JPH0513300A - 投影露光装置 - Google Patents
投影露光装置Info
- Publication number
- JPH0513300A JPH0513300A JP3185298A JP18529891A JPH0513300A JP H0513300 A JPH0513300 A JP H0513300A JP 3185298 A JP3185298 A JP 3185298A JP 18529891 A JP18529891 A JP 18529891A JP H0513300 A JPH0513300 A JP H0513300A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fly
- light
- eye lens
- mask
- lens
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 フライアイレンズ後段に輪帯状のアパーチャ
を有し、マスク面上を照射する光の強度分布を均一化す
る。 【構成】 回転駆動部５と回転軸５ａからなる回転機構
を設け、フライアイレンズ３を回転軸５ａを中心として
回転させ、マスク８上で光源光の時間的重ね合わせが得
られるようにする。
を有し、マスク面上を照射する光の強度分布を均一化す
る。 【構成】 回転駆動部５と回転軸５ａからなる回転機構
を設け、フライアイレンズ３を回転軸５ａを中心として
回転させ、マスク８上で光源光の時間的重ね合わせが得
られるようにする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明はＬＳＩ製造工程で使用
される投影露光装置に関するものである。
される投影露光装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図５は、例えば特開昭５８−７１２３号
公報に示された従来の高解像結像光学系の構成図であ
り、図６は図５の高解像結像光学系を用いた投影露光装
置の構成図である。図５，図６において、１は光源光の
ランプハウス、２はランプハウス１の光源光を反射する
ミラー、３は単レンズ３ａを複数個寄せ集めて構成され
たフライアイレンズ、４はフライアイレンズ３を通過し
た光の一部を遮光する輪帯状アパーチャ、６は輪帯状ア
パーチャ４を通過した光を反射するミラー、７は集光レ
ンズ、８はパターン付きマスク、９は投影結像レンズ、
１０は結像面におかれたウエハである。
公報に示された従来の高解像結像光学系の構成図であ
り、図６は図５の高解像結像光学系を用いた投影露光装
置の構成図である。図５，図６において、１は光源光の
ランプハウス、２はランプハウス１の光源光を反射する
ミラー、３は単レンズ３ａを複数個寄せ集めて構成され
たフライアイレンズ、４はフライアイレンズ３を通過し
た光の一部を遮光する輪帯状アパーチャ、６は輪帯状ア
パーチャ４を通過した光を反射するミラー、７は集光レ
ンズ、８はパターン付きマスク、９は投影結像レンズ、
１０は結像面におかれたウエハである。
【０００３】次に動作について説明する。ランプハウス
１から発した光は、ミラー２を介してフライアイレンズ
３に至り、フライアイレンズ３を構成する個々のレンズ
３ａの領域に分割される。そして各レンズ３ａを通過し
た光は、輪帯状アパーチャ４（図７参照）に至る。ここ
で一部の光は輪帯状アパーチャ４の遮光部４ｂにより遮
光されるが、一部の光は開口部４ａを通過し、ミラー
６，集光レンズ７を介してマスク８の露光領域の全面を
照射する。このようにしてフライアイレンズ３の個々の
レンズ３ａを通過した光は重ね合わせてマスク８面上を
照射することになる。
１から発した光は、ミラー２を介してフライアイレンズ
３に至り、フライアイレンズ３を構成する個々のレンズ
３ａの領域に分割される。そして各レンズ３ａを通過し
た光は、輪帯状アパーチャ４（図７参照）に至る。ここ
で一部の光は輪帯状アパーチャ４の遮光部４ｂにより遮
光されるが、一部の光は開口部４ａを通過し、ミラー
６，集光レンズ７を介してマスク８の露光領域の全面を
照射する。このようにしてフライアイレンズ３の個々の
レンズ３ａを通過した光は重ね合わせてマスク８面上を
照射することになる。
【０００４】このときマスク８を照射する光は、中央部
が遮光された輪帯状アパーチャ４を介した光（輪帯状ア
パーチャ４の開口部を２次光源とした光）であるため、
マスク８を斜めから照射することになる。このようにし
てマスク８を斜めから照射して通過した光は投影レンズ
９を介してウエハ１０に至り、これによりウエハ１０表
面へのパターンの焼き付けが行われるが、マスク８を斜
めから照射しているため解像度が良く、焦点深度の深い
露光ができるようになっている。
が遮光された輪帯状アパーチャ４を介した光（輪帯状ア
パーチャ４の開口部を２次光源とした光）であるため、
マスク８を斜めから照射することになる。このようにし
てマスク８を斜めから照射して通過した光は投影レンズ
９を介してウエハ１０に至り、これによりウエハ１０表
面へのパターンの焼き付けが行われるが、マスク８を斜
めから照射しているため解像度が良く、焦点深度の深い
露光ができるようになっている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来の投影露光装置は
以上のように構成されており、輪帯状アパーチャを用い
ているため解像度が良く、焦点深度の深い露光ができる
反面、前段のフライアイレンズの個々のレンズ領域を透
過した光の一部しか輪帯状アパーチャを通過しない。従
ってマスク面上にもフライアイレンズの個々のレンズ領
域を通過した光の一部しか到達せず、実効的にフライア
イレンズの分割数が減少し、光の重ね合わせの数が減少
するため、マスク面を照射する光強度の分布が不均一に
なるという問題点があった。
以上のように構成されており、輪帯状アパーチャを用い
ているため解像度が良く、焦点深度の深い露光ができる
反面、前段のフライアイレンズの個々のレンズ領域を透
過した光の一部しか輪帯状アパーチャを通過しない。従
ってマスク面上にもフライアイレンズの個々のレンズ領
域を通過した光の一部しか到達せず、実効的にフライア
イレンズの分割数が減少し、光の重ね合わせの数が減少
するため、マスク面を照射する光強度の分布が不均一に
なるという問題点があった。
【０００６】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、マスク面上を照射する光強度の
分布が不均一となることなく、ほぼ均一な照明が可能な
投影露光装置を得ることを目的とする。
ためになされたもので、マスク面上を照射する光強度の
分布が不均一となることなく、ほぼ均一な照明が可能な
投影露光装置を得ることを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この発明に係る投影露光
装置は、フライアイレンズを、該フライアイレンズの光
軸断面がアパーチャの面とほぼ平行状態を保ちながら、
空間的に移動させる移動手段を備えたものである。
装置は、フライアイレンズを、該フライアイレンズの光
軸断面がアパーチャの面とほぼ平行状態を保ちながら、
空間的に移動させる移動手段を備えたものである。
【０００８】
【作用】この発明においては、フライアイレンズがその
光軸断面がアパーチャの面とほぼ平行状態を保ちながら
空間的に移動するようにしたから、マクス上の照射領域
において光強度の時間的重ね合わせ、即ち時間的平均化
作用が生じ、実効的にフライアイレンズの分割個数が増
えたことと等価になり均一な照明ができる。
光軸断面がアパーチャの面とほぼ平行状態を保ちながら
空間的に移動するようにしたから、マクス上の照射領域
において光強度の時間的重ね合わせ、即ち時間的平均化
作用が生じ、実効的にフライアイレンズの分割個数が増
えたことと等価になり均一な照明ができる。
【０００９】
【実施例】以下、この発明の一実施例による投影露光装
置を図について説明する。図１において、図６と同一符
号は同一または相当部分を示し、５はフライアイレンズ
３の回転駆動部であり、フライアイレンズ３は回転駆動
部５の回転軸５ａを中心として回転運動するように構成
されている。
置を図について説明する。図１において、図６と同一符
号は同一または相当部分を示し、５はフライアイレンズ
３の回転駆動部であり、フライアイレンズ３は回転駆動
部５の回転軸５ａを中心として回転運動するように構成
されている。
【００１０】次に動作について説明する。ランプハウス
１を発した光はミラー２を介して回転駆動部５と回転軸
５ａからなる回転機構を有するフライアイレンズ３に至
り、フライアイレンズ３を構成する個々のレンズ３ａの
領域に分割される。そしてある時刻ｔ1 に各レンズ３ａ
を通過した光は、輪帯状アパーチャ４開口部４ａを通過
し、ミラー６，集光レンズ７を介してマスク８の露光領
域の全面を照射する。このときのマスク８からみたフラ
イアイレンズ３を図２に示す。ランプハウス１を発した
光源光は、例えば図２に示された形状、即ち水平，垂直
方向を境界とする複数の形状に分割された後、マスク８
において重ね合わされることになる。
１を発した光はミラー２を介して回転駆動部５と回転軸
５ａからなる回転機構を有するフライアイレンズ３に至
り、フライアイレンズ３を構成する個々のレンズ３ａの
領域に分割される。そしてある時刻ｔ1 に各レンズ３ａ
を通過した光は、輪帯状アパーチャ４開口部４ａを通過
し、ミラー６，集光レンズ７を介してマスク８の露光領
域の全面を照射する。このときのマスク８からみたフラ
イアイレンズ３を図２に示す。ランプハウス１を発した
光源光は、例えば図２に示された形状、即ち水平，垂直
方向を境界とする複数の形状に分割された後、マスク８
において重ね合わされることになる。
【００１１】そしてある時刻ｔ1 よりΔｔだけ遅い時刻
ｔ2 にフライアイレンズ３を構成する個々のレンズ３ａ
を透過した光も、上記と同様に論帯状アパーチャ４の開
口部４ａ，ミラー６，集光レンズ７を介してマスク８の
露光領域の全面を照射するが、フライアイレンズ３は時
刻Δｔに対応する角度だけ回転軸５ａを中心に回転して
いる。このため、時刻ｔ2 におけるマスク８からみたフ
ライアイレンズ３は図３に示すように斜め方向を境界と
した形状になる。即ち、マスク８からみた光源光の分割
のされ方が異なることになる。
ｔ2 にフライアイレンズ３を構成する個々のレンズ３ａ
を透過した光も、上記と同様に論帯状アパーチャ４の開
口部４ａ，ミラー６，集光レンズ７を介してマスク８の
露光領域の全面を照射するが、フライアイレンズ３は時
刻Δｔに対応する角度だけ回転軸５ａを中心に回転して
いる。このため、時刻ｔ2 におけるマスク８からみたフ
ライアイレンズ３は図３に示すように斜め方向を境界と
した形状になる。即ち、マスク８からみた光源光の分割
のされ方が異なることになる。
【００１２】そこで回転駆動部５を用いて、ウエハ１０
への照射時間、即ちマスク８への照射時間を上記時間Δ
ｔより長く設定すると、マスク８上での照射光強度は分
割のされ方が異なる光源光の時間的重ね合わせとなるた
め、光源光の有する強度分布が平均され、ほぼ均一な分
布が得られることになる。そしてこの均一な光強度を有
する光は投影レンズ９を介してウエハ１０に至り、これ
によりウエハ１０表面へのパターンの焼き付けが行われ
る。
への照射時間、即ちマスク８への照射時間を上記時間Δ
ｔより長く設定すると、マスク８上での照射光強度は分
割のされ方が異なる光源光の時間的重ね合わせとなるた
め、光源光の有する強度分布が平均され、ほぼ均一な分
布が得られることになる。そしてこの均一な光強度を有
する光は投影レンズ９を介してウエハ１０に至り、これ
によりウエハ１０表面へのパターンの焼き付けが行われ
る。
【００１３】このように本実施例によれば、回転駆動部
５と回転軸５ａからなる回転機構を設け、フライアイレ
ンズ３を回転軸５ａを中心として回転させるようにした
から、各時間におけるマスク８上ではフライアイレンズ
３の個々のレンズ３ａを通過した光が重合わされたもの
となりマスク８上での照度ムラが無くなり、ウエハ面で
の光強度分布も均一となる。
５と回転軸５ａからなる回転機構を設け、フライアイレ
ンズ３を回転軸５ａを中心として回転させるようにした
から、各時間におけるマスク８上ではフライアイレンズ
３の個々のレンズ３ａを通過した光が重合わされたもの
となりマスク８上での照度ムラが無くなり、ウエハ面で
の光強度分布も均一となる。
【００１４】なお、上記実施例ではフライアイレンズ３
は光軸１１とほぼ平行な軸を中心軸として回転する構成
としたが、図４に示すように、光軸１１と垂直な断面内
を往復移動する構成としてもよい。すなわち図４におい
て、３′は往復運動により光軸１１に対して位置が変化
したフライアイレンズ、３ａ′はその個々のレンズ、３
０は往復運動の方向を示す。このようにすることでマス
ク８での照射光強度は、分割のされ方が異なる光源光の
時間的重ね合わせとなるため、上記実施例と同様の効果
を奏する。
は光軸１１とほぼ平行な軸を中心軸として回転する構成
としたが、図４に示すように、光軸１１と垂直な断面内
を往復移動する構成としてもよい。すなわち図４におい
て、３′は往復運動により光軸１１に対して位置が変化
したフライアイレンズ、３ａ′はその個々のレンズ、３
０は往復運動の方向を示す。このようにすることでマス
ク８での照射光強度は、分割のされ方が異なる光源光の
時間的重ね合わせとなるため、上記実施例と同様の効果
を奏する。
【００１５】なお、図４では、往復運動の方向３０を紙
面上、上下方向としたが、紙面に垂直方向でもよくま
た、斜め方向でもよい。
面上、上下方向としたが、紙面に垂直方向でもよくま
た、斜め方向でもよい。
【００１６】
【発明の効果】以上のように、この発明に係る投影露光
装置によれば、フライアイレンズを時間的に移動する構
成としたため、輪帯状アパーチャ遮光部の影響によるフ
ライアイレンズの空間分割数の減少を時間的に補償する
ことができ、マスク面上において強度分布の均一な光が
得られるという効果がある。
装置によれば、フライアイレンズを時間的に移動する構
成としたため、輪帯状アパーチャ遮光部の影響によるフ
ライアイレンズの空間分割数の減少を時間的に補償する
ことができ、マスク面上において強度分布の均一な光が
得られるという効果がある。
【図１】この発明の一実施例による投影露光装置の構成
を示す図である。
を示す図である。
【図２】この発明の一実施例による投影露光装置におい
て、ある時刻におけるフライアイレンズによる光源光の
分割のされ方を示す図である。
て、ある時刻におけるフライアイレンズによる光源光の
分割のされ方を示す図である。
【図３】この発明の一実施例による投影露光装置におい
て、他の時刻におけるフライアイレンズによる光源光の
分割のされ方を示す図である。
て、他の時刻におけるフライアイレンズによる光源光の
分割のされ方を示す図である。
【図４】この発明の他の実施例による投影露光装置の構
成を示す図である。
成を示す図である。
【図５】従来の投影露光装置の高解像光学系を示す図で
ある。
ある。
【図６】従来の投影露光装置の構成を示す図である。
【図７】輪帯状アパーチャの平面図である。
１ 光源光のランプハウス
２ ミラー
３ フライアイレンズ
４ 輪帯状アパーチャ
５ フライアイレンズ駆動部
６ ミラー
７ 集光レンズ
８ マスク
９ 投影結像レンズ
１０ ウエハ
１１ 光軸
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成４年１月２１日
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正内容】
【図１】
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 頭本 信行
兵庫県尼崎市塚口本町８丁目１番１号 三
菱電機株式会社生産技術研究所内
(72)発明者 八木 俊憲
兵庫県尼崎市塚口本町８丁目１番１号 三
菱電機株式会社生産技術研究所内
(72)発明者 加門 和也
兵庫県伊丹市瑞原４丁目１番地 三菱電機
株式会社エル・エス・アイ研究所内
(72)発明者 田中 正明
兵庫県尼崎市塚口本町８丁目１番１号 三
菱電機株式会社生産技術研究所内
Claims (3)
- 【請求項１】 光源と、 該光源から出射した光を受け、複数の単位レンズがマト
リックス状に配置されたフライアイレンズと、 輪帯状の光透過領域を有し、上記フライアイレンズを通
過した光の一部を遮るアパーチャと、 該アパーチャを通過した光を集光する集光レンズ系と、 該集光レンズを通過した光が照射され、回路パターンが
形成されたマスクと、 該マスクを通過した光をウエハ表面に集光させる投影レ
ンズ系と、 上記フライアイレンズを、該フライアイレンズの光軸断
面が上記アパーチャの面とほぼ平行状態を保ちながら、
空間的に移動させる移動手段とを備えたことを特徴とす
る投影露光装置。 - 【請求項２】 上記移動手段は、 上記フライアイレンズを、該フライアイレンズの光軸と
ほぼ平行な軸を中心にして回転させるものであることを
特徴とする請求項１記載の投影露光装置。 - 【請求項３】 上記移動手段は、 上記フライアイレンズを、該フライアイレンズの光軸と
垂直な面内で往復移動させるものであることを特徴とす
る請求項１記載の投影露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3185298A JPH0513300A (ja) | 1991-06-28 | 1991-06-28 | 投影露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3185298A JPH0513300A (ja) | 1991-06-28 | 1991-06-28 | 投影露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0513300A true JPH0513300A (ja) | 1993-01-22 |
Family
ID=16168416
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3185298A Pending JPH0513300A (ja) | 1991-06-28 | 1991-06-28 | 投影露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0513300A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07221007A (ja) * | 1994-01-31 | 1995-08-18 | Nec Corp | 縮小投影露光装置 |
| JPH08286382A (ja) * | 1995-04-13 | 1996-11-01 | Nec Corp | 半導体露光装置及びその照明方法 |
| KR100325470B1 (ko) * | 1999-03-24 | 2002-03-04 | 박종섭 | 반도체 제조용 웨이퍼 박막두께 측정장치 |
| US7540617B2 (en) | 2004-11-29 | 2009-06-02 | Kyocera Corporation | Illumination optical apparatus and projection type display apparatus |
| US8128166B2 (en) | 2006-12-11 | 2012-03-06 | Toyota Boshoku Kabushiki Kaisha | Seat cover covering structure |
-
1991
- 1991-06-28 JP JP3185298A patent/JPH0513300A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07221007A (ja) * | 1994-01-31 | 1995-08-18 | Nec Corp | 縮小投影露光装置 |
| JPH08286382A (ja) * | 1995-04-13 | 1996-11-01 | Nec Corp | 半導体露光装置及びその照明方法 |
| KR100325470B1 (ko) * | 1999-03-24 | 2002-03-04 | 박종섭 | 반도체 제조용 웨이퍼 박막두께 측정장치 |
| US7540617B2 (en) | 2004-11-29 | 2009-06-02 | Kyocera Corporation | Illumination optical apparatus and projection type display apparatus |
| US8128166B2 (en) | 2006-12-11 | 2012-03-06 | Toyota Boshoku Kabushiki Kaisha | Seat cover covering structure |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3158691B2 (ja) | 露光装置及び方法、並びに照明光学装置 | |
| TW544547B (en) | Exposure method and apparatus | |
| JP3316937B2 (ja) | 照明光学装置、露光装置、及び該露光装置を用いた転写方法 | |
| CN1251028C (zh) | 照明装置及应用该照明装置的曝光装置和器件制造方法 | |
| JP2788791B2 (ja) | フライアイレンズ装置およびそのフライアイレンズ装置を含む照明装置 | |
| JPH10233362A (ja) | 光学エレメント | |
| JPH06188174A (ja) | 照明光学装置 | |
| JP2008544531A5 (ja) | ||
| JPS622540A (ja) | ライトインテグレ−タとそれを含むケ−ラ−照明系 | |
| KR20120139555A (ko) | 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 | |
| JP3689698B2 (ja) | 投影露光装置、投影露光方法および被露光部材の製造方法 | |
| JPH0513300A (ja) | 投影露光装置 | |
| JPH08286382A (ja) | 半導体露光装置及びその照明方法 | |
| CN107239005A (zh) | 照明光学单元 | |
| TW200819923A (en) | Maskless exposure apparatus and method of manufacturing substrate for display using the same | |
| CN1842746A (zh) | 用于形成光学图像的控制电路和方法 | |
| US9632423B2 (en) | Illumination device, exposure apparatus, adjusting method, and method for manufacturing object | |
| JP2004246144A (ja) | 露光方法、露光装置及び照明装置 | |
| WO2007029561A1 (ja) | 露光装置 | |
| JPH0513301A (ja) | 投影露光装置 | |
| JP4510429B2 (ja) | マスク描画手法、及びマスク描画装置 | |
| JPH10106942A (ja) | 走査型露光装置及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法 | |
| JPH07161601A (ja) | 照明光学装置 | |
| JPH1092729A (ja) | 照明装置及びそれを用いた走査型投影露光装置 | |
| JP7520615B2 (ja) | マーク形成方法、パターン形成方法、及びリソグラフィ装置 |