JPH05117596A - 熱圧着可能な高熱伝導性フイルム状接着剤 - Google Patents
熱圧着可能な高熱伝導性フイルム状接着剤Info
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Landscapes
- Adhesive Tapes (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 4,4'-オキシジフタル酸二無水物Aモル及び
他の酸二無水物成分Bモルを含む酸成分と、1,3-ビス(3
-アミノフェノキシ)ベンゼンCモル及び他のジアミン成
分Dモルを含むアミン成分とを、4,4'-オキシジフタル
酸二無水物又は1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン
の少なくともどちらか一方を必須成分とし、(A+C)
/(A+B+C+D)が0.5〜1.0、(A+B)/(C+
D)が0.8〜1.2の範囲で反応させ、少なくとも80%以上
がイミド化されているポリイミド樹脂と、樹脂に対して
30〜900wt%の熱伝導率5.0[W/(m・K)]以上であるフィラ
ーとからなる熱圧着可能な高熱伝導性フィルム状接着
剤。 【効果】 耐熱性に優れ、低温、低圧、短時間で熱圧着
作業性が良好な、銅、シリコンなどの金属、セラミック
スへの接着性に優れ、室温だけでなく、260℃のような
半田溶融温度でも充分な接着強度を有し、かつ優れた熱
放散性を有するフィルム状接着剤を得ることができる。
他の酸二無水物成分Bモルを含む酸成分と、1,3-ビス(3
-アミノフェノキシ)ベンゼンCモル及び他のジアミン成
分Dモルを含むアミン成分とを、4,4'-オキシジフタル
酸二無水物又は1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン
の少なくともどちらか一方を必須成分とし、(A+C)
/(A+B+C+D)が0.5〜1.0、(A+B)/(C+
D)が0.8〜1.2の範囲で反応させ、少なくとも80%以上
がイミド化されているポリイミド樹脂と、樹脂に対して
30〜900wt%の熱伝導率5.0[W/(m・K)]以上であるフィラ
ーとからなる熱圧着可能な高熱伝導性フィルム状接着
剤。 【効果】 耐熱性に優れ、低温、低圧、短時間で熱圧着
作業性が良好な、銅、シリコンなどの金属、セラミック
スへの接着性に優れ、室温だけでなく、260℃のような
半田溶融温度でも充分な接着強度を有し、かつ優れた熱
放散性を有するフィルム状接着剤を得ることができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、熱伝導性及び耐熱性に
優れ、熱圧着して用いることのできるフィルム状接着剤
に関するものである。
優れ、熱圧着して用いることのできるフィルム状接着剤
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、耐熱性の熱圧着可能なフィルム状
接着剤はいくつか知られている。例えば、特開平1-2822
83号公報には、ポリアミドイミド系やポリアミド系のホ
ットメルト接着剤、特開昭58-157190号公報には、ポリ
イミド系接着剤によるフレキシブル印刷回路基板の製造
法、特開昭62-235382号及び特開昭62-235383号公報に
は、熱硬化性のポリイミド系フィルム状接着剤に関する
記述がなされている。ところが、ポリアミド系やポリア
ミドイミド系樹脂は、アミド基の親水性のために吸水率
が大きくなるという欠点を有し、信頼性を必要とするエ
レクトロニクス用途としての接着剤に用いるには限界が
あった。またその他の公報に記載されているフィルム状
接着剤の熱圧着条件は、275℃、50kgf/cm2、30分間が
標準であり、熱や圧力に鋭敏な電子部品や、量産性を必
要とされる用途のフィルム状接着剤としては必ずしも有
利であるとは言えなかった。
接着剤はいくつか知られている。例えば、特開平1-2822
83号公報には、ポリアミドイミド系やポリアミド系のホ
ットメルト接着剤、特開昭58-157190号公報には、ポリ
イミド系接着剤によるフレキシブル印刷回路基板の製造
法、特開昭62-235382号及び特開昭62-235383号公報に
は、熱硬化性のポリイミド系フィルム状接着剤に関する
記述がなされている。ところが、ポリアミド系やポリア
ミドイミド系樹脂は、アミド基の親水性のために吸水率
が大きくなるという欠点を有し、信頼性を必要とするエ
レクトロニクス用途としての接着剤に用いるには限界が
あった。またその他の公報に記載されているフィルム状
接着剤の熱圧着条件は、275℃、50kgf/cm2、30分間が
標準であり、熱や圧力に鋭敏な電子部品や、量産性を必
要とされる用途のフィルム状接着剤としては必ずしも有
利であるとは言えなかった。
【0003】また近年半導体集積回路の集積度が高まる
につれ、ICの熱放散のための手法としてヒートシンク
や放熱フィンの利用が検討されているが、これらの放熱
構造部とチップ間の接合部分には高熱伝導性の接着剤が
必要とされている。これらの高熱伝導性の接着剤は、接
着部分にボイド等の空隙が存在すると熱伝導性が大幅に
ダウンするため、ボイド、泡を内部に巻き込み易い液状
の接着剤よりも、熱圧着できるフィルム状接着剤が好ま
しいとされている。しかしながら、これまで高熱伝導
性、高接着性、耐熱性、作業性等を全て満足するフィル
ム状接着剤はなかった。
につれ、ICの熱放散のための手法としてヒートシンク
や放熱フィンの利用が検討されているが、これらの放熱
構造部とチップ間の接合部分には高熱伝導性の接着剤が
必要とされている。これらの高熱伝導性の接着剤は、接
着部分にボイド等の空隙が存在すると熱伝導性が大幅に
ダウンするため、ボイド、泡を内部に巻き込み易い液状
の接着剤よりも、熱圧着できるフィルム状接着剤が好ま
しいとされている。しかしながら、これまで高熱伝導
性、高接着性、耐熱性、作業性等を全て満足するフィル
ム状接着剤はなかった。
【0004】一方で、従来用いられているエポキシ系、
フェノール系、アクリル系等の接着剤は、比較的低温、
低圧で熱圧着できるという利点を有するが、熱硬化型で
あるため、ある程度硬化時間を長く設ける必要があっ
た。また熱可塑性樹脂をホットメルト型接着剤として用
いることもよく行なわれるが、耐熱性に乏しい欠点を有
