JPH0513325B2 - - Google Patents
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- JPH0513325B2 JPH0513325B2 JP60119693A JP11969385A JPH0513325B2 JP H0513325 B2 JPH0513325 B2 JP H0513325B2 JP 60119693 A JP60119693 A JP 60119693A JP 11969385 A JP11969385 A JP 11969385A JP H0513325 B2 JPH0513325 B2 JP H0513325B2
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- polyester
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- Laminated Bodies (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
産業上の利用分野
本発明は磁気記録フレキシブルデイスクに関
し、更に詳しくは耐久性の改良された磁気記録フ
レキシブルデイスクに関する。 従来技術 磁気記録用フレキシブルデイスクはポリエチレ
ンテレフタレートの二軸配向フイルムに磁性層を
塗布し、その磁性層表面を平滑化処理をして製造
されるのが一般的である。この磁気記録用フレキ
シブルデイスクはその使い勝手の良さ、高い信頼
性のために多くの分野で大量に使用されている。
この分野では、近年、高密度記録によるドライブ
装置の小型化並びに信頼性の益々の向上が待望さ
れている。 高密度記録並びに信頼性の向上には、磁気記録
媒体であるフレキシブルデイスクの耐久性の向上
が極めて重要な課題である。磁気記録媒体の記録
密度を上げる方法として、一般に、フイルムに塗
布される磁気層の厚みを薄くすること、かつ磁性
体の充填度を高めることなどが実施されている。
そして、フイルム上に塗布された磁性層の充填度
を高めるためには平滑化処理（カレンダーがけ）
を施すのが通常実施される方法である。しかし、
この際フイルムと磁性層とは比較的高い温度と圧
力下でしごかれるために、磁性層がフイルムから
はがれ、商品価値を失なうことが起り、製品収率
の低下をもたらす。また、磁気記録フレキシブル
デイスクがドライブ中で使用される場合にはヘツ
ドやパツドによるくりかえしの衝撃のために磁性
層がフイルム面から剥離するような問題が起るた
め、耐久性の向上はこの分野では非常に重要な問
題である。 上述のようなフレキシブルデイスクの製造上で
の問題及び使用上での問題は、高密度化のために
磁気層を薄くしようとすればするほど、また、磁
気層を高度に平坦化しようとすればするほど顕在
化してくる。 耐久性（フイルムと磁性層の接着性）を改良す
る技術として、ポリエチレンテレフタレートフイ
ルムの製造条件を最適化する、即ちポリエチレン
テレフタレートの結晶の面配向を低下させる条件
を選択する方法が考えられるが、この方法では改
良効果がわずかであり、耐久性の大幅な改良を図
ることはできない。 また、ポリエチレンテレフタレートフイルムの
表面にコロナ放電処理等の物理処理を施して磁性
層との接着力を向上させる技術が知られている。
しかし、この方法も耐久性の大幅な向上を得るの
は難しい。また、コロナ放電処理したフイルムは
その効果が経時的に低下してしまい、フイルムの
表面特性を常に安定した状態で供給することが難
かしいという重大な欠点もある。 一方、ポリエチレンテレフタレートフイルム表
面に接着力を高めるためにコーテイング処理する
方法は設備を新たに作る必要があること、より大
きな問題点は、フイルムの巻製品で表面同志がく
つつく、いわゆるブロツキングを起こし易くなる
のが一般的であり、このためコーテイング剤に制
限があり、その選択が極めて難しくなるという欠
点がある。 発明の目的 本発明者らはこのような欠点のない耐久性の改
良された磁気記録フレキシブルデイスクを開発す
べく鋭意研究の結果、ポリエチレンテレフタレー
トやポリエチレン−２，６−ナフタレートのフイ
ルム両表面にポリ−１，４−シクロヘキシレンジ
メチレンテレフタレートの層を形成し、かつ二軸
配向せしめた積層フイルムを基材として磁気記録
フレキシブルデイスクを作ることによつて接着耐
久性が向上できることを見出し、本発明に到達し
た。 本発明の目的は、ポリエステルフイルムに薄い
磁性層を塗布した後、該磁性層を平滑化処理する
時に起り易い磁性層の微小な剥離を減少させてフ
レキシブルデイスク製造における不良品の発生を
抑え、しかも情報の記録、再生時の繰返し使用に
おける耐久性を向上させた磁気記録フレキシブル
デイスクを提供することにある。 発明の構成 本発明の目的は、本発明によれば、二軸配向ポ
リエステルフイルム基材に磁性層を設け、更にそ
の表面を平滑化処理してなる磁気記録フレキシブ
ルデイスクにおいて、該フイルム基材がポリエチ
レンテレフタレートフイルムまたはポリエチレン
−２，６−ナフタレートフイルムを中間層とし、
該中間層の両側に厚み0.1〜20μｍのポリ−１，４
−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレートフ
イルムを積層した積層フイルムであることを特徴
とする磁気記録フレキシブルデイスクによつて達
