JPH05131290A - ハンダフラツクス用洗浄剤組成物 - Google Patents
ハンダフラツクス用洗浄剤組成物Info
- Publication number
- JPH05131290A JPH05131290A JP3321307A JP32130791A JPH05131290A JP H05131290 A JPH05131290 A JP H05131290A JP 3321307 A JP3321307 A JP 3321307A JP 32130791 A JP32130791 A JP 32130791A JP H05131290 A JPH05131290 A JP H05131290A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ether
- glycol
- group
- weight
- examples
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- Pending
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- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ハンダフラックスに対して優れた洗浄性能を
有し,環境汚染,毒性,臭気などの点でも優れた非ハロ
ゲン系洗浄剤組成物を提供する。 【構成】 ポリアルキレングリコールモノアルキルエー
テル50〜97重量%とポリアルキレングリコールジア
ルキルエーテル3〜50重量%からなる洗浄剤組成物。
有し,環境汚染,毒性,臭気などの点でも優れた非ハロ
ゲン系洗浄剤組成物を提供する。 【構成】 ポリアルキレングリコールモノアルキルエー
テル50〜97重量%とポリアルキレングリコールジア
ルキルエーテル3〜50重量%からなる洗浄剤組成物。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ハンダ付けに際して用
いられるフラックスを洗浄する洗浄剤組成物に関する。
いられるフラックスを洗浄する洗浄剤組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、プリント基板には、ハンダ付け後
付着残存するハンダ用フラックス類を除去するためフロ
ン系溶剤が用いられていた。しかし、フロン系溶剤はオ
ゾン層を破壊するという問題があるため、これに代替し
得る洗浄剤の開発が進められており、種々のグリコール
エーテル系洗浄剤が開示されている(例えば、特開昭5
9−134891号および特開平3−97792号公報
記載の洗浄剤)。しかしながら、これら洗浄剤は洗浄
力、毒性、臭気などのすべての要求性能を満たすには不
十分であるというのが現状である。
付着残存するハンダ用フラックス類を除去するためフロ
ン系溶剤が用いられていた。しかし、フロン系溶剤はオ
ゾン層を破壊するという問題があるため、これに代替し
得る洗浄剤の開発が進められており、種々のグリコール
エーテル系洗浄剤が開示されている(例えば、特開昭5
9−134891号および特開平3−97792号公報
記載の洗浄剤)。しかしながら、これら洗浄剤は洗浄
力、毒性、臭気などのすべての要求性能を満たすには不
十分であるというのが現状である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、洗浄力に優
れしかも環境特性、毒性、臭気などの点で満足しうる非
ハロゲン系のハンダフラックス用洗浄剤を提供すること
を目的とする。
れしかも環境特性、毒性、臭気などの点で満足しうる非
ハロゲン系のハンダフラックス用洗浄剤を提供すること
を目的とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記の問題
点に鑑み、環境を破壊しないハンダフラックスの洗浄に
適する洗浄剤について鋭意研究した結果、本発明を完成
した。
点に鑑み、環境を破壊しないハンダフラックスの洗浄に
適する洗浄剤について鋭意研究した結果、本発明を完成
した。
【0005】即ち、本発明は下記一般式(1)で示され
る化合物(A)と、下記一般式(2)で示される化合物
(B)とからなり、(A)と(B)の合計重量に基づい
て(A)が50〜97重量%、(B)が3〜50重量%
であるハンダフラックス用洗浄剤組成物である。 (A): R1O(CnH2nO)mH (1) (式中、R1は水素または炭素数1〜8のアルキル基ま
たはシクロアルキル基、nは2〜4の整数、mは1〜5
の整数を表す。) (B): R2O(CH2CH2O)pR3 (2) (式中、R2、R3、は炭素数1〜8のアルキル基または
シクロアルキル基、pは1〜5の整数を表す。)
る化合物(A)と、下記一般式(2)で示される化合物
(B)とからなり、(A)と(B)の合計重量に基づい
て(A)が50〜97重量%、(B)が3〜50重量%
であるハンダフラックス用洗浄剤組成物である。 (A): R1O(CnH2nO)mH (1) (式中、R1は水素または炭素数1〜8のアルキル基ま
たはシクロアルキル基、nは2〜4の整数、mは1〜5
の整数を表す。) (B): R2O(CH2CH2O)pR3 (2) (式中、R2、R3、は炭素数1〜8のアルキル基または
シクロアルキル基、pは1〜5の整数を表す。)
【0006】一般式(1)において、R1の炭素数1〜
8のアルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、
イソプロピル基、tert−ブチル基、2−エチルヘキ
シル基等があげられ、シクロアルキル基の例としては、
シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル
基等が挙げられる。好ましいものはR1が炭素数3〜5
のアルキル基または炭素数6〜8のシクロアルキル基で
あり、特に好ましいものは炭素数4のアルキル基であ
る。アルキル基の炭素数が8を越えると洗浄性が悪くな
る。式中のCnH2nOは、オキシエチレン、オキシプロ
ピレン、オキシブチレンを表す。mは1〜5の整数で好
ましくは2〜3である。mが2〜5の場合、単独、ラン
ダムまたはブロックに付加していても良いが、好ましい
ものはオキシエチレンが必須として付加したものであ
り、特に好ましいものはオキシエチレン単独付加物であ
る。mが5を越えると洗浄性が悪くなる。
8のアルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、