している。
フェノール系、アクリル系等の接着剤は、比較的低温、
低圧で熱圧着できるという利点を有するが、熱硬化型で
あるため、ある程度硬化時間を長く設ける必要があっ
た。また熱可塑性樹脂をホットメルト型接着剤として用
いることもよく行なわれるが、耐熱性に乏しい欠点を有
している。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、耐熱性
に優れ、低温、低圧、短時間で熱圧着可能な高熱伝導性
フィルム状接着剤を得んとして鋭意研究を重ねた結果、
特定の構造を有するポリイミド樹脂に、ある熱伝導率以
上のフィラーを均一分散させてフィルム化した接着剤が
上記の目標を達成し得ることが判り、本発明を完成する
に至ったものである。その目的とするところは、熱伝導
性、耐熱性及び熱圧着作業性を両立させたフィルム状接
着剤を提供するにある。
に優れ、低温、低圧、短時間で熱圧着可能な高熱伝導性
フィルム状接着剤を得んとして鋭意研究を重ねた結果、
特定の構造を有するポリイミド樹脂に、ある熱伝導率以
上のフィラーを均一分散させてフィルム化した接着剤が
上記の目標を達成し得ることが判り、本発明を完成する
に至ったものである。その目的とするところは、熱伝導
性、耐熱性及び熱圧着作業性を両立させたフィルム状接
着剤を提供するにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、4,4'-オキシ
ジフタル酸二無水物Aモル及び他の酸二無水物成分Bモ
ルを含む酸成分と、1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベン
ゼンCモル及び他のジアミン成分Dモルを含むアミン成
分とを、4,4'-オキシジフタル酸二無水物又は1,3-ビス
(3-アミノフェノキシ)ベンゼンの少なくともどちらか一
方を必須成分とし、(A+C)/(A+B+C+D)が
0.5〜1.0、(A+B)/(C+D)が0.8〜1.2の範囲で
反応させ、少なくとも80%以上がイミド化されているポ
リイミド樹脂と、樹脂に対して30〜900wt%の熱伝導率
5.0[W/(m・K)]以上であるフィラーとからなる熱圧着可能
なフィルム状接着剤である。
ジフタル酸二無水物Aモル及び他の酸二無水物成分Bモ
ルを含む酸成分と、1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベン
ゼンCモル及び他のジアミン成分Dモルを含むアミン成
分とを、4,4'-オキシジフタル酸二無水物又は1,3-ビス
(3-アミノフェノキシ)ベンゼンの少なくともどちらか一
方を必須成分とし、(A+C)/(A+B+C+D)が
0.5〜1.0、(A+B)/(C+D)が0.8〜1.2の範囲で
反応させ、少なくとも80%以上がイミド化されているポ
リイミド樹脂と、樹脂に対して30〜900wt%の熱伝導率
5.0[W/(m・K)]以上であるフィラーとからなる熱圧着可能
なフィルム状接着剤である。
【0007】本発明において用いられる酸二無水物は、
4,4'-オキシジフタル酸二無水物(以下ODPAと略
す)と他の酸二無水物であるが、ODPA以外の酸二無
水物の例を挙げると、ピロメリット酸二無水物、3,3',
4,4'-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2',
3,3'-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,3,
3',4'-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ナフ
タレン-2,3,6,7-テトラカルボン酸二無水物、ナフタレ
ン-1,2,5,6-テトラカルボン酸二無水物、ナフタレン-1,
2,4,5-テトラカルボン酸二無水物、ナフタレン-1,4,5,8
-テトラカルボン酸二無水物、ナフタレン-1,2,6,7-テト
ラカルボン酸二無水物、4,8-ジメチル-1,2,3,5,6,7-ヘ
キサヒドロナフタレン-1,2,5,6-テトラカルボン酸二無
水物、4,8-ジメチル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロナフタ
レン-2,3,6,7-テトラカルボン酸二無水物、2,6-ジクロ
ロナフタレン-1,4,5,8-テトラカルボン酸二無水物、2,7
-ジクロロナフタレン-1,4,5,8-テトラカルボン酸二無水
物、2,3,6,7-テトラクロロナフタレン-1,4,5,8-テトラ
カルボン酸二無水物、1,4,5,8-テトラクロロナフタレン
-2,3,6,7-テトラカルボン酸二無水物、3,3',4,4'-ジフ
ェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2',3,3'-ジフェニ
ルテトラカルボン酸二無水物、2,3,3',4'-ジフェニルテ
トラカルボン酸二無水物、3,3",4,4"-p-テルフェニルテ
トラカルボン酸二無水物、2,2",3,3"-p-テルフェニルテ
トラカルボン酸二無水物、2,3,3",4"-p-テルフェニルテ
トラカルボン酸二無水物、2,2-ビス(2,3-ジカルボキシ
フェニル)-プロパン二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボ
キシフェニル)-プロパン二無水物、ビス(2,3-ジカルボ
キシフェニル)エーテル二無水物、ビス(2,3-ジカルボキ
シフェニル)メタン二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフ
ェニル)メタン二無水物、ビス(2,3-ジカルボキシフェニ
ル)スルホン二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニ
ル)スルホン二無水物、1,1-ビス(2,3-ジカルボキシフェ
ニル)エタン二無水物、1,1-ビス(3,4-ジカルボキシフェ
ニル)エタン二無水物、ペリレン-2,3,8,9-テトラカルボ
ン酸二無水物、ペリレン-3,4,9,10-テトラカルボン酸二
無水物、ペリレン-4,5,10,11-テトラカルボン酸二無水
物、ペリレン-5,6,11,12-テトラカルボン酸二無水物、
フェナンスレン-1,2,7,8-テトラカルボン酸二無水物、
フェナンスレン-1,2,6,7-テトラカルボン酸二無水物、
フェナンスレン-1,2,9,10-テトラカルボン酸二無水物、
シクロペンタン-1,2,3,4-テトラカルボン酸二無水物、
ピラジン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物、ピロリ
ジン-2,3,4,5-テトラカルボン酸二無水物、チオフェン-
2,3,4,5-テトラカルボン酸二無水物などがあげられる
が、これらに限定されるものではない。
4,4'-オキシジフタル酸二無水物(以下ODPAと略
す)と他の酸二無水物であるが、ODPA以外の酸二無
水物の例を挙げると、ピロメリット酸二無水物、3,3',
4,4'-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,2',
3,3'-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,3,
3',4'-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ナフ
タレン-2,3,6,7-テトラカルボン酸二無水物、ナフタレ
ン-1,2,5,6-テトラカルボン酸二無水物、ナフタレン-1,
2,4,5-テトラカルボン酸二無水物、ナフタレン-1,4,5,8
-テトラカルボン酸二無水物、ナフタレン-1,2,6,7-テト
ラカルボン酸二無水物、4,8-ジメチル-1,2,3,5,6,7-ヘ
キサヒドロナフタレン-1,2,5,6-テトラカルボン酸二無
水物、4,8-ジメチル-1,2,3,5,6,7-ヘキサヒドロナフタ
レン-2,3,6,7-テトラカルボン酸二無水物、2,6-ジクロ
ロナフタレン-1,4,5,8-テトラカルボン酸二無水物、2,7
-ジクロロナフタレン-1,4,5,8-テトラカルボン酸二無水
物、2,3,6,7-テトラクロロナフタレン-1,4,5,8-テトラ
カルボン酸二無水物、1,4,5,8-テトラクロロナフタレン
-2,3,6,7-テトラカルボン酸二無水物、3,3',4,4'-ジフ
ェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2',3,3'-ジフェニ
ルテトラカルボン酸二無水物、2,3,3',4'-ジフェニルテ
トラカルボン酸二無水物、3,3",4,4"-p-テルフェニルテ
トラカルボン酸二無水物、2,2",3,3"-p-テルフェニルテ
トラカルボン酸二無水物、2,3,3",4"-p-テルフェニルテ
トラカルボン酸二無水物、2,2-ビス(2,3-ジカルボキシ
フェニル)-プロパン二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボ
キシフェニル)-プロパン二無水物、ビス(2,3-ジカルボ
キシフェニル)エーテル二無水物、ビス(2,3-ジカルボキ
シフェニル)メタン二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフ
ェニル)メタン二無水物、ビス(2,3-ジカルボキシフェニ
ル)スルホン二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニ
ル)スルホン二無水物、1,1-ビス(2,3-ジカルボキシフェ
ニル)エタン二無水物、1,1-ビス(3,4-ジカルボキシフェ
ニル)エタン二無水物、ペリレン-2,3,8,9-テトラカルボ
ン酸二無水物、ペリレン-3,4,9,10-テトラカルボン酸二
無水物、ペリレン-4,5,10,11-テトラカルボン酸二無水
物、ペリレン-5,6,11,12-テトラカルボン酸二無水物、
フェナンスレン-1,2,7,8-テトラカルボン酸二無水物、
フェナンスレン-1,2,6,7-テトラカルボン酸二無水物、
フェナンスレン-1,2,9,10-テトラカルボン酸二無水物、
シクロペンタン-1,2,3,4-テトラカルボン酸二無水物、
ピラジン-2,3,5,6-テトラカルボン酸二無水物、ピロリ
ジン-2,3,4,5-テトラカルボン酸二無水物、チオフェン-
2,3,4,5-テトラカルボン酸二無水物などがあげられる
が、これらに限定されるものではない。
【0008】本発明において用いられるジアミン成分
は、1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン(以下AP
Bと略す)と他のジアミンである。他のジアミンは、特
に限定されるものではないが、例を具体的に挙げると、
3,3'-ジメチル-4,4'-ジアミノビフェニル、4,6-ジメチ
ル-m-フェニレンジアミン、2,5-ジメチル-p-フェニレン
ジアミン、2,4-ジアミノメシチレン、4,4'-メチレンジ-
o-トルイジン、4,4'-メチレンジ-2,6-キシリジン、4,4'
-メチレン-2,6-ジエチルアニリン、2,4-トルエンジアミ
ン、m-フェニレン-ジアミン、p-フェニレン-ジアミン、
4,4'-ジアミノ-ジフェニルプロパン、3,3'-ジアミノ-ジ
フェニルプロパン、4,4'-ジアミノ-ジフェニルエタン、
3,3'-ジアミノ-ジフェニルエタン、4,4'-ジアミノ-ジフ
ェニルメタン、3,3'-ジアミノ-ジフェニルメタン、4,4'
-ジアミノ-ジフェニルスルフィド、3,3'-ジアミノ-ジフ
ェニルスルフィド、4,4'-ジアミノ-ジフェニルスルホ
ン、3,3'-ジアミノ-ジフェニルスルホン、4,4'-ジアミ
ノ-ジフェニルエーテル、3,3'-ジアミノ-ジフェニルエ
ーテル、ベンジジン、3,3'-ジアミノ-ビフェニル、3,3'
-ジメチル-4,4'-ジアミノ-ビフェニル、3,3'-ジメトキ
シ-ベンジジン、4,4"-ジアミノ-p-テルフェニル、3,3"-
ジアミノ-p-テルフェニル、ビス(p-アミノ-シクロヘキ
シル)メタン、ビス(p-β-アミノ-t-ブチルフェニル)エ
ーテル、ビス(p-β-メチル-δ-アミノペンチル)ベンゼ
ン、p-ビス(2-メチル-4-アミノ-ペンチル)ベンゼン、p-
ビス(1,1-ジメチル-5-アミノ-ペンチル)ベンゼン、1,5-
ジアミノ-ナフタレン、2,6-ジアミノ-ナフタレン、2,4-
ビス(β-アミノ-t-ブチル)トルエン、2,4-ジアミノ-ト
ルエン、m-キシレン-2,5-ジアミン、p-キシレン-2,5-ジ
アミン、m-キシリレン-ジアミン、p-キシリレン-ジアミ
ン、2,6-ジアミノ-ピリジン、2,5-ジアミノ-ピリジン、
2,5-ジアミノ-1,3,4-オキサジアゾール、1,4-ジアミノ-
シクロヘキサン、ピペラジン、メチレン-ジアミン、エ
チレン-ジアミン、プロピレン-ジアミン、2,2-ジメチル
-プロピレン-ジアミン、テトラメチレン-ジアミン、ペ
ンタメチレン-ジアミン、ヘキサメチレン-ジアミン、2,
5-ジメチル-ヘキサメチレン-ジアミン、3-メトキシ-ヘ
キサメチレン-ジアミン、ヘプタメチレン-ジアミン、2,
5-ジメチル-ヘプタメチレン-ジアミン、3-メチル-ヘプ
タメチレン-ジアミン、4,4-ジメチル-ヘプタメチレン-
ジアミン、オクタメチレン-ジアミン、ノナメチレン-ジ
アミン、5-メチル-ノナメチレン-ジアミン、2,5-ジメチ
ル-ノナメチレン-ジアミン、デカメチレン-ジアミン、
1,10-ジアミノ-1,10-ジメチル-デカン、2,11-ジアミノ-
ドデカン、1,12-ジアミノ-オクタデカン、2,12-ジアミ
ノ-オクタデカン、2,17-ジアミノ-アイコサンなどが挙
げられる。
は、1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン(以下AP
Bと略す)と他のジアミンである。他のジアミンは、特
に限定されるものではないが、例を具体的に挙げると、
3,3'-ジメチル-4,4'-ジアミノビフェニル、4,6-ジメチ
ル-m-フェニレンジアミン、2,5-ジメチル-p-フェニレン
ジアミン、2,4-ジアミノメシチレン、4,4'-メチレンジ-
o-トルイジン、4,4'-メチレンジ-2,6-キシリジン、4,4'
-メチレン-2,6-ジエチルアニリン、2,4-トルエンジアミ
ン、m-フェニレン-ジアミン、p-フェニレン-ジアミン、
4,4'-ジアミノ-ジフェニルプロパン、3,3'-ジアミノ-ジ
フェニルプロパン、4,4'-ジアミノ-ジフェニルエタン、
3,3'-ジアミノ-ジフェニルエタン、4,4'-ジアミノ-ジフ
ェニルメタン、3,3'-ジアミノ-ジフェニルメタン、4,4'
-ジアミノ-ジフェニルスルフィド、3,3'-ジアミノ-ジフ
ェニルスルフィド、4,4'-ジアミノ-ジフェニルスルホ
ン、3,3'-ジアミノ-ジフェニルスルホン、4,4'-ジアミ
ノ-ジフェニルエーテル、3,3'-ジアミノ-ジフェニルエ
ーテル、ベンジジン、3,3'-ジアミノ-ビフェニル、3,3'
-ジメチル-4,4'-ジアミノ-ビフェニル、3,3'-ジメトキ
シ-ベンジジン、4,4"-ジアミノ-p-テルフェニル、3,3"-
ジアミノ-p-テルフェニル、ビス(p-アミノ-シクロヘキ
シル)メタン、ビス(p-β-アミノ-t-ブチルフェニル)エ
ーテル、ビス(p-β-メチル-δ-アミノペンチル)ベンゼ
ン、p-ビス(2-メチル-4-アミノ-ペンチル)ベンゼン、p-
ビス(1,1-ジメチル-5-アミノ-ペンチル)ベンゼン、1,5-
ジアミノ-ナフタレン、2,6-ジアミノ-ナフタレン、2,4-
ビス(β-アミノ-t-ブチル)トルエン、2,4-ジアミノ-ト
ルエン、m-キシレン-2,5-ジアミン、p-キシレン-2,5-ジ
アミン、m-キシリレン-ジアミン、p-キシリレン-ジアミ
ン、2,6-ジアミノ-ピリジン、2,5-ジアミノ-ピリジン、
2,5-ジアミノ-1,3,4-オキサジアゾール、1,4-ジアミノ-
シクロヘキサン、ピペラジン、メチレン-ジアミン、エ
チレン-ジアミン、プロピレン-ジアミン、2,2-ジメチル
-プロピレン-ジアミン、テトラメチレン-ジアミン、ペ
ンタメチレン-ジアミン、ヘキサメチレン-ジアミン、2,
5-ジメチル-ヘキサメチレン-ジアミン、3-メトキシ-ヘ
キサメチレン-ジアミン、ヘプタメチレン-ジアミン、2,
5-ジメチル-ヘプタメチレン-ジアミン、3-メチル-ヘプ
タメチレン-ジアミン、4,4-ジメチル-ヘプタメチレン-
ジアミン、オクタメチレン-ジアミン、ノナメチレン-ジ
アミン、5-メチル-ノナメチレン-ジアミン、2,5-ジメチ
ル-ノナメチレン-ジアミン、デカメチレン-ジアミン、
1,10-ジアミノ-1,10-ジメチル-デカン、2,11-ジアミノ-
ドデカン、1,12-ジアミノ-オクタデカン、2,12-ジアミ
ノ-オクタデカン、2,17-ジアミノ-アイコサンなどが挙
げられる。
【0009】本発明における酸二無水物とジアミンの反
応は、公知の方法で行なうことができる。予め、酸二無
水物成分あるいはジアミン成分の何れか一方を有機溶剤
中に溶解あるいは懸濁させておき、他方の成分を粉末又
は液状あるいは有機溶剤に溶解した状態で徐々に添加す
る。反応は発熱を伴うため、望ましくは冷却しながら反
応系の温度を室温付近に保って実施する。
応は、公知の方法で行なうことができる。予め、酸二無
水物成分あるいはジアミン成分の何れか一方を有機溶剤
中に溶解あるいは懸濁させておき、他方の成分を粉末又
は液状あるいは有機溶剤に溶解した状態で徐々に添加す
る。反応は発熱を伴うため、望ましくは冷却しながら反
応系の温度を室温付近に保って実施する。
【0010】酸二無水物成分とジアミン成分のモル比
(A+B)/(C+D)は、当量付近、特に0.8〜1.2の
範囲にあるのが望ましい。何れか一方が多くなり過ぎる
と、分子量が高くならず、耐熱性、機械特性が低下する
ので好ましくない。室温付近で反応させ、ポリアミド酸
を合成した後、加熱あるいは無水酢酸/ピリジン系触媒
を用いる等公知の方法によりイミド化を実施することが
できる。イミド化率は少なくとも80%以上であることが
望ましい。イミド化率が80%よりも低いと後にフィルム
化して熱圧着する際にイミド化が進行して水分が発生
し、ボイドの原因となって接着強度の低下を招くので好
ましくない。
(A+B)/(C+D)は、当量付近、特に0.8〜1.2の
範囲にあるのが望ましい。何れか一方が多くなり過ぎる
と、分子量が高くならず、耐熱性、機械特性が低下する
ので好ましくない。室温付近で反応させ、ポリアミド酸
を合成した後、加熱あるいは無水酢酸/ピリジン系触媒
を用いる等公知の方法によりイミド化を実施することが
できる。イミド化率は少なくとも80%以上であることが
望ましい。イミド化率が80%よりも低いと後にフィルム
化して熱圧着する際にイミド化が進行して水分が発生
し、ボイドの原因となって接着強度の低下を招くので好
ましくない。
【0011】(A+C)/(A+B+C+D)の値は、
0.5〜1.0であることが必要であり、0.5以下であると熱
溶融性が低下してしまい、少なくとも300℃以上、ある
いは50kgf/cm2以上の熱圧着条件が必要となり、量産性
の点で好ましくない。0.5以上であれば、250℃以下の温
度で、しかも20kgf/cm2以下の圧力下、10分以内の短時
間で熱圧着でき、良好な接着強度を達成することができ
る。
0.5〜1.0であることが必要であり、0.5以下であると熱
溶融性が低下してしまい、少なくとも300℃以上、ある
いは50kgf/cm2以上の熱圧着条件が必要となり、量産性
の点で好ましくない。0.5以上であれば、250℃以下の温
度で、しかも20kgf/cm2以下の圧力下、10分以内の短時
間で熱圧着でき、良好な接着強度を達成することができ
る。
【0012】本発明においては、ODPA又はAPBの
少なくともどちらか一方が必須成分として含まれている
ことが必要である。ODPAとAPBは、その構造上の
特徴により、ポリイミド中に少なくともそのどちらか一
方が上述のモル比を満たすように含まれることによっ
て、熱溶融性に優れ、接着強度も良好であり、耐熱性と
のバランスにも優れたフィルム状接着剤を得ることがで
きる。特にODPAとAPBの2者のみによる場合、ガ
ラス転移温度が190℃程度で、作業性も良く、特性の優
れたものを得ることができる。
少なくともどちらか一方が必須成分として含まれている
ことが必要である。ODPAとAPBは、その構造上の
特徴により、ポリイミド中に少なくともそのどちらか一
方が上述のモル比を満たすように含まれることによっ
て、熱溶融性に優れ、接着強度も良好であり、耐熱性と
のバランスにも優れたフィルム状接着剤を得ることがで
きる。特にODPAとAPBの2者のみによる場合、ガ
ラス転移温度が190℃程度で、作業性も良く、特性の優
れたものを得ることができる。
【0013】本発明において用いられる有機溶剤は特に
限定されるものではないが、均一溶解可能なものなら
ば、一種類或いは二種類以上を併用した混合溶媒であっ
ても差し支えない。この種の溶媒として代表的なもの
は、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトア
ミド、N,N-ジエチルホルムアミド、N,N-ジエチルアセト
アミド、N,N-ジメチルメトキシアセトアミド、ジメチル
スルホキシド、ヘキサメチルフォスホアミド、N-メチル
-2-ピロリドン、ピリジン、ジメチルスルホン、テトラ
メチルスルホン、ジメチルテトラメチレンスルホン、γ
-ブチロラクトン、ジグライム、テトラヒドロフラン、
塩化メチレン、ジオキサン、シクロヘキサノン等があ
り、均一に溶解できる範囲で貧溶媒を揮散調節剤、皮膜
平滑剤などとして使用することもできる。
限定されるものではないが、均一溶解可能なものなら
ば、一種類或いは二種類以上を併用した混合溶媒であっ
ても差し支えない。この種の溶媒として代表的なもの
は、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトア
ミド、N,N-ジエチルホルムアミド、N,N-ジエチルアセト
アミド、N,N-ジメチルメトキシアセトアミド、ジメチル
スルホキシド、ヘキサメチルフォスホアミド、N-メチル
-2-ピロリドン、ピリジン、ジメチルスルホン、テトラ
メチルスルホン、ジメチルテトラメチレンスルホン、γ
-ブチロラクトン、ジグライム、テトラヒドロフラン、
塩化メチレン、ジオキサン、シクロヘキサノン等があ
り、均一に溶解できる範囲で貧溶媒を揮散調節剤、皮膜
平滑剤などとして使用することもできる。
【0014】本発明において用いられる高熱伝導性フィ
ラーは、熱伝導率が5.0[W/(m・K)]以上であればフィルム
状接着剤中に均一分散させると充分な熱伝導性が得られ
るので好ましく、種類については特に限定されるもので
はないが、導電性を必要としない場合はフォノン伝導を
主体とする絶縁性、半導性セラミックスが好ましい。熱
伝導率が5.0[W/(m・K)]未満の場合は、フィルム状接着層
に均一分散させた時に充分な熱伝導性が得られないので
好ましくない。
ラーは、熱伝導率が5.0[W/(m・K)]以上であればフィルム
状接着剤中に均一分散させると充分な熱伝導性が得られ
るので好ましく、種類については特に限定されるもので
はないが、導電性を必要としない場合はフォノン伝導を
主体とする絶縁性、半導性セラミックスが好ましい。熱
伝導率が5.0[W/(m・K)]未満の場合は、フィルム状接着層
に均一分散させた時に充分な熱伝導性が得られないので
好ましくない。
【0015】本発明に用いられる高熱伝導性フィラーの
例を挙げると、Al2O3、BeO、MgO、SiC、TiC、TiN、Si3N
4、AlN、BN、ZrB2、MoSi2、ダイヤモンド等があり、単
独あるいは2種以上混合して用いることもできるが、特
にこれらに限定されるものではない。形状としては、フ
レーク状、樹枝状や球状等のものが用いられる。異なる
粒径のものを混合して用いてもよい。必要な特性を得る
ための粒径は、0.01〜50μmが望ましい。本発明のフィ
ルム状接着剤中のフィラー量は、樹脂に対して30〜900w
t%の割合であることが望ましい。30wt%未満では充分
な熱伝導性が得られないので好ましくなく、900wt%を
越えると接着強度が低下するので好ましくない。
例を挙げると、Al2O3、BeO、MgO、SiC、TiC、TiN、Si3N
4、AlN、BN、ZrB2、MoSi2、ダイヤモンド等があり、単
独あるいは2種以上混合して用いることもできるが、特
にこれらに限定されるものではない。形状としては、フ
レーク状、樹枝状や球状等のものが用いられる。異なる
粒径のものを混合して用いてもよい。必要な特性を得る
ための粒径は、0.01〜50μmが望ましい。本発明のフィ
ルム状接着剤中のフィラー量は、樹脂に対して30〜900w
t%の割合であることが望ましい。30wt%未満では充分
な熱伝導性が得られないので好ましくなく、900wt%を
越えると接着強度が低下するので好ましくない。
【0016】本発明の熱圧着可能な高熱伝導性フィルム
状接着剤の使用方法としては、特に限定されるものでは
ないが、通常充分にイミド化されたワニスにフィラーを
加えて、ミキサー、三本ロール等を用いて均一分散させ
た後、必要に応じて希釈し粘度を調整したものを、テフ
ロン等の離型性に優れた基材に塗布した後、加熱処理に
よって溶剤を揮散させてフィルム化し、基材から剥がし
て高熱伝導性フィラー含有フィルムを得る。これを被接
着体間に挟んだ後、熱圧着する。または予め被着体の上
に塗布した後、加熱処理を施して充分に溶剤を揮散させ
た後、一方の被着体と合わせて熱圧着することもでき
る。
状接着剤の使用方法としては、特に限定されるものでは
ないが、通常充分にイミド化されたワニスにフィラーを
加えて、ミキサー、三本ロール等を用いて均一分散させ
た後、必要に応じて希釈し粘度を調整したものを、テフ
ロン等の離型性に優れた基材に塗布した後、加熱処理に
よって溶剤を揮散させてフィルム化し、基材から剥がし
て高熱伝導性フィラー含有フィルムを得る。これを被接
着体間に挟んだ後、熱圧着する。または予め被着体の上
に塗布した後、加熱処理を施して充分に溶剤を揮散させ
た後、一方の被着体と合わせて熱圧着することもでき
る。
【0017】また本発明の接着剤のベース樹脂であるポ
リイミド樹脂には、必要に応じて各種添加剤を加えるこ
とができる。例えば、基材に塗布する際の表面平滑剤、
濡れ性を高めるためのレベリング剤や各種界面活性剤、
シランカップリング剤、また接着剤の熱圧着後の耐熱性
を高めるための各種架橋剤などの添加剤である。これら
の添加剤は、フィルム状接着剤の特性を損わない程度の
量で使用することができる。
リイミド樹脂には、必要に応じて各種添加剤を加えるこ
とができる。例えば、基材に塗布する際の表面平滑剤、
濡れ性を高めるためのレベリング剤や各種界面活性剤、
シランカップリング剤、また接着剤の熱圧着後の耐熱性
を高めるための各種架橋剤などの添加剤である。これら
の添加剤は、フィルム状接着剤の特性を損わない程度の
量で使用することができる。
【0018】以下に実施例を以て本発明を具体的に説明
するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものでは
ない。
するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものでは
ない。
【0019】
(実施例1)温度計、撹拌機、原料投入口、乾燥窒素ガ
ス導入管を備えた四つ口のセパラブルフラスコ中に、1,
3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン(APB)29.23
g(0.1モル)を300gのN-メチル-2-ピロリドン(NM
P)に溶解させ、4,4'-オキシジフタル酸二無水物(O
DPA)31.02g(0.1モル)を30分間かけて粉状のまま
徐々に添加した後2時間撹拌を続けた。この間ずっと乾
燥窒素ガスを流しておき、更にODPAを添加する前か
ら氷浴で冷却し、系を反応の間ずっと20℃に保っておい
た。
ス導入管を備えた四つ口のセパラブルフラスコ中に、1,
3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン(APB)29.23
g(0.1モル)を300gのN-メチル-2-ピロリドン(NM
P)に溶解させ、4,4'-オキシジフタル酸二無水物(O
DPA)31.02g(0.1モル)を30分間かけて粉状のまま
徐々に添加した後2時間撹拌を続けた。この間ずっと乾
燥窒素ガスを流しておき、更にODPAを添加する前か
ら氷浴で冷却し、系を反応の間ずっと20℃に保っておい
た。
【0020】次いで、この系にキシレン60gを添加し、
乾燥窒素導入管を外して、代りにディーンスターチ還流
冷却管を取付け、氷浴を外してオイルバスで加熱して系
の温度を上昇させる。イミド化に伴って生じる水をトル
エンとの共沸により系外へ除去しながら加熱を続け、15
0〜160℃でイミド化を進めて水が発生しなくなった5時
間後に反応を終了させた。このポリイミドワニスを30リ
ットルのメタノール中に撹拌しながら1時間かけて滴下
し、樹脂を沈澱させ、濾過して固形分のみを回収した
後、真空乾燥機中にて減圧下120℃で5時間乾燥させ
た。このようにして得られたポリイミド樹脂のFT-IRス
ペクトルを測定し、1650cm-1に現れるイミド化前のアミ
ド結合に基づく吸収と、1780cm-1に現れるイミド環に基
づく吸収からイミド化率を求めたところ、100%イミド
化されていることが判った。
乾燥窒素導入管を外して、代りにディーンスターチ還流
冷却管を取付け、氷浴を外してオイルバスで加熱して系
の温度を上昇させる。イミド化に伴って生じる水をトル
エンとの共沸により系外へ除去しながら加熱を続け、15
0〜160℃でイミド化を進めて水が発生しなくなった5時
間後に反応を終了させた。このポリイミドワニスを30リ
ットルのメタノール中に撹拌しながら1時間かけて滴下
し、樹脂を沈澱させ、濾過して固形分のみを回収した
後、真空乾燥機中にて減圧下120℃で5時間乾燥させ
た。このようにして得られたポリイミド樹脂のFT-IRス
ペクトルを測定し、1650cm-1に現れるイミド化前のアミ
ド結合に基づく吸収と、1780cm-1に現れるイミド環に基
づく吸収からイミド化率を求めたところ、100%イミド
化されていることが判った。
【0021】このポリイミド樹脂をジエチレングリコー
ルジメチルエーテル(ジグライム)に溶解させ、濃度10
%に調整した。このワニスに、平均粒径2μmの窒化ホ
ウ素を樹脂分に対して120wt%添加し、三本ロールを用
いて混合してペーストを得た。アプリケータを用いてこ
のペーストを表面研磨されたテフロン板の上にキャスト
し、乾燥機中で120℃、5時間加熱処理をすることによ
って溶剤を揮散させ、テフロン基板から剥がして、厚み
25μmのフィルムを作成した。このフィルムから、3mm×
3.5mm角の大きさを切出し、銅製のリードフレームと、3
mm×3.5mm角の大きさのシリコンチップの間に挟み、230
℃のホットプレート上で500gの荷重をかけ(約4.76kgf
/cm2)、5分間熱圧着した後、室温まで冷却してプッ
シュプルゲージで剪断強度を測定したところ、10kgf以
上の値のところでシリコンチップが破壊して正確な剪断
強度が得られない程、強固に接着していた。次に、260
℃のホットプレート上に10秒間、同様の接着サンプルを
置いて剪断強度を測定したところ、1.3kgfの強度が得ら
れた。破壊のモードは凝集破壊であり、リードフレーム
にもチップにもフィルムの一部が残っていた。またフィ
ルムにはボイドは全く認められなかった。このフィルム
の熱伝導率と体積抵抗率を測定したところ、それぞれ2.
5[W/(m・K)]、1×1015[Ω-cm]であり、高熱伝導性で絶
縁性に優れていることが確認できた。
ルジメチルエーテル(ジグライム)に溶解させ、濃度10
%に調整した。このワニスに、平均粒径2μmの窒化ホ
ウ素を樹脂分に対して120wt%添加し、三本ロールを用
いて混合してペーストを得た。アプリケータを用いてこ
のペーストを表面研磨されたテフロン板の上にキャスト
し、乾燥機中で120℃、5時間加熱処理をすることによ
って溶剤を揮散させ、テフロン基板から剥がして、厚み
25μmのフィルムを作成した。このフィルムから、3mm×
3.5mm角の大きさを切出し、銅製のリードフレームと、3
mm×3.5mm角の大きさのシリコンチップの間に挟み、230
℃のホットプレート上で500gの荷重をかけ(約4.76kgf
/cm2)、5分間熱圧着した後、室温まで冷却してプッ
シュプルゲージで剪断強度を測定したところ、10kgf以
上の値のところでシリコンチップが破壊して正確な剪断
強度が得られない程、強固に接着していた。次に、260
℃のホットプレート上に10秒間、同様の接着サンプルを
置いて剪断強度を測定したところ、1.3kgfの強度が得ら
れた。破壊のモードは凝集破壊であり、リードフレーム
にもチップにもフィルムの一部が残っていた。またフィ
ルムにはボイドは全く認められなかった。このフィルム
の熱伝導率と体積抵抗率を測定したところ、それぞれ2.
5[W/(m・K)]、1×1015[Ω-cm]であり、高熱伝導性で絶
縁性に優れていることが確認できた。
【0022】(実施例2)酸無水物成分として、ODP
A18.61g(0.06モル)、3,3',4,4'-ベンゾフェノンテ
トラカルボン酸二無水物(BTDA)12.89g(0.04モ
ル)及びジアミン成分として、APB14.62g(0.05モ
ル)、2,4-ジアミノトルエン6.11g(0.05モル)、1,3-
ビス(3-アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン(A
PDS)2.49g(0.01モル)を用いた以外は実施例1と
同様の方法によってポリイミド樹脂を得、イミド化率を
測定したところ、100%であった。この樹脂をジグライ
ムとブチルセルソルブアセテート(BCA)の1対1混
合溶媒で溶解し、濃度15%に調整した。
A18.61g(0.06モル)、3,3',4,4'-ベンゾフェノンテ
トラカルボン酸二無水物(BTDA)12.89g(0.04モ
ル)及びジアミン成分として、APB14.62g(0.05モ
ル)、2,4-ジアミノトルエン6.11g(0.05モル)、1,3-
ビス(3-アミノプロピル)テトラメチルジシロキサン(A
PDS)2.49g(0.01モル)を用いた以外は実施例1と
同様の方法によってポリイミド樹脂を得、イミド化率を
測定したところ、100%であった。この樹脂をジグライ
ムとブチルセルソルブアセテート(BCA)の1対1混
合溶媒で溶解し、濃度15%に調整した。
【0023】このワニスに、平均粒径3μmのAl2O3を樹
脂分に対し150wt%添加し、三本ロールで混合してペー
ストを得た。このペーストをアプリケータを用いて表面
研磨したテフロン板の上にキャストし、乾燥機中で120
℃、5時間加熱処理をすることによって溶剤を揮散さ
せ、テフロン基板から剥がして厚さ25μmのフィルムを
作成した。このフィルムから3mm×3.5mm角の大きさを切
り出し、銅製のリードフレームと3mm×3.5mm角の大きさ
のシリコンチップの間に挟み、300℃のホットプレート
上で500gの荷重を10秒かけ接着した。室温で剪断強度
を測定したところ、10kgf以上でシリコンチップが破壊
した。次に、260℃のホットプレート上に10秒間、同様
の接着サンプルを置いて剪断強度を測定したところ、3.
2kgfであった。接着フィルム面にはボイドは全く認めら
れなかった。このフィルムの熱伝導率と体積抵抗率を測
定したところ、それぞれ1.1[W/(m・K)]、1×1016[Ω-c
m]であり、高熱伝導性で絶縁性に優れていることが確認
できた。
脂分に対し150wt%添加し、三本ロールで混合してペー
ストを得た。このペーストをアプリケータを用いて表面
研磨したテフロン板の上にキャストし、乾燥機中で120
℃、5時間加熱処理をすることによって溶剤を揮散さ
せ、テフロン基板から剥がして厚さ25μmのフィルムを
作成した。このフィルムから3mm×3.5mm角の大きさを切
り出し、銅製のリードフレームと3mm×3.5mm角の大きさ
のシリコンチップの間に挟み、300℃のホットプレート
上で500gの荷重を10秒かけ接着した。室温で剪断強度
を測定したところ、10kgf以上でシリコンチップが破壊
した。次に、260℃のホットプレート上に10秒間、同様
の接着サンプルを置いて剪断強度を測定したところ、3.
2kgfであった。接着フィルム面にはボイドは全く認めら
れなかった。このフィルムの熱伝導率と体積抵抗率を測
定したところ、それぞれ1.1[W/(m・K)]、1×1016[Ω-c
m]であり、高熱伝導性で絶縁性に優れていることが確認
できた。
【0024】(実施例3〜5及び比較例1〜5)ポリイ
ミド樹脂の組成、イミド化時間、高熱伝導性フィラーの
種類、添加量以外は全て実施例1の方法と同様に行な
い、表1の結果を得た。
ミド樹脂の組成、イミド化時間、高熱伝導性フィラーの
種類、添加量以外は全て実施例1の方法と同様に行な
い、表1の結果を得た。
【0025】
【表1】
【0026】実施例1、2並びに表1の実施例3〜5の
ように、ODPAとAPBが全体の樹脂組成のうち、モ
ル数の割合で0.5〜1.0であり、酸無水物とジアミンのモ
ル比が0.8〜1.2の範囲にあり、イミド化率が80%以上の
ポリイミドを用いて、熱伝導率5.0[W/(m・K)]以上のフィ
ラーを均一分散してフィルム化したものは、300℃以下
の比較的低い温度で、しかも10kgf/cm2という比較的低
い圧力で、10秒間という短時間の熱圧着条件で強固な接
着強度が得られ、さらに260℃という高温においても1k
gf以上の接着強度を有していた。また得られた接着層の
熱伝導率も1.0[W/(m・K)]以上で高熱伝導性を有し、絶縁
性も体積抵抗率で1010[Ω-cm]以上あった。
ように、ODPAとAPBが全体の樹脂組成のうち、モ
ル数の割合で0.5〜1.0であり、酸無水物とジアミンのモ
ル比が0.8〜1.2の範囲にあり、イミド化率が80%以上の
ポリイミドを用いて、熱伝導率5.0[W/(m・K)]以上のフィ
ラーを均一分散してフィルム化したものは、300℃以下
の比較的低い温度で、しかも10kgf/cm2という比較的低
い圧力で、10秒間という短時間の熱圧着条件で強固な接
着強度が得られ、さらに260℃という高温においても1k
gf以上の接着強度を有していた。また得られた接着層の
熱伝導率も1.0[W/(m・K)]以上で高熱伝導性を有し、絶縁
性も体積抵抗率で1010[Ω-cm]以上あった。
【0027】一方、比較例1のようにODPA、APB
の全体の樹脂組成に占める割合がモル比で0.5未満とな
ると、300℃、50kgf/cm2、30秒の熱圧着条件では充分
な接着強度が得られなかった。比較例2のようにフィラ
ーの添加量が樹脂分に対して30wt%未満になると、充分
な熱伝導率が得られなかった。また逆に比較例3のよう
にフィラーの添加量が900wt%を越えると、接着成分で
ある樹脂の相対量が減少し、充分な接着強度が得られな
かった。比較例4のように熱伝導率5.0[W/(m・K)]以下の
フィラーを用いると、充分な熱伝導率が得られなかっ
た。比較例5のようにイミド化率が80%未満であると、
熱圧着後のフィルム面にボイドが発生してしまうため、
充分な接着強度が得られなかった。以上のように本発明
の条件以外では良好な結果を得ることができなかった。
の全体の樹脂組成に占める割合がモル比で0.5未満とな
ると、300℃、50kgf/cm2、30秒の熱圧着条件では充分
な接着強度が得られなかった。比較例2のようにフィラ
ーの添加量が樹脂分に対して30wt%未満になると、充分
な熱伝導率が得られなかった。また逆に比較例3のよう
にフィラーの添加量が900wt%を越えると、接着成分で
ある樹脂の相対量が減少し、充分な接着強度が得られな
かった。比較例4のように熱伝導率5.0[W/(m・K)]以下の
フィラーを用いると、充分な熱伝導率が得られなかっ
た。比較例5のようにイミド化率が80%未満であると、
熱圧着後のフィルム面にボイドが発生してしまうため、
充分な接着強度が得られなかった。以上のように本発明
の条件以外では良好な結果を得ることができなかった。
【0028】
【発明の効果】本発明の熱圧着可能なフィルム状接着剤
は、銅、シリコンなどの金属、セラミックスへの接着性
に優れており、室温だけでなく、260℃のような半田溶
融温度でも充分な接着強度を有する耐熱性に優れたもの
である。また接着層は高熱伝導性を有し、熱放散性に優
れていた。しかも従来にない、低温、低圧、短時間で熱
圧着できる量産性の点においても有利な高熱伝導性フィ
ルム状接着剤を得ることができる。
は、銅、シリコンなどの金属、セラミックスへの接着性
に優れており、室温だけでなく、260℃のような半田溶
融温度でも充分な接着強度を有する耐熱性に優れたもの
である。また接着層は高熱伝導性を有し、熱放散性に優
れていた。しかも従来にない、低温、低圧、短時間で熱
圧着できる量産性の点においても有利な高熱伝導性フィ
ルム状接着剤を得ることができる。
Claims (1)
- 【請求項1】 4,4'-オキシジフタル酸二無水物Aモル
及び他の酸二無水物成分Bモルを含む酸成分と、1,3-ビ
ス(3-アミノフェノキシ)ベンゼンCモル及び他のジアミ
ン成分Dモルを含むアミン成分とを、4,4'-オキシジフ
タル酸二無水物又は1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベン
ゼンの少なくともどちらか一方を必須成分とし、(A+
C)/(A+B+C+D)が0.5〜1.0、(A+B)/
(C+D)が0.8〜1.2の範囲で反応させ、少なくとも80
%以上がイミド化されているポリイミド樹脂と、樹脂に
対して30〜900wt%の熱伝導率5.0[W/(m・K)]以上である
フィラーとからなる熱圧着可能な高熱伝導性フィルム状
接着剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28180691A JPH05117596A (ja) | 1991-10-29 | 1991-10-29 | 熱圧着可能な高熱伝導性フイルム状接着剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28180691A JPH05117596A (ja) | 1991-10-29 | 1991-10-29 | 熱圧着可能な高熱伝導性フイルム状接着剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05117596A true JPH05117596A (ja) | 1993-05-14 |
Family
ID=17644249
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28180691A Pending JPH05117596A (ja) | 1991-10-29 | 1991-10-29 | 熱圧着可能な高熱伝導性フイルム状接着剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05117596A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0659553A1 (en) * | 1993-12-22 | 1995-06-28 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Coextruded multi-layer aromatic polyimide film and preparation thereof |
| JPH08319466A (ja) * | 1995-03-20 | 1996-12-03 | Fujitsu Ltd | 接着剤、半導体装置及びその製造方法 |
| US6717242B2 (en) | 1995-07-06 | 2004-04-06 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Semiconductor device and process for fabrication thereof |
| US6825249B1 (en) | 1994-12-26 | 2004-11-30 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | Laminating method of film-shaped organic die-bonding material, die-bonding method, laminating machine and die-bonding apparatus, semiconductor device, and fabrication process of semiconductor device |
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| JP2010084072A (ja) * | 2008-10-01 | 2010-04-15 | Mitsui Chemicals Inc | 接着樹脂組成物、およびそれを含む積層体 |
| JP2011225675A (ja) * | 2010-04-16 | 2011-11-10 | Mitsui Chemicals Inc | 熱伝導性接着樹脂組成物、それを含む積層体および半導体装置 |
| WO2014049212A1 (en) | 2012-09-28 | 2014-04-03 | Carbodeon Ltd Oy | Nanodiamonds containing thermoplastic thermal composites |
Citations (6)
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-
1991
- 1991-10-29 JP JP28180691A patent/JPH05117596A/ja active Pending
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