JPH0512747A - 光学的情報記録再生装置 - Google Patents
光学的情報記録再生装置Info
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- JPH0512747A JPH0512747A JP3187078A JP18707891A JPH0512747A JP H0512747 A JPH0512747 A JP H0512747A JP 3187078 A JP3187078 A JP 3187078A JP 18707891 A JP18707891 A JP 18707891A JP H0512747 A JPH0512747 A JP H0512747A
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- Optical Head (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ビ−ムスポットが楕円化しても、デフォ−カ
スの方向に係わらず特性が対称に変化し、かつC/N 等の
特性が悪化しない情報信号の記録、再生を行う。 【構成】 光磁気ディスク(6) からの反射光を分離する
ビ−ムスプリッタ(3) の光分離面(4) の法線とここに入
射する平行光の光軸を含む面を、光磁気ディスク(6) の
トラック方向に対して平行又は垂直にし、半導体レ−ザ
(1) は、光分離面の法線と平行光の光軸を含む面に対し
て垂直又は平行とならないようにする。 【効果】 光磁気信号等の特性が対称に変化し、サ−ボ
が外れ難くなり又情報信号の読み誤りも減少する。さら
に情報信号をロスなく導くことができ、C/N等の特性が
悪化しない。
スの方向に係わらず特性が対称に変化し、かつC/N 等の
特性が悪化しない情報信号の記録、再生を行う。 【構成】 光磁気ディスク(6) からの反射光を分離する
ビ−ムスプリッタ(3) の光分離面(4) の法線とここに入
射する平行光の光軸を含む面を、光磁気ディスク(6) の
トラック方向に対して平行又は垂直にし、半導体レ−ザ
(1) は、光分離面の法線と平行光の光軸を含む面に対し
て垂直又は平行とならないようにする。 【効果】 光磁気信号等の特性が対称に変化し、サ−ボ
が外れ難くなり又情報信号の読み誤りも減少する。さら
に情報信号をロスなく導くことができ、C/N等の特性が
悪化しない。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光磁気ディスクを情報
記録媒体として、光学的に情報を記録再生する光学的情
報記録再生装置に関する。
記録媒体として、光学的に情報を記録再生する光学的情
報記録再生装置に関する。
【0002】
【従来の技術】光学的情報記録再生装置では、光源とし
て半導体レ−ザを用い半導体レ−ザからの放射光が光磁
気ディスクに照射され、光磁気ディスクの反射率とカ−
効果の影響で光磁気ディスク上の磁化の向きにより光の
振動方向が異なる方向に回転された光を光検出器で検出
して情報の再生を行う(従来例1)。この装置の概要を
図6によりさらに説明すると、半導体レ−ザ(LD)51
から放射された光はコリメ−タレンズ52で平行光に変換
され、さらにビ−ムスプリッタ53の偏光膜54を透過し、
対物レンズ55を透過して光磁気ディスク56へ達する。光
磁気ディスク56で反射された光束は、再び対物レンズ55
を経てビ−ムスプリッタ53の偏光膜54に達する。光束は
偏光膜54で光検出器57方向に反射され、検光子58を透過
した後に光検出器57に入射し光磁気信号が検出される。
なお、ビ−ムスプリッタ53の偏光膜54は、P偏光反射率
30%、S偏光反射率100 %、反射光の位相差0deg とし
ている。
て半導体レ−ザを用い半導体レ−ザからの放射光が光磁
気ディスクに照射され、光磁気ディスクの反射率とカ−
効果の影響で光磁気ディスク上の磁化の向きにより光の
振動方向が異なる方向に回転された光を光検出器で検出
して情報の再生を行う(従来例1)。この装置の概要を
図6によりさらに説明すると、半導体レ−ザ(LD)51
から放射された光はコリメ−タレンズ52で平行光に変換
され、さらにビ−ムスプリッタ53の偏光膜54を透過し、
対物レンズ55を透過して光磁気ディスク56へ達する。光
磁気ディスク56で反射された光束は、再び対物レンズ55
を経てビ−ムスプリッタ53の偏光膜54に達する。光束は
偏光膜54で光検出器57方向に反射され、検光子58を透過
した後に光検出器57に入射し光磁気信号が検出される。
なお、ビ−ムスプリッタ53の偏光膜54は、P偏光反射率
30%、S偏光反射率100 %、反射光の位相差0deg とし
ている。
【0003】図6中に表示されている(1)、(2)、
(3)は偏光状態を説明するための座標である。LD51
から光磁気ディスク56までは(1)の座標を用いると、
図7Aに示すように半導体レ−ザ51の偏光方向はX軸と
