JPH05121289A - ウエハチヤツク装置 - Google Patents
ウエハチヤツク装置Info
- Publication number
- JPH05121289A JPH05121289A JP31162191A JP31162191A JPH05121289A JP H05121289 A JPH05121289 A JP H05121289A JP 31162191 A JP31162191 A JP 31162191A JP 31162191 A JP31162191 A JP 31162191A JP H05121289 A JPH05121289 A JP H05121289A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- wafer chuck
- chuck
- vacuum
- disk
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ウエハチャックの軽量化と解像力の安定化を
図る。 【構成】 ウエハチャック１の無駄な部分を切り欠いて
切削し、軽量化するとともに、ウエハ裏面が接触するチ
ャック面のバキューム溝２を増やす事によって接触面を
減少させた。 【効果】 バキュームエラーや再生作業の減少、及び消
耗部品の節約、製品処理能力の向上などの効果がある。
図る。 【構成】 ウエハチャック１の無駄な部分を切り欠いて
切削し、軽量化するとともに、ウエハ裏面が接触するチ
ャック面のバキューム溝２を増やす事によって接触面を
減少させた。 【効果】 バキュームエラーや再生作業の減少、及び消
耗部品の節約、製品処理能力の向上などの効果がある。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、マスクアライナーの
ウエハチャック装置に関するものである。
ウエハチャック装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図２、図３、図４はこの種の従来装置を
示すもので、図２は側面図、図３はウエハチャック部の
平面図、図４は本体のウエハディスク部の下面図であ
る。図において、１はウエハチャック、２はそのバキュ
ーム溝、３はウエハ、４は本体、５はウエハディスク、
６は吸着パッド、７は押し上げエアーシリンダである。
示すもので、図２は側面図、図３はウエハチャック部の
平面図、図４は本体のウエハディスク部の下面図であ
る。図において、１はウエハチャック、２はそのバキュ
ーム溝、３はウエハ、４は本体、５はウエハディスク、
６は吸着パッド、７は押し上げエアーシリンダである。
【０００３】次に動作について説明する。まずウエハチ
ャック１にウエハ２が吸着され、押し上げシリンダ７が
作動してウエハチャック１の周囲の部分１ａをウエハデ
ィスク５の吸着パッド６へ吸着させる。そしてこの吸着
された時点で、エアーシリンダ７は下降し、本体４、ウ
エハディスク５、ウエハチャック１が共に露光ポジショ
ンへと移動してマスク合わせ後、露光開始される。なお
本体４、ウエハディスク５も吸着状態であり、マスク合
わせ時、吸着のON/OFFが繰り返される。
ャック１にウエハ２が吸着され、押し上げシリンダ７が
作動してウエハチャック１の周囲の部分１ａをウエハデ
ィスク５の吸着パッド６へ吸着させる。そしてこの吸着
された時点で、エアーシリンダ７は下降し、本体４、ウ
エハディスク５、ウエハチャック１が共に露光ポジショ
ンへと移動してマスク合わせ後、露光開始される。なお
本体４、ウエハディスク５も吸着状態であり、マスク合
わせ時、吸着のON/OFFが繰り返される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで従来のウエハ
チャックは重量が大であり、チャックを押し上げる動作
が多いため、シリンダ及び吸着パッドの寿命が短い等の
問題点があり、さらにまた、ウエハ裏面とウエハチャッ
ク面の接触面が大であるため、ウエハの裏面やウエハチ
ャックの面に異物が付着していた場合、この異物による
チャックバキュームエラーや部分的解像力低下をきた
し、再生作業を必要とするとともに、脱落のおそれがあ
るなどの問題があった。
チャックは重量が大であり、チャックを押し上げる動作
が多いため、シリンダ及び吸着パッドの寿命が短い等の
問題点があり、さらにまた、ウエハ裏面とウエハチャッ
ク面の接触面が大であるため、ウエハの裏面やウエハチ
ャックの面に異物が付着していた場合、この異物による
チャックバキュームエラーや部分的解像力低下をきた
し、再生作業を必要とするとともに、脱落のおそれがあ
るなどの問題があった。
【０００５】この発明は上記の問題点を解消するために
なされたもので、バキュームのジャムエラーや再作業の
減少及び消耗部品の節約、さらには生産数量の向上と安
定した稼働を目的とする。
なされたもので、バキュームのジャムエラーや再作業の
減少及び消耗部品の節約、さらには生産数量の向上と安
定した稼働を目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明に係るウエハチ
ャック装置は、円形をしたマスクアライナーのウエハチ
ャックの周囲の吸着部分以外の不必要な部分を切り欠い
て切除するとともに、ウエハチャックの同心円状のバキ
ューム溝を密に形成し、ウエハ裏面の接触面積を減少さ
せるようにしたものである。
ャック装置は、円形をしたマスクアライナーのウエハチ
ャックの周囲の吸着部分以外の不必要な部分を切り欠い
て切除するとともに、ウエハチャックの同心円状のバキ
ューム溝を密に形成し、ウエハ裏面の接触面積を減少さ
せるようにしたものである。
【０００７】
【作用】この発明では、ウエハチャックの周囲の吸着部
分以外の不要部分を切り欠いたことにより、シリンダの
押し上げ力が軽減され、かつウエハチャックのバキュー
ム溝を多くしたことで、チャック面に異物がかむのを減
少させる。
分以外の不要部分を切り欠いたことにより、シリンダの
押し上げ力が軽減され、かつウエハチャックのバキュー
ム溝を多くしたことで、チャック面に異物がかむのを減
少させる。
【０００８】
【実施例】実施例１．図１はこの発明の一実施例による
ウエハチャック部の平面図であり、１ｂは削除すべき部
分を示し、装置の動作時ウエハディスク５の吸着パッド
６とは、接触しないのでウエハチャックを吸着させる上
では実際に働くところではなく不要部分である。なお図
中、１ｃは吸着パッド６との吸着部分である。このよう
にすることで、ウエハチャック５の重量が軽減され、作
業性が向上する。
ウエハチャック部の平面図であり、１ｂは削除すべき部
分を示し、装置の動作時ウエハディスク５の吸着パッド
６とは、接触しないのでウエハチャックを吸着させる上
では実際に働くところではなく不要部分である。なお図
中、１ｃは吸着パッド６との吸着部分である。このよう
にすることで、ウエハチャック５の重量が軽減され、作
業性が向上する。
【０００９】またウエハチャック１のステージ部の上面
に形成された同心円状のウエハバキューム溝２を密にし
て増やしたことで、真空に引く部分が多くなり、更にウ
エハ裏面やウエハチャック上に異物が付着していても、
接触面積が減少しているので、異物による解像力低下が
きわめて少なくなり、従ってウエハバキュームエラーの
発生も減少する。
に形成された同心円状のウエハバキューム溝２を密にし
て増やしたことで、真空に引く部分が多くなり、更にウ
エハ裏面やウエハチャック上に異物が付着していても、
接触面積が減少しているので、異物による解像力低下が
きわめて少なくなり、従ってウエハバキュームエラーの
発生も減少する。
【００１０】
【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、ウエハ
チャックを軽量化したことによって、シリンダ、吸着パ
ット等の消耗部品の節約と、バキュームのジャムエラー
を減少させる効果があり、またバキューム溝を多くした
ことで、ウエハ裏面とウエハチャックとの接触面が削減
され、異物による解像不良も減少する効果がある。
チャックを軽量化したことによって、シリンダ、吸着パ
ット等の消耗部品の節約と、バキュームのジャムエラー
を減少させる効果があり、またバキューム溝を多くした
ことで、ウエハ裏面とウエハチャックとの接触面が削減
され、異物による解像不良も減少する効果がある。
【図１】この発明の一実施例によるウエハチャックの平
面図である。
面図である。
【図２】従来のこの種のウエハチャック装置を示す側面
図である。
図である。
【図３】従来装置のウエハチャック部の平面図である。
【図４】従来装置のウエハディスク部の下面図である。
１ ウエハチャック １ｂ 切欠部分 １ｃ 吸着部分 ２ バキューム溝 ３ ウエハ ４ 本体 ５ ウエハディスク ６ 吸着パッド ７ 押上げシリンダ
Claims (1)
- 【請求項１】 ウエハを載置し、その上面ステージ部に
バキューム溝を設けたウエハチャックと、このウエハチ
ャックの上方に対向して配置され、周囲に吸着パッドを
配設したウエハディスクからなり、上記ウエハチャック
をシリンダで押し上げてその周りの部分を上記吸着パッ
トへ吸着させるようにしたものにおいて、円形をしたウ
エハチャックの周囲の吸着部分以外の不要な部分を切り
欠いて切除するとともに、ウエハチャックの同心円状の
バキューム溝を密に形成し、ウエハ裏面の接触面積を減
少させるようにしたことを特徴とするウエハチャック装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31162191A JPH05121289A (ja) | 1991-10-29 | 1991-10-29 | ウエハチヤツク装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31162191A JPH05121289A (ja) | 1991-10-29 | 1991-10-29 | ウエハチヤツク装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05121289A true JPH05121289A (ja) | 1993-05-18 |
Family
ID=18019461
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31162191A Pending JPH05121289A (ja) | 1991-10-29 | 1991-10-29 | ウエハチヤツク装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05121289A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012089641A (ja) * | 2010-10-19 | 2012-05-10 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置の製造方法 |
-
1991
- 1991-10-29 JP JP31162191A patent/JPH05121289A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012089641A (ja) * | 2010-10-19 | 2012-05-10 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体装置の製造方法 |
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