JPH1128482A - 純水製造方法 - Google Patents
純水製造方法Info
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- JPH1128482A JPH1128482A JP18646597A JP18646597A JPH1128482A JP H1128482 A JPH1128482 A JP H1128482A JP 18646597 A JP18646597 A JP 18646597A JP 18646597 A JP18646597 A JP 18646597A JP H1128482 A JPH1128482 A JP H1128482A
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- Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 オゾン酸化によるＴＯＣの分解効率を高め、
著しく低ＴＯＣ濃度の純水を製造する。 【解決手段】 原水を脱イオン処理した後、オゾン酸化
処理し、生成したイオン性物質をイオン交換処理する純
水製造方法において、オゾン酸化処理をｐＨ９以上で行
う。
著しく低ＴＯＣ濃度の純水を製造する。 【解決手段】 原水を脱イオン処理した後、オゾン酸化
処理し、生成したイオン性物質をイオン交換処理する純
水製造方法において、オゾン酸化処理をｐＨ９以上で行
う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子工業、医薬品
工業或いは食品工業等に用いられる純水の製造方法に係
り、特に、ＴＯＣが著しく低く、極めて高純度の純水を
製造することができる方法に関する。
工業或いは食品工業等に用いられる純水の製造方法に係
り、特に、ＴＯＣが著しく低く、極めて高純度の純水を
製造することができる方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】超高密度集積回路（超ＬＳＩ）を生産す
る電子工業においては、各製造工程の半導体製品を洗浄
するに当たり、極めて高純度の純水を使用する。特に、
近年のＬＳＩ集積度の向上にともない、洗浄に用いられ
る超純水の要求水質はますます厳しくなり、特に、有機
物濃度の指標であるＴＯＣ（全有機体炭素）や生菌、溶
存酸素（ＤＯ）の低減が大きな課題となっている。
る電子工業においては、各製造工程の半導体製品を洗浄
するに当たり、極めて高純度の純水を使用する。特に、
近年のＬＳＩ集積度の向上にともない、洗浄に用いられ
る超純水の要求水質はますます厳しくなり、特に、有機
物濃度の指標であるＴＯＣ（全有機体炭素）や生菌、溶
存酸素（ＤＯ）の低減が大きな課題となっている。
【０００３】従来、このような用途に用いられる超純水
は、工業用水、市水、井水などを原水とし、原水中の懸
濁物質やコロイド物質の除去を行うための凝集沈澱、凝
集浮上などの重力分離装置、砂、膜などを媒体とした濾
過装置、活性炭吸着塔等を任意の数組み合わせた前処理
システムと、前処理水中のイオンや塩類を除去するイオ
ン交換装置や逆浸透（ＲＯ）膜分離装置、水中の気体成
分、例えば炭酸やＤＯを除去する脱炭酸塔や脱気装置、
有機物を分解する酸化装置や加熱装置などを任意の数で
組み合わせた一次純水製造システムと、一次純水やユー
スポイントから返送される回収水を更に高純度化すると
共に殺菌する、紫外線（ＵＶ）照射装置、混床式純水装
置、限外濾過膜分離装置を任意の数組み合わせた二次純
水製造システム（サブシステム）とからなる超純水製造
装置で製造されている。
は、工業用水、市水、井水などを原水とし、原水中の懸
濁物質やコロイド物質の除去を行うための凝集沈澱、凝
集浮上などの重力分離装置、砂、膜などを媒体とした濾
過装置、活性炭吸着塔等を任意の数組み合わせた前処理
システムと、前処理水中のイオンや塩類を除去するイオ
ン交換装置や逆浸透（ＲＯ）膜分離装置、水中の気体成
分、例えば炭酸やＤＯを除去する脱炭酸塔や脱気装置、
有機物を分解する酸化装置や加熱装置などを任意の数で
組み合わせた一次純水製造システムと、一次純水やユー
スポイントから返送される回収水を更に高純度化すると
共に殺菌する、紫外線（ＵＶ）照射装置、混床式純水装
置、限外濾過膜分離装置を任意の数組み合わせた二次純
水製造システム（サブシステム）とからなる超純水製造
装置で製造されている。
【０００４】このような超純水製造装置において、得ら
れる超純水のＴＯＣを低減するための手段としては、一
次純水製造装置において、被処理水にオゾン（Ｏ3 ）又
は過酸化水素（Ｈ2 Ｏ2 ）等の酸化促進剤を注入して紫
外線（ＵＶ）を照射する手段が知られている。
れる超純水のＴＯＣを低減するための手段としては、一
次純水製造装置において、被処理水にオゾン（Ｏ3 ）又
は過酸化水素（Ｈ2 Ｏ2 ）等の酸化促進剤を注入して紫
外線（ＵＶ）を照射する手段が知られている。
【０００５】具体的には、次のような方法が提案されて
いる。 原水を混床式イオン交換塔、ＵＶ照射装置、ＲＯ膜
分離装置に順次通水し、ＲＯ処理水の一部を電気分解し
てＯ3 を発生させ循環処理する（特開昭６２−２２１４
８７号公報）。 原水を前処理後、電気分解してＯ3 を発生させ、Ｕ
Ｖ照射する（特開昭６３−２２６５９３号公報）。 原水をＲＯ膜分離処理し、ＲＯ処理水にＨ2 Ｏ2 を
添加 してＵＶ照射し、その後混床式イオン交換塔でイ
オン交換処理する（特開昭５３−１４９８７３号公
報）。 原水にＯ3 を注入してＵＶ照射し、その後ＴＯＣ分
解で生じたＣＯ2 を真空脱気等で除去する（特開平２−
１５２５８９号公報）。
いる。 原水を混床式イオン交換塔、ＵＶ照射装置、ＲＯ膜
分離装置に順次通水し、ＲＯ処理水の一部を電気分解し
てＯ3 を発生させ循環処理する（特開昭６２−２２１４
８７号公報）。 原水を前処理後、電気分解してＯ3 を発生させ、Ｕ
Ｖ照射する（特開昭６３−２２６５９３号公報）。 原水をＲＯ膜分離処理し、ＲＯ処理水にＨ2 Ｏ2 を
添加 してＵＶ照射し、その後混床式イオン交換塔でイ
オン交換処理する（特開昭５３−１４９８７３号公
報）。 原水にＯ3 を注入してＵＶ照射し、その後ＴＯＣ分
解で生じたＣＯ2 を真空脱気等で除去する（特開平２−
１５２５８９号公報）。
【０００６】Ｏ3 注入及びＵＶ照射では、水中で活性酸
素を経てヒドロキシラジカルが生成し、これがＴＯＣに
作用してＴＯＣが酸化分解されるものと推定されるが、
ＴＯＣは酸化により低級有機酸やＣＯ2 となるため、通
常の場合、ＵＶ照射後、これらを除去する手段が設けら
れている。
素を経てヒドロキシラジカルが生成し、これがＴＯＣに
作用してＴＯＣが酸化分解されるものと推定されるが、
ＴＯＣは酸化により低級有機酸やＣＯ2 となるため、通
常の場合、ＵＶ照射後、これらを除去する手段が設けら
れている。
【０００７】従来において、このようなＯ3 等の酸化促
進剤とＵＶ照射によるＴＯＣの酸化分解は、一般にｐＨ
５．０〜８．０程度の中性ないし弱酸性の条件で行われ
ている。
進剤とＵＶ照射によるＴＯＣの酸化分解は、一般にｐＨ
５．０〜８．０程度の中性ないし弱酸性の条件で行われ
ている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】原水にＯ3 やＨ2 Ｏ2
等の酸化促進剤を注入してＵＶ照射する従来のＴＯＣ分
解技術では、原水又はＲＯ処理水中の全ＴＯＣのうちの
２０〜３０％程度のＴＯＣ分解率しか得られていない。
このＴＯＣ分解率の向上のために酸化促進剤の添加量を
増大させても、ＴＯＣ分解率の向上は認められない。こ
の結果、従来においては、ＴＯＣが十分に低い処理水を
得ることはできなかった。
等の酸化促進剤を注入してＵＶ照射する従来のＴＯＣ分
解技術では、原水又はＲＯ処理水中の全ＴＯＣのうちの
２０〜３０％程度のＴＯＣ分解率しか得られていない。
このＴＯＣ分解率の向上のために酸化促進剤の添加量を
増大させても、ＴＯＣ分解率の向上は認められない。こ
の結果、従来においては、ＴＯＣが十分に低い処理水を
得ることはできなかった。
【０００９】本発明は上記従来の問題点を解決し、オゾ
ン酸化によるＴＯＣの分解効率を高め、著しく低ＴＯＣ
濃度の純水を製造する方法を提供することを目的とす
る。
ン酸化によるＴＯＣの分解効率を高め、著しく低ＴＯＣ
濃度の純水を製造する方法を提供することを目的とす
る。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明の純水製造方法
は、原水を脱イオン処理した後、オゾン酸化処理し、生
成したイオン性物質をイオン交換処理する純水製造方法
において、該オゾン酸化処理をｐＨ９以上で行うことを
特徴とする。
は、原水を脱イオン処理した後、オゾン酸化処理し、生
成したイオン性物質をイオン交換処理する純水製造方法
において、該オゾン酸化処理をｐＨ９以上で行うことを
特徴とする。
【００１１】本発明者らは、オゾン酸化処理によるＴＯ
Ｃ分解率の向上について種々検討を重ねた結果、ｐＨ９
以上のアルカリ条件下でオゾン酸化するとＴＯＣ分解率
が飛躍的に向上することを見出した。
Ｃ分解率の向上について種々検討を重ねた結果、ｐＨ９
以上のアルカリ条件下でオゾン酸化するとＴＯＣ分解率
が飛躍的に向上することを見出した。
【００１２】本発明によれば、オゾン酸化によりＴＯＣ
を効率的に分解して極低ＴＯＣ濃度の純水を製造するこ
とができる。
を効率的に分解して極低ＴＯＣ濃度の純水を製造するこ
とができる。
【００１３】本発明においては、脱イオン処理としてＲ
Ｏ膜分離処理を行うのが好ましく、この場合において、
ＲＯ膜分離処理する水にアルカリを添加してｐＨを９以
上に調整することにより、ＲＯ膜でホウ素を効率的に除
去できるようになり、処理水の水質をより一層高めるこ
とができる。
Ｏ膜分離処理を行うのが好ましく、この場合において、
ＲＯ膜分離処理する水にアルカリを添加してｐＨを９以
上に調整することにより、ＲＯ膜でホウ素を効率的に除
去できるようになり、処理水の水質をより一層高めるこ
とができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。
施の形態を詳細に説明する。
【００１５】図１は本発明の純水製造方法の実施の形態
を示す系統図である。
を示す系統図である。
【００１６】図示の方法では、原水をカチオン交換樹脂
塔１で処理してカチオンを除去した後、脱炭酸塔２で脱
炭酸処理し、この脱炭酸処理水にＮａＯＨ等のアルカリ
を添加してｐＨを９以上に調整した水をＲＯ膜分離装置
３でＲＯ膜分離処理し、ＲＯ膜分離処理水をオゾン酸化
に供する。
塔１で処理してカチオンを除去した後、脱炭酸塔２で脱
炭酸処理し、この脱炭酸処理水にＮａＯＨ等のアルカリ
を添加してｐＨを９以上に調整した水をＲＯ膜分離装置
３でＲＯ膜分離処理し、ＲＯ膜分離処理水をオゾン酸化
に供する。
【００１７】即ち、ＲＯ膜分離装置３では、原水中の二
酸化炭素（ＣＯ2 ）を除去できず、また、ＲＯ膜分離装
置３の給水をアルカリ性とすると、ＲＯ膜面へのＣａＣ
Ｏ3又はＣａＳＯ4 等のスケール成分が堆積するため、
ＲＯ膜分離装置３の前処理手段としてカチオン除去のた
めのカチオン交換樹脂塔１と脱炭酸のための脱炭酸塔２
を設ける。
酸化炭素（ＣＯ2 ）を除去できず、また、ＲＯ膜分離装
置３の給水をアルカリ性とすると、ＲＯ膜面へのＣａＣ
Ｏ3又はＣａＳＯ4 等のスケール成分が堆積するため、
ＲＯ膜分離装置３の前処理手段としてカチオン除去のた
めのカチオン交換樹脂塔１と脱炭酸のための脱炭酸塔２
を設ける。
【００１８】ここで、脱炭酸塔２の給水は、炭酸成分を
ＣＯ2 の形態として効率的な脱炭酸処理を行うために、
ｐＨ５．０以下、特にｐＨ４．０〜５．０程度とするの
が好ましい。通常の場合、カチオン交換樹脂塔１のカチ
オン交換処理水はｐＨ４．０〜５．０程度の酸性である
ため、この水をそのまま脱炭酸塔２に供給することがで
きるが、必要に応じて酸を添加しても良い。この脱炭酸
塔２としてはエアストリッピング塔等を用いることがで
きる。
ＣＯ2 の形態として効率的な脱炭酸処理を行うために、
ｐＨ５．０以下、特にｐＨ４．０〜５．０程度とするの
が好ましい。通常の場合、カチオン交換樹脂塔１のカチ
オン交換処理水はｐＨ４．０〜５．０程度の酸性である
ため、この水をそのまま脱炭酸塔２に供給することがで
きるが、必要に応じて酸を添加しても良い。この脱炭酸
塔２としてはエアストリッピング塔等を用いることがで
きる。
【００１９】なお、このＲＯ膜分離処理の前処理手段と
しては、水中の硬度成分を除去するものであれば良く、
カチオン交換樹脂塔と脱炭酸塔の組み合せの他、ルーズ
ＲＯ膜等であっても良い。
しては、水中の硬度成分を除去するものであれば良く、
カチオン交換樹脂塔と脱炭酸塔の組み合せの他、ルーズ
ＲＯ膜等であっても良い。
【００２０】カチオン交換樹脂塔１でカチオンが除去さ
れ、脱炭酸塔２で脱炭酸処理された水は、次いでＲＯ膜
分離装置３で塩類及びイオン性、コロイド性のＴＯＣが
除去される。
れ、脱炭酸塔２で脱炭酸処理された水は、次いでＲＯ膜
分離装置３で塩類及びイオン性、コロイド性のＴＯＣが
除去される。
【００２１】本実施の形態では、オゾン酸化処理をｐＨ
９以上で行うために、脱炭酸処理水にＮａＯＨ等のアル
カリを添加して、ＲＯ膜分離装置３の給水のｐＨを９以
上に調整する。このｐＨ調整は、オゾン反応塔４の入口
側で行っても良いが、図示の如く、ＲＯ膜分離装置３の
給水のｐＨを９以上に調整することにより、ＲＯ膜での
ホウ素の除去効率が向上するため、好ましくはＲＯ膜分
離装置３の入口側でｐＨ調整を行う。
９以上で行うために、脱炭酸処理水にＮａＯＨ等のアル
カリを添加して、ＲＯ膜分離装置３の給水のｐＨを９以
上に調整する。このｐＨ調整は、オゾン反応塔４の入口
側で行っても良いが、図示の如く、ＲＯ膜分離装置３の
給水のｐＨを９以上に調整することにより、ＲＯ膜での
ホウ素の除去効率が向上するため、好ましくはＲＯ膜分
離装置３の入口側でｐＨ調整を行う。
【００２２】なお、オゾン酸化によるＴＯＣ分解率の面
では、この調整ｐＨは高い方が良いが、ｐＨを過度に高
くしてもそれ以上のＴＯＣ分解率の向上は望めず、ま
た、ｐＨを過度に高くすると、ｐＨ調整のために添加し
たアルカリによる後段の設備のイオン負荷が大きくなる
ため、調整ｐＨは９．０〜１１、特に９．５〜１０．０
の範囲とするのが好ましい。
では、この調整ｐＨは高い方が良いが、ｐＨを過度に高
くしてもそれ以上のＴＯＣ分解率の向上は望めず、ま
た、ｐＨを過度に高くすると、ｐＨ調整のために添加し
たアルカリによる後段の設備のイオン負荷が大きくなる
ため、調整ｐＨは９．０〜１１、特に９．５〜１０．０
の範囲とするのが好ましい。
【００２３】ＲＯ膜分離処理水は、Ｏ3 が注入され、オ
ゾン反応塔４でこのＯ3 を十分に吸収した後、ＵＶ照射
装置５でＵＶ照射され、水中の残留ＴＯＣが酸化分解さ
れる。
ゾン反応塔４でこのＯ3 を十分に吸収した後、ＵＶ照射
装置５でＵＶ照射され、水中の残留ＴＯＣが酸化分解さ
れる。
【００２４】本発明では、このオゾン酸化分解をｐＨ９
以上で行うことにより、ＴＯＣを効率的に分解すること
ができる。
以上で行うことにより、ＴＯＣを効率的に分解すること
ができる。
【００２５】なお、オゾン反応塔４としては、任意の気
液接触方式のものを用いることができる。このオゾン反
応塔４は内部に充填材を入れ、接触効率を向上させるよ
うにすることもできる。
液接触方式のものを用いることができる。このオゾン反
応塔４は内部に充填材を入れ、接触効率を向上させるよ
うにすることもできる。
【００２６】一方、ＵＶ照射装置５に使用する光源は、
波長２５４ｎｍを含む紫外線（２５４ｎｍ単独、或い
は、１８５ｎｍと２５４ｎｍ）を発生するものであれば
良く、通常、水銀ランプが用いられる。このＵＶ照射装
置５は、低圧型であっても高圧型であっても良い。
波長２５４ｎｍを含む紫外線（２５４ｎｍ単独、或い
は、１８５ｎｍと２５４ｎｍ）を発生するものであれば
良く、通常、水銀ランプが用いられる。このＵＶ照射装
置５は、低圧型であっても高圧型であっても良い。
【００２７】このオゾン酸化分解の処理条件は、Ｏ3 注
入量１〜１０ｍｇ／Ｌ，オゾン反応塔滞留時間１．０〜
２０分、ＵＶ出力０．０３〜０．３ＫＷ／ｍ3 の通常の
範囲で良い。
入量１〜１０ｍｇ／Ｌ，オゾン反応塔滞留時間１．０〜
２０分、ＵＶ出力０．０３〜０．３ＫＷ／ｍ3 の通常の
範囲で良い。
【００２８】ＵＶ照射装置５の流出水は、混床式イオン
交換樹脂塔６で、オゾン酸化によるＴＯＣ分解で生成し
たイオン性の中間物質を除去し系外へ排出される。
交換樹脂塔６で、オゾン酸化によるＴＯＣ分解で生成し
たイオン性の中間物質を除去し系外へ排出される。
【００２９】このような本発明の純水製造方法は、一般
に超純水の製造工程の一次純水製造システムとして組み
込まれ、前処理システムからの前処理水を処理し、得ら
れた純水を二次純水製造システム（サブシステム）で処
理して更に純度を高める。
に超純水の製造工程の一次純水製造システムとして組み
込まれ、前処理システムからの前処理水を処理し、得ら
れた純水を二次純水製造システム（サブシステム）で処
理して更に純度を高める。
【００３０】この場合において、本発明によれば、ＴＯ
Ｃが著しく低減された純水を得ることができるため、後
段の二次純水製造システムのＴＯＣ負荷が低減され、こ
の二次純水製造システムのＴＯＣ除去手段としてのＵＶ
酸化装置を小型化することができる。このように、設備
コスト及びランニングコストの高いＵＶ酸化装置を小型
化できるため、処理コストを低減することができる。
Ｃが著しく低減された純水を得ることができるため、後
段の二次純水製造システムのＴＯＣ負荷が低減され、こ
の二次純水製造システムのＴＯＣ除去手段としてのＵＶ
酸化装置を小型化することができる。このように、設備
コスト及びランニングコストの高いＵＶ酸化装置を小型
化できるため、処理コストを低減することができる。
【００３１】
【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明する。
り具体的に説明する。
【００３２】実施例１〜３，比較例１，２ ＴＯＣ濃度７１０〜７５０ｐｐｂの厚木市水（平成９年
３月８日〜平成９年５月８日）を、図１に示す如く、カ
チオン交換樹脂塔１、脱炭酸塔２、ＲＯ膜分離装置３、
オゾン反応塔４、ＵＶ照射装置５及び混床式イオン交換
樹脂塔６に順次通水して処理水を得た。用いた各装置の
仕様及び運転条件は次の通りである。
３月８日〜平成９年５月８日）を、図１に示す如く、カ
チオン交換樹脂塔１、脱炭酸塔２、ＲＯ膜分離装置３、
オゾン反応塔４、ＵＶ照射装置５及び混床式イオン交換
樹脂塔６に順次通水して処理水を得た。用いた各装置の
仕様及び運転条件は次の通りである。
【００３３】なお、脱炭酸塔２の流出水（ＲＯ給水）に
はＮａＯＨを添加して、表１に示すｐＨに調整した後、
ＲＯ膜分離装置３に供給した。また、オゾン反応塔４の
流入水へのＯ3 注入量は１ｍｇ／Ｌとした。
はＮａＯＨを添加して、表１に示すｐＨに調整した後、
ＲＯ膜分離装置３に供給した。また、オゾン反応塔４の
流入水へのＯ3 注入量は１ｍｇ／Ｌとした。
【００３４】 カチオン交換塔：強酸性カチオン交換樹脂（再生型）「ＥＸ−ＣＧ」（栗田工 業（株）製）使用 ＳＶ＝３０ｈｒ-1 脱炭酸塔：通水ＬＶ＝６０ｍ／ｈｒ 空気量＝１５ｍ3 ／ｍｉｎ／ｍ2 ＲＯ膜分離装置：日東電工（株）製「ＮＴＲ−７５９−ＨＲ−Ｓ４」 オゾン反応塔：滞留時間＝１０分 ＵＶ照射装置：栗田工業（株）製「ＵＬ−ＵＶｏｘ」 出力＝０．０３ＫＷ／ｍ3 混床式イオン交換樹脂塔：強酸性カチオン交換樹脂「ＥＸ−ＣＧ」（栗田工業 （株）製）：強塩基性アニオン交換樹脂「ＥＸ−Ａ Ｇ」（栗田工業（株）製）＝１：２（容量比）の混 床 ＳＶ＝６０ｈｒ-1 ＲＯ膜分離装置入口水（ＲＯ入口水）及び出口水（ＲＯ
出口水）、オゾン反応塔出口水（Ｏ3 出口水）、ＵＶ照
射装置出口水（ＵＶ出口水）及び混床式イオン交換樹脂
塔出口水（処理水）のＴＯＣ濃度と、ＲＯ入口水及びＲ
Ｏ出口水のホウ素濃度を表１に示す。
出口水）、オゾン反応塔出口水（Ｏ3 出口水）、ＵＶ照
射装置出口水（ＵＶ出口水）及び混床式イオン交換樹脂
塔出口水（処理水）のＴＯＣ濃度と、ＲＯ入口水及びＲ
Ｏ出口水のホウ素濃度を表１に示す。
【００３５】また、オゾン反応塔の入口水（ＲＯ出口
水）のｐＨとオゾン注入及びＵＶ照射によるＴＯＣ分解
率との関係を調べ、結果を図２に示した。
水）のｐＨとオゾン注入及びＵＶ照射によるＴＯＣ分解
率との関係を調べ、結果を図２に示した。
【００３６】なお、ＴＯＣ分解率は、下記式により算出
した。
した。
【００３７】
【数１】
【００３８】
【表１】
【００３９】表１及び図２より、オゾン反応塔の給水の
ｐＨを９以上とすることにより、ＴＯＣ分解率は飛躍的
に向上し、ＴＯＣを極低濃度にまで低減できることがわ
かる。
ｐＨを９以上とすることにより、ＴＯＣ分解率は飛躍的
に向上し、ＴＯＣを極低濃度にまで低減できることがわ
かる。
【００４０】また、特に、ＲＯ給水のｐＨを９以上とす
ることにより、ホウ素の除去効率が高まることから、ｐ
Ｈ調整は、ＲＯ膜分離装置の入口側で行うのが好ましい
ことがわかる。
ることにより、ホウ素の除去効率が高まることから、ｐ
Ｈ調整は、ＲＯ膜分離装置の入口側で行うのが好ましい
ことがわかる。
【００４１】なお、実施例１〜３及び比較例１，２で
は、ＲＯ給水のｐＨを変化させているため、ｐＨ変化に
よるＲＯ膜分離処理におけるＴＯＣ除去率の変化が処理
結果に影響していることが想定されるが、更に、ｐＨ変
化によるＲＯ膜分離処理でのＴＯＣ除去率の変化を調べ
たところ、ＲＯ膜分離処理ではｐＨに関係なくＴＯＣ除
去率約９９％で、ｐＨ変化によるＴＯＣ除去率の変動は
なかった。
は、ＲＯ給水のｐＨを変化させているため、ｐＨ変化に
よるＲＯ膜分離処理におけるＴＯＣ除去率の変化が処理
結果に影響していることが想定されるが、更に、ｐＨ変
化によるＲＯ膜分離処理でのＴＯＣ除去率の変化を調べ
たところ、ＲＯ膜分離処理ではｐＨに関係なくＴＯＣ除
去率約９９％で、ｐＨ変化によるＴＯＣ除去率の変動は
なかった。
【００４２】以上より、ｐＨを９以上とすることで、オ
ゾン注入及びＵＶ照射によるＴＯＣ分解率が向上するこ
とがわかる。
ゾン注入及びＵＶ照射によるＴＯＣ分解率が向上するこ
とがわかる。
【００４３】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の純水製造方
法によれば、オゾン注入及びＵＶ照射によるＴＯＣの分
解効率が飛躍的に向上し、ＴＯＣが著しく低減された高
水質処理水を得ることができる。
法によれば、オゾン注入及びＵＶ照射によるＴＯＣの分
解効率が飛躍的に向上し、ＴＯＣが著しく低減された高
水質処理水を得ることができる。
【００４４】請求項２の方法によれば、ＲＯ膜分離処理
によるホウ素の除去効率が高まり、処理水の水質をより
一層高めることができる。
によるホウ素の除去効率が高まり、処理水の水質をより
一層高めることができる。
【図１】本発明の純水製造方法の実施の形態を示す系統
図である。
図である。
【図２】実施例１〜３及び比較例１，２の結果を示すグ
ラフである。
ラフである。
１ カチオン交換樹脂塔 ２ 脱炭酸塔 ３ ＲＯ膜分離装置 ４ オゾン反応塔 ５ ＵＶ照射装置 ６ 混床式イオン交換樹脂塔
Claims (2)
- 【請求項１】 原水を脱イオン処理した後、オゾン酸化
処理し、生成したイオン性物質をイオン交換処理する純
水製造方法において、 該オゾン酸化処理をｐＨ９以上で行うことを特徴とする
純水製造方法。 - 【請求項２】 原水中の硬度成分の一部を除去した後、
該水にアルカリを添加してｐＨを９以上に調整し、この
水を逆浸透膜分離することにより、原水を脱イオン処理
することを特徴とする請求項１に記載の純水製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18646597A JPH1128482A (ja) | 1997-07-11 | 1997-07-11 | 純水製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18646597A JPH1128482A (ja) | 1997-07-11 | 1997-07-11 | 純水製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1128482A true JPH1128482A (ja) | 1999-02-02 |
Family
ID=16188954
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18646597A Pending JPH1128482A (ja) | 1997-07-11 | 1997-07-11 | 純水製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1128482A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11244666A (ja) * | 1998-03-03 | 1999-09-14 | Kurita Water Ind Ltd | ホウ素含有水の処理装置 |
| JP2009112894A (ja) * | 2007-11-02 | 2009-05-28 | Nomura Micro Sci Co Ltd | リーク監視装置 |
| JP2010234297A (ja) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Kurita Water Ind Ltd | イオン交換樹脂の再生方法及び超純水製造装置 |
| JP2013202585A (ja) * | 2012-03-29 | 2013-10-07 | Kurita Water Ind Ltd | ホルムアルデヒド含有排水の処理法 |
| KR101360314B1 (ko) * | 2006-03-27 | 2014-02-11 | 쿠리타 고교 가부시키가이샤 | 계면활성제 함유 배수의 처리방법 |
| JP2014077149A (ja) * | 2014-02-04 | 2014-05-01 | Kurita Water Ind Ltd | カチオン交換樹脂の製造方法、カチオン交換樹脂、混床樹脂および電子部品・材料洗浄用超純水の製造方法 |
-
1997
- 1997-07-11 JP JP18646597A patent/JPH1128482A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11244666A (ja) * | 1998-03-03 | 1999-09-14 | Kurita Water Ind Ltd | ホウ素含有水の処理装置 |
| KR101360314B1 (ko) * | 2006-03-27 | 2014-02-11 | 쿠리타 고교 가부시키가이샤 | 계면활성제 함유 배수의 처리방법 |
| JP2009112894A (ja) * | 2007-11-02 | 2009-05-28 | Nomura Micro Sci Co Ltd | リーク監視装置 |
| JP2010234297A (ja) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Kurita Water Ind Ltd | イオン交換樹脂の再生方法及び超純水製造装置 |
| JP2013202585A (ja) * | 2012-03-29 | 2013-10-07 | Kurita Water Ind Ltd | ホルムアルデヒド含有排水の処理法 |
| JP2014077149A (ja) * | 2014-02-04 | 2014-05-01 | Kurita Water Ind Ltd | カチオン交換樹脂の製造方法、カチオン交換樹脂、混床樹脂および電子部品・材料洗浄用超純水の製造方法 |
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