一致している。コリメ−タレンズ52を透過し、ビ−ムス
プリッタ53の偏光膜54を透過して光磁気ディスク56に入
射する光は、図7Bに示すように偏光膜54の影響で強度
が70%となるが、偏光方向はX軸と一致している。次
に、光磁気ディスク56を反射した光がビ−ムスプリッタ
53の偏光膜54に達するまでは図6(2)の座標を用い
る。光磁気ディスク56での反射光は、光磁気ディスク56
の反射率とカ−効果の影響で、光磁気ディスク56上の磁
化の方向によりΘk 、−Θk の方向に旋光され図7Cに
示すような偏光状態となる。次に、ビ−ムスプリッタ53
の偏光膜54を反射した後の光について図6(3)の座標
を用いる。光検出器57の方向へ反射する光は、偏光膜54
の影響で直線偏光でかつ、P偏光方向のみの強度が30%
となる(図7D)。その後、光は検光子58を透過し光検
出器57に入射して光磁気信号が検出される。
(3)は偏光状態を説明するための座標である。LD51
から光磁気ディスク56までは(1)の座標を用いると、
図7Aに示すように半導体レ−ザ51の偏光方向はX軸と
一致している。コリメ−タレンズ52を透過し、ビ−ムス
プリッタ53の偏光膜54を透過して光磁気ディスク56に入
射する光は、図7Bに示すように偏光膜54の影響で強度
が70%となるが、偏光方向はX軸と一致している。次
に、光磁気ディスク56を反射した光がビ−ムスプリッタ
53の偏光膜54に達するまでは図6(2)の座標を用い
る。光磁気ディスク56での反射光は、光磁気ディスク56
の反射率とカ−効果の影響で、光磁気ディスク56上の磁
化の方向によりΘk 、−Θk の方向に旋光され図7Cに
示すような偏光状態となる。次に、ビ−ムスプリッタ53
の偏光膜54を反射した後の光について図6(3)の座標
を用いる。光検出器57の方向へ反射する光は、偏光膜54
の影響で直線偏光でかつ、P偏光方向のみの強度が30%
となる(図7D)。その後、光は検光子58を透過し光検
出器57に入射して光磁気信号が検出される。
【0004】図8は、光磁気ディスク上でのビ−ムスポ
ットを示したものである。なお、光磁気ディスク装置に
使用するLDには非点隔差(LDアス)が存在し、光放
射角はLDチップ結晶の接合面に対する平行方向と垂直
方向(以下、単に平行方向、垂直方向と略称する)とで
異なることが知られている(図9、平行方向、垂直方向
はLDアスと一致している)。従って、対物レンズ又は
コリメ−タレンズで開口制限を行った場合、光放射角の
影響で実質的にNAが大きい垂直方向は、平行方向に比
較し図8Aに示すように合焦状態で絞られたビ−ムスポ
ットとなる。また、LDアスの影響により光磁気ディス
クと対物レンズとが合焦状態から遠ざかった状態(+デ
フォ−カス)と近づいた状態(−デフォ−カス)では、
ビ−ムスポットが楕円化し楕円スポットの長軸の方向が
それぞれトラック方向およびラジアル方向とに一致す
る。図8Bは+デフォ−カス状態を示し、図8Cは−デ
フォ−カス状態を示している。
ットを示したものである。なお、光磁気ディスク装置に
使用するLDには非点隔差(LDアス)が存在し、光放
射角はLDチップ結晶の接合面に対する平行方向と垂直
方向(以下、単に平行方向、垂直方向と略称する)とで
異なることが知られている(図9、平行方向、垂直方向
はLDアスと一致している)。従って、対物レンズ又は
コリメ−タレンズで開口制限を行った場合、光放射角の
影響で実質的にNAが大きい垂直方向は、平行方向に比
較し図8Aに示すように合焦状態で絞られたビ−ムスポ
ットとなる。また、LDアスの影響により光磁気ディス
クと対物レンズとが合焦状態から遠ざかった状態(+デ
フォ−カス)と近づいた状態(−デフォ−カス)では、
ビ−ムスポットが楕円化し楕円スポットの長軸の方向が
それぞれトラック方向およびラジアル方向とに一致す
る。図8Bは+デフォ−カス状態を示し、図8Cは−デ
フォ−カス状態を示している。
【0005】次に図10は、一般的なコンパクトディスク
読み出し光学系を示したものである(従来例2)。LD
51から放射された光は、グレ−ティング59により3ビ−
ムに変換され、平行平板60に形成してある偏光膜61で光
ディスク方向に反射され、対物レンズ55を透過して光デ
ィスク62に達する。光ディスク62で反射された光束は、
再び対物レンズ55を透過し、さらに平行平板60を透過し
た後、光軸に対し傾けて設けられた凹レンズ63を透過
し、光検出器57に入射して情報信号が検出される。な
お、平行平板60に形成してある偏光膜61の特性は、P偏
光反射率50%、S偏光反射率50%のハ−フ膜としてあ
る。
読み出し光学系を示したものである(従来例2)。LD
51から放射された光は、グレ−ティング59により3ビ−
ムに変換され、平行平板60に形成してある偏光膜61で光
ディスク方向に反射され、対物レンズ55を透過して光デ
ィスク62に達する。光ディスク62で反射された光束は、
再び対物レンズ55を透過し、さらに平行平板60を透過し
た後、光軸に対し傾けて設けられた凹レンズ63を透過
し、光検出器57に入射して情報信号が検出される。な
お、平行平板60に形成してある偏光膜61の特性は、P偏
光反射率50%、S偏光反射率50%のハ−フ膜としてあ
る。
【0006】図10中の座標は、偏光状態を説明するため
の座標である。LD51からの光の偏光方向は、図11に示
したようにX軸に一致している。また、光ディスク62上
のピット配列方向に対する入射光の偏光方向、LDア
ス、平行方向又は垂直方向が、ほぼ45°となるようにピ
ックアップ全体を対物レンズの光軸回りに回転させてい
る。そこで、光磁気ディスク62上のビ−ムスポットの形
状は図12に示すように、合焦時、デフォ−カス状態の時
とも従来例1と同様であるが、スポット楕円化の長軸の
方向はピット方向に対して45°傾くようになる。図12B
は+デフォ−カス状態を示し、図12Cは−デフォ−カス
状態を示している。
の座標である。LD51からの光の偏光方向は、図11に示
したようにX軸に一致している。また、光ディスク62上
のピット配列方向に対する入射光の偏光方向、LDア
ス、平行方向又は垂直方向が、ほぼ45°となるようにピ
ックアップ全体を対物レンズの光軸回りに回転させてい
る。そこで、光磁気ディスク62上のビ−ムスポットの形
状は図12に示すように、合焦時、デフォ−カス状態の時
とも従来例1と同様であるが、スポット楕円化の長軸の
方向はピット方向に対して45°傾くようになる。図12B
は+デフォ−カス状態を示し、図12Cは−デフォ−カス
状態を示している。
【0007】上記のように、光ディスク上のピット列に
対してビ−ムスポットを傾斜角を持たせて照射するよう
にした具体例として、特開昭61-196435 号公報に開示さ
れているものがある。これにより隣接トラックとの干渉
を小さくでき、トラック方向或いはタンジェンシャル方
向への傾きに対する許容度が大きくなり、出力特性とし
てもクロスト−ク量を減少することができるとされてい
る。
対してビ−ムスポットを傾斜角を持たせて照射するよう
にした具体例として、特開昭61-196435 号公報に開示さ
れているものがある。これにより隣接トラックとの干渉
を小さくでき、トラック方向或いはタンジェンシャル方
向への傾きに対する許容度が大きくなり、出力特性とし
てもクロスト−ク量を減少することができるとされてい
る。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来例1には次のような不具合がある。一般的に光磁気デ
ィスクの基板にポリカ−ボネ−ト樹脂等の射出成形プラ
スチックを用いた場合、図13に示すようにディスク径方
向又はグル−ブの接線に沿った方向に進相軸を持つ複屈
折を有することが知られている(参考文献:POLYMERS I
N INFORMATION STORAGE TECHNOLOGY、Page207 〜215 、
Edited by K.L.Mlttal、Publisher:PlenumPublishing C
orporation、1989、America)。
来例1には次のような不具合がある。一般的に光磁気デ
ィスクの基板にポリカ−ボネ−ト樹脂等の射出成形プラ
スチックを用いた場合、図13に示すようにディスク径方
向又はグル−ブの接線に沿った方向に進相軸を持つ複屈
折を有することが知られている(参考文献:POLYMERS I
N INFORMATION STORAGE TECHNOLOGY、Page207 〜215 、
Edited by K.L.Mlttal、Publisher:PlenumPublishing C
orporation、1989、America)。
【0009】この場合、光磁気ディスクへの入射光の偏
光方向(LDチップの接合面に対する平行方向)がグル
−ブに対して平行又は垂直でないと、複屈折の影響で光
磁気ディスクからの反射光が楕円化し再生信号のC/N が
悪化する。そこで光磁気ディスクに入射する光の偏光方
向は、トラック方向に対して平行又は垂直方向が選択さ
れる。しかし、上記のように光磁気ディスクに入射する
光の偏光方向を設定すると、LDアスとトラック方向が
一致してしまい対物レンズの+デフォ−カス状態又は、
−デフォ−カス状態時に、トラック方向に対するビ−ム
スポットの変形時の長軸方向が平行又は垂直となり、ト
ラックエラ−信号振幅、ジッタ−、光磁気信号振幅等の
各特性が+デフォ−カス状態と−デフォ−カス状態で非
対称となってしまう。
光方向(LDチップの接合面に対する平行方向)がグル
−ブに対して平行又は垂直でないと、複屈折の影響で光
磁気ディスクからの反射光が楕円化し再生信号のC/N が
悪化する。そこで光磁気ディスクに入射する光の偏光方
向は、トラック方向に対して平行又は垂直方向が選択さ
れる。しかし、上記のように光磁気ディスクに入射する
光の偏光方向を設定すると、LDアスとトラック方向が
一致してしまい対物レンズの+デフォ−カス状態又は、
−デフォ−カス状態時に、トラック方向に対するビ−ム
スポットの変形時の長軸方向が平行又は垂直となり、ト
ラックエラ−信号振幅、ジッタ−、光磁気信号振幅等の
各特性が+デフォ−カス状態と−デフォ−カス状態で非
対称となってしまう。
【0010】すなわち、+デフォ−カス方向、−デフォ
−カス方向の何れかの方向において前記各特性が極端に
変化してしまうこととなる。すると、ディフェクトディ
スクや周囲環境の温度変化でビ−ムスポットがデフォ−
カス状態になった場合、サ−ボが外れ易くなったり、情
報信号の読み誤りが増加してしまう。また、デフォ−カ
ス状態時のトラック間干渉、符号間干渉の何れかが増大
してしまうのである。
−カス方向の何れかの方向において前記各特性が極端に
変化してしまうこととなる。すると、ディフェクトディ
スクや周囲環境の温度変化でビ−ムスポットがデフォ−
カス状態になった場合、サ−ボが外れ易くなったり、情
報信号の読み誤りが増加してしまう。また、デフォ−カ
ス状態時のトラック間干渉、符号間干渉の何れかが増大
してしまうのである。
【0011】さらに、LDアスとコリメ−タレンズN
A、及び伝搬する光波面の3次ツェルニケアス収差係数
には、 伝搬波面の3次ツェルニケアス収差係数= NA2/4λ×L
Dアス(λ:LD波長) の関係がある。ライトワンス(WORM)やリライタブル光デ
ィスクは、リ−ドオンリ−(ROM) の光ディスクに比べ、
光ディスク上のビ−ムスポット径を絞るため、また光効
率確保のためにコリメ−タレンズNAを大きくする必要
がある。したがって、上記関係式からLDアスの影響を
受けやすくなってしまう。
A、及び伝搬する光波面の3次ツェルニケアス収差係数
には、 伝搬波面の3次ツェルニケアス収差係数= NA2/4λ×L
Dアス(λ:LD波長) の関係がある。ライトワンス(WORM)やリライタブル光デ
ィスクは、リ−ドオンリ−(ROM) の光ディスクに比べ、
光ディスク上のビ−ムスポット径を絞るため、また光効
率確保のためにコリメ−タレンズNAを大きくする必要
がある。したがって、上記関係式からLDアスの影響を
受けやすくなってしまう。
【0012】こうした不具合を解消するための方法とし
て、対物レンズとビ−ムスプリッタの間にλ/2板を挿入
し、LDの偏光方向だけを対物レンズの光軸回りにLD
アス方向とは独立に回転させるという方法がある。つま
りLDアス方向をトラック方向に対し45°となるように
し、偏光方向のみをトラック方向として+デフォ−カス
状態、−デフォ−カス状態時の各特性の非対称さを無く
すのである。しかし、この方法はλ/2を使用するため、
進相軸又は遅相軸の位置合わせを要したり位相差誤差を
生じ、装置組立工数の増加、特性の悪化、コストアップ
を招くという不具合がある。
て、対物レンズとビ−ムスプリッタの間にλ/2板を挿入
し、LDの偏光方向だけを対物レンズの光軸回りにLD
アス方向とは独立に回転させるという方法がある。つま
りLDアス方向をトラック方向に対し45°となるように
し、偏光方向のみをトラック方向として+デフォ−カス
状態、−デフォ−カス状態時の各特性の非対称さを無く
すのである。しかし、この方法はλ/2を使用するため、
進相軸又は遅相軸の位置合わせを要したり位相差誤差を
生じ、装置組立工数の増加、特性の悪化、コストアップ
を招くという不具合がある。
【0013】また、従来例2には次のような不具合があ
る。従来例1において生じるデフォ−カス状態時のビ−
ムスポットの非対称を解消するために、従来例2に示す
ような一般的なコンパクトディスク読み出し光学系を光
磁気ディスクに基づく光磁気信号検出に応用することが
考えられる。この場合、平行平板と検出器の間に従来例
1で使用した検光子を挿入し、さらに平行平板に形成し
た偏光膜の特性を分光比を変えずに透過光の位相差を0
degにすることとなる。このようにすることにより、従
来例1に示すようなデフォ−カス状態時のビ−ムスポッ
トの非対称さは無くなるが、偏光膜61(図10)の分光比
がP偏光、S偏光共に50%透過となり、情報信号成分
(P偏光成分)も半分になってしまうため、C/N 等の特
性が悪化してしまうという不具合がある。
る。従来例1において生じるデフォ−カス状態時のビ−
ムスポットの非対称を解消するために、従来例2に示す
ような一般的なコンパクトディスク読み出し光学系を光
磁気ディスクに基づく光磁気信号検出に応用することが
考えられる。この場合、平行平板と検出器の間に従来例
1で使用した検光子を挿入し、さらに平行平板に形成し
た偏光膜の特性を分光比を変えずに透過光の位相差を0
degにすることとなる。このようにすることにより、従
来例1に示すようなデフォ−カス状態時のビ−ムスポッ
トの非対称さは無くなるが、偏光膜61(図10)の分光比
がP偏光、S偏光共に50%透過となり、情報信号成分
(P偏光成分)も半分になってしまうため、C/N 等の特
性が悪化してしまうという不具合がある。
【0014】本発明は、上記不具合を解決すべく提案さ
れるもので、簡素な構成で、デフォ−カスの方向に係わ
らずトラックエラ−信号振幅、ジッタ−、光磁気信号等
の特性が対称に変化し、かつC/N 等の特性が悪化しない
光学的情報記録再生装置を提供することを目的とするも
のである。
れるもので、簡素な構成で、デフォ−カスの方向に係わ
らずトラックエラ−信号振幅、ジッタ−、光磁気信号等
の特性が対称に変化し、かつC/N 等の特性が悪化しない
光学的情報記録再生装置を提供することを目的とするも
のである。
【0015】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために、半導体レ−ザと、該半導体レ−ザからの
放射光を平行光にするコリメ−タレンズと、平行光を光
磁気ディスク上に結像する対物レンズと、光磁気ディス
クからの反射光をコリメ−タレンズと対物レンズの光路
から分離するビ−ムスプリッタと、分離された光を受光
する光検出手段とを有する光学的情報記録再生装置にお
いて、ビ−ムスプリッタの光分離面は平行光の光軸に対
して傾けて形成され、光分離面には少なくともS偏光反
射率又はP偏光反射率、或いはS偏光透過率又はP偏光
透過率が100 %の偏光膜が形成され、光分離面の法線と
平行光の光軸を含む面は光磁気ディスクのトラック方向
に対して平行又は垂直になるように形成され、半導体レ
−ザはその結晶の接合面の接合方向が光分離面の法線と
平行光の光軸を含む面に対して垂直又は平行とならない
ように形成されたことを特徴とする光学的情報記録再生
装置とした。
成するために、半導体レ−ザと、該半導体レ−ザからの
放射光を平行光にするコリメ−タレンズと、平行光を光
磁気ディスク上に結像する対物レンズと、光磁気ディス
クからの反射光をコリメ−タレンズと対物レンズの光路
から分離するビ−ムスプリッタと、分離された光を受光
する光検出手段とを有する光学的情報記録再生装置にお
いて、ビ−ムスプリッタの光分離面は平行光の光軸に対
して傾けて形成され、光分離面には少なくともS偏光反
射率又はP偏光反射率、或いはS偏光透過率又はP偏光
透過率が100 %の偏光膜が形成され、光分離面の法線と
平行光の光軸を含む面は光磁気ディスクのトラック方向
に対して平行又は垂直になるように形成され、半導体レ
−ザはその結晶の接合面の接合方向が光分離面の法線と
平行光の光軸を含む面に対して垂直又は平行とならない
ように形成されたことを特徴とする光学的情報記録再生
装置とした。
【0016】
【作用】このように構成することにより、構成を複雑化
することなく、光ディスク上のビ−ムスポットが楕円化
しても、デフォ−カスの方向に係わらずトラックエラ−
信号振幅等の各特性が対称に変化し、かつC/N 等の特性
が悪化しない情報信号の記録、再生ができる。
することなく、光ディスク上のビ−ムスポットが楕円化
しても、デフォ−カスの方向に係わらずトラックエラ−
信号振幅等の各特性が対称に変化し、かつC/N 等の特性
が悪化しない情報信号の記録、再生ができる。
【0017】
【実施例】以下、図面に従い本発明の実施例を説明して
ゆく。図1は、本発明に係る装置の概要を示したもので
ある。半導体レ−ザ(以下LDと略す)1からの放射光
の進行方向にコリメ−タレンズ2が設けられており、コ
リメ−タレンズ2で平行光に変換された光はその進行方
向に設けられているビ−ムスプリッタ3に入射する。入
射した光は、ビ−ムスプリッタ3に形成された偏光膜4
を透過した後、対物レンズ5を透過して光磁気ディスク
6へ到達するようになっている。なお、ビ−ムスプリッ
タ3に入射した光の一部は反射されて、対物レンズ5か
らの出射光量を一定に保つために用いられる光検出器7
に受光される。
ゆく。図1は、本発明に係る装置の概要を示したもので
ある。半導体レ−ザ(以下LDと略す)1からの放射光
の進行方向にコリメ−タレンズ2が設けられており、コ
リメ−タレンズ2で平行光に変換された光はその進行方
向に設けられているビ−ムスプリッタ3に入射する。入
射した光は、ビ−ムスプリッタ3に形成された偏光膜4
を透過した後、対物レンズ5を透過して光磁気ディスク
6へ到達するようになっている。なお、ビ−ムスプリッ
タ3に入射した光の一部は反射されて、対物レンズ5か
らの出射光量を一定に保つために用いられる光検出器7
に受光される。
【0018】光磁気ディスク6に照射されそこで反射さ
れた光束は、再び対物レンズ5を透過してビ−ムスプリ
ッタ3の偏光膜4に到達する。偏光膜4に到達した光は
光検出器8の方向に反射され、検光子9を透過した後に
光検出器8で受光され、光磁気信号が検出されるように
なっている。なお、偏光膜4の特性はP偏光反射率30
%、S偏光反射率100 %、反射光の位相差0deg であ
る。図1における(1) 〜(3) の座標は、偏光状態を説明
するためのものであるが、LD1からの放射光の偏光方
向は座標(1) におけるX軸に対し45°を成している。
れた光束は、再び対物レンズ5を透過してビ−ムスプリ
ッタ3の偏光膜4に到達する。偏光膜4に到達した光は
光検出器8の方向に反射され、検光子9を透過した後に
光検出器8で受光され、光磁気信号が検出されるように
なっている。なお、偏光膜4の特性はP偏光反射率30
%、S偏光反射率100 %、反射光の位相差0deg であ
る。図1における(1) 〜(3) の座標は、偏光状態を説明
するためのものであるが、LD1からの放射光の偏光方
向は座標(1) におけるX軸に対し45°を成している。
【0019】次に、図1に示した装置の各偏光状態を説
明する。LD1から光磁気ディスク6までは図1(1) の
座標を基準として説明すると、LD1からの放射光の偏
光方向は前述したようにX軸に対し45°を成している
(図2A)。ビ−ムスプリッタ3の偏光膜4への入射光
のうちS偏光成分は100%反射し、P偏光成分は70%の
みが透過するようになっているので、ビ−ムスプリッタ
3の偏光膜4を透過し、光磁気ディスク6に照射される
光は、図2Bに示すように強度が35%でX軸と一致した
直線偏光光となる。
明する。LD1から光磁気ディスク6までは図1(1) の
座標を基準として説明すると、LD1からの放射光の偏
光方向は前述したようにX軸に対し45°を成している
(図2A)。ビ−ムスプリッタ3の偏光膜4への入射光
のうちS偏光成分は100%反射し、P偏光成分は70%の
みが透過するようになっているので、ビ−ムスプリッタ
3の偏光膜4を透過し、光磁気ディスク6に照射される
光は、図2Bに示すように強度が35%でX軸と一致した
直線偏光光となる。
【0020】光磁気ディスク6を反射した光束がビ−ム
スプリッタ3の偏光膜4に到達するまでの偏光状態は、
図1(2) の座標を基準として説明すると、光磁気ディス
ク6の反射率とカ−効果の影響で光磁気ディスク6上の
磁化の向きによりΘk 又は−Θk の方向に旋光され、図
2Cに示すような偏光状態となる。ビ−ムスプリッタ3
の偏光膜4で反射されてから光検出器8に達するまでの
光の偏光状態を、図1(3) の座標を基準にして説明する
と、光磁気信号成分(情報信号)はS偏光成分であり偏
光膜4で100 %反射されるので、光磁気信号成分が失わ
れることなく図2Dに示すような偏光状態で検光子9に
入射し、光検出器8で光磁気信号が検出される。
スプリッタ3の偏光膜4に到達するまでの偏光状態は、
図1(2) の座標を基準として説明すると、光磁気ディス
ク6の反射率とカ−効果の影響で光磁気ディスク6上の
磁化の向きによりΘk 又は−Θk の方向に旋光され、図
2Cに示すような偏光状態となる。ビ−ムスプリッタ3
の偏光膜4で反射されてから光検出器8に達するまでの
光の偏光状態を、図1(3) の座標を基準にして説明する
と、光磁気信号成分(情報信号)はS偏光成分であり偏
光膜4で100 %反射されるので、光磁気信号成分が失わ
れることなく図2Dに示すような偏光状態で検光子9に
入射し、光検出器8で光磁気信号が検出される。
【0021】次に、光磁気ディスク上のビ−ムスポット
像を図3に従って説明する。前述したように、光磁気デ
ィスク装置に使用するLDには非点隔差が存在し、光放
射角はLDチップ結晶の接合面に対する平行方向と垂直
方向とで異なることが知られている。従って、対物レン
ズ又はコリメ−タレンズで開口制限を行った場合、光放
射角の影響で実質的にNAが大きい垂直方向は、平行方
向に比較し図3Aに示すように合焦状態で絞られたビ−
ムスポットとなる。また、LD1からの放射光の偏光方
向は、図1(1) 座標のX軸に対して45°を成しているの
で、LDアスの影響により光磁気ディスクと対物レンズ
とが合焦状態から遠ざかった状態(+デフォ−カス)と
近づいた状態(−デフォ−カス)では、ビ−ムスポット
が楕円化し楕円スポットの長軸の方向がそれぞれトラッ
ク方向に対して45°を成す(図3B、C)。なお、図3
Bは+デフォ−カス状態を示し、図3Cは−デフォ−カ
ス状態を示している。
像を図3に従って説明する。前述したように、光磁気デ
ィスク装置に使用するLDには非点隔差が存在し、光放
射角はLDチップ結晶の接合面に対する平行方向と垂直
方向とで異なることが知られている。従って、対物レン
ズ又はコリメ−タレンズで開口制限を行った場合、光放
射角の影響で実質的にNAが大きい垂直方向は、平行方
向に比較し図3Aに示すように合焦状態で絞られたビ−
ムスポットとなる。また、LD1からの放射光の偏光方
向は、図1(1) 座標のX軸に対して45°を成しているの
で、LDアスの影響により光磁気ディスクと対物レンズ
とが合焦状態から遠ざかった状態(+デフォ−カス)と
近づいた状態(−デフォ−カス)では、ビ−ムスポット
が楕円化し楕円スポットの長軸の方向がそれぞれトラッ
ク方向に対して45°を成す(図3B、C)。なお、図3
Bは+デフォ−カス状態を示し、図3Cは−デフォ−カ
ス状態を示している。
【0022】以上のごとく、本実施例によれば+デフォ
−カス状態、−デフォ−カス状態の場合に、光磁気ディ
スク上のビ−ムスポットの楕円化の方向をトラックに対
して45°方向に形成できる。したがって、トラックエラ
−信号振幅等の特性の変化量が対称になる。すなわち、
+或いは−デフォ−カス状態の何れかの方向で極端に特
性が変化することなく、ディフェクトディスクや周囲環
境の温度変化で光磁気ディスク上のビ−ムスポットがデ
フォ−カス状態になった場合でも、サ−ボが外れ難くな
り又光磁気信号(情報信号)の読み誤りも減少する。ま
た、光磁気信号(情報信号)をロスなく検光子および光
検出器に導くことができ、C/N 等の特性を悪化させるこ
ともない。
−カス状態、−デフォ−カス状態の場合に、光磁気ディ
スク上のビ−ムスポットの楕円化の方向をトラックに対
して45°方向に形成できる。したがって、トラックエラ
−信号振幅等の特性の変化量が対称になる。すなわち、
+或いは−デフォ−カス状態の何れかの方向で極端に特
性が変化することなく、ディフェクトディスクや周囲環
境の温度変化で光磁気ディスク上のビ−ムスポットがデ
フォ−カス状態になった場合でも、サ−ボが外れ難くな
り又光磁気信号(情報信号)の読み誤りも減少する。ま
た、光磁気信号(情報信号)をロスなく検光子および光
検出器に導くことができ、C/N 等の特性を悪化させるこ
ともない。
【0023】次に、本発明の第2実施例を説明する。本
実施例では装置を構成する光学系については前記第1実
施例と同様であるが、本実施例ではLDからの放射光の
偏光方向が図1(1) の座標におけるX軸に対して30°を
成すようにしている。図4はその偏光状態を示したもの
である。また、光磁気ディスク上のビ−ムスポットの形
状は図5A〜Cに示したようになる。Aは合焦時を示し
ており、B、Cは+デフォ−カス状態、−デフォ−カス
状態を示しており、これらデフォ−カス状態の場合、楕
円化の長軸の方向がトラックに対して30°方向に対称に
傾いている。
実施例では装置を構成する光学系については前記第1実
施例と同様であるが、本実施例ではLDからの放射光の
偏光方向が図1(1) の座標におけるX軸に対して30°を
成すようにしている。図4はその偏光状態を示したもの
である。また、光磁気ディスク上のビ−ムスポットの形
状は図5A〜Cに示したようになる。Aは合焦時を示し
ており、B、Cは+デフォ−カス状態、−デフォ−カス
状態を示しており、これらデフォ−カス状態の場合、楕
円化の長軸の方向がトラックに対して30°方向に対称に
傾いている。
【0024】以上のように構成されているので、ビ−ム
スプリッタに入射するP偏光成分はS偏光成分に比較し
て多いので(P偏光成分87%、S偏光成分13%) 、ビ−
ムスプリッタを透過する光量が61%となり、LDの放射
光の使用効率が向上する。なお、本実施例では偏光方向
をX軸に対して30°を成すようにしているが、この角度
に限定されるものではなく45°以下の任意の角度を設定
すればよい。しかし、デフォ−カス状態時の各特性の非
対称は、45°からずれるに従って大きくなるので、LD
からの放射光の使用効率との兼ね合いで選択する必要が
ある。
スプリッタに入射するP偏光成分はS偏光成分に比較し
て多いので(P偏光成分87%、S偏光成分13%) 、ビ−
ムスプリッタを透過する光量が61%となり、LDの放射
光の使用効率が向上する。なお、本実施例では偏光方向
をX軸に対して30°を成すようにしているが、この角度
に限定されるものではなく45°以下の任意の角度を設定
すればよい。しかし、デフォ−カス状態時の各特性の非
対称は、45°からずれるに従って大きくなるので、LD
からの放射光の使用効率との兼ね合いで選択する必要が
ある。
【0025】本発明は、以上の実施例に限定されるもの
ではなく、幾多の変更、変形が可能である。例えば、本
発明では装置のレイアウト上、偏光膜の特性をS偏光反
射率100 %、P偏光反射率30%としたがP偏光反射率を
100 %とするようなレイアウトとしてもよい。この場
合、LDの使用効率を向上させるには、ビ−ムスプリッ
タに入射させるS偏光成分をP偏光成分より多くする必
要があるので、例えば図1(1) 座標におけるX軸に対し
て60°を成すような偏光方向とすればよい。
ではなく、幾多の変更、変形が可能である。例えば、本
発明では装置のレイアウト上、偏光膜の特性をS偏光反
射率100 %、P偏光反射率30%としたがP偏光反射率を
100 %とするようなレイアウトとしてもよい。この場
合、LDの使用効率を向上させるには、ビ−ムスプリッ
タに入射させるS偏光成分をP偏光成分より多くする必
要があるので、例えば図1(1) 座標におけるX軸に対し
て60°を成すような偏光方向とすればよい。
【0026】
【発明の効果】以上のごとく、本発明によれば特に新た
な光学素子を設けることなく簡単な構成で、LDアスや
光量分布の影響によりデフォ−カス状態時に光ディスク
のビ−ムスポットが楕円化しても、デフォ−カスの方向
によらずトラックエラ−信号振幅、ジッタ−、光磁気信
号振幅等の各特性が合焦状態時を境に対称に変化し、サ
ーボが外れ難くなり又情報信号の読み誤りも減少する。
さらに情報信号をロスなく光検出器に導くことができる
のでC/N を悪化させることなく情報の記録、再生ができ
る。
な光学素子を設けることなく簡単な構成で、LDアスや
光量分布の影響によりデフォ−カス状態時に光ディスク
のビ−ムスポットが楕円化しても、デフォ−カスの方向
によらずトラックエラ−信号振幅、ジッタ−、光磁気信
号振幅等の各特性が合焦状態時を境に対称に変化し、サ
ーボが外れ難くなり又情報信号の読み誤りも減少する。
さらに情報信号をロスなく光検出器に導くことができる
のでC/N を悪化させることなく情報の記録、再生ができ
る。
【図1】本発明の第1実施例に係る装置の概要図であ
る。
る。
【図2】上記装置における偏光状態の説明図である。
【図3】上記装置における光磁気ディスク上のビ−ムス
ポット形状の説明図である。
ポット形状の説明図である。
【図4】本発明の第2実施例におけるLDの偏光状態の
説明図である。
説明図である。
【図5】第2実施例における光磁気ディスク上のビ−ム
スポット形状の説明図である。
スポット形状の説明図である。
【図6】従来例1に係る装置の概要図である。
【図7】上記装置における偏光状態の説明図である。
【図8】上記装置における光磁気ディスク上のビ−ムス
ポット形状の説明図である。
ポット形状の説明図である。
【図9】LDの光強度分布を示す説明図である。
【図10】従来例2に係る装置の概要図である。
【図11】上記装置におけるLDの偏光状態の説明図で
ある。
ある。
【図12】上記装置における光磁気ディスク上のビ−ム
スポット形状の説明図である。
スポット形状の説明図である。
【図13】光磁気ディスクの説明図である。
1 半導体レ−ザ(LD) 2 コリメ−タレンズ 3 ビ−ムスプリッタ 4 偏光膜 5 対物レンズ 6 光磁気ディスク 7 光検出器 8 光検出器 9 検光子
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項1】 半導体レ−ザと、該半導体レ−ザからの
放射光を平行光にするコリメ−タレンズと、平行光を光
磁気ディスク上に結像する対物レンズと、光磁気ディス
クからの反射光をコリメ−タレンズと対物レンズの光路
から分離するビ−ムスプリッタと、分離された光を受光
する光検出手段とを有する光学的情報記録再生装置にお
いて、 ビ−ムスプリッタの光分離面は平行光の光軸に対して傾
けて形成され、光分離面には少なくともS偏光反射率又
はP偏光反射率、或いはS偏光透過率又はP偏光透過率
が100 %の偏光膜が形成され、光分離面の法線と平行光
の光軸を含む面は光磁気ディスクのトラック方向に対し
て平行又は垂直になるように形成され、半導体レ−ザは
その結晶の接合面の接合方向が光分離面の法線と平行光
の光軸を含む面に対して垂直又は平行とならないように
形成されたことを特徴とする光学的情報記録再生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3187078A JPH0512747A (ja) | 1991-07-02 | 1991-07-02 | 光学的情報記録再生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3187078A JPH0512747A (ja) | 1991-07-02 | 1991-07-02 | 光学的情報記録再生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0512747A true JPH0512747A (ja) | 1993-01-22 |
Family
ID=16199751
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3187078A Withdrawn JPH0512747A (ja) | 1991-07-02 | 1991-07-02 | 光学的情報記録再生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0512747A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100585074B1 (ko) * | 1999-10-21 | 2006-06-01 | 삼성전자주식회사 | 호환형 광픽업장치 |
-
1991
- 1991-07-02 JP JP3187078A patent/JPH0512747A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100585074B1 (ko) * | 1999-10-21 | 2006-06-01 | 삼성전자주식회사 | 호환형 광픽업장치 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19981008 |