JPH07161601A - 照明光学装置 - Google Patents

照明光学装置

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JPH07161601A
JPH07161601A JP5302696A JP30269693A JPH07161601A JP H07161601 A JPH07161601 A JP H07161601A JP 5302696 A JP5302696 A JP 5302696A JP 30269693 A JP30269693 A JP 30269693A JP H07161601 A JPH07161601 A JP H07161601A
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JP
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fly
lens
eye lens
aperture stop
eye
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JP5302696A
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English (en)
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Shigeru Hirukawa
茂 蛭川
Naomasa Shiraishi
直正 白石
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems
    • G03F7/70091Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane or angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole or quadrupole settings; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 種々の照明系開口絞りを使用した場合でも、
製造コストを抑えてそれぞれ被照射面上での照度分布均
一性の再現性を良好に維持する。 【構成】 水銀ランプ1からの光を、楕円鏡2及びイン
プットレンズ4等を介してフライアイレンズ8に導き、
フライアイレンズ8の射出面に照明系開口絞り12〜1
5の何れかを設置する。フライアイレンズ8の焦点面の
光源像の内、照明系開口絞り12〜15の開口部内の光
源像からの光が、コンデンサーレンズ21等を介してレ
チクルR上を照明する。照明系開口絞り12〜15に応
じて、駆動装置9によりフライアイレンズ8を照明光学
系の光軸AXに垂直な平面に沿って移動する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、被照射面を均一な照度
で照明するための照明光学装置に関し、例えば半導体素
子、液晶表示素子又は薄膜磁気ヘッド等を製造するため
のフォトリソグラフィ工程で用いられる露光装置の照明
光学系に適用して好適なものである。
【0002】
【従来の技術】近年の半導体素子の進歩は目覚ましく、
特にその集積度、及び動作速度が益々向上している。こ
れに応じて、半導体素子の微細化も進み、パターニング
に用いられる投影露光装置に対しても、フォトマスク又
はレチクル(以下、「レチクル」を例に取る)の微細な
パターンの像を、投影光学系を介して大きな焦点深度で
フォトレジストが塗布されたウエハ上に投影露光するこ
とが要求されている。斯かる投影露光装置においては、
ウエハ上での露光量分布の均一性を高めるため、オプテ
ィカル・インテグレータとしてのフライアイレンズを用
いて、原画パターンが形成されたレチクルを均一な照度
分布で照明する照明光学系が設けられている。
【0003】従来のフライアイレンズは、例えば特開平
4−329623号公報に開示されているように、断面
形状が四角形のレンズエレメントを束ねて形成されてい
る。そして、照明光学系内では、光源からの光により、
フライアイレンズの各レンズエレメントの射出側の焦点
面(以下、単に「射出面」という)にそれぞれ光源像が
形成され、これら多数の光源像からの光がコンデンサー
レンズを経て重畳的にレチクルを照明する。従って、レ
チクル上での照度分布の均一性が高くなっている。
【0004】ところで、従来の照明光学系において、光
源として水銀ランプのような、一定の大きさを持ち、そ
の中央部の輝度が周辺部の輝度よりも高い光源を使用す
る場合には、フライアイレンズの各レンズエレメントの
射出面にも同様な輝度分布を持った光源像が形成され
る。この場合、フライアイレンズの各レンズエレメント
の射出面一杯に光源像を形成すると、フライアイレンズ
の各レンズエレメントの射出面の周辺部の輝度が中央部
の輝度より低くなる。これを避けようとすると、光源の
周辺部からの光を遮断して、光源像の中心部のみをフラ
イアイレンズの各レンズエレメントの射出面に形成する
ことになる。しかしながら、これではその周辺部からの
光の分だけ照度が低下することになるため、光源の周辺
部からの光を遮断することは望ましくない。このため、
通常は、フライアイレンズの各レンズエレメントの射出
面の中心部の輝度は、その周辺部の輝度よりも高くなっ
ている。
【0005】また、最近、特開平4−101148号公
報において、レチクルを照明する光の入射角を最適範囲
付近のみに制限することにより、解像度及び焦点深度を
共に改善できる手法である所謂変形光源法が提案されて
いる。この変形光源法では、レチクルへの照明光の主光
線を傾斜させるために、照明光学系中のフライアイレン
ズの射出面付近に、光軸に対して偏心した複数個の開口
を有する開口絞り(以下、「照明系開口絞り」という)
を設ける方法が提案されている。なお、転写するパター
ンのピッチによってレチクルに対する照明光の最適な入
射角は異なるため、転写するパターンのピッチに応じて
照明系開口絞りを切り換える方法も提案されている。
【0006】このように照明系開口絞りを切り換える方
法としては、特開平4−329623号公報に開示され
ているように、種々の開口絞りが取り付けられたターレ
ット板を回転して機械的に開口絞りを交換する方法があ
る。しかしながら、このように機械的に開口絞りを交換
する方法では、開口絞りの位置は機械的に決定されるた
め、同一の開口絞りを使用しても、その絞りを位置決め
する際の位置決め精度によってレチクル上での照度均一
性が変化するという事態が生じる。
【0007】照度均一性が悪い場合には、ウエハ上のフ
ォトレジストとしてポジレジストを使用した場合に、照
度が高く露光量が多い所ではレジスト線幅が細くなり、
照度が低く露光量が少ない所ではレジスト線幅が太くな
る。従って、例えばトランジスタの動作速度を決めるゲ
ート層では、レジスト線幅のばらつきがゲート幅のばら
つきとなり、それがトランジスタの動作速度のばらつき
となって高速動作が制限される。そのため、高速動作が
要求されるデバイスを作製するためには、照度分布均一
性や、その再現性は厳しく管理される必要がある。
【0008】このような照明光学系で開口絞りを交換し
たときの照度分布均一性の再現性の低下を防ぐために、
開口絞りの開口部のエッジとフライアイレンズの各レン
ズエレメントの境界線(接合線)とがほぼ一致するよう
に、開口絞りの開口部の形状を決める方法(特願平5−
28372号)が提案されている。これに関して、1台
の投影露光装置でレチクル上の微細なパターンをウエハ
上に露光転写する場合に、フライアイレンズ内で開口絞
りの開口部の間の遮光帯で遮光するフライアイレンズの
列数としては1列、2列、3列、4列、5列、…等の任
意の場合が考えられる。
【0009】そして、フライアイレンズが奇数列のレン
ズエレメントからなる場合には、開口絞りの遮光帯の幅
が奇数列のレンズエレメントの幅であるときに、開口絞
りとして上下左右に対称な形状の絞りを使用すると、開
口絞りの開口のエッジとフライアイレンズのレンズエレ
メントの接合線とが一致し、照度分布均一性の再現性が
良好となる。一方、開口絞りの遮光帯の幅が偶数列のレ
ンズエレメントの幅であるときには、開口絞りの開口部
のエッジはフライアイレンズのレンズエレメントの中心
部付近、即ち最も照度の高い位置を通ることになり、照
度分布均一性の再現性が悪くなる。
【0010】一方、フライアイレンズが偶数列のレンズ
エレメントからなる場合には、逆に、遮光帯の幅がフラ
イアイレンズの偶数列分のレンズエレメント分の開口絞
りを使用すると、照度分布均一性の再現性が良いが、遮
光帯の幅が奇数列分のレンズエレメント分の開口絞りを
使用すると、照度分布均一性の再現性が悪くなる。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】上記の如き従来の照明
光学系のように、遮光帯のエッジをフライアイレンズの
レンズエレメントの接合線と一致させるものとすると、
開口絞りの形状はフライアイレンズのレンズエレメント
の構成に依存することになる。例えばレンズエレメント
4列分の遮光帯幅を有する開口絞りにとって最適なパタ
ーンを有するレチクルと、レンズエレメント3列分の遮
光帯幅を有する開口絞りにとって最適なパターンを有す
るレチクルとを同一の投影露光装置で露光する場合に
は、以下のような方法を取るしかなかった。 (1)フライアイレンズの各レンズエレメントの大きさ
を小さくする。 (2)レチクルに応じてフライアイレンズを交換する。 (3)一方のレチクルに最適なフライアイレンズを使用
し、照明系開口絞りの位置決め精度を高精度にすること
により、照度分布均一性の再現性を高める。 (4)一方のレチクルに最適なフライアイレンズを使用
し、他方のレチクルを使用する場合の照度分布均一性の
再現性は考慮しないか、そのレチクルでは最適化されて
いない照明系開口絞りを使用する。
【0012】ここで、それぞれの場合について考える。
先ず(1)の方法については、フライアイレンズを構成
する各レンズエレメントの小型化に伴い、照明系開口絞
りに高い位置合わせ精度が要求されたり、フライアイレ
ンズを構成するレンズエレメントの数の増大によってフ
ライアイレンズの組立に要する時間が増大したりするこ
とにより、装置が高価になるという不都合がある。ま
た、フライアイレンズのレンズエレメントの大きさが小
さくなった分、そのレンズエレメントの射出面にできる
光源像の範囲が狭くなるため、レンズエレメントが大き
い場合に比べて照度が低下し、露光装置としての処理速
度(スループット)が低下するという不都合もある。
【0013】また、(2)の方法については、フライア
イレンズが2個以上必要となり、また、それを交換する
機構が必要なことから、装置の複雑化、大型化を招き、
さらには製造コストの上昇という不都合が生じる。そし
て、(3)の方法については、照明系開口絞りの位置決
め機構が複雑となるため、装置の製造コストの上昇を伴
い、また、光源である高圧水銀ランプの交換時の、その
水銀ランプの位置決め調整が困難になるという不都合が
ある。
【0014】最後に、(4)の方法については、他方の
レチクルに対する照度むらが大きくなるという不都合
や、照明系開口絞りの開口形状が最適化されないために
焦点深度が小さかったり、パターンによる線幅の差が生
じたりするために、製造される製品の歩留まりが低下す
るといった不都合がある。本発明は斯かる点に鑑み、種
々の照明系開口絞りを使用した場合でも、それぞれ被照
射面上での照度分布均一性の再現性が良好で、且つ製造
コストの小さい照明光学装置を提供することを目的とす
る。
【0015】
【課題を解決するための手段】本発明による照明光学装
置は、例えば図1及び図2に示すように、光源(1)
と、光源(1)からの光で所定の大きさの領域を照明す
る光束整形光学系(4)と、複数の光学エレメント(3
1)を束ねて構成され光束整形光学系(4)により照明
された領域の光から複数の光源像を形成するフライアイ
・インテグレータ(8)と、それら複数の光源像からの
光を集光して被照射面(R)を重畳的に照明する集光光
学系(17,19,21)とを有し、被照射面(R)を
ほぼフライアイ・インテグレータ(8)の射出面に対す
るフーリエ変換面として被照射面(R)を照明する照明
光学装置において、フライアイ・インテグレータ(8)
の入射面、射出面、又はこの射出面と共役な面に開口絞
り(12〜15)を配し、フライアイ・インテグレータ
(8)をその集光光学系の光軸(AX)に対して垂直な
面に平行な方向に移動自在に、又はその集光光学系の光
軸(AX)に平行な軸の回りに回動自在に支持するよう
にしたものである。
【0016】この場合、フライアイ・インテグレータ
(8)をこのフライアイ・インテグレータを構成する複
数の光学エレメント(31)の所定の配列方向に沿って
移動自在に支持し、フライアイ・インテグレータ(8)
の最大移動距離をその所定の配列方向への光学エレメン
ト(31)の配列ピッチ(PX)の1/2としてもよ
い。
【0017】
【作用】斯かる本発明によれば、各光学エレメントの大
きさが従来と同じフライアイ・インテグレータを用いて
も、光学エレメントで奇数個分の遮光帯幅をもつ開口絞
り(以下、「照明系開口絞り」という)(12)を使用
する場合と(図2(A))、光学エレメントで偶数個分
の遮光帯幅をもつ照明系開口絞り(13)を使用する場
合とで(図2(E))、それぞれ遮光帯のエッジとフラ
イアイ・インテグレータ(8)の各光学エレメントの接
合線(境界線)が一致するように、フライアイ・インテ
グレータ(8)を移動させる。これによりそれぞれ図2
(B)又は図2(D)に示すように、各光学エレメント
(31)の中央部で照度分布の高い光源像(32)が照
明系開口絞り(12,13)の開口部のエッジ上から外
れるため、被照射面上での照度分布均一性の再現性が高
くなる。
【0018】この場合、フライアイ・インテグレータを
1つだけ用意すれば良い。また、フライアイ・インテグ
レータの移動量も小さく、固定位置も偶配置(図2
(D))及び奇配置(図2(B))の2箇所だけである
ため、特別に高精度なフライアイ・インテグレータ用の
位置決め機構は必要ない。以上のように、製造コストの
上昇は最低限で、照度分布均一性の再現性が良好な照明
系開口絞りの選択範囲を広げることが可能である。
【0019】また、図2から分かるように、フライアイ
・インテグレータ(8)の光学エレメント(31)のX
方向への配列ピッチをPXとすると、照明系開口絞り
(12,13)の開口部のエッジをX方向で光学エレメ
ント(31)の接合線に合致させるには、最大でもフラ
イアイ・インテグレータ(8)をX方向にPX/2だけ
移動させればよい。従って、フライアイ・インテグレー
タ(8)の移動機構は簡単なものでよい。
【0020】また、フライアイ・インテグレータの断面
形状の大きさも、同一の照明系開口数(NA)を得るた
めには、従来例と比べて光学エレメント(31)の1/
2個分(即ち、フライアイ・インテグレータの最大移動
量)だけ大きいものを使用すれば良い。更に、図5に示
すように、フライアイ・インテグレータ(8)を回転さ
せることによっても、照明系開口絞りの開口部のエッジ
を平均的に光学エレメント(31)の中央部の光源像
(32)の位置からずらすことができ、これにより照度
分布均一性の再現性が良好になる。
【0021】
【実施例】以下、本発明による照明光学装置の一実施例
につき図1〜図4を参照して説明する。本実施例は、投
影露光装置の照明光学系に本発明を適用したものであ
る。図1は本実施例の投影露光装置を示し、この図1に
おいて、光源である高圧水銀ランプ1から射出された光
ILは楕円鏡2、干渉フィルタ3、インプットレンズ
4、シャッタ5及びミラー7を経て、フライアイレンズ
8に入射し、フライアイレンズ8の射出側の焦点面(射
出面)に光源像を結像する。シャッタ5は駆動モータ6
により開閉され、コンピュータよりなる主制御系10が
駆動モータ6の動作を制御する。
【0022】照明光学系の光軸AXに垂直な平面の直交
座標系をX軸及びY軸として(図2(A)参照)、フラ
イアイレンズ8は駆動装置9により照明光学系の光軸A
Xに垂直な面内でX方向及びY方向に移動自在に支持さ
れている。フライアイレンズ8の射出面には回転板11
が駆動モータ16により回転自在に支持され、回転板1
1内に4種類の照明系開口絞り12〜15が等角度間隔
で配置されている。図1の状態ではフライアイレンズ8
の射出面に照明系開口絞り12が配置され、主制御系1
0が駆動モータ16を介して回転板11を回転させるこ
とにより、他の照明系開口絞り13〜15をもフライア
イレンズ8の射出面に配置できるようになっている。照
明系開口絞り12〜15を順次フライアイレンズ8の射
出面に設定した場合、照明系開口絞り12〜15の中心
がそれぞれ光軸AXに合致するように位置決めが行われ
る。
【0023】図1において、照明開口絞り12の開口部
を通過した光は、第1リレーレンズ17、投影式レチク
ルブラインド18、第2リレーレンズ19、ミラー2
0、及びコンデンサーレンズ21を経て、レチクルR上
をほぼ均一な照度分布で照明する。レチクルR上には回
路パターン22が形成され、この回路パターン22の像
は投影光学系PLを介して、ウエハステージ26上にウ
エハホルダ25を介して載置されたウエハWの所定のシ
ョット領域に結像投影される。また、投影光学系PLの
瞳面(レチクルRのパターン形成面に対するフーリエ変
換面)には、可変開口絞り23及びその駆動装置24が
設けられ、主制御系10は駆動装置24を介して投影光
学系PLの開口数(NA)を制御できるようになってい
る。
【0024】更に、ウエハステージ26上には小さな受
光部を有する光電変換素子よりなる照度むらセンサ27
が設けられ、照度むらセンサ27の検出信号が主制御系
10に供給されている。ウエハステージ26を投影光学
系PLの光軸に垂直な平面内で駆動して照度むらセンサ
27の検出信号をモニタすることにより、主制御系10
はウエハW上での照度分布の均一性を計測できる。
【0025】本実施例のシステム全体は主制御系10に
より制御され、主制御系10に対する露光条件等の設定
はコンソール29を介するか、またはネットワークによ
り接続された別のコンソール(図不示)を介して行うよ
うになっており、CRTディスプレィ28には主制御系
10からの情報が表示される。オペレータは、照明系開
口絞り12〜15の選択、フライアイレンズ8のX方向
及びY方向の位置の選択、更には投影光学系PLの開口
数の選択が可能である。
【0026】なお、図1においては、ウエハWやレチク
ルRの位置合わせやフォーカス合わせのための機構は省
略されている。実際の照明系開口絞り12〜15の選
択、フライアイレンズ8の位置の設定、投影光学系PL
の開口数の制御は、以下の3通りの方法の何れかの方法
で行われる。
【0027】(1)コンソール29(またはリモートコ
ンソール)より照明系開口絞り、フライアイレンズ8の
位置、投影光学系PLの開口数NAを入力する。 (2)コンソール29(またはリモートコンソール)の
画面に表示されている照明系開口絞り、フライアイレン
ズ8の位置、投影光学系PLの開口数NAの組合わせの
中から所望の組み合せを選択する。 (3)露光しようとする露光データファイルと照明系開
口絞り、フライアイレンズ8の位置、投影光学系PLの
開口数NAとを予め関連づけておき、露光データファイ
ルを選択することにより、照明系開口絞り、フライアイ
レンズ8の位置、投影光学系PLの開口数NAを自動的
に選択する。
【0028】次に、本実施例でフライアイレンズ8を移
動させる場合の動作の一例につき説明する。ここでは、
図2(B)に示すように、フライアイレンズ8が断面形
状が正方形のレンズエレメント31をX方向及びY方向
に密着させて配列したものであるり、X方向及びY方向
の配列数が共に14個である場合を例にとって説明す
る。なお、レンズエレメント31のX方向の幅をPX、
Y方向の幅をPY(=PX)とする。従って、レンズエ
レメント31のX方向及びY方向への配列ピッチはそれ
ぞれPX及びPY(=PX)であり、レンズエレメント
31の配列ピッチはレンズエレメント31の各射出面に
形成される光源像32の配列ピッチと等しい。また、図
2〜図4の斜線部は照明系開口絞りの開口部であり、フ
ライアイレンズ8の各レンズエレメント31の射出面の
中央部に結像される光源像32の内で、照明系開口絞り
の開口部内に収まる部分からの光のみが重畳的にレチク
ル側に照射される。なお、照明系開口絞りのX、Y方向
の遮光帯の各幅は、レチクルパターンのピッチに対応し
た各開口部を通る照明光の光量分布の重心位置の照明光
学系の光軸からの距離、及び開口部の大きさ(コヒーレ
ンスファクターσ値に相当し、通常σ=0.1〜0.3
程度に定められる)によって一義的に定められるもので
ある。
【0029】先ず、図2(A)に示すように、4個の扇
形の開口部12a〜12dを有し、X方向の遮光帯の幅
L1X及びY方向の遮光帯の幅L1Yがそれぞれレンズ
エレメント31の幅の3個分(3・PX)である変形光
源用の照明系開口絞り12を使用する場合を考える。こ
の場合、図2(C)に示すように、照明光学系の光軸
(即ち、照明系開口絞りの中心)AXとフライアイレン
ズ8の中心FCとが、X方向及びY方向にそれぞれPX
/2及びPY/2だけずれた状態に、駆動装置9を介し
てフライアイレンズ8の位置を固定する。
【0030】図2(C)の状態では、開口部12aのエ
ッジ部12aX及び12aYがそれぞれレンズエレメン
ト31の接合線上に位置している。他の開口部12b〜
12dについても、X方向及びY方向に平行なエッジ部
がそれぞれレンズエレメント31の接合線上に位置して
いる。従って、照明系開口絞り12の位置決めの再現性
が多少悪い場合でも、開口部12a〜12d内の光源像
の分布はほぼ同じであり、照度分布均一性の再現性が良
好である。
【0031】これに対して、図2(B)に示すように、
光軸AXとフライアイレンズ8の中心FCとを、X方向
及びY方向に合致させると、開口部12aのエッジ部1
2aX及び12aYがそれぞれレンズエレメント31の
中央部の光源像32上を横切ることになる。従って、照
明系開口絞り12の僅かな位置決めのずれが生じても、
開口部12a内の光源像の光量分布が大きく変化して、
レチクル上での照度分布が変化するため、照度分布均一
性の再現性が悪くなる。
【0032】次に、例えばレチクル交換等によるレチク
ルパターンの微細度(ピッチ等)の変更に伴い、図2
(D)に示すように、4個の扇形の開口13a〜13d
を有し、X方向の遮光帯の幅L2X及びY方向の遮光帯
の幅L2Yがそれぞれレンズエレメント31の幅の4個
分(4・PX)である変形光源用の照明系開口絞り13
を使用する場合を考える。この場合、図2(E)に示す
ように、照明光学系の光軸AXとフライアイレンズ8の
中心とが合致した状態でフライアイレンズ8の位置を固
定する。
【0033】図2(E)の状態では、開口部13aのエ
ッジ部13aX及び13aYがそれぞれレンズエレメン
ト31の接合線上に位置している。他の開口部12b〜
12dについても、同様である。従って、照明系開口絞
り13の位置決めの再現性が多少悪い場合でも、開口部
13a〜13d内の光源像の分布はほぼ同じであり、照
度分布均一性の再現性が良好である。
【0034】これに対して、図2(F)に示すように、
光軸AXに対してフライアイレンズ8の中心FCが、X
方向及びY方向にそれぞれPX/2及びPY/2だけず
れた状態では、開口部13aのエッジ部13aX及び1
3aYがそれぞれレンズエレメントの中央部の光源像上
を横切ることになる。従って、図2(B)の場合と同様
に照度分布均一性の再現性が悪くなる。
【0035】また、図2(A)の照明系開口絞り12及
び図2(D)の照明系開口絞り13を交互に、それぞれ
図2(C)及び図2(E)の状態でフライアイレンズ8
の射出面に設定し、図1の照度むらセンサ27を用いて
ウエハW上での照度分布均一性の再現性を計測したとこ
ろ、どちらの照明系開口絞を使用したときにも良好な再
現性が得られた。
【0036】また、照明系開口絞り12及び13をそれ
ぞれ図2(B)及び図2(F)の状態でフライアイレン
ズ8の射出面に設定し、照度むらセンサ27を用いてウ
エハW上での照度分布均一性の再現性を計測したとこ
ろ、その再現性は悪かった。具体的に、図2(B)及び
(F)の場合の照度分布均一性のばらつきは、図2
(C)及び(E)の場合に比べて約3倍大きかった。
【0037】また、図2(A)又は(D)の照明系開口
絞り12又は13を使用する場合のフライアイレンズ8
の最大移動量は、共通にX方向にPX/2且つY方向に
PY/2であればよい。従って、図1の駆動装置9の構
成は簡略なものでよい。但し、本実施例ではフライアイ
レンズ8を照明系開口絞りに対して相対的に移動するた
め、フライアイレンズ8の外形を従来例と比べてX方向
にPX/2以上且つY方向にPY/2以上大きくしてお
くことが望ましい。
【0038】なお、上述実施例では照明系開口絞り1
2,13の開口部の一部のエッジ部(遮光帯のエッジ
部)がフライアイレンズ8のレンズエレメントの境界線
と完全に一致しているが、照明系開口絞りの開口部のエ
ッジ部(遮光帯のエッジ部)とフライアイレンズ8のレ
ンズエレメントの境界線とは完全に一致している必要は
ない。要は、フライアイレンズ8上で光源像の輝度の高
い位置に、開口部のエッジ部(遮光帯のエッジ部)が懸
かっている割合が低ければよい。
【0039】これは図3(A)に示すような輪帯状の照
明開口絞り14を使用する際に適用される。即ち、例え
ば図3(B)に示すように、光軸AX(照明系開口絞り
14の中心)がフライアイレンズ8の中心と合致してい
る状態で、照明系開口絞り14のX方向の外側のエッジ
部14a,14d、及びX方向の内側のエッジ部14
b,14cがそれぞれほぼレンズエレメント31の中央
部の光源像32を横切る位置にあり、Y方向のエッジ部
もそれぞれほぼ光源像32を横切る位置にあるときに
は、ウエハ上での照度分布均一性の再現性が悪い。そこ
で、このような場合には、図3(C)に示すように、光
軸AXに対してフライアイレンズ8の中心FCがX方向
及びY方向にそれぞれPX/2及びPY/2だけずれた
状態にフライアイレンズ8を移動して、フライアイレン
ズ8を固定する。これにより、ウエハ上での照度分布均
一性の再現性を高めることができる。
【0040】また、図4(A)に示すような、4つの小
さい円形の開口部15a〜15dを有する変形光源法用
の照明系開口絞り15を用いる場合にも、例えば図4
(B)に示すように、光軸AX(照明系開口絞り15の
中心)がフライアイレンズ8の中心と合致している状態
で、開口部15aの円周のエッジ部がほぼレンズエレメ
ント31の中央部の光源像32を横切る位置にあるとき
には、ウエハ上での照度分布均一性の再現性が悪い。そ
こで、このような場合には、図4(C)に示すように、
光軸AXに対してフライアイレンズ8の中心FCがX方
向及びY方向にそれぞれPX/2及びPY/2だけずれ
た状態にする。これにより、ウエハ上での照度分布均一
性の再現性を高めることができる。
【0041】以上のように、本発明は、照明系開口絞り
の開口部のエッジ部(遮光帯のエッジ部)が直線である
場合に限定されるものではなく、曲線で構成されていて
もよく、曲線と直線両方を含んでいてもよい。更に、特
願平5−28372号に開示されているように開口部の
全てのエッジ部を直線のみで構成しておいてもよい。こ
の場合、照度分布均一性の再現性をさらに向上させるこ
とができる。また、図1の実施例ではフライアイレンズ
8を駆動装置9を介してX方向及びY方向に移動自在に
支持しているが、そのフライアイレンズ8を更に回動自
在に支持し、所望の回転角で固定できるようにしてもよ
い。この場合のフライアイレンズ8の回動中心(平行移
動可能)は、光軸AXに平行な軸である。図4(A)の
照明系開口絞り15を用いて、フライアイレンズ8を並
進及び回転させる場合の動作の一例を図5を参照して説
明する。
【0042】即ち、図5(A)のようにフライアイレン
ズ8の回転角が0で、開口部15a〜15dを有する照
明系開口絞り15の中心でもある光軸AXがフライアイ
レンズ8の中心に合致している状態では、開口部15a
〜15dの円周のエッジ部がほぼレンズエレメント31
の中央部の光源像32を横切る位置にあるため、ウエハ
上での照度分布均一性の再現性が悪い。そこで、このよ
うな場合には、図5(B)に示すように、フライアイレ
ンズ8の中心FCを光軸AXに対してX方向及びY方向
にレンズエレメント31の幅の1/2ずつ並進移動させ
た後に、光軸AXの回りにフライアイレンズ8を45°
回転し、開口部15a〜15dの円周のエッジ部がほぼ
レンズエレメント31の接合線付近を通過するようにす
る。これにより、ウエハ上での照度分布均一性の再現性
を高めることができる。なお、この実施例ではフライア
イレンズ8に並進及び回転を行わせているが、フライア
イレンズ8を回転させるだけでもよい。この場合、回転
量はフライアイレンズ8と照明系開口絞りとの相対的な
シフト量に応じて決められる。
【0043】また、フライアイレンズの各レンズエレメ
ントの断面形状は必ずしも正方形である必要はなく、長
方形であってもよい。各レンズエレメントの断面形状が
長方形の場合には、例えば図2(B)において、レンズ
エレメント31のX方向の幅PXがY方向の幅PYと異
なる。この場合、図2(A)及び(B)において、例え
ば照明系開口絞り12のX方向の遮光帯の幅L1Xをレ
ンズエレメント31のX方向の幅PXの3倍としたと
き、Y方向の遮光帯の幅L1Yを必ずしもレンズエレメ
ント31のY方向の幅PYの3倍とする必要はなく、そ
のY方向の遮光帯の幅L1YをX方向の遮光帯の幅L1
Xと等しくしてもよい。
【0044】更に、フライアイレンズとして、断面形状
が例えば3角形や6角形のレンズエレメントを密着して
配列した構成のフライアイレンズを使用してもよい。図
6は、断面形状が正6角形のレンズエレメント34を密
着して配列してなるフライアイレンズ33の射出面に、
図2(A)の照明系開口絞り12を設置した状態を示
す。この図6において、各レンズエレメント34の射出
面の中央部にはそれぞれ光源像35が結像され、X方向
に隣接する光源像35の間隔(配列ピッチ)をQX、X
方向に並んだ光源像列と隣接する光源像列との間隔をQ
Yとする。
【0045】この場合、図6(A)のように照明系開口
絞りの中心(照明光学系の光軸)AXとフライアイレン
ズ8の中心とが合致している状態では、開口部12aの
Y軸に平行なエッジ部12aY上では、レンズエレメン
ト34の中央部と接合線とが交互に配列されているた
め、仮にエッジ部12aYがX方向にずれても平均的な
輝度分布はほぼ一定である。これに対して、開口部12
aYのX軸に平行なエッジ部12aX上にはレンズエレ
メント34の中心部の光源像35が続いて配列されてい
るため、エッジ部12aXが僅かにY方向に位置ずれす
ると、輝度分布が大きく変動する。他の開口部12c〜
12dについても同様である。
【0046】そこで、図6(B)に示すように、光軸A
Xに対してフライアイレンズ33をY方向にQY/2だ
けずらした状態でフライアイレンズ33を固定する。こ
れにより開口部12a〜12dのX方向に平行なエッジ
部が、それぞれレンズエレメント34のほぼ接合線上に
設定され、照明系開口絞りが多少位置ずれしても、ウエ
ハ上での照度分布均一性の再現性が良好である。図6の
場合のフライアイレンズ33の最大駆動量は、Y方向に
QY/2であればよく、X方向には駆動する必要がな
い。また、照明系開口絞りのエッジ部が曲線で構成され
ている場合の効果も、レンズエレメントの断面形状が正
方形ないし長方形の場合と同様である。
【0047】なお、フライアイレンズの各レンズエレメ
ント内部の輝度分布が一定でない場合には、照明系開口
絞りの開口部の形状によっては、レチクルR上のパター
ンの方向によってウエハW上での像のコントラスト、形
成されるレジスト像の線幅、更には焦点深度が異なるこ
とがある。このような場合にも、フライアイレンズと照
明開口絞りとの相対位置を変化させることにより、線幅
差や焦点深度差を低減することが可能である。
【0048】なお、本発明は上記実施例に限定されるも
のではない。例えば、光源は高圧水銀ランプに限定され
るものではなく、例えばエキシマレーザ光源、又は固体
レーザであるNd(ネオジウム):YAGレーザの等の
高調波発生装置等を用いてもよい。光源がレーザ光源の
場合には、図1のインプットレンズ4の代わりにレーザ
ビームの断面形状を所定形状に整形するビーム整形光学
系が使用される。また、フライアイレンズも縦横偶数個
のレンズエレメントから構成されている必要はなく、縦
横が共に奇数個であってもよく、又は縦は偶数個で横は
奇数個といった組み合わせでもよく、その逆の組み合わ
せでもよい。
【0049】また、図1の実施例では照明系開口絞り1
2〜15は、フライアイレンズ8の射出面に設置される
が、照明系開口絞り12〜15を、フライアイレンズ8
の入射側の面にほぼ密着するように設置してもよい。更
には、リレーレンズを用いてフライアイレンズ8の射出
面と共役な面を生成し、この共役な面にそれら照明系開
口絞り12〜15を設置するようにしてもよい。
【0050】また、本発明の適用は実施例に示したステ
ップ・アンド・リピート方式の投影露光装置に限られる
ものではなく、例えばステップ・アンド・スキャン方式
又はスリットスキャン方式の投影露光装置、更には投影
光学系を使用しないプロキシミティ方式の露光装置な
ど、原版パターンを照明するための照明光学系内にフラ
イアイレンズを有する露光装置であれば、全ての方式に
適用が可能である。
【0051】このように、本発明は上述実施例に限定さ
れず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取
り得る。
【0052】
【発明の効果】本発明によれば、開口絞り(照明系開口
絞り)の開口部の形状に応じて、フライアイ・インテグ
レータの位置又は回転角を調整できるため、種々の照明
系開口絞りを使用した場合に、それぞれ被照射面上での
照度分布均一性の再現性が良好な状態に設定できる利点
がある。また、フライアイ・インテグレータを集光光学
系の光軸に垂直な面内で移動又は回転させるだけでよい
ため、装置構成が簡略であり、そのために装置コストの
上昇が小さい。
【0053】そのため、開口絞りの開口部の形状の選択
範囲が広がり、所謂変形光源法を使用したような場合で
も、照度分布均一性の再現性を良好に維持できる。更に
は、変形光源法使用時に見られる、マスクパターンの方
向による線幅差や焦点深度差を補正できるという利点も
ある。また、本発明を投影露光装置に適用した場合、ウ
エハ等の感光基板上での照度分布均一性が常に良好であ
るため、焦点深度が小さい場合でもパターン形状による
線幅の差が小さくなり、製造される製品の歩留まりが高
く維持される。
【0054】また、フライアイ・インテグレータをこれ
を構成する複数の光学エレメントの所定の配列方向に沿
って移動自在に支持し、そのフライアイ・インテグレー
タの最大移動距離をその所定の配列方向への光学エレメ
ントの配列ピッチの1/2とした場合でも、その所定の
配列方向に対してフライアイ・インテグレータと開口絞
りとを最適な位置関係に設定できる。従って、フライア
イ・インテグレータの移動距離が少なくて済み、フライ
アイ・インテグレータの駆動装置が簡略化される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による照明光学装置の一実施例が適用さ
れた投影露光装置を示す一部を切り欠いた斜視図であ
る。
【図2】実施例の照明系開口絞り12及び照明系開口絞
り13とフライアイレンズ8との位置関係をそれぞれ示
す説明図である。
【図3】実施例の照明開口絞り14とフライアイレンズ
8との位置関係を示す説明図である。
【図4】実施例の照明開口絞り15とフライアイレンズ
8との位置関係を示す説明図である。
【図5】フライアイレンズ8を並進移動及び回転させる
場合の、照明系開口絞りとフライアイレンズ8との位置
関係を示す説明図である。
【図6】断面形状が正6角形のレンズエレメントを束ね
た構成のフライアイレンズと、照明系開口絞りとの位置
関係を示す説明図である。
【符号の説明】
1 高圧水銀ランプ 2 楕円鏡 3 干渉フィルタ 4 インプットレンズ 5 シャッタ 8 フライアイレンズ 9 フライアイレンズの駆動装置 10 主制御系 11 回転板 12〜15 照明系開口絞り 16 回転板の駆動装置 17,19 リレーレンズ 18 投影式レチクルブラインド 21 コンデンサーレンズ R レチクル PL 投影光学系 W ウエハ 26 ウエハステージ 27 照度むらセンサ 31 レンズエレメント
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03F 7/20 H 9122−2H

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光源と、該光源からの光で所定の大きさ
    の領域を照明する光束整形光学系と、複数の光学エレメ
    ントを束ねて構成され前記光束整形光学系により照明さ
    れた領域の光から複数の光源像を形成するフライアイ・
    インテグレータと、前記複数の光源像からの光を集光し
    て被照射面を重畳的に照明する集光光学系とを有し、前
    記被照射面をほぼ前記フライアイ・インテグレータの射
    出面に対するフーリエ変換面として前記被照射面を照明
    する照明光学装置において、 前記フライアイ・インテグレータの入射面、射出面、又
    は該射出面と共役な面に開口絞りを配し、 前記フライアイ・インテグレータを前記集光光学系の光
    軸に対して垂直な面に平行な方向に移動自在に、又は前
    記集光光学系の光軸に平行な軸の回りに回動自在に支持
    するようにしたことを特徴とする照明光学装置。
  2. 【請求項2】 前記フライアイ・インテグレータを該フ
    ライアイ・インテグレータを構成する複数の光学エレメ
    ントの所定の配列方向に沿って移動自在に支持し、前記
    フライアイ・インテグレータの最大移動距離を前記所定
    の配列方向への前記光学エレメントの配列ピッチの1/
    2としたことを特徴とする請求項1記載の照明光学装
    置。
JP5302696A 1993-12-02 1993-12-02 照明光学装置 Withdrawn JPH07161601A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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