成される。 本発明におけるポリ−１，４−シクロヘキシレ
ンジメチレンテレフタレートとは、二塩基成分の
うち80モル％以上がテレフタル酸より成り、グリ
コール成分のうち90モル％以上が１，４−シクロ
ヘキサンジメタノールのシスまたはトランス異性
体より選ばれるグリコールよりなるポリエステル
である。テレフタル酸以外の二塩基酸成分として
は、イソフタル酸、フタル酸、アジピン酸、セバ
チン酸、コハク酸、シユウ酸，ナフタリン−２，
６−ジカルボン酸等の如き二塩基酸が例示され
る。好ましくは、イソフタル酸である。また１，
４−シクロヘキサンジメタノール以外のグリコー
ル成分としては、エチレングリコール、テトラメ
チレングリコール、ヘキサメチレングリコール等
の如き鎖状の脂肪族グリコールが例示される。 本発明における１，４−シクロヘキサンジメタ
ノールは、例えばジメチルテレフタレートまたは
テレフタル酸の接触還元によつて製造する方法で
製造できるが、いずれの方法で製造されたもので
も支障がない。１，４−シクロヘキサンジメタノ
ールのシス体とトランス体との比は特に制限する
ものではないが、シス体／トランス体＝４／６〜
０／10の範囲のものが好ましい。 前記ポリ−１，４−シクロヘキシレンジメチレ
ンテレフタレート中には、例えば、リン酸、亜リ
ン酸及びそれらのエステル等の如き安定剤、二酸
化チタン、微粒子状シリカ、カオリン、炭酸カル
シウム、リン酸カルシウム等の如き艶消剤、滑剤
等が含まれていても良い。 本発明におけるポリエチレンテレフタレートと
は、二塩基酸成分のうち80モル％以上がテレフタ
ル酸より成り、グリコール成分のうち90モル％以
上がエチレングリコールよりなるポリエステルで
ある。テレフタル酸以外の二塩基酸成分として
は、イソフタル酸、２，６−ナフタリンジカルボ
ン酸等の如き二塩基酸が例示される。またエチレ
ングリコール以外のグリコール成分としては、プ
ロピレングリコール、テトラメチレングリコー
ル、ヘキサメチレングリコール等の如きアルキレ
ングリコール；１，４−シクロヘキサンジメタノ
ールの如き脂肪族グリコールなどのグリコールが
例示される。 本発明におけるポリエチレン−２，６−ナフタ
レートとは、二塩基酸成分のうち80モル％以上が
２，６−ナフタリンジカルボン酸より成り、グリ
コール成分のうち90モル％以上がエチレングリコ
ールよりなるポリエステルである。２，６−ナフ
タリンジカルボン酸以外の二塩基成分としては、
テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタリン−２，
７−ジカルボン酸等の如き二塩基酸が例示され
る。またエチレングリコール以外のグリコール成
分としては、プロピレングリコール、テトラメチ
レングリコール、ヘキサメチレングリコール等の
如きアルキレングリコール；１，４−シクロヘキ
サンジメタノールの如き脂肪族グリコールなどの
グリコールが例示される。 前記ポリエチレンテレフタレート及びポリエチ
レン−２，６−ナフタレートには、それぞれポリ
−１，４−シクロヘキシレンジメチレンテレフタ
レートに含有させることができる化合物例えば安
定剤、艶消剤、滑剤等を含有させることができ
る。 本発明におけるフイルム基材は、三層の積層フ
イルム、すなわちポリエチレンテレフタレートフ
イルムまたはポリエチレン−２，６−ナフタレー
トフイルムを中間層（芯層）とし、該中間層の両
側にポリ−１，４−シクロヘキシレンジメチレン
テレフタレートフイルムを積層してなる積層フイ
ルムであつて、二軸配向されたものである。この
積層フイルムは、基本的には従来から蓄積された
製膜方法で製造できる。例えば、ポリエチレンテ
レフタレートまたはポリエチレン−２，６−ナフ
タレート（以下、これらを総称してポリエステル
Ｂということがある）とポリ−１，４−シクロヘ
キシレンジメチレンテレフタレート（以下、ポリ
エステルＡということがある）とを乾燥し、別々
の溶融装置で溶融し、押出す途中のポリマーパイ
プ中で合流させるか、又は厚み方向に３層よりな
る押出しダイ中でポリエステルＡとポリエステル
Ｂとを合流させて１枚のシートとなし、キヤステ
イングドラム上に押出して冷却する。更に得られ
る未延伸フイルムを遂次又は同時二軸延伸し、ヒ
ートセツトする方法で製造することができる。延
伸方法は公知の方法でよく、例えば縦延伸は周速
差のある２個のロール間で加熱しながら延伸する
ことができ、横延伸はクリツプでフイルム両端を
把持して加熱しながらクリツプ列の列間隔を拡大
させて延伸することができる。得られた二軸配向
フイルムを150〜260℃、好ましくは180〜250℃で
１〜100秒熱固定することによつて本発明の耐久
性にすぐれた磁気記録フレキシブルデイスク用の
積層フイルムが得られる。しかし、本発明におけ
る二軸配向積層フイルムは、この様な方法で得ら
れたもののみには限られない。 上記積層フイルムにおいて、ポリエステルＡの
フイルム厚みは0.1〜20μｍである必要がある。ポ
リエステルＡのフイルムが0.1μｍより薄いと接着
耐久性が殆んど改良されないので好ましくない。
また厚みが20μｍより厚くなるとポリエステルＡ
の特性特に機械的に弱いなどの点が顕在化しフレ
キシブルデイスクのセントラルホールの摩耗が著
しくなつたり、引裂きに対して弱いなどの実用上
問題が出てくる場合があるので好ましくない。ポ
リエステルＡのフイルムはポリエステルＢのフイ
ルムに界面で密に接合され、かつ二軸配向されて
いなければならない。しかして、ポリエステルＡ
を二軸配向ポリエステルＢの表面に単にコーテイ
ングしたものは、もちろん本発明の技術には含ま
れないが、このようなものは磁性層コーテイング
時にポリエステルＡが溶剤に溶けて脱落してしま
う場合が多い。 ポリエステルＡのフイルム厚みは２〜20μｍが
特に好ましい。このフイルム層の厚みは大きいほ
ど基材の吸湿膨張が小さく、好ましい。ポリエス
テルＡとポリエステルＢとを界面で密に接合する
点から、上述の３層構造タイにて未延伸シートを
押出す技術や溶融ポリマーの流路内で合体させる
などの技術を使うことが好ましい。未延伸シート
を延伸する場合ポリエステルＡがポリエステルＢ
の両面にあることは両ポリエステルの特性の差に
よるカールの発生を防止できる点でも都合がよ
い。ポリエステルＡとポリエステルＢとの特性に
大きな差（たとえば溶融粘度）があつて、ポリエ
ステルＡとポリエステルＢとの界面が充分に接合
しなくなるような場合には、ポリエステルＡにポ
リエステルＢを20重量％以下の量でブレンドする
とよい。 本発明における二軸配向積層フイルムは、通常
25〜125μｍ、更には50〜100μｍ程度の範囲から
選ばれる。もつとも、この厚さの範囲に限定され
るものではない。 本発明の磁気記録フレキシブルデイスクは、磁
性層と上述の基材フイルムとによつて構成されて
いる。磁性層は磁性粉体或は金属よりなる。本発
明に使用できる強磁性粉体又は金属としては、例
えばγ−Fe2O3、Co含有のγ−Fe2O3、Fe3O4、
Co含有のFe3O4、CrO2、Co−Ni−Ｐ合金、Co−
Ni−Fe合金、Co−Cr合金、Co−Ni合金、バリ
ウムフエライト等の強磁性体が例示できる。 本発明で磁性粉体と共に使用されるバインダー
としては、公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、
反応型樹脂又はこれらの混合物が挙げられる。具
体的には、例えば塩化ビニール酢酸ビニル共重合
体、塩化ビニル塩化ビニリデン共重合体、塩化ビ
ニルアクリロニトリル共重合体、アクリル酸エス
テルアクリロニトロル共重合体、アクリル酸エス
テル塩化ビニリデン共重合体、アクリル酸エステ
ルスチレン共重合体、メタクリル酸エステルアク
リロニトリル共重合体、メタクリル酸エステル塩
化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステルス
チレン共重合体、ウレタンエラストマー、ポリフ
ツ化ビニル、塩化ビニリデンアクリロニトリル共
重合体、ブタジエンアクリロニトリル共重合体、
ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セルロ
ース誘導体（セルロースアセテートブチレート、
セルロースジアセテート、セルローストリアセテ
ート、セルロースプロピオネート、ニトロセルロ
ース等）、スチレンブタジエン共重合体、ポリエ
ステル樹脂、クロロビニルエーテルアクリル酸エ
ステル共重合体、アミノ樹脂、各種の合成ゴム系
の熱可塑性樹脂およびこれらの混合物等が使用で
きる。 支持体フイルム（二軸配向積層フイルム）上へ
の前記の磁性層を塗布する方法としては、例えば
エアードクターコート、ブレードコート、エアナ
イフコート、スクイズコート、含浸コート、リバ
ースロールコート、トランスフアーロールコー
ト、グラビアコート、キスコート、キヤストコー
ト、スプレイコート等が利用できる。 基体フイルムには磁性層を0.1〜3μｍの厚さに
塗布することが好ましい。 本発明における特性値の測定方法は次の通りで
ある。 (1) 接着性 磁性層を塗布し、平滑化仕上げした後のウエ
ブを温度20℃、湿度60％RHにて24時間以上放
置した後、このウエブの磁性面に市販の粘着テ
ープ（Scotch＃56、米国3M社製）を貼付け充
分に圧着する。次いでテープを急激に手で引張
り、ほぼ180℃方向に剥がす。該粘着テープに
付着してくる磁性層の量（面積）により、接着
性の良否を判定する。 接着性良好は、粘着テープに磁性層が全く付
いてこないか、剥離して付いてきたとしても極
くわずかである場合である。接着性不良は、磁
性層がポリエステルフイルム面から完全に剥離
してしまい、粘着テープ面の殆んど全体が磁性
層でおおわれる場合である。両者の中間で、粘
着テープの面の０〜30％が磁性層でおおわれる
ときを評点１級、31〜60％が磁性層でおおわれ
るときを評点２級、61〜100％が磁性層でおお
われるときを評点３級として評価する。評点の
小さい方が磁性層とフイルムの接着耐久性はす
ぐれていることを意味する。 (2) ドロツプアウトの測定 東京エンジニアリング(株)製のドロツプインア
ウトカウンタSK−444Bを用いて測定する。ド
ライブ装置としては市販の実機ドライブを使用
する。 測定機により検出された磁気記録フレキシブ
ルデイスク面のドロツプアウト箇所を顕微鏡観
察し、、微小な磁気層の剥離が原因になつてい
る数をカウントする。すなわち１枚のフレキシ
ブルデイスクに１ケ所でもドロツプアウト（出
力のレベルが基本レベルから30％以上低下した
場合）が発生したものを不良品として抽出す
る。抽出されたドロツプアウト箇所の内微小な
磁気層の剥離が原因となつている割合を％で表
示する。 実施例 次に、実施例により本発明を具体的に説明す
る。 実施例１〜４及び比較例１ 二塩基酸成分として、テレフタル酸を85モル
％、イソフタル酸を15モル％、グリコール成分と
して１，４−シクロヘキサンジメタノールを用
い、触媒として酸化チタン0.05モル％（酸成分に
対して）とをオートクレーブに入れ、撹拌下で加
熱してエステル交換し、次いで重縮合して、１，
４−シクロヘキサンジメタノールとテレフタノ酸
及びイソフタル酸よりなるポリ−１，４−シクロ
ヘキシレンジメチレンテレフタレート（ポリエス
テルＡ）を得た。この際、滑剤として平均粒径が
0.3μｍの酸化チタン0.5重量％を添加した。 また、常法によつて重合してポリエチレン−
２，６−ナフタレート（PEN−２，６）を得た。 更にまた、常法によつて重合してポリエチレン
テレフタレート（PET）を得た。 こられのポリ−１，４−シクロヘキシレンジメ
チレンテレフタレートとポリエチレン−２，６−
ナフタレートまたはポリエチレンテレフタレート
とを別々の溶融押出し装置で溶融し、両者の溶融
ポリエステルを３層構造の押出しダイ内で合流さ
せ、押出し、冷却して３層のポリエステルよりな
る1050ミクロン厚みの未延伸シートを得た。この
際二軸配向後のポリエステルの層厚みが表１に示
した値になるように未延伸成形時のポリエステル
の押出し量を調整した。得られた未延伸シートを
105℃にて縦方向に3.6倍、115℃で横方向に3.8倍
延伸し、更に220℃で30秒間熱固定して、厚み
75μｍの二軸配向フイルムを得た。このようにし
て得られた二軸配向フイルムに下記組成の磁性塗
布液を2μｍの厚さに塗布した。 （磁性塗布液） γ−Fe2O3 200重量部 塩化ビニール−酢酸ビニル共重合樹脂（UCC製
VAGH） 30重量部 ポリウレタン（日本ポリウレタン工業製PP−88）
20重量部 イソシアネート化合物（日本ポリウレタン工業製
コロネートHL） 40重量部 カーボン（平均サイズ0.5μｍφ） 20重量部 ジメチルシロキサン ２重量部 トルエン 70重量部 メチルエチルケトン 70重量部 シクロヘキサノン 70重量部 上記塗料を充分に混合撹拌して塗布処理に供し
た。 次いで塗布面にカレンダーロール処理を施し
た。その後外径20cmで内径3.8cmの磁気記録フレ
キシブルデイスクに切抜いた。 得られたデイスクを記録再生装置にかけて記録
再生操作を行つた。その際、シートレコーダーは
360rpmで回転した。 表１にこの結果を示す。実施例から明らかなよ
うに本発明の磁気記録フレキシブルデイスクは極
めてすぐれた特性をもつものである。
し、更に詳しくは耐久性の改良された磁気記録フ
レキシブルデイスクに関する。 従来技術 磁気記録用フレキシブルデイスクはポリエチレ
ンテレフタレートの二軸配向フイルムに磁性層を
塗布し、その磁性層表面を平滑化処理をして製造
されるのが一般的である。この磁気記録用フレキ
シブルデイスクはその使い勝手の良さ、高い信頼
性のために多くの分野で大量に使用されている。
この分野では、近年、高密度記録によるドライブ
装置の小型化並びに信頼性の益々の向上が待望さ
れている。 高密度記録並びに信頼性の向上には、磁気記録
媒体であるフレキシブルデイスクの耐久性の向上
が極めて重要な課題である。磁気記録媒体の記録
密度を上げる方法として、一般に、フイルムに塗
布される磁気層の厚みを薄くすること、かつ磁性
体の充填度を高めることなどが実施されている。
そして、フイルム上に塗布された磁性層の充填度
を高めるためには平滑化処理（カレンダーがけ）
を施すのが通常実施される方法である。しかし、
この際フイルムと磁性層とは比較的高い温度と圧
力下でしごかれるために、磁性層がフイルムから
はがれ、商品価値を失なうことが起り、製品収率
の低下をもたらす。また、磁気記録フレキシブル
デイスクがドライブ中で使用される場合にはヘツ
ドやパツドによるくりかえしの衝撃のために磁性
層がフイルム面から剥離するような問題が起るた
め、耐久性の向上はこの分野では非常に重要な問
題である。 上述のようなフレキシブルデイスクの製造上で
の問題及び使用上での問題は、高密度化のために
磁気層を薄くしようとすればするほど、また、磁
気層を高度に平坦化しようとすればするほど顕在
化してくる。 耐久性（フイルムと磁性層の接着性）を改良す
る技術として、ポリエチレンテレフタレートフイ
ルムの製造条件を最適化する、即ちポリエチレン
テレフタレートの結晶の面配向を低下させる条件
を選択する方法が考えられるが、この方法では改
良効果がわずかであり、耐久性の大幅な改良を図
ることはできない。 また、ポリエチレンテレフタレートフイルムの
表面にコロナ放電処理等の物理処理を施して磁性
層との接着力を向上させる技術が知られている。
しかし、この方法も耐久性の大幅な向上を得るの
は難しい。また、コロナ放電処理したフイルムは
その効果が経時的に低下してしまい、フイルムの
表面特性を常に安定した状態で供給することが難
かしいという重大な欠点もある。 一方、ポリエチレンテレフタレートフイルム表
面に接着力を高めるためにコーテイング処理する
方法は設備を新たに作る必要があること、より大
きな問題点は、フイルムの巻製品で表面同志がく
つつく、いわゆるブロツキングを起こし易くなる
のが一般的であり、このためコーテイング剤に制
限があり、その選択が極めて難しくなるという欠
点がある。 発明の目的 本発明者らはこのような欠点のない耐久性の改
良された磁気記録フレキシブルデイスクを開発す
べく鋭意研究の結果、ポリエチレンテレフタレー
トやポリエチレン−２，６−ナフタレートのフイ
ルム両表面にポリ−１，４−シクロヘキシレンジ
メチレンテレフタレートの層を形成し、かつ二軸
配向せしめた積層フイルムを基材として磁気記録
フレキシブルデイスクを作ることによつて接着耐
久性が向上できることを見出し、本発明に到達し
た。 本発明の目的は、ポリエステルフイルムに薄い
磁性層を塗布した後、該磁性層を平滑化処理する
時に起り易い磁性層の微小な剥離を減少させてフ
レキシブルデイスク製造における不良品の発生を
抑え、しかも情報の記録、再生時の繰返し使用に
おける耐久性を向上させた磁気記録フレキシブル
デイスクを提供することにある。 発明の構成 本発明の目的は、本発明によれば、二軸配向ポ
リエステルフイルム基材に磁性層を設け、更にそ
の表面を平滑化処理してなる磁気記録フレキシブ
ルデイスクにおいて、該フイルム基材がポリエチ
レンテレフタレートフイルムまたはポリエチレン
−２，６−ナフタレートフイルムを中間層とし、
該中間層の両側に厚み0.1〜20μｍのポリ−１，４
−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレートフ
イルムを積層した積層フイルムであることを特徴
とする磁気記録フレキシブルデイスクによつて達
成される。 本発明におけるポリ−１，４−シクロヘキシレ
ンジメチレンテレフタレートとは、二塩基成分の
うち80モル％以上がテレフタル酸より成り、グリ
コール成分のうち90モル％以上が１，４−シクロ
ヘキサンジメタノールのシスまたはトランス異性
体より選ばれるグリコールよりなるポリエステル
である。テレフタル酸以外の二塩基酸成分として
は、イソフタル酸、フタル酸、アジピン酸、セバ
チン酸、コハク酸、シユウ酸，ナフタリン−２，
６−ジカルボン酸等の如き二塩基酸が例示され
る。好ましくは、イソフタル酸である。また１，
４−シクロヘキサンジメタノール以外のグリコー
ル成分としては、エチレングリコール、テトラメ
チレングリコール、ヘキサメチレングリコール等
の如き鎖状の脂肪族グリコールが例示される。 本発明における１，４−シクロヘキサンジメタ
ノールは、例えばジメチルテレフタレートまたは
テレフタル酸の接触還元によつて製造する方法で
製造できるが、いずれの方法で製造されたもので
も支障がない。１，４−シクロヘキサンジメタノ
ールのシス体とトランス体との比は特に制限する
ものではないが、シス体／トランス体＝４／６〜
０／10の範囲のものが好ましい。 前記ポリ−１，４−シクロヘキシレンジメチレ
ンテレフタレート中には、例えば、リン酸、亜リ
ン酸及びそれらのエステル等の如き安定剤、二酸
化チタン、微粒子状シリカ、カオリン、炭酸カル
シウム、リン酸カルシウム等の如き艶消剤、滑剤
等が含まれていても良い。 本発明におけるポリエチレンテレフタレートと
は、二塩基酸成分のうち80モル％以上がテレフタ
ル酸より成り、グリコール成分のうち90モル％以
上がエチレングリコールよりなるポリエステルで
ある。テレフタル酸以外の二塩基酸成分として
は、イソフタル酸、２，６−ナフタリンジカルボ
ン酸等の如き二塩基酸が例示される。またエチレ
ングリコール以外のグリコール成分としては、プ
ロピレングリコール、テトラメチレングリコー
ル、ヘキサメチレングリコール等の如きアルキレ
ングリコール；１，４−シクロヘキサンジメタノ
ールの如き脂肪族グリコールなどのグリコールが
例示される。 本発明におけるポリエチレン−２，６−ナフタ
レートとは、二塩基酸成分のうち80モル％以上が
２，６−ナフタリンジカルボン酸より成り、グリ
コール成分のうち90モル％以上がエチレングリコ
ールよりなるポリエステルである。２，６−ナフ
タリンジカルボン酸以外の二塩基成分としては、
テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタリン−２，
７−ジカルボン酸等の如き二塩基酸が例示され
る。またエチレングリコール以外のグリコール成
分としては、プロピレングリコール、テトラメチ
レングリコール、ヘキサメチレングリコール等の
如きアルキレングリコール；１，４−シクロヘキ
サンジメタノールの如き脂肪族グリコールなどの
グリコールが例示される。 前記ポリエチレンテレフタレート及びポリエチ
レン−２，６−ナフタレートには、それぞれポリ
−１，４−シクロヘキシレンジメチレンテレフタ
レートに含有させることができる化合物例えば安
定剤、艶消剤、滑剤等を含有させることができ
る。 本発明におけるフイルム基材は、三層の積層フ
イルム、すなわちポリエチレンテレフタレートフ
イルムまたはポリエチレン−２，６−ナフタレー
トフイルムを中間層（芯層）とし、該中間層の両
側にポリ−１，４−シクロヘキシレンジメチレン
テレフタレートフイルムを積層してなる積層フイ
ルムであつて、二軸配向されたものである。この
積層フイルムは、基本的には従来から蓄積された
製膜方法で製造できる。例えば、ポリエチレンテ
レフタレートまたはポリエチレン−２，６−ナフ
タレート（以下、これらを総称してポリエステル
Ｂということがある）とポリ−１，４−シクロヘ
キシレンジメチレンテレフタレート（以下、ポリ
エステルＡということがある）とを乾燥し、別々
の溶融装置で溶融し、押出す途中のポリマーパイ
プ中で合流させるか、又は厚み方向に３層よりな
る押出しダイ中でポリエステルＡとポリエステル
Ｂとを合流させて１枚のシートとなし、キヤステ
イングドラム上に押出して冷却する。更に得られ
る未延伸フイルムを遂次又は同時二軸延伸し、ヒ
ートセツトする方法で製造することができる。延
伸方法は公知の方法でよく、例えば縦延伸は周速
差のある２個のロール間で加熱しながら延伸する
ことができ、横延伸はクリツプでフイルム両端を
把持して加熱しながらクリツプ列の列間隔を拡大
させて延伸することができる。得られた二軸配向
フイルムを150〜260℃、好ましくは180〜250℃で
１〜100秒熱固定することによつて本発明の耐久
性にすぐれた磁気記録フレキシブルデイスク用の
積層フイルムが得られる。しかし、本発明におけ
る二軸配向積層フイルムは、この様な方法で得ら
れたもののみには限られない。 上記積層フイルムにおいて、ポリエステルＡの
フイルム厚みは0.1〜20μｍである必要がある。ポ
リエステルＡのフイルムが0.1μｍより薄いと接着
耐久性が殆んど改良されないので好ましくない。
また厚みが20μｍより厚くなるとポリエステルＡ
の特性特に機械的に弱いなどの点が顕在化しフレ
キシブルデイスクのセントラルホールの摩耗が著
しくなつたり、引裂きに対して弱いなどの実用上
問題が出てくる場合があるので好ましくない。ポ
リエステルＡのフイルムはポリエステルＢのフイ
ルムに界面で密に接合され、かつ二軸配向されて
いなければならない。しかして、ポリエステルＡ
を二軸配向ポリエステルＢの表面に単にコーテイ
ングしたものは、もちろん本発明の技術には含ま
れないが、このようなものは磁性層コーテイング
時にポリエステルＡが溶剤に溶けて脱落してしま
う場合が多い。 ポリエステルＡのフイルム厚みは２〜20μｍが
特に好ましい。このフイルム層の厚みは大きいほ
ど基材の吸湿膨張が小さく、好ましい。ポリエス
テルＡとポリエステルＢとを界面で密に接合する
点から、上述の３層構造タイにて未延伸シートを
押出す技術や溶融ポリマーの流路内で合体させる
などの技術を使うことが好ましい。未延伸シート
を延伸する場合ポリエステルＡがポリエステルＢ
の両面にあることは両ポリエステルの特性の差に
よるカールの発生を防止できる点でも都合がよ
い。ポリエステルＡとポリエステルＢとの特性に
大きな差（たとえば溶融粘度）があつて、ポリエ
ステルＡとポリエステルＢとの界面が充分に接合
しなくなるような場合には、ポリエステルＡにポ
リエステルＢを20重量％以下の量でブレンドする
とよい。 本発明における二軸配向積層フイルムは、通常
25〜125μｍ、更には50〜100μｍ程度の範囲から
選ばれる。もつとも、この厚さの範囲に限定され
るものではない。 本発明の磁気記録フレキシブルデイスクは、磁
性層と上述の基材フイルムとによつて構成されて
いる。磁性層は磁性粉体或は金属よりなる。本発
明に使用できる強磁性粉体又は金属としては、例
えばγ−Fe2O3、Co含有のγ−Fe2O3、Fe3O4、
Co含有のFe3O4、CrO2、Co−Ni−Ｐ合金、Co−
Ni−Fe合金、Co−Cr合金、Co−Ni合金、バリ
ウムフエライト等の強磁性体が例示できる。 本発明で磁性粉体と共に使用されるバインダー
としては、公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、
反応型樹脂又はこれらの混合物が挙げられる。具
体的には、例えば塩化ビニール酢酸ビニル共重合
体、塩化ビニル塩化ビニリデン共重合体、塩化ビ
ニルアクリロニトリル共重合体、アクリル酸エス
テルアクリロニトロル共重合体、アクリル酸エス
テル塩化ビニリデン共重合体、アクリル酸エステ
ルスチレン共重合体、メタクリル酸エステルアク
リロニトリル共重合体、メタクリル酸エステル塩
化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステルス
チレン共重合体、ウレタンエラストマー、ポリフ
ツ化ビニル、塩化ビニリデンアクリロニトリル共
重合体、ブタジエンアクリロニトリル共重合体、
ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、セルロ
ース誘導体（セルロースアセテートブチレート、
セルロースジアセテート、セルローストリアセテ
ート、セルロースプロピオネート、ニトロセルロ
ース等）、スチレンブタジエン共重合体、ポリエ
ステル樹脂、クロロビニルエーテルアクリル酸エ
ステル共重合体、アミノ樹脂、各種の合成ゴム系
の熱可塑性樹脂およびこれらの混合物等が使用で
きる。 支持体フイルム（二軸配向積層フイルム）上へ
の前記の磁性層を塗布する方法としては、例えば
エアードクターコート、ブレードコート、エアナ
イフコート、スクイズコート、含浸コート、リバ
ースロールコート、トランスフアーロールコー
ト、グラビアコート、キスコート、キヤストコー
ト、スプレイコート等が利用できる。 基体フイルムには磁性層を0.1〜3μｍの厚さに
塗布することが好ましい。 本発明における特性値の測定方法は次の通りで
ある。 (1) 接着性 磁性層を塗布し、平滑化仕上げした後のウエ
ブを温度20℃、湿度60％RHにて24時間以上放
置した後、このウエブの磁性面に市販の粘着テ
ープ（Scotch＃56、米国3M社製）を貼付け充
分に圧着する。次いでテープを急激に手で引張
り、ほぼ180℃方向に剥がす。該粘着テープに
付着してくる磁性層の量（面積）により、接着
性の良否を判定する。 接着性良好は、粘着テープに磁性層が全く付
いてこないか、剥離して付いてきたとしても極
くわずかである場合である。接着性不良は、磁
性層がポリエステルフイルム面から完全に剥離
してしまい、粘着テープ面の殆んど全体が磁性
層でおおわれる場合である。両者の中間で、粘
着テープの面の０〜30％が磁性層でおおわれる
ときを評点１級、31〜60％が磁性層でおおわれ
るときを評点２級、61〜100％が磁性層でおお
われるときを評点３級として評価する。評点の
小さい方が磁性層とフイルムの接着耐久性はす
ぐれていることを意味する。 (2) ドロツプアウトの測定 東京エンジニアリング(株)製のドロツプインア
ウトカウンタSK−444Bを用いて測定する。ド
ライブ装置としては市販の実機ドライブを使用
する。 測定機により検出された磁気記録フレキシブ
ルデイスク面のドロツプアウト箇所を顕微鏡観
察し、、微小な磁気層の剥離が原因になつてい
る数をカウントする。すなわち１枚のフレキシ
ブルデイスクに１ケ所でもドロツプアウト（出
力のレベルが基本レベルから30％以上低下した
場合）が発生したものを不良品として抽出す
る。抽出されたドロツプアウト箇所の内微小な
磁気層の剥離が原因となつている割合を％で表
示する。 実施例 次に、実施例により本発明を具体的に説明す
る。 実施例１〜４及び比較例１ 二塩基酸成分として、テレフタル酸を85モル
％、イソフタル酸を15モル％、グリコール成分と
して１，４−シクロヘキサンジメタノールを用
い、触媒として酸化チタン0.05モル％（酸成分に
対して）とをオートクレーブに入れ、撹拌下で加
熱してエステル交換し、次いで重縮合して、１，
４−シクロヘキサンジメタノールとテレフタノ酸
及びイソフタル酸よりなるポリ−１，４−シクロ
ヘキシレンジメチレンテレフタレート（ポリエス
テルＡ）を得た。この際、滑剤として平均粒径が
0.3μｍの酸化チタン0.5重量％を添加した。 また、常法によつて重合してポリエチレン−
２，６−ナフタレート（PEN−２，６）を得た。 更にまた、常法によつて重合してポリエチレン
テレフタレート（PET）を得た。 こられのポリ−１，４−シクロヘキシレンジメ
チレンテレフタレートとポリエチレン−２，６−
ナフタレートまたはポリエチレンテレフタレート
とを別々の溶融押出し装置で溶融し、両者の溶融
ポリエステルを３層構造の押出しダイ内で合流さ
せ、押出し、冷却して３層のポリエステルよりな
る1050ミクロン厚みの未延伸シートを得た。この
際二軸配向後のポリエステルの層厚みが表１に示
した値になるように未延伸成形時のポリエステル
の押出し量を調整した。得られた未延伸シートを
105℃にて縦方向に3.6倍、115℃で横方向に3.8倍
延伸し、更に220℃で30秒間熱固定して、厚み
75μｍの二軸配向フイルムを得た。このようにし
て得られた二軸配向フイルムに下記組成の磁性塗
布液を2μｍの厚さに塗布した。 （磁性塗布液） γ−Fe2O3 200重量部 塩化ビニール−酢酸ビニル共重合樹脂（UCC製
VAGH） 30重量部 ポリウレタン（日本ポリウレタン工業製PP−88）
20重量部 イソシアネート化合物（日本ポリウレタン工業製
コロネートHL） 40重量部 カーボン（平均サイズ0.5μｍφ） 20重量部 ジメチルシロキサン ２重量部 トルエン 70重量部 メチルエチルケトン 70重量部 シクロヘキサノン 70重量部 上記塗料を充分に混合撹拌して塗布処理に供し
た。 次いで塗布面にカレンダーロール処理を施し
た。その後外径20cmで内径3.8cmの磁気記録フレ
キシブルデイスクに切抜いた。 得られたデイスクを記録再生装置にかけて記録
再生操作を行つた。その際、シートレコーダーは
360rpmで回転した。 表１にこの結果を示す。実施例から明らかなよ
うに本発明の磁気記録フレキシブルデイスクは極
めてすぐれた特性をもつものである。
【表】
発明の効果
本発明によれば次のような効果が得られる。
１ ベースフイルムの接着性を向上させることが
できるので、磁性層の平滑化処理のためのカレ
ンダー工程で起こる磁性層の剥離によるドロツ
プアウトを大幅に減少させることができる。こ
のため製品の歩留りを大幅に向上させることが
できる。 ２ ベースフイルムと磁性層との接着性が向上す
るためフレキシブルデイスクの接着耐久性を向
上させることができる。このため磁性層を従来
より薄くしたとしても耐久性が低下することが
少ない。従つてフレキシブルデイスクの高密度
記録化が容易に達成できる。 ３ ポリ−１，４−シクロヘキシレンジメチレン
テレフタレートよりなる配向フイルムは吸湿膨
張率が小さいので磁気記録フレキシブルデイス
クとした場合この効果が発現して低い吸湿膨張
率のフレキシブルデイスクを提供しうる。該ポ
リエステルの層を厚くするとより低い吸湿膨張
率のフレキシブルデイスクを得ることができ
る。そのため高トラツク密度が得られる。 ４ ベースフイルムの芯層にポリエチレン−２，
６−ナフタレートフイルムを使用する場合、ポ
リエチレン−２，６−ナフタレートの温度膨張
率は10×10-6／℃と比較的小さく、一方ポリ−
１，４−シクロヘキシレンジメチレンテレフタ
レートの温度膨張率は25〜30×10-6／℃と比較
的大きいので、両者の厚み比率をほぼ同等にす
ることにより、フレキシブルデイスクドライブ
の温度膨張率（（17〜20）×10-6／℃）に適合さ
せることができる。この組合せの場合、ヤング
率もまたポリ−１，４−シクロヘキシレンジメ
チレンテレフタレートは現用のポリエステルフ
イルムに比して約60％と小さく、ポリエチレン
−２，６−ナフタレートのヤング率は常用のポ
リエステルフイルムに比して120％と大きいの
で、複合体のみかけのヤング率はほぼ現用のポ
リエステルフイルムに近くなり、従来のデイス
ク−ヘツドインターフエース技術等の設計技術
がそのまま活用できる。
できるので、磁性層の平滑化処理のためのカレ
ンダー工程で起こる磁性層の剥離によるドロツ
プアウトを大幅に減少させることができる。こ
のため製品の歩留りを大幅に向上させることが
できる。 ２ ベースフイルムと磁性層との接着性が向上す
るためフレキシブルデイスクの接着耐久性を向
上させることができる。このため磁性層を従来
より薄くしたとしても耐久性が低下することが
少ない。従つてフレキシブルデイスクの高密度
記録化が容易に達成できる。 ３ ポリ−１，４−シクロヘキシレンジメチレン
テレフタレートよりなる配向フイルムは吸湿膨
張率が小さいので磁気記録フレキシブルデイス
クとした場合この効果が発現して低い吸湿膨張
率のフレキシブルデイスクを提供しうる。該ポ
リエステルの層を厚くするとより低い吸湿膨張
率のフレキシブルデイスクを得ることができ
る。そのため高トラツク密度が得られる。 ４ ベースフイルムの芯層にポリエチレン−２，
６−ナフタレートフイルムを使用する場合、ポ
リエチレン−２，６−ナフタレートの温度膨張
率は10×10-6／℃と比較的小さく、一方ポリ−
１，４−シクロヘキシレンジメチレンテレフタ
レートの温度膨張率は25〜30×10-6／℃と比較
的大きいので、両者の厚み比率をほぼ同等にす
ることにより、フレキシブルデイスクドライブ
の温度膨張率（（17〜20）×10-6／℃）に適合さ
せることができる。この組合せの場合、ヤング
率もまたポリ−１，４−シクロヘキシレンジメ
チレンテレフタレートは現用のポリエステルフ
イルムに比して約60％と小さく、ポリエチレン
−２，６−ナフタレートのヤング率は常用のポ
リエステルフイルムに比して120％と大きいの
で、複合体のみかけのヤング率はほぼ現用のポ
リエステルフイルムに近くなり、従来のデイス
ク−ヘツドインターフエース技術等の設計技術
がそのまま活用できる。
Claims (1)
- １ 二軸配向ポリエステルフイルム基材に磁性層
を設け、更にその表面を平滑化処理してなる磁気
記録フレキシブルデイスクにおいて、該フイルム
基材がポリエチレンテレフタレートフイルムまた
はポリエチレン−２，６−ナフタレートフイルム
を中間層とし、該中間層の両側に厚み0.1〜20μｍ
のポリ−１，４−シクロヘキシレンジメチレンテ
レフタレートフイルムを積層した積層フイルムで
あることを特徴とする磁気記録フレキシブルデイ
スク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11969385A JPS61278022A (ja) | 1985-06-04 | 1985-06-04 | 磁気記録フレキシブルデイスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11969385A JPS61278022A (ja) | 1985-06-04 | 1985-06-04 | 磁気記録フレキシブルデイスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61278022A JPS61278022A (ja) | 1986-12-08 |
| JPH0513325B2 true JPH0513325B2 (ja) | 1993-02-22 |
Family
ID=14767720
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11969385A Granted JPS61278022A (ja) | 1985-06-04 | 1985-06-04 | 磁気記録フレキシブルデイスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61278022A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5710937B2 (ja) * | 2010-10-28 | 2015-04-30 | 帝人デュポンフィルム株式会社 | 二軸配向ポリエステルフィルム |
| JP5710938B2 (ja) * | 2010-10-28 | 2015-04-30 | 帝人デュポンフィルム株式会社 | 二軸配向ポリエステルフィルム |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3414310A1 (de) * | 1984-04-16 | 1985-10-24 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Traegerfolie fuer magnetische informationstraeger |
-
1985
- 1985-06-04 JP JP11969385A patent/JPS61278022A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61278022A (ja) | 1986-12-08 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |