JPH05117776A - 銅の溶解法 - Google Patents
銅の溶解法Info
- Publication number
- JPH05117776A JPH05117776A JP30853691A JP30853691A JPH05117776A JP H05117776 A JPH05117776 A JP H05117776A JP 30853691 A JP30853691 A JP 30853691A JP 30853691 A JP30853691 A JP 30853691A JP H05117776 A JPH05117776 A JP H05117776A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- copper
- flux
- slag
- sio
- molten
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000010949 copper Substances 0.000 title claims abstract description 89
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 73
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 72
- 238000002844 melting Methods 0.000 title claims abstract description 31
- 230000008018 melting Effects 0.000 title claims abstract description 31
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 16
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims abstract description 39
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims abstract description 5
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims abstract description 5
- 239000002893 slag Substances 0.000 claims description 46
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 33
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 25
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 27
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 27
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 abstract 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000011978 dissolution method Methods 0.000 description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 2
- 150000002222 fluorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000002440 industrial waste Substances 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 229910052656 albite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 description 1
- 239000000295 fuel oil Substances 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
Landscapes
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 少なくとも不純物元素としてＦｅを１０ｐｐ
ｍ以上含有する銅を酸化雰囲気中において溶解を行い、
溶湯中のＯ2濃度が１０００ｐｐｍ以上である銅溶湯を
溶製し、この銅溶湯表面に浮遊している滓にＳｉＯ2−
Ａｌ2Ｏ3系のフラックスを散布、撹拌を行うことによ
り、フラックスに滓を付着させると共に滓の一部を安定
な固体酸化物に変換して、銅溶湯表面より炉外に除去す
る銅の溶解法であり、また、ＳｉＯ2 ７０〜９０％、Ａ
ｌ2Ｏ3 ３０〜１０％を主成分とするフラックスを使用
し、さらに、フラックスを銅溶湯重量の０.００５〜０.
１０％を銅溶湯に添加することができる。 【効果】銅の溶解に際して、滓の除去を行う場合に銅溶
湯のメタルロスが極めて少なく、また、滓の除去効率も
良好である。
ｍ以上含有する銅を酸化雰囲気中において溶解を行い、
溶湯中のＯ2濃度が１０００ｐｐｍ以上である銅溶湯を
溶製し、この銅溶湯表面に浮遊している滓にＳｉＯ2−
Ａｌ2Ｏ3系のフラックスを散布、撹拌を行うことによ
り、フラックスに滓を付着させると共に滓の一部を安定
な固体酸化物に変換して、銅溶湯表面より炉外に除去す
る銅の溶解法であり、また、ＳｉＯ2 ７０〜９０％、Ａ
ｌ2Ｏ3 ３０〜１０％を主成分とするフラックスを使用
し、さらに、フラックスを銅溶湯重量の０.００５〜０.
１０％を銅溶湯に添加することができる。 【効果】銅の溶解に際して、滓の除去を行う場合に銅溶
湯のメタルロスが極めて少なく、また、滓の除去効率も
良好である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は銅の溶解法に関し、さら
に詳しくは、不純物を含有する銅を溶解する際に銅溶湯
表面に浮遊している滓を容易に除去することができる銅
の溶解法に関するものである。
に詳しくは、不純物を含有する銅を溶解する際に銅溶湯
表面に浮遊している滓を容易に除去することができる銅
の溶解法に関するものである。
【０００２】
【従来技術】従来より、銅を溶解する場合、還元溶解法
および酸化溶解法の２つ溶解法に大別されている。
および酸化溶解法の２つ溶解法に大別されている。
【０００３】そして、還元溶解法は、銅を還元雰囲気に
おいて溶解されるので銅溶湯には、酸化物が生成するこ
とはなく、溶湯表面に酸化物の混合体である滓が生成す
ることはない。また、酸化溶解法は、銅を溶解する場合
に溶湯および溶湯中に混入した不純物元素等が酸化し
て、Ｃｕ2Ｏを主体とする酸化物混合体である滓を生成
し、溶湯表面に浮遊している。この滓は溶湯中に混入す
ると製品欠陥の原因となると共に、この滓の炉外に除去
する工程において、銅溶湯が滓に付着して炉外に運び出
され、メタルロスとなり溶解歩留りが低下する。従っ
て、酸化溶解においては、製品品質の保証および溶解歩
留りの両方から滓を銅溶湯から確実に分離して除去する
必要がある。
おいて溶解されるので銅溶湯には、酸化物が生成するこ
とはなく、溶湯表面に酸化物の混合体である滓が生成す
ることはない。また、酸化溶解法は、銅を溶解する場合
に溶湯および溶湯中に混入した不純物元素等が酸化し
て、Ｃｕ2Ｏを主体とする酸化物混合体である滓を生成
し、溶湯表面に浮遊している。この滓は溶湯中に混入す
ると製品欠陥の原因となると共に、この滓の炉外に除去
する工程において、銅溶湯が滓に付着して炉外に運び出
され、メタルロスとなり溶解歩留りが低下する。従っ
て、酸化溶解においては、製品品質の保証および溶解歩
留りの両方から滓を銅溶湯から確実に分離して除去する
必要がある。
【０００４】なお、鉄鋼の溶解においては、ＳｉＯ2、
Ａｌ2Ｏ3を主体としたフラックスを使用する場合があ
り、即ち、このフラックスの化合物に含有されている結
晶水を溶鋼温度において分解してＨ2Ｏの蒸気とし、こ
の圧力、体積変化によりフラックスを発泡させて、溶湯
表面に浮遊している酸化物等をフラックスの泡に包み込
んで、除滓性を向上させている、しかし、鉄鋼とは異な
り銅溶湯においては、溶湯温度が低く、フラックスの化
合物の結晶水の分解を期待することはできない。
Ａｌ2Ｏ3を主体としたフラックスを使用する場合があ
り、即ち、このフラックスの化合物に含有されている結
晶水を溶鋼温度において分解してＨ2Ｏの蒸気とし、こ
の圧力、体積変化によりフラックスを発泡させて、溶湯
表面に浮遊している酸化物等をフラックスの泡に包み込
んで、除滓性を向上させている、しかし、鉄鋼とは異な
り銅溶湯においては、溶湯温度が低く、フラックスの化
合物の結晶水の分解を期待することはできない。
【０００５】しかして、銅を溶解する場合に、溶湯表面
に浮遊している滓を除去するために、弗化物系フラック
スを添加する方法があるが、この弗化物系フラックスは
溶湯表面の酸化物と反応して、酸化物を弗化物中に溶解
して分離を促進する。しかし、この弗化物系フラックス
は公害問題の原因となるので、使用することは好ましく
なく、従って、現在銅の溶解に際して、滓除去のための
有効なフラックスは存在していないのである。
に浮遊している滓を除去するために、弗化物系フラック
スを添加する方法があるが、この弗化物系フラックスは
溶湯表面の酸化物と反応して、酸化物を弗化物中に溶解
して分離を促進する。しかし、この弗化物系フラックス
は公害問題の原因となるので、使用することは好ましく
なく、従って、現在銅の溶解に際して、滓除去のための
有効なフラックスは存在していないのである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記に説明し
たように、従来における銅溶解にさして、銅溶湯表面に
浮遊している滓を容易、かつ、簡単に除去することがで
きないという問題点に鑑み、本発明者が鋭意研究を行
い、検討を重ねた結果、銅溶解において銅溶湯表面に浮
遊している滓を溶湯からの分離を容易にし、かつ、公害
問題の発生もなく、さらに、メタルロスの少ないフラッ
クスを使用する銅の溶解法を開発したのである。
たように、従来における銅溶解にさして、銅溶湯表面に
浮遊している滓を容易、かつ、簡単に除去することがで
きないという問題点に鑑み、本発明者が鋭意研究を行
い、検討を重ねた結果、銅溶解において銅溶湯表面に浮
遊している滓を溶湯からの分離を容易にし、かつ、公害
問題の発生もなく、さらに、メタルロスの少ないフラッ
クスを使用する銅の溶解法を開発したのである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明に係る銅の溶解法
は、少なくとも不純物元素としてＦｅを１０ｐｐｍ以上
含有する銅を酸化雰囲気中において溶解を行い、溶湯中
のＯ2濃度が１０００ｐｐｍ以上である銅溶湯を溶製
し、この銅溶湯表面に浮遊している滓にＳｉＯ2−Ａｌ2
Ｏ3系のフラックスを散布、撹拌を行うことにより、フ
ラックスに滓を付着させると共に滓の一部を安定な固体
酸化物に変換して、銅溶湯表面より炉外に除去すること
を特徴とする銅の溶解法であり、また、ＳｉＯ2 ７０〜
９０％、Ａｌ2Ｏ3 ３０〜１０％を主成分とするフラッ
クスを使用し、さらに、フラックスを銅溶湯重量の０.
００５〜０.１０％を銅溶湯に添加することができる。
は、少なくとも不純物元素としてＦｅを１０ｐｐｍ以上
含有する銅を酸化雰囲気中において溶解を行い、溶湯中
のＯ2濃度が１０００ｐｐｍ以上である銅溶湯を溶製
し、この銅溶湯表面に浮遊している滓にＳｉＯ2−Ａｌ2
Ｏ3系のフラックスを散布、撹拌を行うことにより、フ
ラックスに滓を付着させると共に滓の一部を安定な固体
酸化物に変換して、銅溶湯表面より炉外に除去すること
を特徴とする銅の溶解法であり、また、ＳｉＯ2 ７０〜
９０％、Ａｌ2Ｏ3 ３０〜１０％を主成分とするフラッ
クスを使用し、さらに、フラックスを銅溶湯重量の０.
００５〜０.１０％を銅溶湯に添加することができる。
【０００８】本発明に係る銅の溶解法について、以下詳
細に説明する。即ち、本発明に係る銅の溶解法におい
て、 銅溶湯とは濡れ性が悪く、しかし、銅溶湯表面に浮遊
している滓とは濡れ性の良好なフラックスを滓に添加し
て、滓をフラックスに吸着させることにより除去する。 滓とフラックスを反応させて、安定で、かつ、溶湯と
濡れ性の悪い化合物に変化させて、滓を除去する。 上記、を同時にまたは順次に組み合わせて滓の除
去を行う。ものである。
細に説明する。即ち、本発明に係る銅の溶解法におい
て、 銅溶湯とは濡れ性が悪く、しかし、銅溶湯表面に浮遊
している滓とは濡れ性の良好なフラックスを滓に添加し
て、滓をフラックスに吸着させることにより除去する。 滓とフラックスを反応させて、安定で、かつ、溶湯と
濡れ性の悪い化合物に変化させて、滓を除去する。 上記、を同時にまたは順次に組み合わせて滓の除
去を行う。ものである。
【０００９】本発明に係る銅の溶解法において、銅溶湯
とは濡れ性が悪く、しかし、銅溶湯表面に浮遊している
滓とは濡れ性の良好なフラックスを滓に添加して、滓を
フラックスに吸着させることにより除去する場合に、フ
ラックスとしてＳｉＯ2が効果のあることを知見した。
即ち、銅溶湯表面に生成して浮遊している滓の主成分で
あるＣｕ2ＯとＳｉＯ2との反応について説明する。
とは濡れ性が悪く、しかし、銅溶湯表面に浮遊している
滓とは濡れ性の良好なフラックスを滓に添加して、滓を
フラックスに吸着させることにより除去する場合に、フ
ラックスとしてＳｉＯ2が効果のあることを知見した。
即ち、銅溶湯表面に生成して浮遊している滓の主成分で
あるＣｕ2ＯとＳｉＯ2との反応について説明する。
【００１０】図１にＣｕ2Ｏ−ＳｉＯ2系平衡状態図を示
し、Ｃｕ2Ｏの融点は１２３０℃であり、通常の銅の溶
解温度１１００〜１２００℃においては、Ｃｕ2Ｏは半
溶融の状態で存在している。また、ＳｉＯ2は融点が約
１７００℃であり、銅の溶解温度においては固体状態で
存在しており、Ｃｕ2Ｏ−ＳｉＯ2系においてはＳｉＯ2
８％に共晶点が存在するため、Ｃｕ2Ｏ−ＳｉＯ2系にお
いてＳｉＯ2が８％より増大するに従って、Ｃｕ2Ｏ＋Ｓ
ｉＯ2→ＳｉＯ2（Ｓｏｌｉｄ）＋Ｌｉｑｕｉｄとなり、
固体（Ｓｏｌｉｄ）ＳｉＯ2とＣｕ2Ｏ（Ｌｉｑｕｉｄ）
とが共存できる状態となる。
し、Ｃｕ2Ｏの融点は１２３０℃であり、通常の銅の溶
解温度１１００〜１２００℃においては、Ｃｕ2Ｏは半
溶融の状態で存在している。また、ＳｉＯ2は融点が約
１７００℃であり、銅の溶解温度においては固体状態で
存在しており、Ｃｕ2Ｏ−ＳｉＯ2系においてはＳｉＯ2
８％に共晶点が存在するため、Ｃｕ2Ｏ−ＳｉＯ2系にお
いてＳｉＯ2が８％より増大するに従って、Ｃｕ2Ｏ＋Ｓ
ｉＯ2→ＳｉＯ2（Ｓｏｌｉｄ）＋Ｌｉｑｕｉｄとなり、
固体（Ｓｏｌｉｄ）ＳｉＯ2とＣｕ2Ｏ（Ｌｉｑｕｉｄ）
とが共存できる状態となる。
【００１１】しかし、実際の操業においては、銅溶湯表
面は大気下であるため、溶湯表面に存在・浮遊している
滓の温度は銅溶湯温度よりも低く、上記に説明したよう
に固体ＳｉＯ2に半溶融のＣｕ2Ｏが付着し易い状態とな
っている。そして、ＳｉＯ2とＣｕ2Ｏとは濡れ性が良好
であり、また、ＳｉＯ2は銅溶湯とは濡れ性が悪い。従
って、このような滓は容易に銅溶湯から除去することが
できる。
面は大気下であるため、溶湯表面に存在・浮遊している
滓の温度は銅溶湯温度よりも低く、上記に説明したよう
に固体ＳｉＯ2に半溶融のＣｕ2Ｏが付着し易い状態とな
っている。そして、ＳｉＯ2とＣｕ2Ｏとは濡れ性が良好
であり、また、ＳｉＯ2は銅溶湯とは濡れ性が悪い。従
って、このような滓は容易に銅溶湯から除去することが
できる。
【００１２】しかし、ＳｉＯ2を銅溶湯表面に添加する
と（ＳｉＯ2＋Ｌｉｑｕｉｄ）の融点が著しく上昇する
ので、溶湯表面の浮遊している滓層は、硬い板状のよう
になり坩堝壁等に付着すると取り除くのに困難となる。
そのため、生成した滓の化合物が容易に破壊することが
でき、滓除去の作業性を向上させることができる滓除去
用のフラックスが要望されている。
と（ＳｉＯ2＋Ｌｉｑｕｉｄ）の融点が著しく上昇する
ので、溶湯表面の浮遊している滓層は、硬い板状のよう
になり坩堝壁等に付着すると取り除くのに困難となる。
そのため、生成した滓の化合物が容易に破壊することが
でき、滓除去の作業性を向上させることができる滓除去
用のフラックスが要望されている。
【００１３】そのため、滓除去用のフラックスとして
は、研究の結果、α−Ａｌ2Ｏ3を銅溶湯表面に添加する
ことが有効であることを知見した・即ち、Ｃｕ2ＯとＡ
ｌ2Ｏ3は１２００℃近傍の温度において、Ｃｕ2ＯがＡ
ｌ2Ｏ3と反応して、より安定した化合物、Ｃｕ2Ｏ・Ａ
ｌ2Ｏ3＋Ａｌ2Ｏ3となる（図２参照）。
は、研究の結果、α−Ａｌ2Ｏ3を銅溶湯表面に添加する
ことが有効であることを知見した・即ち、Ｃｕ2ＯとＡ
ｌ2Ｏ3は１２００℃近傍の温度において、Ｃｕ2ＯがＡ
ｌ2Ｏ3と反応して、より安定した化合物、Ｃｕ2Ｏ・Ａ
ｌ2Ｏ3＋Ａｌ2Ｏ3となる（図２参照）。
【００１４】銅溶湯表面に形成されたＣｕ2Ｏ・Ａｌ2Ｏ
3は、容易に破壊することができ、かつ、滓除去の作業
性も良好である。そして、Ａｌ2Ｏ3は固体で存在してい
るから、滓がＡｌ2Ｏ3に付着するという効果も期待で
き、さらに、Ａｌ2Ｏ3は銅溶湯との分離性が良好であ
る。
3は、容易に破壊することができ、かつ、滓除去の作業
性も良好である。そして、Ａｌ2Ｏ3は固体で存在してい
るから、滓がＡｌ2Ｏ3に付着するという効果も期待で
き、さらに、Ａｌ2Ｏ3は銅溶湯との分離性が良好であ
る。
【００１５】以上説明したように、フラックスとしての
ＳｉＯ2およびＡｌ2Ｏ3を、その両者（ＳｉＯ2＋Ａｌ2
Ｏ3）をフラックスとして銅溶湯表面に添加し、撹拌す
ることにより、 （１）滓をＳｉＯ2およびＡｌ2Ｏ3に付着させる。 （２）滓（Ｃｕ2Ｏ）とＡｌ2Ｏ3とを反応させることに
より、安定、かつ、滓の除去が容易である複合酸化物Ｃ
ｕ2Ｏ・Ａｌ2Ｏ3に変化させる。という２つの作用によ
り、銅の溶解に際して滓の除去性を向上させることがで
きる。
ＳｉＯ2およびＡｌ2Ｏ3を、その両者（ＳｉＯ2＋Ａｌ2
Ｏ3）をフラックスとして銅溶湯表面に添加し、撹拌す
ることにより、 （１）滓をＳｉＯ2およびＡｌ2Ｏ3に付着させる。 （２）滓（Ｃｕ2Ｏ）とＡｌ2Ｏ3とを反応させることに
より、安定、かつ、滓の除去が容易である複合酸化物Ｃ
ｕ2Ｏ・Ａｌ2Ｏ3に変化させる。という２つの作用によ
り、銅の溶解に際して滓の除去性を向上させることがで
きる。
【００１６】銅の溶解において、滓を除去するためのフ
ラックス（ＳｉＯ2＋Ａｌ2Ｏ3）の配合割合は、ＳｉＯ2
７０〜９０％、Ａｌ2Ｏ3 １０〜３０％とする。表１に
このような配合割合として検討したことについて結果が
示してある。そして、この表１からＳｉＯ2７０〜９０
％、Ａｌ2Ｏ3１０〜３０％とすることが良好な結果が得
られていることがわかる。
ラックス（ＳｉＯ2＋Ａｌ2Ｏ3）の配合割合は、ＳｉＯ2
７０〜９０％、Ａｌ2Ｏ3 １０〜３０％とする。表１に
このような配合割合として検討したことについて結果が
示してある。そして、この表１からＳｉＯ2７０〜９０
％、Ａｌ2Ｏ3１０〜３０％とすることが良好な結果が得
られていることがわかる。
【００１７】次に、フラックスの銅溶湯表面に添加する
量について、表２により説明する。この表２からフラッ
クスの添加量は０.００５〜０.１０％が良好な結果が得
られていることがわかる。なお、このフラックスの原料
としては、純粋なＳｉＯ2とＡｌ2Ｏ3とを所定の混合割
合（組成）としてもよいが、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3原とし
て天然に産出するＣａＡｌ2ＳｉＯ8（Ａｎｏｒｔｈｉｔ
ｅ）、ＮａＡｌＳｉ3Ｏ8（Ａｌｂｉｔｅ）、ＫＡｌ
2（Ｓｉ3Ａｌ）Ｏ10（ＯＨ，Ｆ）2（Ｍｕｓｃｏｒｉｔ
ｅ）等を原料として使用することもできる。
量について、表２により説明する。この表２からフラッ
クスの添加量は０.００５〜０.１０％が良好な結果が得
られていることがわかる。なお、このフラックスの原料
としては、純粋なＳｉＯ2とＡｌ2Ｏ3とを所定の混合割
合（組成）としてもよいが、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3原とし
て天然に産出するＣａＡｌ2ＳｉＯ8（Ａｎｏｒｔｈｉｔ
ｅ）、ＮａＡｌＳｉ3Ｏ8（Ａｌｂｉｔｅ）、ＫＡｌ
2（Ｓｉ3Ａｌ）Ｏ10（ＯＨ，Ｆ）2（Ｍｕｓｃｏｒｉｔ
ｅ）等を原料として使用することもできる。
【００１８】
【表１】
【００１９】
【表２】
【００２０】
【実 施 例】本発明に係る銅の溶解法に実施例を説明
する。
する。
【００２１】
【実 施 例 １】 原料・電気銅地金 ８０％、市販屑 ２０％ 溶解条件 溶解炉 ５ｔ反射炉、重油焚き 溶解温度 １２００±２０℃ 溶解雰囲気 大気 溶湯中のＯ2濃度 ５０００ｐｐｍ 除滓条件 フラックス ＳｉＯ2 ７０％、 Ａｌ2Ｏ3 ３０％ ＳｉＯ2 ９０％、 Ａｌ2Ｏ3 １０％ フラックス使用量 溶湯重量の０.１％ 添加後撹拌を行った 表３に結果を示す。この表３より本発明に係る銅の溶解
方法によると、除滓に際してのメタルロスは比較例に比
して極端に少なく、また、除滓性も良好であった。
方法によると、除滓に際してのメタルロスは比較例に比
して極端に少なく、また、除滓性も良好であった。
【００２２】
【表３】
【００２３】
【実 施 例 ２】 原料 市販屑 １００％ 溶解条件 溶解炉 ３ｔ 高周波溝型誘導炉 溶解温度 １２００±１５℃ 溶解雰囲気 大気 溶湯中のＯ2濃度 １００００ｐｐｍ 除滓条件 フラックス ＳｉＯ2 ７０％、 Ａｌ2Ｏ3 ３０％ ＳｉＯ2 ９０％、 Ａｌ2Ｏ3 １０％ フラックス使用量 溶湯重量の０.００５％ 添加後撹拌を行った 表４にその結果を示す。表４から本発明に係る銅の溶解
方法によると、比較例に比してメタルロスが極端に少な
く、除滓性も良好であった。
方法によると、比較例に比してメタルロスが極端に少な
く、除滓性も良好であった。
【００２４】
【表４】
【００２５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る銅の
溶解方法は上記の構成であるから、銅の溶解に際して、
滓の除去を行う場合に銅溶湯のメタルロスが極めて少な
く、また、滓の除去効率も良好であるという優れた効果
を有するものである。
溶解方法は上記の構成であるから、銅の溶解に際して、
滓の除去を行う場合に銅溶湯のメタルロスが極めて少な
く、また、滓の除去効率も良好であるという優れた効果
を有するものである。
【図１】Ｃｕ2Ｏ−ＳｉＯ2系平衡状態図である。
【図２】Ｃｕ2Ｏ−Ａｌ2Ｏ3系平衡状態図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 吉 田 栄 次 山口県下関市長府黒門東町３番Ｆ−301 (72)発明者 岡 田 裕 文 山口県下関市長府紺屋町１−32 (72)発明者 浜 中 龍 介 山口県下関市長府黒門東町３番Ｆ−303
Claims (3)
- 【請求項１】 少なくとも不純物元素としてＦｅを１０
ｐｐｍ以上含有する銅を酸化雰囲気中において溶解を行
い、溶湯中のＯ2濃度が１０００ｐｐｍ以上である銅溶
湯を溶製し、この銅溶湯表面に浮遊している滓にＳｉＯ
2−Ａｌ2Ｏ3系のフラックスを散布、撹拌を行うことに
より、フラックスに滓を付着させると共に滓の一部を安
定な固体酸化物に変換して、銅溶湯表面より炉外に除去
することを特徴とする銅の溶解法。 - 【請求項２】 ＳｉＯ2＋Ａｌ2Ｏ3を１００％としたと
き、ＳｉＯ2 ７０〜９０％、Ａｌ2Ｏ3 ３０〜１０％
を主成分とするフラックスである請求項１記載の銅溶湯
の溶解法。 - 【請求項３】 フラックスを銅溶湯重量の０.００５〜
０.１０％を銅溶湯に添加する請求項１記載の銅の溶解
法。
Priority Applications (7)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30853691A JP2515071B2 (ja) | 1991-10-28 | 1991-10-28 | 銅の溶解法 |
| PCT/JP1992/000358 WO1993002219A1 (en) | 1991-07-15 | 1992-03-25 | Process for purifying raw material of copper or its alloy |
| CA002091677A CA2091677C (en) | 1991-07-15 | 1992-03-25 | Process for refining crude material for copper or copper alloy |
| US07/988,960 US5364449A (en) | 1991-07-15 | 1992-03-25 | Process for refining crude material for copper or copper alloy |
| EP92907624A EP0548363B1 (en) | 1991-07-15 | 1992-03-25 | Process for refining raw material for copper or its alloys |
| DE69229387T DE69229387T2 (de) | 1991-07-15 | 1992-03-25 | Verfahren zum reinigen von kupferrohmaterial für kupfer oder seine legierungen |
| FI931112A FI104268B (fi) | 1991-07-15 | 1993-03-12 | Menetelmä kuparin tai kuparilejeeringin raakamateriaalin puhdistamiseksi |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30853691A JP2515071B2 (ja) | 1991-10-28 | 1991-10-28 | 銅の溶解法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05117776A true JPH05117776A (ja) | 1993-05-14 |
| JP2515071B2 JP2515071B2 (ja) | 1996-07-10 |
Family
ID=17982212
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30853691A Expired - Fee Related JP2515071B2 (ja) | 1991-07-15 | 1991-10-28 | 銅の溶解法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2515071B2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51133125A (en) * | 1975-04-16 | 1976-11-18 | Csepeli Femmue | Method of producing high quality copper by pyrometallurgical refining |
-
1991
- 1991-10-28 JP JP30853691A patent/JP2515071B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS51133125A (en) * | 1975-04-16 | 1976-11-18 | Csepeli Femmue | Method of producing high quality copper by pyrometallurgical refining |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2515071B2 (ja) | 1996-07-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN101855391B (zh) | 用于处理硅粉末来获得硅晶体的方法 | |
| DE112008000682B4 (de) | Verfahren zum Reinigen von Silizium | |
| JP2009535289A (ja) | シリコン精製処理 | |
| CN116161629B (zh) | 一种提纯硒的方法 | |
| US4457903A (en) | Semicontinuous process for the production of pure silicon | |
| US20120017726A1 (en) | Use of a tertiary salt flux of nacl, kci and mgcl2 for the purification of aluminium or aluminium alloys, and method thereof | |
| US20220259697A1 (en) | Method for recovering pgm | |
| JP2515071B2 (ja) | 銅の溶解法 | |
| EP0408549A1 (en) | Method for the purification of silicon | |
| US4308245A (en) | Method of purifying metallurgical-grade silicon | |
| JP2539102B2 (ja) | 高清浄ステンレス鋼の製造方法 | |
| JP3473025B2 (ja) | 銅または銅合金原料の精製方法 | |
| US2381291A (en) | Process for producing beryllium | |
| JP2013234356A (ja) | 高不純物含有鉛滓を原料とする鉛の乾式製錬方法 | |
| JP3292060B2 (ja) | 金属スカンジウムの脱酸素方法 | |
| EP0423912A1 (en) | Method of adding silicon to aluminum | |
| KR100566895B1 (ko) | 동합금 용탕에서의 불순물 제거방법 | |
| JPH0368792A (ja) | カルシウム及び窒素をリチウムから分離する方法 | |
| JPH11229054A (ja) | ニッケル除去用フラックスとその除去・精製方法 | |
| JP2561987B2 (ja) | 銅屑の溶解方法 | |
| JP2512961B2 (ja) | セレン中のテルルの除去方法 | |
| JPS6233728A (ja) | 鉛の乾式脱銅法 | |
| CN1362533A (zh) | 过滤净化铝熔体夹杂物的搅拌活性熔剂 | |
| US2237129A (en) | Method for purifying tinny leads and lead-tin alloys | |
| JP3463343B2 (ja) | アルミニウムの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |