JPH0512275Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0512275Y2 JPH0512275Y2 JP1989141187U JP14118789U JPH0512275Y2 JP H0512275 Y2 JPH0512275 Y2 JP H0512275Y2 JP 1989141187 U JP1989141187 U JP 1989141187U JP 14118789 U JP14118789 U JP 14118789U JP H0512275 Y2 JPH0512275 Y2 JP H0512275Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- workpiece
- heating coil
- frequency heating
- hardened
- center pin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/25—Process efficiency
Landscapes
- Heat Treatment Of Articles (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
＜産業上の利用分野＞
この考案は高周波焼入装置に関し、特にほぼ柱
状のワーク（被焼入物体）の膨張に応じて高周波
加熱コイルを移動させて未焼入部分の発生を防止
できる高周波焼入装置に関する。
状のワーク（被焼入物体）の膨張に応じて高周波
加熱コイルを移動させて未焼入部分の発生を防止
できる高周波焼入装置に関する。
＜従来の技術＞
以下、第３図を参照して従来の技術を説明す
る。
る。
従来、ほぼ円柱状のワーク１０の周面の長さl1
の被焼入面１１に硬化層を形成しようとするに
は、ワーク１０の一端を固定センターピン２１
で、たま、他端を可動センターピン２２で支持
し、ワーク１０を回転させながらワーク１０の被
焼入面１１に対応した適宜の長さl0の鞍型の高周
波加熱コイル３０に通電して高周波加熱を行う。
なお、第３図では高周波加熱コイル３０の内、ワ
ーク１０の長手方向に沿つている部分のみを示
す。
の被焼入面１１に硬化層を形成しようとするに
は、ワーク１０の一端を固定センターピン２１
で、たま、他端を可動センターピン２２で支持
し、ワーク１０を回転させながらワーク１０の被
焼入面１１に対応した適宜の長さl0の鞍型の高周
波加熱コイル３０に通電して高周波加熱を行う。
なお、第３図では高周波加熱コイル３０の内、ワ
ーク１０の長手方向に沿つている部分のみを示
す。
＜考案が解決しようとする課題＞
柱状のワーク１０に上記のような高周波加熱を
行うと、ワーク１０は可動センターピン２２の方
に膨張して長さがl2に伸びるが、高周波加熱コイ
ル３０は位置が固定されており、且つ、その長さ
も通電によつて殆ど変わらないので、第４図に示
すように、ワーク１０の可動センターピン２２側
の端部の被焼入面１４は、高周波加熱コイル３０
によつてカバーできなくなり、ワーク１０の伸び
長さや高周波加熱コイル３０への通電電流の大き
さ、或いは通電時間等によつては、この被焼入面
１４には硬化層１３が形成されないことがある。
行うと、ワーク１０は可動センターピン２２の方
に膨張して長さがl2に伸びるが、高周波加熱コイ
ル３０は位置が固定されており、且つ、その長さ
も通電によつて殆ど変わらないので、第４図に示
すように、ワーク１０の可動センターピン２２側
の端部の被焼入面１４は、高周波加熱コイル３０
によつてカバーできなくなり、ワーク１０の伸び
長さや高周波加熱コイル３０への通電電流の大き
さ、或いは通電時間等によつては、この被焼入面
１４には硬化層１３が形成されないことがある。
本考案は上記事情に鑑みて創案されたものであ
つて、ワークが加熱されて膨張しても硬化層を形
成しようとする被焼入面の全体にわたつて硬化層
を形成することができる高周波焼入装置を提供す
ることを目的としている。
つて、ワークが加熱されて膨張しても硬化層を形
成しようとする被焼入面の全体にわたつて硬化層
を形成することができる高周波焼入装置を提供す
ることを目的としている。
＜課題を解決するための手段＞
上記問題を解決するために本考案の高周波焼入
装置は、ほぼ柱状のワークの一端を支持する固定
センターピンと、他端を支持しワークの長手方向
に移動自在に設けられた可動センターピンと、ワ
ークの周面の被焼入面に対向するように配置され
た高周波加熱コイルと、ワークの伸びの検出手段
と、伸び検出手段が検出したワークの伸びの長さ
のほぼ1/2の距離だけ移動させる高周波加熱コイ
ル移動手段とを備え、この移動手段は高周波加熱
コイルに接続された１つのラツクと、このラツク
を駆動するピニオンとを備えている。
装置は、ほぼ柱状のワークの一端を支持する固定
センターピンと、他端を支持しワークの長手方向
に移動自在に設けられた可動センターピンと、ワ
ークの周面の被焼入面に対向するように配置され
た高周波加熱コイルと、ワークの伸びの検出手段
と、伸び検出手段が検出したワークの伸びの長さ
のほぼ1/2の距離だけ移動させる高周波加熱コイ
ル移動手段とを備え、この移動手段は高周波加熱
コイルに接続された１つのラツクと、このラツク
を駆動するピニオンとを備えている。
＜作用＞
ワークの両端をそれぞれ固定センターピンと可
動センターピンで支持し、ワークを回転すると共
に、高周波加熱コイルに通電すると、ワークは加
熱されて可動センターピンの側へ膨張する。伸び
検出手段はワークの伸びを検出して伸びの長さの
信号を高周波加熱コイル移動手段に送り、この移
動手段はワークの伸びの長さのほぼ1/2の距離だ
け高周波加熱コイルを可動センターピン側に移動
させる。従つて、ワークの被焼入面の所定の部分
の全体に硬化層が形成される。
動センターピンで支持し、ワークを回転すると共
に、高周波加熱コイルに通電すると、ワークは加
熱されて可動センターピンの側へ膨張する。伸び
検出手段はワークの伸びを検出して伸びの長さの
信号を高周波加熱コイル移動手段に送り、この移
動手段はワークの伸びの長さのほぼ1/2の距離だ
け高周波加熱コイルを可動センターピン側に移動
させる。従つて、ワークの被焼入面の所定の部分
の全体に硬化層が形成される。
＜実施例＞
以下、図面を参照して本考案の一実施例を説明
する。第１図および第２図は本考案の一実施例の
一部断面概略構成図であつて、第１図はワークを
焼入する前の状態、第２図はワークを焼入した状
態を示す。なお、第３図および第４図で説明した
ものと同等のものには同一の符号を付して説明す
る。
する。第１図および第２図は本考案の一実施例の
一部断面概略構成図であつて、第１図はワークを
焼入する前の状態、第２図はワークを焼入した状
態を示す。なお、第３図および第４図で説明した
ものと同等のものには同一の符号を付して説明す
る。
第１図に示すように、本実施例の高周波焼入装
置は、柱状のワーク１０の長さl1の被焼入面１１
を焼入するものであつて、ワーク１０の一端を支
持する固定センターピン２１と、他端を支持する
可動センターピン２２と、ワーク１０の被焼入面
１１に対向するように配置された高周波加熱コイ
ル３０とを備えている。高周波加熱コイル３０
は、いわゆる鞍型コイルであつて、第１図では、
高周波加熱コイル３０の内、ワーク１０の長手方
向（矢印Ａの方向）に沿つている部分の縦断面を
示している。高周波加熱コイル３０のこの部分の
長さはワーク１０の長さl1に対応し、硬化層を形
成してはならないワーク１０の表面１２が加熱さ
れることのないような適宜の長さl0に選定してあ
る。
置は、柱状のワーク１０の長さl1の被焼入面１１
を焼入するものであつて、ワーク１０の一端を支
持する固定センターピン２１と、他端を支持する
可動センターピン２２と、ワーク１０の被焼入面
１１に対向するように配置された高周波加熱コイ
ル３０とを備えている。高周波加熱コイル３０
は、いわゆる鞍型コイルであつて、第１図では、
高周波加熱コイル３０の内、ワーク１０の長手方
向（矢印Ａの方向）に沿つている部分の縦断面を
示している。高周波加熱コイル３０のこの部分の
長さはワーク１０の長さl1に対応し、硬化層を形
成してはならないワーク１０の表面１２が加熱さ
れることのないような適宜の長さl0に選定してあ
る。
また、本実施例の高周波焼入装置は、ワーク１
０の長手方向の伸びを検出する伸び検出手段と、
高周波加熱コイル３０を可動センターピン２２側
に且つ矢印Ａの方向と平行方向に移動させる高周
波加熱コイル移動手段とを備えている。本実施例
では、伸び検出手段としては可動センターピン２
２の変位を検出する差動変圧器４０を採用した
が、差動変圧器にこだわるものではなく、静電容
量式或いは渦電流式ギヤプデテクタ等を用いても
よい。また、高周波加熱コイル移動手段として
は、高周波加熱コイル３０に連結されたラツク５
１と、ラツク５１をワーク１０の長手方向に駆動
するピニオン５２、ピニオン５２の軸５３と、軸
５３を回転駆動する高周波加熱コイル位置制御装
置５０とを備えている。なお、４１は差動変圧器
４０の信号を高周波加熱コイル位置制御装置５０
に送る信号線である。
０の長手方向の伸びを検出する伸び検出手段と、
高周波加熱コイル３０を可動センターピン２２側
に且つ矢印Ａの方向と平行方向に移動させる高周
波加熱コイル移動手段とを備えている。本実施例
では、伸び検出手段としては可動センターピン２
２の変位を検出する差動変圧器４０を採用した
が、差動変圧器にこだわるものではなく、静電容
量式或いは渦電流式ギヤプデテクタ等を用いても
よい。また、高周波加熱コイル移動手段として
は、高周波加熱コイル３０に連結されたラツク５
１と、ラツク５１をワーク１０の長手方向に駆動
するピニオン５２、ピニオン５２の軸５３と、軸
５３を回転駆動する高周波加熱コイル位置制御装
置５０とを備えている。なお、４１は差動変圧器
４０の信号を高周波加熱コイル位置制御装置５０
に送る信号線である。
次に、本実施例の動作について説明する。
ワーク１０の両端をそれぞれ固定センターピン
２１と可動センターピン２２とで支持する。次い
で高周波加熱コイル３０に高周波電流を通電する
とワーク１０の被焼入面１１に誘導電流が流れて
加熱され、同時にワーク１０が可動センターピン
２２側に膨張してワーク１０の長さはl1からl2に
増加する。従つて、可動センターピン２２がワー
ク１０の膨張した長さ（l2−l1）だけ変位するか
ら、差動変圧器４０はこの変位長さを検出し、信
号線４１を経由してワーク１０の伸び長さに対応
した信号を高周波加熱コイル位置制御装置５０に
送る。この場合l1＝1000mmとすると、l2−l1≒10
mmである。
２１と可動センターピン２２とで支持する。次い
で高周波加熱コイル３０に高周波電流を通電する
とワーク１０の被焼入面１１に誘導電流が流れて
加熱され、同時にワーク１０が可動センターピン
２２側に膨張してワーク１０の長さはl1からl2に
増加する。従つて、可動センターピン２２がワー
ク１０の膨張した長さ（l2−l1）だけ変位するか
ら、差動変圧器４０はこの変位長さを検出し、信
号線４１を経由してワーク１０の伸び長さに対応
した信号を高周波加熱コイル位置制御装置５０に
送る。この場合l1＝1000mmとすると、l2−l1≒10
mmである。
この信号を受けた高周波加熱コイル位置制御装
置５０は、軸５３を介してピニオン５２を回転さ
せてラツク５１を駆動し、高周波加熱コイル３０
を（l2−l1）／２に相当する距離だけワーク１０
の長手方向に平行に且つ可動センターピン２２側
に移動させる。即ち、焼入前における固定センタ
ーピン２１と高周波加熱コイル３０間の距離m0
がm1になる。但し、m1＝m0＋（l2−l1）／２であ
る。
置５０は、軸５３を介してピニオン５２を回転さ
せてラツク５１を駆動し、高周波加熱コイル３０
を（l2−l1）／２に相当する距離だけワーク１０
の長手方向に平行に且つ可動センターピン２２側
に移動させる。即ち、焼入前における固定センタ
ーピン２１と高周波加熱コイル３０間の距離m0
がm1になる。但し、m1＝m0＋（l2−l1）／２であ
る。
すると、高周波加熱コイル３０は、ワーク１０
の被焼入面１１の全長に対応するようになるの
で、この状態での加熱を適宜の時間継続した後、
図示しない焼入用冷却液をワーク１０に噴射する
と、ワーク１０の被焼入面１１の全長にわたつて
ほぼ一様な深さの硬化層１３が形成される。そし
て、第４図で説明した硬化層が形成されていない
被焼入面１４が発生するようなことはない。
の被焼入面１１の全長に対応するようになるの
で、この状態での加熱を適宜の時間継続した後、
図示しない焼入用冷却液をワーク１０に噴射する
と、ワーク１０の被焼入面１１の全長にわたつて
ほぼ一様な深さの硬化層１３が形成される。そし
て、第４図で説明した硬化層が形成されていない
被焼入面１４が発生するようなことはない。
なお、上記実施例では、ワーク１０の長さ方向
での被焼入面１１の全長にわたつて焼入を行う場
合について説明したが、被焼入面１１の部分的な
長さの範囲のみを焼入する場合であつても同様に
実施できる。
での被焼入面１１の全長にわたつて焼入を行う場
合について説明したが、被焼入面１１の部分的な
長さの範囲のみを焼入する場合であつても同様に
実施できる。
＜考案の効果＞
以上説明したように本考案の高周波焼入装置
は、ほぼ柱状のワークの被焼入面を高周波加熱す
るに際し、ワークの伸びの長さのほぼ1/2の距離
だけ高周波加熱コイルを移動させて、高周波加熱
コイルがワークの被焼入面１１の全長に対応する
ようにしている。
は、ほぼ柱状のワークの被焼入面を高周波加熱す
るに際し、ワークの伸びの長さのほぼ1/2の距離
だけ高周波加熱コイルを移動させて、高周波加熱
コイルがワークの被焼入面１１の全長に対応する
ようにしている。
従つて、本考案の高周波焼入装置によれば、ほ
ぼ柱状のワークの被焼入面の一端部分に硬化層が
形成されないということはなく、被焼入面の全体
の範囲にわたつて確実に硬化層を形成することが
できる。
ぼ柱状のワークの被焼入面の一端部分に硬化層が
形成されないということはなく、被焼入面の全体
の範囲にわたつて確実に硬化層を形成することが
できる。
第１図および第２図は本考案の一実施例の一部
断面概略構成図であつて、第１図はワークを焼入
する前の状態、第２図はワークを焼入した状態を
示す。第３図および第４図は従来の高周波焼入装
置の断面説明図であつて、第３図はワークを焼入
する前の状態、第４図はワークを焼入した状態を
示す。 １０……ワーク、１１……被焼入面、２１……
固定センターピン、２２……可動センターピン、
３０……高周波加熱コイル、４０……差動変圧
器、５０……高周波加熱コイル位置制御装置、５
１……ラツク、５２……ピニオン、５３……軸。
断面概略構成図であつて、第１図はワークを焼入
する前の状態、第２図はワークを焼入した状態を
示す。第３図および第４図は従来の高周波焼入装
置の断面説明図であつて、第３図はワークを焼入
する前の状態、第４図はワークを焼入した状態を
示す。 １０……ワーク、１１……被焼入面、２１……
固定センターピン、２２……可動センターピン、
３０……高周波加熱コイル、４０……差動変圧
器、５０……高周波加熱コイル位置制御装置、５
１……ラツク、５２……ピニオン、５３……軸。
Claims (1)
- ほぼ柱状のワークの一端を支持する固定センタ
ーピンと、他端を支持しワークの長手方向に移動
自在に設けられた可動センターピンと、ワークの
周面の被焼入面に対向するように配置された高周
波加熱コイルと、ワークの伸びの検出手段と、伸
び検出手段が検出したワークの伸びの長さのほぼ
１／２の距離だけ移動させる高周波加熱コイル移動
手段とを備え、この移動手段は高周波加熱コイル
に接続された１つのラツクと、このラツクを駆動
するピニオンとを備えたことを特徴とする高周波
焼入装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989141187U JPH0512275Y2 (ja) | 1989-12-05 | 1989-12-05 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989141187U JPH0512275Y2 (ja) | 1989-12-05 | 1989-12-05 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0381354U JPH0381354U (ja) | 1991-08-20 |
| JPH0512275Y2 true JPH0512275Y2 (ja) | 1993-03-29 |
Family
ID=31688108
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1989141187U Expired - Lifetime JPH0512275Y2 (ja) | 1989-12-05 | 1989-12-05 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0512275Y2 (ja) |
-
1989
- 1989-12-05 JP JP1989141187U patent/JPH0512275Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0381354U (ja) | 1991-08-20 |
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