イソプロピル基、tert−ブチル基、2−エチルヘキ
シル基等があげられ、シクロアルキル基の例としては、
シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル
基等が挙げられる。好ましいものはR1が炭素数3〜5
のアルキル基または炭素数6〜8のシクロアルキル基で
あり、特に好ましいものは炭素数4のアルキル基であ
る。アルキル基の炭素数が8を越えると洗浄性が悪くな
る。式中のCnH2nOは、オキシエチレン、オキシプロ
ピレン、オキシブチレンを表す。mは1〜5の整数で好
ましくは2〜3である。mが2〜5の場合、単独、ラン
ダムまたはブロックに付加していても良いが、好ましい
ものはオキシエチレンが必須として付加したものであ
り、特に好ましいものはオキシエチレン単独付加物であ
る。mが5を越えると洗浄性が悪くなる。
【0007】一般式(2)において、R2、R3の炭素数
1〜8のアルキル基の例としてはメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オク
チル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、2−エ
チルヘキシル基等があげられ、シクロアルキル基の例と
しては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロ
オクチル基等があげられる。本発明においてR2、R3は
同一でも異なっていてもよい。R2、R3のうちで好まし
いのは炭素数が1〜2のアルキル基である。アルキル基
の炭素数が8を越えると洗浄性が悪くなる。pは1〜5
の整数で好ましくは2〜3である。pが5を越えると洗
浄性が悪くなる。
1〜8のアルキル基の例としてはメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オク
チル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、2−エ
チルヘキシル基等があげられ、シクロアルキル基の例と
しては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロ
オクチル基等があげられる。本発明においてR2、R3は
同一でも異なっていてもよい。R2、R3のうちで好まし
いのは炭素数が1〜2のアルキル基である。アルキル基
の炭素数が8を越えると洗浄性が悪くなる。pは1〜5
の整数で好ましくは2〜3である。pが5を越えると洗
浄性が悪くなる。
【0008】(A)の例としてはエチレングリコール、
ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロ
ピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロ
ピレングリコールなどのグリコール類、エチレングリコ
ールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノペン
チルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテ
ル、エチレングリコールモノオクチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプ
ロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエー
テル、ジエチレングリコールモノペンチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレン
グリコールモノオクチルエーテル、トリエチレングリコ
ールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノ
プロピルエーテル、トリエチレングリコールモノブチル
エーテル、テトラエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、トリエチレングリコールモノペンチルエーテルなど
の(ポリ)エチレングリコールのモノアルキルエーテル
類、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロ
ピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリ
コールモノペンチルエーテル、ジプロピレングリコール
モノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチ
ルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエー
テル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジ
プロピレングリコールモノペンチルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノヘキシルエーテル、トリプロピレング
リコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコー
ルモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノ
プロピルエーテル、トリプロピレングリコールモンブチ
ルエーテルなどの(ポリ)プロピレングリコールのモノ
アルキルエーテル類、エチレンジプロピレングリコール
モノメチルエーテル、エチレンジプロピレングリコール
モノプロピルエーテル、エチレンジプロピレングリコー
ルモノブチルエーテル、ジエチレンジプロピレングリコ
ールモノメチルエーテル、ジエチレンジプロピレングリ
コールモノブチルエーテル、ジエチレンプロピレングリ
コールモノプロピルエーテル、ジエチレンプロピレング
リコールモノブチルエーテルなどのエチレングリコール
とプロピレングリコール共重合付加によるモノアルキル
エーテル類およびこれらの混合物等があげられる。
ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロ
ピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロ
ピレングリコールなどのグリコール類、エチレングリコ
ールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノペン
チルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテ
ル、エチレングリコールモノオクチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプ
ロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエー
テル、ジエチレングリコールモノペンチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレン
グリコールモノオクチルエーテル、トリエチレングリコ
ールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノ
プロピルエーテル、トリエチレングリコールモノブチル
エーテル、テトラエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、トリエチレングリコールモノペンチルエーテルなど
の(ポリ)エチレングリコールのモノアルキルエーテル
類、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロ
ピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリ
コールモノペンチルエーテル、ジプロピレングリコール
モノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチ
ルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエー
テル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジ
プロピレングリコールモノペンチルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノヘキシルエーテル、トリプロピレング
リコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコー
ルモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノ
プロピルエーテル、トリプロピレングリコールモンブチ
ルエーテルなどの(ポリ)プロピレングリコールのモノ
アルキルエーテル類、エチレンジプロピレングリコール
モノメチルエーテル、エチレンジプロピレングリコール
モノプロピルエーテル、エチレンジプロピレングリコー
ルモノブチルエーテル、ジエチレンジプロピレングリコ
ールモノメチルエーテル、ジエチレンジプロピレングリ
コールモノブチルエーテル、ジエチレンプロピレングリ
コールモノプロピルエーテル、ジエチレンプロピレング
リコールモノブチルエーテルなどのエチレングリコール
とプロピレングリコール共重合付加によるモノアルキル
エーテル類およびこれらの混合物等があげられる。
【0009】(B)の例としてはジエチレングリコール
ジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエー
テル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、トリエ
チレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリ
コールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジブ
チルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエー
テル、エチレングリコールメチルブチルエーテルなどの
(ポリ)エチレングリコールのジアルキルエーテル類お
よびこれらの混合物などがあげられる。
ジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエー
テル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、トリエ
チレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリ
コールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジブ
チルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエー
テル、エチレングリコールメチルブチルエーテルなどの
(ポリ)エチレングリコールのジアルキルエーテル類お
よびこれらの混合物などがあげられる。
【0010】本発明の洗浄剤は、(A)と(B)とから
なり、(A)と(B)合計重量に基づいて(A)が50
〜97重量%(B)が3〜50重量%であり、好ましく
は(A)70〜95重量%(B)が5〜30重量%であ
る。この範囲を外れると洗浄性が悪くなる。
なり、(A)と(B)合計重量に基づいて(A)が50
〜97重量%(B)が3〜50重量%であり、好ましく
は(A)70〜95重量%(B)が5〜30重量%であ
る。この範囲を外れると洗浄性が悪くなる。
【0011】本発明の洗浄剤はグリコールエーテル類を
主成分とするものであるが、洗浄剤の浸透性や湿潤性を
高めるために、界面活性剤を含有することも可能であ
る。またさらに難燃化するために水を含有することも可
能である。界面活性剤としては、例えばノニルフェノー
ルのエチレンオキシド付加物、オクチルフェノールのエ
チレンオキシド付加物、ふっ素系界面活性剤(例えば、
パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアル
キルエチレンオキシド付加物等)の界面活性剤類等があ
げられ、フッ素系界面活性剤が好ましい。
主成分とするものであるが、洗浄剤の浸透性や湿潤性を
高めるために、界面活性剤を含有することも可能であ
る。またさらに難燃化するために水を含有することも可
能である。界面活性剤としては、例えばノニルフェノー
ルのエチレンオキシド付加物、オクチルフェノールのエ
チレンオキシド付加物、ふっ素系界面活性剤(例えば、
パーフルオロアルキルカルボン酸塩、パーフルオロアル
キルエチレンオキシド付加物等)の界面活性剤類等があ
げられ、フッ素系界面活性剤が好ましい。
【0012】界面活性剤類の含有量は(A)と(B)の
合計重量に基づいて、通常8重量%以下、好ましくは5
重量%以下である。8重量%を超えると界面活性剤の残
留による汚れや腐食の原因となる。
合計重量に基づいて、通常8重量%以下、好ましくは5
重量%以下である。8重量%を超えると界面活性剤の残
留による汚れや腐食の原因となる。
【0013】水の含有量は(A)と(B)の合計重量に
基ずいて、通常50重量%以下、好ましくは20重量%
以下、更に好ましくは10重量%以下である。50重量
%を越えると洗浄性が悪くなる。
基ずいて、通常50重量%以下、好ましくは20重量%
以下、更に好ましくは10重量%以下である。50重量
%を越えると洗浄性が悪くなる。
【0014】本発明の洗浄剤を用いたプリント基板の洗
浄は、通常室温〜100℃、好ましくは30〜70℃に
加温した洗浄剤中にプリント基板を浸漬し、超音波、攪
拌、揺動によるか、あるいはスプレーまたはふきとり等
により可能である。洗浄後、プリント基板を引き上げそ
のまま乾燥するか、水または加温した水ですすいだ後乾
燥してもよい。
浄は、通常室温〜100℃、好ましくは30〜70℃に
加温した洗浄剤中にプリント基板を浸漬し、超音波、攪
拌、揺動によるか、あるいはスプレーまたはふきとり等
により可能である。洗浄後、プリント基板を引き上げそ
のまま乾燥するか、水または加温した水ですすいだ後乾
燥してもよい。
【0015】
【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。尚、実施
例中%は特記しないかぎり重量%を示す。
が、本発明はこれに限定されるものではない。尚、実施
例中%は特記しないかぎり重量%を示す。
【0016】実施例1 本発明の洗浄剤(a1) エチレングリコールモノブチルエーテル 90% ジエチレングリコールジメチルエーテル 10%
【0017】実施例2 本発明の洗浄剤(a2) ジエチレングリコールモノプロピルエーテル 70% ジエチレングリコールジメチルエーテル 30%
【0018】実施例3 本発明の洗浄剤(a3) ジエチレングリコールモノブチルエーテル 80% トリエチレングリコールジメチルエーテル 20%
【0019】実施例4 本発明の洗浄剤(a4) トリエチレングリコールモノブチルエーテル 80% テトラエチレングリコールジメチルエーテル 20%
【0020】実施例5 本発明の洗浄剤(a5) テトラエチレングリコールモノヘプチルエーテル 90% ジエチレングリコールジエチルエーテル 10%
【0021】比較例1 洗浄剤(b1) トリエチレングリコールモノメチルエーテル 100%
【0022】比較例2 洗浄剤(b2) ヘキサエチレングリコールモノブチルエーテル 90% ジエチレングリコールジエチルエーテル 10%
【0023】比較例3 洗浄剤(b3) ジエチレングリコールジメチルエーテル 100%
【0024】比較例4 洗浄剤(b4) ジプロピレングリコールモノブチルエーテル 100%
【0025】洗浄性試験 実施例1〜5および比較例1〜4で得た洗浄剤を用い洗
浄性試験を行った。試験は、ガラス板にハンダフラック
スを塗布し、200℃、15分間加熱し汚染板とした。
各々の洗浄剤中に40℃で30秒間浸漬しフラックスの
溶解状態を目視観察した。 評価基準 ○ : 溶解性大 (ガラス板上のフラックス
なし) △ : 溶解性やや劣る(ガラス板上のフラックス一部
あり) × : 溶解性不良 (ガラス板上のフラックス多い) フラックスA : 不活性ロジンフラックス フラックスB : 活性ロジンフラックス
浄性試験を行った。試験は、ガラス板にハンダフラック
スを塗布し、200℃、15分間加熱し汚染板とした。
各々の洗浄剤中に40℃で30秒間浸漬しフラックスの
溶解状態を目視観察した。 評価基準 ○ : 溶解性大 (ガラス板上のフラックス
なし) △ : 溶解性やや劣る(ガラス板上のフラックス一部
あり) × : 溶解性不良 (ガラス板上のフラックス多い) フラックスA : 不活性ロジンフラックス フラックスB : 活性ロジンフラックス
【0026】
【発明の効果】本発明の洗浄剤は、ハロゲン系の洗浄剤
と同等以上の洗浄力を有しており、非ハロゲン系のため
環境の破壊の恐れがなく、且つ臭気、引火性の点でも十
分に満足し、ハンダフラックスの除去に極めて有効であ
る。 合
と同等以上の洗浄力を有しており、非ハロゲン系のため
環境の破壊の恐れがなく、且つ臭気、引火性の点でも十
分に満足し、ハンダフラックスの除去に極めて有効であ
る。 合
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H05K 3/34 V 9154−4E (C11D 7/60 7:26)
Claims (1)
- 【請求項1】 下記一般式(1)で示される化合物
(A)と、下記一般式(2)で示される化合物(B)と
からなり、(A)と(B)の合計重量に基づいて(A)
が50〜97重量%、(B)が3〜50重量%であるハ
ンダフラックス用洗浄剤組成物。 (A): R1O(CnH2nO)mH (1) (式中、R1は水素または炭素数1〜8のアルキル基ま
たはシクロアルキル基、nは2〜4の整数、mは1〜5
の整数を表す。) (B): R2O(CH2CH2O)pR3 (2) (式中、R2、R3、は炭素数1〜8のアルキル基または
シクロアルキル基、pは1〜5の整数を表す。)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3321307A JPH05131290A (ja) | 1991-11-08 | 1991-11-08 | ハンダフラツクス用洗浄剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3321307A JPH05131290A (ja) | 1991-11-08 | 1991-11-08 | ハンダフラツクス用洗浄剤組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05131290A true JPH05131290A (ja) | 1993-05-28 |
Family
ID=18131119
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3321307A Pending JPH05131290A (ja) | 1991-11-08 | 1991-11-08 | ハンダフラツクス用洗浄剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05131290A (ja) |
-
1991
- 1991-11-08 JP JP3321307A patent/JPH05131290A/ja active Pending
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