫外線照射前の液（比較例１で得られた
処理水に相当）、第２の紫外線照射後の液、第２
のアニオン交換装置出口の液及び混床式イオン交
換装置出口の液（処理水）について、TOC濃度、
H2O2濃度、電気電導度及びPHを測定した結果を
表２に示す。
加し、アニオン交換装置を使用せず紫外線照射装
置のみによりTOC除去を行なつたところ、処理
水のTOC濃度が1.7ppmになるのに60分間の紫外
線照射が必要であつた。 実施例 １ 第１図に示す実施例装置を用いて原水の処理を
行つた。即ち、原水12.5にH2O270ppmを添加
し、第１の紫外線照射装置において25分間紫外線
照射し、その後第１のアニオン交換装置に通水す
る。第２のアニオン交換装置から排出される液を
第２の紫外線照射装置において10分間紫外線照射
し、その後第２のアニオン交換装置に通液した
後、混床式イオン交換装置に通液し処理水を得
た。（即ち、本実施例における処理は、比較例１
で得られた処理水を更に10分間紫外線照射し、そ
の後、触媒樹脂床及び混床式イオン交換を行なつ
たものに相当する。） 第２の紫外線照射前の液（比較例１で得られた
処理水に相当）、第２の紫外線照射後の液、第２
のアニオン交換装置出口の液及び混床式イオン交
換装置出口の液（処理水）について、TOC濃度、
H2O2濃度、電気電導度及びPHを測定した結果を
表２に示す。
【表】
表２より本発明の純水製造装置により紫外線照
射とアニオン交換との処理を２回行ない、更に混
床式イオン交換処理を行なうことにより処理水中
のTOCは0.05ppm以下に低減され、極めて高純
度な超純水が得られることが認められる。また処
理時間も短い。 比較例 ３ 比較例１、２において、処理水のTOC濃度が
0.05ppmとなるように紫外線照射を行つた。 そのときの照射時間及び紫外線照射装置の消費
電力量の計測結果を表３に示す。
射とアニオン交換との処理を２回行ない、更に混
床式イオン交換処理を行なうことにより処理水中
のTOCは0.05ppm以下に低減され、極めて高純
度な超純水が得られることが認められる。また処
理時間も短い。 比較例 ３ 比較例１、２において、処理水のTOC濃度が
0.05ppmとなるように紫外線照射を行つた。 そのときの照射時間及び紫外線照射装置の消費
電力量の計測結果を表３に示す。
【表】
表３より、実施例装置における紫外線照射装置
の消費電力量は比較例に較べ著しく少ないことが
明らかである。 ［効果］ 以上詳述した通り、本発明の純水製造装置によ
れば、紫外線照射とアニオン交換とからなる処理
を複数回行ない、更に、混床式イオン交換処理を
行なうことができる。こと処理により、TOC濃
度の極めて低い純度の高い純水を短時間で製造す
ることが可能となる。しかも、有機物の過剰酸化
による電力のムダな消費が回避され、紫外線酸化
に必要な電力量を低減することができ、未分解の
酸化剤（H2O2）も殆ど完全に除去することがで
きる。従つて、本発明の装置によれば、装置のラ
ンニングコストを大幅に低減することができ、ま
た装置の小型化も可能となり、経済的、工業的に
極めて有利である。
の消費電力量は比較例に較べ著しく少ないことが
明らかである。 ［効果］ 以上詳述した通り、本発明の純水製造装置によ
れば、紫外線照射とアニオン交換とからなる処理
を複数回行ない、更に、混床式イオン交換処理を
行なうことができる。こと処理により、TOC濃
度の極めて低い純度の高い純水を短時間で製造す
ることが可能となる。しかも、有機物の過剰酸化
による電力のムダな消費が回避され、紫外線酸化
に必要な電力量を低減することができ、未分解の
酸化剤（H2O2）も殆ど完全に除去することがで
きる。従つて、本発明の装置によれば、装置のラ
ンニングコストを大幅に低減することができ、ま
た装置の小型化も可能となり、経済的、工業的に
極めて有利である。
第１図は本発明の純水製造装置の一実施例を示
す系統図、第２図は純水製造装置単位体を１個と
した比較のための装置を示す系統図である。 １，２……純水製造装置単位体、１１，１１
ａ，１１ｂ……紫外線照射装置、１２，１２ａ，
１２ｂ……イオン交換装置、１３……混床式イオ
ン交換装置。
す系統図、第２図は純水製造装置単位体を１個と
した比較のための装置を示す系統図である。 １，２……純水製造装置単位体、１１，１１
ａ，１１ｂ……紫外線照射装置、１２，１２ａ，
１２ｂ……イオン交換装置、１３……混床式イオ
ン交換装置。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 被処理水に紫外線を照射する紫外線照射装置
と、該紫外線照射装置からの処理水を処理するア
ニオン交換装置とから成る純水製造装置単位体
を、複数個直列に接続すると共に、最後段の純水
製造装置単位体の後段に混床式イオン交換装置を
設けてなることを特徴とする純水製造装置。 ２ 紫外線が照射される被処理水に過酸化水素が
添加されており、アニオン交換装置内には過酸化
水素分解可能なアニオン交換樹脂が存在すること
を特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の純水
製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22328084A JPS61101292A (ja) | 1984-10-24 | 1984-10-24 | 純水製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22328084A JPS61101292A (ja) | 1984-10-24 | 1984-10-24 | 純水製造装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3304622A Division JP2500968B2 (ja) | 1991-11-20 | 1991-11-20 | 純水製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61101292A JPS61101292A (ja) | 1986-05-20 |
| JPH05115B2 true JPH05115B2 (ja) | 1993-01-05 |
Family
ID=16795650
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22328084A Granted JPS61101292A (ja) | 1984-10-24 | 1984-10-24 | 純水製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61101292A (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP3558378B2 (ja) * | 1994-09-05 | 2004-08-25 | 野村マイクロ・サイエンス株式会社 | 水処理方法 |
| US6342105B1 (en) * | 1997-11-21 | 2002-01-29 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Washing solution for ink jet head, method for producing the same, and method for washing ink jet head using the same |
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-
1984
- 1984-10-24 JP JP22328084A patent/JPS61101292A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61101292A (ja) | 1986-05-20 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |