JPH05117656A - 光刺激可能リン光体及び放射線写真におけるその使用 - Google Patents

光刺激可能リン光体及び放射線写真におけるその使用

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JPH05117656A
JPH05117656A JP4092021A JP9202192A JPH05117656A JP H05117656 A JPH05117656 A JP H05117656A JP 4092021 A JP4092021 A JP 4092021A JP 9202192 A JP9202192 A JP 9202192A JP H05117656 A JPH05117656 A JP H05117656A
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phosphor
range
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niobium
tantalum
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JP4092021A
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Paul Leblans
ポール・ルブラン
Melvin Tecotzky
メルヴイン・テコツキイ
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Agfa Gevaert NV
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    • G21K4/00—Conversion screens for the conversion of the spatial distribution of X-rays or particle radiation into visible images, e.g. fluoroscopic screens
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • C09K11/7728—Luminescent materials, e.g. electroluminescent or chemiluminescent containing inorganic luminescent materials containing rare earth metals containing europium
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Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【構成】光刺激可能Ｘ線エネルギー吸収性ハロシリケー
ト、ハロゲルマネート又はハロ（シリケート−ゲルマネ
ート）リン光体であり、前記リン光体が宿主金属として
少なくとも１種のアルカリ土類金属、ハロゲンとしてＣ
ｌ，Ｂｒ及びＩからなる群から選択した少なくとも１
員、ドープ剤としてＥｕ2+及び共ドープ剤としてニオブ
及びタンタルからなる群から選択した少なくとも１員を
含有するリン光体及びスクリーン又はパネル中でこれを
含有する結合剤層によりＸ線パターンを記録、再生する
方法。 【効果】これらのリン光体は非吸湿性であり、周波数二
重Ｎｄ：ＹＡＧレーザーの刺激性光及び／又は５１４．
５ｎｍで放出するアルゴンイオンレーザーの刺激性光に
よって非常に効率的に放出する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】本発明は光刺激可能（photostimulable ）
リン光体及びスクリーン又はパネル中で前記リン光体を
含有する結合剤層によりＸ線パターンを記録及び再生す
る方法に関する。
【０００２】Ｘ線が適切な物質を発光させることができ
ることは良く知られている。Ｘ線の影響の下に発光する
現象を示す物質はリン光体と称される。
【０００３】従来の放射線写真法によれば、写真ハロゲ
ン化銀乳剤フィルムが増感スクリーンと称されるシート
状材料と組合されており、増感スクリーンは、フィルム
がＸ線で直接露光されるよりも非常に大なる感光性であ
る蛍光にＸ線を変換する結合剤中に分散した微粒子状リ
ン光体を含有する。
【０００４】前記スクリーンで使用するリン光体は、Ｘ
線露光時に高即発発光を有すべきであるが、Ｘ線露光を
閉じた後適切な長さの発光を示さない。
【０００５】例えばＵＳ−Ｐ３８５９５２７及び４２５
８２６４に記載されているＸ線パターンを記録し、再生
する別の方法によれば、光刺激可能リン光体として知ら
れている特殊なリン光体が使用され、これはパネル中に
組入れられて、入射パターン状に変調されたＸ線に対し
露光され、その結果としてＸ線放射線パターンから生ず
るエネルギーをその中に一時的に貯蔵する。Ｘ線露光後
或る間隔で、可視光又は赤外光のビームがパネルを走査
し、検出しかつ続いて可視像を作るため処理できる逐次
電気信号に変えられる光として貯蔵されたエネルギーの
放出を刺激する。このためには刺激可能リン光体は、入
射Ｘ線エネルギーをできる限り多く貯蔵し、走査ビーム
によって刺激されるまで貯蔵されたエネルギーをできる
限り徐々に放出すべきである。換言すれば、リン光体は
遅い暗崩壊を有する高エネルギー貯蔵能力を有すべきで
ある。それに加えて、光刺激時の貯蔵されたエネルギー
の放出は充分に行われるべきである、即ち刺激性光（st
imulating light ）の波長範囲とは充分に離れた波長範
囲を有する刺激光（stimulation light ）形で、適切な
読取時間内で貯蔵されたエネルギーの殆ど全部が放出さ
れるべきである。実際に、刺激可能リン光体は、Ｈｅ−
Ｎｅレーザー（６３３ｎｍ）、ルビーレーザー（６９４
ｎｍ）、周波数二重ネオジムＹＡＧレーザー（５３２ｎ
ｍ）又はアルゴンイオンレーザー（５１４．５ｎｍ）が
放出するような５００〜７００ｎｍの波長範囲で刺激性
光に対して高い感度を有すべきである。これらの市販の
レーザーの中から、アルゴンイオンレーザーが最も強力
であり、逐次露光（走査）において、読取時間を短縮す
る可能性を提供する。
【０００６】刺激光と称される、リン光体を刺激するこ
とによって放出される光は、３００〜５００ｎｍの波長
範囲にあるのが好ましい、これは光電子増倍管が高い光
量子効率を有し（定期刊行物Radiography 、１９８３年
９月、８３４頁参照）、刺激光が適切なカットオフフィ
ルターによって刺激性光から効率的に分離できる。
【０００７】前述した刊行物に記載されている如く、刺
激可能リン光体を含有する像形成プレートは、それが含
有する残存エネルギーを消すため、それを光で全面露光
することにより、簡単にＸ線像を貯蔵するために繰返し
使用できる。
【０００８】実際上有用なリン光体に対する別の重要な
性質は、その化学的安定性、特にその湿分に対する抵抗
性である、何故なら吸湿性リン光体は湿潤されるような
ったとき発光力を失うことで悩まされるからである。
【０００９】ＵＳ−Ｐ４５８７０３６から知ることがで
きるように、幾つかのユーロピウムドープしたアルカリ
土類金属フルオロハロゲン化物（ＥＰ００２１３４２に
記載されている）は水分に対して敏感であり、これによ
ってそれらの蛍光力が低下する。
【００１０】公開されたヨーロッパ特許出願０３０４１
２１には、Ｅｕ2+及び／又はＣｅ3+ドープした（活性化
した）ハロシリケートが記載されている、これは特に耐
湿性であり、５１４．５ｎｍのアルゴンイオンレーザー
光で刺激したとき可視刺激光への貯蔵されたＸ線エネル
ギーの高変換効率を有する。
【００１１】公開されたヨーロッパ特許出願０３８２２
９５には、Ｅｕ2+及び／又はＣｅ3+ドープした（活性化
した）ハロゲルマネート及びハロ（シリケート−ゲルマ
ネート）リン光体が記載されており、これは特に耐湿性
であり、６００ｎｍを越える波長範囲の光、例えば６３
３ｎｍのＨｅ−Ｎｅレーザー光で刺激したとき可視刺激
光への貯蔵されたＸ線エネルギーの高変換効率を有す
る。
【００１２】一般に知られている如く、大部分のリン光
体はそれらの実験式構造中に、１種以上の宿主（host）
金属及び１種以上の共ドープ剤と混合した形でのドープ
剤又は活性剤金属を含有する。宿主金属はリン光体にＸ
線停止力を与え、ドープ剤及び共ドープ剤との関連にお
いてそのエネルギー貯蔵能力を決定し、刺激したときの
発光スペクトル及び吸収されたＸ線エネルギーの放出さ
れる蛍光への変換効率はドープ剤及び場合によって存在
する共ドープ剤によって主として決定される。
【００１３】本発明の目的は、貯蔵されたＸ線エネルギ
ーの刺激された放出によりＸ線像を記録し、再生する方
法において、光刺激可能リン光体として特に有用である
新規なハロシリケート、ハロゲルマネート及びハロ（シ
リケート−ゲルマネート）化合物を提供することにあ
る。
【００１４】特に本発明の目的は、非吸湿性であり、周
波数二重Ｎｄ：ＹＡＧレーザーの刺激性光及び／又は５
１４．５ｎｍで放出するアルゴンイオンレーザーの刺激
性光によって非常に効率的に放出されうる新規なハロシ
リケート化合物を提供することにある。
【００１５】本発明の別の目的は、結合剤層中に分散さ
せた前記新規リン光体を含有するＸ線スクリーン又はパ
ネルを提供することにある。
【００１６】本発明の更に別の目的は、前記新規リン光
体をＸ線放射線中に含有されたエネルギーを貯蔵するた
めに使用し、前記エネルギーを検出される蛍光の形で光
刺激によって再び放出するようなＸ線放射線のパターン
を記録し、再生する方法を提供することにある。
【００１７】本発明の別の目的及び利点は以下の説明か
ら明らかになるであろう。
【００１８】本発明によれば光刺激可能Ｘ線エネルギー
吸収性ハロシリケート、ハロゲルマネート又はハロ（シ
リケート−ゲルマネート）リン光体を提供し、前記リン
光体は、宿主金属として少なくとも１種のアルカリ土類
金属、ハロゲンとしてＣｌ，Ｂｒ及びＩからなる群から
選択した少なくとも１員、ドープ剤としてＥｕ2+及び共
ドープ剤としてニオブ及びタンタルからなる群から選択
した少なくとも１員を含有することを特徴とする。
【００１９】「シリケート」なる語は、ケイ素及び酸素
からなるアニオンを含む化合物に適用し、一方「ゲルマ
ネート」なる語はゲルマニウム及び酸素からなるアニオ
ンを含む化合物に適用する。
【００２０】「シリケート−ゲルマネート」なる語は、
ケイ素、ゲルマニウム及び酸素からなるアニオンを含む
化合物に適用する。
【００２１】本発明による特に有用なリン光体は、宿主
金属としてＢａ，Ｓｒ及びＣａからなる群から選択した
少なくとも１種のアルカリ土類金属を含有する。
【００２２】本発明による好ましいリン光体は下記実験
式の範囲内にある：
【００２３】 Ｂａ5-(n+p+q) Ｚq Ｇｅv Ｓｉw Ｏ4 Ｘ6 ：Ｅｕn 2+ ，Ｄp m+ ，Ｍz
【００２４】式中Ｚはストロンチウム及びカルシウムか
らなる群から選択した少なくとも１種の共宿主金属であ
り、ｑは０〜０．５の範囲であり、ｖは０であるか又は
大きくても１に等しく、ｖ＋ｗ＝１であり、Ｘは臭素及
び／又は塩素であり、ｎは０．０００１〜０．１５の範
囲であり、ｐは０〜０．０１５の範囲であり、ＤはＮａ
+ 、Ｋ+ 、及びＥｕ2+及びＣｅ3+以外の稀土類金属イオ
ン、例えばＹ3+からなる群から選択した少なくとも１種
の共ドープ剤であり、ｍは１又は３であり、Ｍはニオブ
及び／又はタンタルであり、そしてｚは０．００１〜
０．１の範囲である。
【００２５】Ｍがニオブであるとき、ｚは０．００１〜
０．０２の範囲であるのが好ましく、Ｍがタンタルであ
るとき、ｚは０．０２〜０．１の範囲であるのが好まし
い。
【００２６】本発明による他のリン光体は下記実験式の
範囲内にある：
【００２７】 Ｓｒ5-(n+p+q) Ｚq Ｇｅv Ｓｉw Ｏ4 Ｘ6 ：Ｅｕn 2+ ，Ｄp m+ ，Ｍz
【００２８】式中Ｚはバリウム及びカルシウムからなる
群から選択した少なくとも１種の共宿主金属であり、ｑ
は０〜０．５の範囲であり、ｖは０であるか又は大きく
ても１に等しく、ｖ＋ｗ＝１であり、Ｘは臭素及び／又
は塩素であり、好ましくは臭素であり、ｎは０．０００
１〜０．１５の範囲であり、ｐは０〜０．０１５の範囲
であり、ＤはＮａ+ 、Ｋ+ 、及びＥｕ2+及びＣｅ3+以外
の稀土類金属イオン、例えばＹ3+からなる群から選択し
た少なくとも１種の共ドープ剤であり、ｍは１又は３で
あり、Ｍはニオブ及び／又はタンタルであり、そしてｚ
は０．００１〜０．１の範囲である。
【００２９】光刺激によるＸ線像再生に特に有用である
本発明によるリン光体は、下記実験式（Ｉ）又は（II）
の範囲内にある：
【００３０】 （Ｉ）Ｂａ5-(n+p) Ｇｅv Ｓｉw Ｏ4 Ｘ6 ：Ｅｕn 2+ ，Ｄp m+ ，Ｍz
【００３１】 （II）Ｓｒ5-(n+p) Ｇｅv Ｓｉw Ｏ4 Ｂｒ6 ：Ｅｕn 2+ ，Ｄp m+ ，Ｍz
【００３２】式中ｖは０であるか又は大きくても１に等
しく、ｖ＋ｗ＝１であり、Ｘは臭素及び／又は塩素であ
り、ｎは０．０００１〜０．１５の範囲であり、ｐは０
〜０．０１５の範囲であり、ＤはＮａ+ 、Ｋ+ 、及びＥ
ｕ2+及びＣｅ3+以外の稀土類金属イオン、例えばＹ3+か
らなる群から選択した少なくとも１種の共ドープ剤であ
り、ｍは１又は３であり、Ｍはニオブ及び／又はタンタ
ルであり、ｚは０．００１〜０．１の範囲である。
【００３３】本発明による特に好ましい光刺激可能リン
光体は下記実験式(III) 又は(IV)の範囲内にある：
【００３４】 (III) Ｂａ5-n Ｇｅv Ｓｉw Ｏ4 Ｘ6 ，Ｅｕn 2+ ，Ｍz
【００３５】 (IV) Ｓｒ5-n Ｇｅv Ｓｉw Ｏ4 Ｘ6 ，Ｅｕn 2+ ，Ｍz
【００３６】式中ｎは０．０００１〜０．１５の範囲で
あり、ｖは０≦ｖ≦１の範囲であり、ｖ＋ｗは１に等し
い、Ｘは臭素及び／又は塩素であり、Ｍはニオブ及び／
又はタンタルであり、ｚは０．００１〜０．１の範囲で
ある。
【００３７】本発明により光刺激可能リン光体は、Ｅｕ
2 Ｏ3又はＥｕＦ3 及びＮｂ2 Ｏ5及び／又はＴａ2 Ｏ5
を、ＳｉＯ2 （シリカ）及び／又はＧｅＯ2 との混合物
の形での宿主金属ハロゲン化物、及び酸化物に熱分解で
きる宿主金属化合物、例えば炭酸塩と混合した形で、４
５０〜１１００℃の温度で４０時間以下少なくとも一度
焼成することによって作ることができる。Ｅｕ2 Ｏ3
は、焼成段階で他の共ドープ剤のハロゲン化物及び／又
は酸化物、例えばＹ2 Ｏ3 及び／又はＹＦ3 との混合物
の形で使用できる。
【００３８】ドープ剤及び共ドープ剤を導入する化合物
を宿主金属化合物と機械的に混合する代りに、ドープ元
素は炭酸塩又は修酸塩の形で宿主金属化合物と化学的に
共沈澱させることができ、これはＥｕ3+をＥｕ2+に変え
る適切な雰囲気、好ましくは還元性雰囲気中で熱分解す
ることにより分解することができる。改良された変換効
率及び低刺激エネルギーについて見ると多重焼成段階が
通常有利である。
【００３９】本発明によれば、Ｘ線像を記録し、再生す
る方法を提供し、この方法は、（１）光刺激可能リン光
体をＸ線に対し像に従って露光し、（２）前記リン光体
を可視光及び赤外光から選択した刺激性電磁放射線で光
刺激して、吸収されたＸ線に従って前記リン光体から光
刺激に使用した放射線とは波長特性において異なる電磁
放射線を放出させ、そして（３）工程（２）で適用した
光刺激によって放出された光を検出する工程を含み、前
記工程（１）及び（２）の処理を受けるリン光体が本発
明によるハロシリケート、ハロゲルマネート又はハロ
（シリケート−ゲルマネート）リン光体であることを特
徴とする。
【００４０】光刺激は４８０〜５６０ｎｍの波長範囲の
可視光、例えばレーザー光を用いて行うのが好ましい。
好ましくは光刺激は、５１４．５ｎｍで放出するアルゴ
ンイオンレーザー光又は周波数二重Ｎｄ：ＹＡＧレーザ
ーの５３２ｎｍのレーザー光の走査レーザービームで行
う。
【００４１】光刺激により放出される光を検出する前、
実際の実施態様においては、刺激性光は、光刺激時に放
出される光に対して高透過性を有する一つ以上の光学フ
ィルターによって露光する。
【００４２】光刺激により放出される光は、光エネルギ
ーを電気エネルギーに変換する変換器、例えばディジタ
ル化できかつ貯蔵できる逐次電気信号を与える光電管
（光電子増倍管）で検出するのが好ましい。貯蔵後これ
らの信号はディジタル処理を受けることができる。ディ
ジタル化処理には例えば像コントラスト増強、立体周波
数増強、像減法、像付加及び個々の像部分の輪郭鮮明を
含む。
【００４３】記録したＸ線像の再生のための一つの実施
態様によれば、所望によって処理したディジタル信号
は、書き込みレーザービームを変調するため使用される
アナログ信号に、例えば音響−光学変調器によって変換
する。変調されたレーザービームは次いで写真材料例え
ばハロゲン化銀乳剤フィルムを走査するために使用し、
その上に所望によって像処理された状態でＸ線像を再生
する。この例のため及びそれに使用する装置は例えば定
期刊行物Radiology 、１９８３年９月、８３３〜８３８
頁を参照され度い。
【００４４】別の実施態様によれば、光刺激によって得
られた光に相当する電気信号のアナログ−ディジタル変
換から得られたディジタル信号は陰極線管上に表示され
る。表示前に信号はコンピューターにより処理するとよ
い。通常の像処理法が、像の信号対ノイズ比を改良し、
放射線写真の粗い又は微細な像特長の像品質を増強する
ために適用できる。
【００４５】本発明による前記方法に使用するため、光
刺激可能リン光体は、支持された又は自己支持性である
ことができ、Ｘ線像貯蔵パネルと称されるスクリーン又
はパネルを形成する結合剤層中に分散した状態で用いる
のが好ましい。
【００４６】分散した形で前記リン光体を混入する結合
剤層を形成するのに好適な結合剤にはフィルム形成性有
機重合体、例えばセルロースアセテートブチレート、ポ
リアルキル（メタ）アクリレート、例えばポリ（メチル
メタクリレート）、例えばＵＳ−Ｐ３０４３７１０に記
載されている如きポリビニル−ｎ−ブチラール、コポリ
（ビニルアセテート／ビニルクロライド）及びコポリ
（アクリロニトリル／ブタジエン／スチレン）又はコポ
リ（ビニルクロライド／ビニルアセテート／ビニルアル
コール）又はそれらの混合物がある。
【００４７】高Ｘ線エネルギー吸収を得るため、最少量
の結合剤を使用することが好ましいい。しかしながら非
常に少量の結合剤は脆すぎる層を生ぜしめうる、従って
妥協をしなければならぬ。リン光体の被覆量は約３００
〜１５００ｇ／ｍ2 の範囲であるのが好ましい。
【００４８】好ましい実施態様によれば、リン光体層は
支持体シート上に支持された層として使用する。好適な
支持体材料はフィルム形成性有機樹脂、例えばポリエチ
レンテレフタレートから作れる、しかし所望によりα−
オレフィン樹脂層の如き樹脂層で被覆された紙支持体及
びカードボード支持体も特に有用である。ガラス及び金
属支持体も使用できる。リン光体層の厚さは０．０５〜
０．５ｍｍの範囲であるのが好ましい。
【００４９】光刺激可能リン光体スクリーンの製造のた
め、リン光体粒子は結合剤の溶液中に均質分散させ、次
いで支持体上に被覆し、乾燥する。本発明のリン光体結
合剤層の被覆は、任意の通常の方法、例えばスプレー、
浸漬被覆又はドクターブレード被覆により行うことがで
きる。被覆後、被覆混合物の溶媒は蒸発により、例えば
熱（６０℃）空気流中で乾燥することによって除去す
る。
【００５０】リン光体結合剤組合せの脱泡を行うため及
び充填密度を改良するため超音波処理を適用できる。場
合により保護被覆を付与する前に、充填密度（即ち乾燥
被覆１ｃｍ3 についてのリン光体のｇ数）を改良するリ
ン光体結合剤層はカレンダー仕上してもよい。
【００５１】所望により、光刺激により放出される光の
出力を増強するため、リン光体含有層とその支持体の間
に光反射性層を設ける。かかる光反射性層は結合剤中に
分散させた白色顔料粒子例えば二酸化チタン粒子を含有
でき、或いはそれは蒸着金属層、例えばアルミニウム層
であることができる、或いはそれは刺激性放射線を吸収
するが放出された光を反射する例えばＵＳ−Ｐ４３８０
７０２に記載されている如き着色顔料層であることがで
きる。
【００５２】所望により光吸収性層をリン光体含有層と
その支持体の間に又はその支持体自体中に設け、リン光
体含有層と支持体の界面での光の反射を避け、これによ
って光刺激可能リン光体スクリーンの解像力を増大させ
る。
【００５３】医学Ｘ線用におけるよりも多くのエネルギ
ーのＸ線及びガンマ線を使用する金属物体の非破壊試験
に用いられる如き工業用の放射線写真においては、原子
番号４６〜８３の金属層又は金属支持体とＸ線増感スク
リーンにおける蛍光リン光体層を組合せることが有利な
ことが判っている（ＵＳ−Ｐ３８７２３０９参照）。金
属層又は支持体は、工業的Ｘ線装置によって放出される
強力に賦勢されたＸ及びガンマ線よりも高い効率で隣接
リン光体層に吸収される低エネルギーの二次Ｘ線及び光
電子のエミッターとして作用する。工業的刺激放射線写
真におけるその種のスクリーン構造の適用は、より多く
のエネルギーを貯蔵リン光体層中に蓄積し、結果的によ
り多くのエネルギーをその上に光刺激によって放出でき
る。
【００５４】本発明によるハロシリケートリン光体を含
有するリン光体スクリーンについて、それらの光物理的
性質を測定するため測定法が行われている。
【００５５】第一の測定法において、Ｘ線励起下のリン
光体の即発（prompt）発光スペクトルを測定する。測定
法は１１０ｋＶｐで操作するＸ線源を用いてＸ線照射に
よる励起を行うスペクトロフルオリメーターで行う。連
続Ｘ線励起中放出される光を光電子増倍管と組合せたモ
ノクロメーターにより走査する。この発光スペクトルは
光刺激時に得られるそれと同じであり、刺激光からの蛍
光放出光を分離するのにフィルターを用いて測定するた
め使用する。後述する測定法において、本発明のリン光
体を刺激するためＡｒイオンレーザーを使用する。刺激
したとき放出される蛍光からＡｒイオンレーザーの刺激
光を分離するため、２．５ｍｍ SchottＢＧ３フィルタ
ーを使用する、このフィルターの透過スペクトルは、ド
イツ国、Mainz のＳＣＨＯＴＴ ＧＬＡＳＷＥＲＫＥに
よって発行されたFarb- undFilterglas Catalogue N
o.３５３１／４ｄに記載されている。前記フィルターは
蛍光発行も部分的に吸収するから、全発光力を見出すた
め減衰係数を測定した。
【００５６】第二の測定法において、一定のＸ線量に露
光したとき貯蔵される全光刺激可能エネルギー（Ｅ0 ）
を測定する。Ｘ線励起前に、リン光体スクリーン中にな
お存在する残存エネルギーをアルゴンレーザービーム
（５１４．５ｎｍ）で照射して除去する。次にリン光体
スクリーンを、８５ｋＶｐ及び２０ｍＡで操作するＸ線
源で励起する。そのためにドイツ国のSiemens ＡＧのＭ
ＯＮＯＤＯＲ Ｘ線源が使用できる。Ｘ線スペクトルを
硬くするため２１ｍｍの厚さのアルミニウム板を用いて
低エネルギーＸ線を濾別する。Ｘ線励起後、リン光体ス
クリーンは暗所で測定設備へと移す。この設備中で、Ｘ
線照射されたリン光体スクリーンを光刺激するためのア
ルゴンイオンレーザー光を使用する。
【００５７】リン光体スクリーンの後で接触させて置い
たピンホールを用いて、スクリーンの僅か７ｍｍ2 のみ
の面積で放出された光を集める。ピンホールを用いる
と、読みとりされるスクリーン面積上の刺激性ビームの
強度がより均一になる。レーザー力の３／４のみ（３７
ｍＷ）がスクリーン面に到達する。
【００５８】光電子増倍管からの信号振幅は、刺激性光
の強度及び貯蔵された光刺激可能エネルギーと直線状で
ある。
【００５９】貯蔵されたエネルギーの全量を測定するた
め、発光強度は非常に長い間にわたって測定した。その
ためにＥＰ−Ａ０３０４１２１に記載された測定及び分
析法を用いた。
【００６０】リン光体が唯１種の電子トラップのみを含
有するとき、そして電子と空孔の間の再組合せが一次力
学に従う方法であるとき、発光強度は一定刺激の下時間
と共に指数関数的に減衰する：
【００６１】
【数１】
【００６２】式中Ｉ（ｔ）は長さ「ｔ」の刺激時間後の
発光強度であり、Ｉ0 は強度対時間信号の振幅であり、
ｅは自然対数の底であり、ｔは刺激時間の長さであり、
τはリン光体の特性及び刺激性レーザー強度ｐに関する
特性時間である。
【００６３】貯蔵されたエネルギーの全量（Ｅ0 ）は強
度対時間曲線下の面積である：
【００６４】
【数２】
【００６５】ＥＰ−Ａ０２０４１２１に記載された測定
及び分析法において、発光強度は、発光強度がファクタ
ー１／ｅによって減少したときの時間まで、即ｔ＝τま
で測定した。式（２）に従い、ｔ＝τで放出されたエネ
ルギーの量を下記式（３）に等しい：
【００６６】
【数３】
【００６７】従ってＥ0 の値はｔ＝τまで放出されたエ
ネルギーの量、Ｅ（τ）から計算できる。変換効率Ｃ．
Ｅ．は、励起レントゲン線量Ｒ．Ｄ．により、そして放
出された光が集められるリン光体の容積（表面積をスク
リーンの厚さに乗ずる）によって割ったＥ0 として計算
される。
【００６８】リン光体の刺激エネルギーＳ．Ｅ．は、貯
蔵されたエネルギーが強度Ｐ及び波長λを有するレーザ
ービームで放出されうる容易さを反映する。それはファ
クター１／ｅで放出強度減少をさせるのに要する刺激時
間τ及びレーザー力Ｐに関係する：
【００６９】Ｓ．Ｅ．＝τ×Ｐ （４）
【００７０】光刺激エネルギーＰはμＪ／ｍｍ2 で表わ
される。
【００７１】Ｃ．Ｅ．及びＳ．Ｅ．の前記定義は、リン
光体が単一種の電子トラップを含有するとき及び発光
（放出）強度の減衰が単一指数関数コースに相当すると
きにのみ意味がある。かかる挙動は、従って異なるエネ
ルギーのリン光体電子トラップにおいて、深さがＸ線露
光したとき満たされるときにはこれに従わない。従って
下記測定及び分析法を適した：
【００７２】式（３）に従いＥ（τ）からＥ0 を測定す
る代りに、即ちファクター１／ｅによってそれが減少す
るまで発光強度を測定する代りに、発光強度は実際上の
読みとりに相当する時間にわたって測定した。そのため
Ｉ（ｔ）曲線を二つの段階で測定した。第一に、測定は
短い時間スケール（約１００ミリ秒以下）で、そしてＩ
0 が正確に測定できたかかる感度で行った。第二の測定
においては、より長い時間スケールを適用した（約１０
００ミリ秒以下）、そしてオツシロスコープの感度は、
信号の振幅が測定スケールを越えて落ちるが、より長い
励起時間（１００ミリ秒より長い）での発光強度が正確
に測定できるようにした。
【００７３】両測定のため、強度はレントゲン線量で割
り、続いて両曲線を組合せた。この方法で、９００ミリ
秒以下の時間の関数としてレントゲン線量に対する発光
強度（Ｉ（ｔ）／Ｒ．ｄ．）が得られる。
【００７４】変換効率を計算するため、組合せた曲線下
の面積を測定した。これはレントゲン線量に対する貯蔵
されたエネルギーをもたらす（Ｅ0 ／Ｒ．ｄ．）。そし
て変換効率Ｃ．Ｅ．は、刺激したとき放出光が集められ
るリン光体の容積で割ったＥ0 ／Ｒ．ｄ．として得られ
る：
【００７５】 Ｃ．Ｅ．＝Ｅ0 ／Ｒ．ｄ．×ｄ×Ａ （５）
【００７６】式中ｄはスクリーンの厚さ（ｍｍ）であ
り、Ａは放出光が集められる面積（ｍｍ2 ）である。
【００７７】放出光は全ての方向に散乱されるから、放
出された光の一部のみが光電子増倍管で検出される。リ
ン光体パネル及び光電子増倍管の位置は、光電子増倍管
によって全発光の１０％が検出されるような位置であ
る。全修正をした後、Ｘ線変換効率のための値がｐＪ／
ｍｍ3 ／ｍＲで得られる。この値はスクリーンの厚さで
変化する、従って比較できる測定のためには、それらは
一定のリン光体被覆量で行わなければならない。
【００７８】第三の測定において、リン光体試料の暗崩
壊特性を測定した。そのため、一定のＸ線量に露光した
とき貯蔵された光刺激可能エネルギーを、Ｘ線露光後１
分及び前記露光後６０分で測定した。ここで簡略にする
ため、公開されたＥＰ−Ａ０２０４１２１に記載された
測定及び分析法を適用した。
【００７９】通常、Ｘ線露光後６０分で放出されるエネ
ルギーの量は、前記露光後１分で放出されるエネルギー
の量より小さい。しかしながら、本発明によるＮｂ及び
／又はＴａドープしたリン光体については、放出される
エネルギーの増大が測定された、これは多分異なるトラ
ップ中に存在する電子の再分布によるものである。
【００８０】医学及び工業的放射線写真におけるそれら
の用途とは別に本発明による刺激可能リン光体スクリー
ンはオートラジオグラフィにも同様に有用である。
【００８１】従来のオートラジオグラフィにおいては、
目的物内の放射性材料は、放射性パターンの記録を現像
を介して又はその中に直接形成する写真材料と接触させ
て目的物を置くことによって作られる。本発明によるオ
ートラジオグラフィにおいては、放射性目的物を本発明
による刺激可能リン光体スクリーンに接触させて又は非
常に近接させて置く、これによってリン光体は目的物中
の放射性パターンのエネルギーを貯蔵する。貯蔵された
エネルギーは光刺激によって蛍光の形で放出され、放出
された光は、例えば写真材料又は陰極線管上で像貯蔵及
び再生のため検出され、使用される。
【００８２】本発明を下記実施例によって説明するが、
これに限定するものではない。
【００８３】比、部及び百分率は他に特記せぬ限り重量
による。
【００８４】実施例 １〜５及び比較実施例 ６ Ｂａ4.98Ｅｕ0.02ＳｉＯ4 Ｂｒ6 ：Ｎｂz （６×１０-4
≦ｚ≦６×１０-2）の製造、但し比較実施例６において
ｚはゼロを表わす。
【００８５】下記成分を秤量した： ＢａＣＯ3 ・０．４７％Ｈ2 Ｏ ４１．６ｇ Ｅｕ2 Ｏ3 ・３．３３％Ｈ2 Ｏ ０．３８５３ｇ ＳｉＯ2 ・１．８９％Ｈ2 Ｏ ６．４８６ｇ ＢａＢｒ2 ・１．４９％Ｈ2 Ｏ ９５．８５３ｇ
【００８６】混 合 前記成分をボールミル中で７２ｍｌの無水アルコールを
用いて１５分間混合し、粉砕した。得られた混合物を１
２０分間８０〜９０℃でオーヴン中に置き、乾燥した。
このサイズの６個の試料バッチを作り、乾燥後混合機中
で一緒に混合してマスターブレンドを形成した。そのブ
レンドから７９．９５ｇを取り、０．４６８ｇのＮｂ2
Ｏ5 と均質混合して、以下Ｎｂブレンドと称するブレン
ドを形成した。
【００８７】焼 成 Ｎｂブレンドから、２０ｇを焼成した実施例１の材料を
得た。Ｎｂ共ドープ剤の低濃度を得るため、Ｎｂブレン
ドを、Ｎｂ2 Ｏ5 を含有しないマスターブレンド材料で
稀釈した。
【００８８】実施例２の材料を作るため、６．６６７０
ｇのＮｂブレンドを、１３．３３９０ｇのマスターブレ
ンド材料と混合し、そして焼成した。
【００８９】実施例３の材料を作るため、２．００７５
ｇのＮｂブレンドを１８．０００４ｇのマスターブレン
ド材料と混合し、そして焼成した。
【００９０】実施例４の材料を作るため、０．６６７ｇ
のＮｂブレンドを１９．３３３ｇのマスターブレンド材
料と混合し、そして焼成した。
【００９１】実施例５の材料を作るため、０．２０６ｇ
のＮｂブレンドを１９．８００ｇのマスターブレンド材
料と混合し、そして焼成した。
【００９２】比較実施例６のリン光体材料を作るため、
６．２０ｇのマスターブレンド材料を、Ｎｂ2 Ｏ5 の不
存在下に焼成した。
【００９３】かくして得られた混合物の全てを、アルミ
ナボート中に置き、別のボートでカバーし、管状炉中に
置いた。焼成は同じ条件下で行った、即ちＮ2 雰囲気下
に４５０℃で２時間焼成し、次いで温度を上昇させ、８
００℃で２時間焼成を続けた。かく焼成した試料を炉か
ら取り出し、乳鉢で粉砕し、次いでそれらを今回は９５
／５容量％の窒素／水素雰囲気中で再び８００℃で２時
間焼成した。各試料を炉から取り出し、再粉砕し、再び
前記窒素／水素雰囲気中で８００℃で２時間焼成した。
【００９４】冷却後試料を再粉砕した。
【００９５】全試料が類似した即発発光スペクトルを有
していた。光刺激したとき放出される光のスペクトルに
相当する即発発光スペクトルを図１に示す。図１に相対
光放出強度Ｒ．Ｅ．をｎｍでの波長に対してプロットし
てある。
【００９６】かくして得られた各リン光体粉末試料を、
酢酸エチルに溶解したポリエチルアクリレートを含有す
る結合剤中に分散させた。得られた各分散液をポリエチ
レンテレフタレートの厚さ１００μｍの透明シート上
に、５００ｇ／ｍ2 の被覆重量を与えるように被覆し
た。次に各スクリーンを、リン光体のエネルギー貯蔵特
性を測定するために使用した。アルゴンレーザー光（５
１４．５ｎｍ）に露光することによって残存貯蔵エネル
ギーを消去後、各スクリーンを一定線量のＸ線で照射
し、次いで前述した如くアルゴンイオンレーザー光（５
１４．５ｎｍ）で刺激した。
【００９７】実施例１〜６のリン光体中のＥｕ原子濃度
に対するＮｂ原子濃度の比の対数（ｌｏｇ〔Ｎｂ〕／
〔Ｅｕ〕）に対してプロットしたｐＪ／ｍｍ3 ／ｍＲで
表示した変換効率（Ｃ．Ｅ．）を図２に示す（曲線
１）。
【００９８】スクリーンのＸ線照射に続いて１分
（１′）後の変換効率（Ｃ．Ｅ．）に対する６０分（６
０′）後の変換効率の比を下表１に示す。
【００９９】 表 １ 実施例Ｎｏ． Ｃ．Ｅ．（６０′）／Ｃ．Ｅ．（１′） １ １．０４ ２ ０．８４ ３ ０．９８ ４ ０．７１ ５ ０．８１ ６ ０．２０
【０１００】実施例 ７〜９及び比較実施例 １０ Ｂａ4.98Ｅｕ0.02Ｓｉ0.5 Ｇｅ0.5 Ｏ4 Ｂｒ6 ：Ｎｂz
（２×１０-3≦ｚ≦２×１０-2）の製造；但し比較例１
０においてｚはゼロを表わす。
【０１０１】下記成分を秤量した： ＢａＣＯ3 ・０．４７％Ｈ2 Ｏ ４１．８７ｇ Ｅｕ2 Ｏ3 ・３．３３％Ｈ2 Ｏ ０．３８７９ｇ ＳｉＯ2 ・１．８９％Ｈ2 Ｏ ３．２６５ｇ ＢａＢｒ2 ・６．２％Ｈ2 Ｏ １００．９７ｇ ＧｅＯ2 ・０．２９％Ｈ2 Ｏ ５．５９０ｇ
【０１０２】混 合 前記成分をボールミル中で７４ｍｌの無水エタノールと
１５分間混合した。得られた粉砕混合物をオーヴン中に
入れ、１２０分間８０〜９０℃で乾燥した。このサイズ
の６個の試料バッチを作り、乾燥後混合機中で一緒に混
合してマスターブレンドを形成した。そのブレンドから
５９．７５２ｇを取り、０．３４４ｇのＮｂ2 Ｏ5 と均
質混合した。
【０１０３】焼 成 実施例７の材料を作るため、６．６６７ｇのＮｂブレン
ドを、１３．３３９ｇのマスターブレンド材料と混合
し、焼成した。
【０１０４】実施例８の材料を作るため、２．００７５
ｇのＮｂブレンドを１８．０００４ｇのマスターブレン
ド材料と混合し、焼成した。
【０１０５】実施例９の材料を作るため、０．６６７ｇ
のＮｂブレンドを１９．３３３ｇのマスターブレンド材
料と混合し、焼成した。
【０１０６】比較実施例１０のリン光体材料を作るた
め、１０．２０ｇのマスターブレンド材料を、Ｎｂ2 Ｏ
5 の不存在下に焼成した。
【０１０７】かくして得られた混合物の全部をアルミナ
ボート中に置き、別のボートでカバーし、管状炉中に置
いた。焼成は同じ条件下で行った、即ちＮ2 雰囲気下に
４５０℃で２時間焼成し、次いで温度を上昇させ、８０
０℃で２時間焼成を続けた。かく焼成した試料を炉から
取り出し、乳鉢で粉砕し、次いでそれらを、今回は９５
／５容量％の窒素／水素の雰囲気中で８００℃で２時間
再焼成した。試料を炉から取り出し、再粉砕し、前記窒
素／水素雰囲気中で８００℃で２時間再焼成した。
【０１０８】冷却後試料を再粉砕した。
【０１０９】かくして得られた各リン光体粉末試料を次
に酢酸エチル中に溶解したポリエチレンアクリレートを
含有する結合剤溶液中に分散した。得られた各分散液
を、ポリエチレンテレフタレートの厚さ１００μｍの透
明シート上に、５００ｇ／ｍ2の被覆重量を与えるよう
に被覆した。次にスクリーンをそれらのリン光体のエネ
ルギー貯蔵特性を測定するために使用した。アルゴンレ
ーザー光（５１４．５ｎｍ）に露光して残存貯蔵エネル
ギーを消去した後、各スクリーンを一定線量のＸ線で照
射し、次いで前述した如くアルゴンイオンレーザー光
（５１４．５ｎｍ）で刺激した。
【０１１０】実施例７〜１０のリン光体中のＥｕ原子濃
度に対するＮｂ原子濃度の比の対数（ｌｏｇ〔Ｎｂ〕／
〔Ｅｕ〕）に対してプロットしたｐＪ／ｍｍ3 ／ｍＲで
表示した変換効率（Ｃ．Ｅ．）を図２に示す（曲線
１）。
【０１１１】スクリーンのＸ線照射に続いて１分
（１′）後の変換効率（Ｃ．Ｅ．）に対する６０分（６
０′）後の変換効率（Ｃ．Ｅ．）の比を表２に示す。
【０１１２】 表 ２ 実施例Ｎｏ． Ｃ．Ｅ．（６０′）／Ｃ．Ｅ．（１′） ７ １．０８ ８ １．０７ ９ １．１２ １０ ０．０６
【０１１３】比較実施例 １１及び実施例 １２ Ｂａ4.98Ｅｕ0.02ＳｉＯ4 Ｂｒ6 及びＢａ4.98Ｅｕ0.02
ＳｉＯ4 Ｂｒ6 ：Ｔａ0.08の製造
【０１１４】下記成分を秤量した： ＢａＣＯ3 ・０．４７％Ｈ2 Ｏ ４１．６０ｇ Ｅｕ2 Ｏ3 ・３．３３％Ｈ2 Ｏ ３．８５３ｇ ＳｉＯ2 ・１．８９％Ｈ2 Ｏ ６．４８６ｇ ＢａＢｒ2 ・１．４９％Ｈ2 Ｏ ９５．８４８ｇ
【０１１５】混 合 前記成分をボールミル中で７２ｍｌの無水エタノールと
１５分間混合した。得られた粉砕混合物をオーヴン中に
置き、１２０分間８０〜９０℃で乾燥した。
【０１１６】焼 成 比較実施例１１のリン光体を作るため、２０ｇの前記成
分の混合物を焼成した。
【０１１７】実施例１２の材料を作るため、３９．４３
８ｇの前記混合物を、０．５１２ｇのＴａ2 Ｏ5 と均質
混合した。
【０１１８】かくして得られた二つの混合物の中、２０
ｇをアルミナボート中に置き、別のボートでカバーし、
管状炉中に置いた。焼成は同じ条件下で行った、即ちＮ
2 雰囲気下に４５０℃で２時間焼成し、次いで温度を上
昇させ、８００℃で２時間焼成を続けた。かく焼成した
各試料を炉から取り出し、乳鉢で粉砕し、次いでそれら
を今回は９５／５容量％の窒素／水素の雰囲気中で再び
８００℃で２時間再焼成した。試料を炉から取り出し、
再粉砕し、前記窒素／水素雰囲気中で８００℃で２時間
再焼成した。
【０１１９】冷却後各試料を再粉砕した。
【０１２０】かくして得られた各リン光体粉末試料を、
次いで酢酸エチル中に溶解したポリエチルアクリレート
を含有する結合剤溶液中に分散させた。得られた各分散
液をポリエチレンテレフタレートの厚さ１００μｍの透
明シート上に、５００ｇ／ｍ2 の被覆重量を与えるよう
に被覆した。次いでそれらのリン光体のエネルギー貯蔵
特性を測定するために使用した。アルゴンレーザー光
（５１４．５ｎｍ）に対し露光して残存貯蔵エネルギー
を消去した後、各スクリーンを一定線量のＸ線で照射
し、次いで前述した如くアルゴンイオンレーザー光（５
１４．５ｎｍ）で刺激した。
【０１２１】実施例１１及び１２のリン光体中のＥｕ原
子濃度に対するＮｂ原子濃度の比の対数（ｌｏｇ〔Ｎ
ｂ〕／〔Ｅｕ〕）に対してプロットしたｐＪ／ｍｍ3 ／
ｍＲで表示した変換効率（Ｃ．Ｅ．）を図２に示す（曲
線２）。
【０１２２】スクリーンのＸ線照射に続いて、１分
（１′）後の変換効率（Ｃ．Ｅ．）に対する６０分（６
０′）後の変換効率の比及びｐＪ／ｍｍ3 ／ｍＲでの変
換効率を、実施例１１及び１２について表３に示す。
【０１２３】 表 ３ 実施例Ｎｏ． Ｃ．Ｅ． Ｃ．Ｅ．（６０′）／Ｃ．Ｅ．（１′） １１ １７．３ ０．３５ １２ ２２．０ ０．７９
【０１２４】比較実施例 １３及び実施例 １４ Ｂａ4.98Ｅｕ0.02ＧｅＯ4 Ｂｒ6 及びＢａ4.98Ｅｕ0.02
ＧｅＯ4 Ｂｒ6 ：Ｎｂ0.006 の製造
【０１２５】下記成分を秤量した： ＢａＣＯ3 ・０．４７％Ｈ2 Ｏ ２６．１８ｇ Ｅｕ2 Ｏ3 ・３．３３％Ｈ2 Ｏ ０．２４２ｇ ＧｅＯ2 ・０．２９％Ｈ2 Ｏ ６．９９ｇ ＢａＢｒ2 ・１２％Ｈ2 Ｏ ６６．６ｇ
【０１２６】混 合 前記成分をボールミル中で５０ｍｌの無水エタノールと
１５分間混合した。得られた粉砕混合物をオーヴン中に
置き、１２０分間８０〜９０℃で乾燥した。
【０１２７】焼 成 比較実施例１３の材料のリン光体を作るため、前記成分
の混合物２０ｇを焼成した。
【０１２８】実施例１４の材料を作るため、２０ｇの前
記混合物を０．１０６ｇのＮｂ2 Ｏ5 と均質混合した。
【０１２９】かくして得られた二つの混合物の、２０ｇ
をアルミナボート中に置き、別のボートでカバーし、管
状炉中に置いた。焼成は同じ条件下に行った、即ちＮ2
雰囲気下で４５０℃で２時間焼成し、次いで温度を上昇
させ、８００℃で２時間焼成を続けた。かく焼成した各
試料を炉から取り出し、乳鉢で粉砕し、次いでそれらを
今回は９５／５容量％の窒素／水素の雰囲気中で８００
℃で２時間焼成した。試料を炉から取り出し、再粉砕
し、前記窒素／水素雰囲気中で８００℃で２時間再焼成
した。
【０１３０】冷却後試料を再粉砕した。
【０１３１】かくして得られた各リン光体粉末試料を、
酢酸エチル中に溶解したポリエチルアクリレートを含有
する結合剤溶液中に分散させた。得られた各分散液を、
ポリエチレンテレフタレートの厚さ１００μｍの透明シ
ート上に、５００ｇ／ｍ2 の被覆重量を与えるように被
覆した。次にスクリーンをそれらのリン光体のエネルギ
ー貯蔵特性を測定するために使用した。アルゴンレーザ
ー光（５１４．５ｎｍ）に対して露光することによって
残存貯蔵エネルギーを消去した後、各スクリーンを一定
線量のＸ線で照射し、次いで前述した如くアルゴンイオ
ンレーザー光（５１４．５ｎｍ）で刺激した。
【０１３２】ｐＪ／ｍｍ3 ／ｍＲで表示した変換効率
（Ｃ．Ｅ．）及びＸ線照射に続いて１分（１′）後の変
換効率（Ｃ．Ｅ．）に対する６０分（６０′）後の変換
効率の比を表４に示す。
【０１３３】 表 ４ 実施例Ｎｏ． Ｃ．Ｅ． Ｃ．Ｅ．（６０′）／Ｃ．Ｅ．（１′） １３ ４．０３ ０．２０ １４ ５０．５０ ０．８７
【図面の簡単な説明】
【図１】光刺激したとき放出される光のスペクトルに相
当する即発発光スペクトルを示す。
【図２】実施例１〜６のリン光体中のＥｕ原子濃度に対
するＮｂ原子濃度の比の対数（ｌｏｇ〔Ｎｂ〕／〔Ｅ
ｕ〕）に対してプロットしたｐＪ／ｍｍ3／ｍＲで表示
した変換効率を示す。
【符号の説明】
１ 実施例１〜６のリン光体の変換効率 ２ 実施例１１及び１２のリン光体の変換効率

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 光刺激可能Ｘ線エネルギー吸収性ハロシ
    リケート、ハロゲルマネートまたはハロ（シリケート−
    ゲルマネート）リン光体において、前記リン光体が、宿
    主金属として少なくとも１種のアルカリ土類金属、ハロ
    ゲンとしてＣｌ，Ｂｒ及びＩからなる群から選択した少
    なくとも１員、ドープ剤としてＥｕ2+及び共ドープ剤と
    してニオブ及びタンタルからなる群から選択した少なく
    とも１員を含有することを特徴とする光刺激可能Ｘ線エ
    ネルギー吸収性リン光体。
  2. 【請求項２】 リン光体が宿主金属としてＢａ，Ｓｒ及
    びＣａからなる群から選択した少なくとも１種のアルカ
    リ土類金属を含有することを特徴とする請求項１のリン
    光体。
  3. 【請求項３】 リン光体が下記実験式： Ｂａ5-(n+p+q) Ｚq Ｇｅv Ｓｉw Ｏ4 Ｘ6 ：Ｅｕn 2+ ，Ｄp m+ ，Ｍz （式中Ｚはストロンチウム及びカルシウムからなる群か
    ら選択した少なくとも１種の共宿主金属であり、 ｑは０〜０．５の範囲であり、 ｖは０であるか又は大きくても１に等しく、ｖ＋ｗ＝１
    であり、 Ｘは臭素及び／又は塩素であり、 ｎは０．０００１〜０．１５の範囲であり、 ｐは０〜０．０１５の範囲であり、 ＤはＥｕ2+及びＣｅ3+以外の稀土類金属イオン、Ｎａ+
    及びＫ+ からなる群から選択した少なくとも１種の共ド
    ープ剤であり、 ｍは１又は３であり、 Ｍはニオブ及び／又はタンタルであり、 ｚは０．００１〜０．１の範囲である）の範囲内にある
    ことを特徴とする請求項１のリン光体。
  4. 【請求項４】 Ｍがニオブであり、ｚが０．００１〜
    ０．０２の範囲であることを特徴とする請求項３のリン
    光体。
  5. 【請求項５】 Ｍがタンタルであり、ｚが０．０２〜
    ０．１の範囲であることを特徴とする請求項３のリン光
    体。
  6. 【請求項６】 リン光体が下記実験式： Ｓｒ5-(n+p+q) Ｚq Ｇｅv Ｓｉw Ｏ4 Ｘ6 ：Ｅｕn 2+ ，Ｄp m+ ，Ｍz （式中Ｚはバリウム及びカルシウムからなる群から選択
    した少なくとも１種の共宿主金属であり、 ｑは０〜０．５の範囲であり、 ｖは０であるか又は大きくても１に等しく、ｖ＋ｗ＝１
    であり、 Ｘは臭素であり、 ｎは０．０００１〜０．１５の範囲であり、 ｐは０〜０．０１５の範囲であり、 ＤはＥｕ2+及びＣｅ3+以外の稀土類金属イオン、Ｎａ+
    及びＫ+ からなる群から選択した少なくとも１種の共ド
    ープ剤であり、 ｍは１又は３であり、 Ｍはニオブ及び／又はタンタルであり、 ｚは０．００１〜０．１の範囲である）の範囲内にある
    ことを特徴とする請求項１のリン光体。
  7. 【請求項７】 リン光体が、下記実験式（Ｉ）又は（I
    I）： （Ｉ）Ｂａ5-(n+p) Ｇｅv Ｓｉw Ｏ4 Ｘ6 ：Ｅｕn 2+ ，Ｄp m+ ，Ｍz （II）Ｓｒ5-(n+p) Ｇｅv Ｓｉw Ｏ4 Ｂｒ6 ：Ｅｕn 2+ ，Ｄp m+ ，Ｍz （式中ｖは０であるか又は大きくても１に等しく、ｖ＋
    ｗ＝１であり、 Ｘは臭素及び／又は塩素であり、 ｎは０．０００１〜０．１５の範囲であり、 ｐは０〜０．０１５の範囲であり、 ＤはＥｕ2+及びＣｅ3+以外の稀土類金属イオン、Ｎａ+
    及びＫ+ からなる群から選択した少なくとも１種の共ド
    ープ剤であり、 ｍは１又は３であり、 Ｍはニオブ及び／又はタンタルであり、 ｚは０．００１〜０．１の範囲である）の一つの範囲内
    にあることを特徴とする請求項１のリン光体。
  8. 【請求項８】 リン光体が、下記実験式(III) 又は(I
    V)： (III) Ｂａ5-n Ｇｅv Ｓｉw Ｏ4 Ｘ6 ，Ｅｕn 2+ ，Ｍz (IV) Ｓｒ5-n Ｇｅv Ｓｉw Ｏ4 Ｂｒ6 ，Ｅｕn 2+ ，Ｍz （式中ｖは０≦ｖ≦１の範囲であり、ｖ＋ｗは１に等し
    い、 Ｘは臭素及び／又は塩素であり、 Ｍはニオブ及び／又はタンタルであり、 ｚは０．００１〜０．１の範囲である）の一つの範囲内
    にあることを特徴とする請求項１のリン光体。
  9. 【請求項９】 Ｘ線像を記録及び再生する方法であっ
    て、前記方法が、 （１）Ｘ線に対し光刺激可能リン光体を像に従って露光
    し、 （２）前記リン光体を可視光及び赤外光から選択した刺
    激性電磁放射線で光刺激して、吸収されたＸ線に従って
    前記リン光体から光刺激に使用した放射線とは波長特性
    において異なる電磁放射線を放出させ、 （３）工程（２）で適用した光刺激によって放射された
    光を検出する工程を含有する方法において、前記リン光
    体が、宿主金属として少なくとも１種のアルカリ土類金
    属、ハロゲンとしてＣｌ，Ｂｒ及びＩからなる群から選
    択した少なくとも１員、ドープ剤としてＥｕ2+、及び共
    ドープ剤としてニオブ及びタンタルからなる群から選択
    した少なくとも１員を含有することを特徴とするＸ線像
    を記録及び再生する方法。
  10. 【請求項１０】 リン光体が、宿主金属としてＢａ，Ｓ
    ｒ及びＣａからなる群から選択した少なくとも１種のア
    ルカリ土類金属を含有することを特徴とする請求項９の
    方法。
  11. 【請求項１１】 リン光体が、下記実験式： Ｂａ5-(n+p+q) Ｚq Ｇｅv Ｓｉw Ｏ4 Ｘ6 ：Ｅｕn 2+ ，Ｄp m+ ，Ｍz （式中Ｚはストロンチウム及びカルシウムからなる群か
    ら選択した少なくとも１種の共宿主金属であり、 ｑは０〜０．５の範囲であり、 ｖは０であるか又は大きくても１に等しく、ｖ＋ｗ＝１
    であり、 Ｘは臭素及び／又は塩素であり、 ｎは０．０００１〜０．１５の範囲であり、 ｐは０〜０．０１５の範囲であり、 ＤはＥｕ2+及びＣｅ3+以外の稀土類金属イオン、Ｎａ+
    及びＫ+ からなる群から選択した少なくとも１種の共ド
    ープ剤であり、 ｍは１又は３であり、 Ｍはニオブ及び／又はタンタルであり、 ｚは０．００１〜０．１の範囲である）の範囲内にある
    ことを特徴とする請求項９の方法。
  12. 【請求項１２】 Ｍがニオブであり、ｚが０．００１〜
    ０．０２の範囲であることを特徴とする請求項１１の方
    法。
  13. 【請求項１３】 Ｍがタンタルであり、ｚが０．０２〜
    ０．１の範囲であることを特徴とする請求項１１の方
    法。
  14. 【請求項１４】 リン光体が、下記実験式： Ｓｒ5-(n+p+q) Ｚq Ｇｅv Ｓｉw Ｏ4 Ｘ6 ：Ｅｕn 2+ ，Ｄp m+ ，Ｍz （式中Ｚはバリウム及びカルシウムからなる群から選択
    した少なくとも１種の共宿主金属であり、 ｑは０〜０．５の範囲であり、 ｖは０であるか又は大きくても１に等しく、ｖ＋ｗ＝１
    であり、 Ｘは臭素であり、 ｎは０．０００１〜０．１５の範囲であり、 ｐは０〜０．０１５の範囲であり、 ＤはＥｕ2+及びＣｅ3+以外の稀土類金属イオン、Ｎａ+
    及びＫ+ からなる群から選択した少なくとも１種の共ド
    ープ剤であり、 ｍは１又は３であり、 Ｍはニオブ及び／又はタンタルであり、 ｚは０．００１〜０．１の範囲である）の範囲内にある
    ことを特徴とする請求項９の方法。
  15. 【請求項１５】 リン光体が、下記実験式（Ｉ）又は
    （II）： （Ｉ）Ｂａ5-(n+p) Ｇｅv Ｓｉw Ｏ4 Ｘ6 ：Ｅｕn 2+ ，Ｄp m+ ，Ｍz （II）Ｓｒ5-(n+p) Ｇｅv Ｓｉw Ｏ4 Ｂｒ6 ：Ｅｕn 2+ ，Ｄp m+ ，Ｍz （式中ｖは０であるか又は大きくても１に等しく、ｖ＋
    ｗ＝１であり、 Ｘは臭素及び／又は塩素であり、 ｎは０．０００１〜０．１５の範囲であり、 ｐは０〜０．０１５の範囲であり、 ＤはＥｕ2+及びＣｅ3+以外の稀土類金属イオン、Ｎａ+
    及びＫ+ からなる群から選択した少なくとも１種の共ド
    ープ剤であり、 ｍは１又は３であり、 Ｍはニオブ及び／又はタンタルであり、 ｚは０．００１〜０．１の範囲である）の一つの範囲内
    にあることを特徴とする請求項９の方法。
  16. 【請求項１６】 リン光体が、下記実験式(III) 又は(I
    V)： (III) Ｂａ5-n Ｇｅv Ｓｉw Ｏ4 Ｘ6 ，Ｅｕn 2+ ，Ｍz (IV) Ｓｒ5-n Ｇｅv Ｓｉw Ｏ4 Ｂｒ6 ，Ｅｕn 2+ ，Ｍz （式中ｎは０．０００１〜０．１５の範囲であり、 ｖは０≦ｖ≦１の範囲であり、ｖ＋ｗは１に等しい、 Ｘは臭素及び／又は塩素であり、 Ｍはニオブ及び／又はタンタルであり、 ｚは０．００１〜０．１の範囲である）の一つの範囲内
    にあることを特徴とする請求項９の方法。
  17. 【請求項１７】 光刺激を４８０〜５６０ｎｍの波長範
    囲における可視光で行うことを特徴とする請求項９の方
    法。
  18. 【請求項１８】 光刺激を、５１４．５で放出するアル
    ゴンイオンレーザーのレーザービームで又は周波数二重
    Ｎｄ：ＹＡＧレーザーのレーザービームで行うことを特
    徴とする請求項１７の方法。
  19. 【請求項１９】 光刺激により放出される光を検出する
    前に、刺激性光を、光刺激で放出された光に対して高透
    過率を有する一つ以上の光学フィルターによって露光す
    ることを特徴とする請求項９の方法。
  20. 【請求項２０】 光刺激時に放出される光を光電子的に
    検出し、ディジタル化及び貯蔵される電気信号を生ぜし
    め、陰極線管上に表示するか又は写真材料を走査するた
    めの書込みレーザービームを変調するために使用するこ
    とを特徴とする請求項９の方法。
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