JPH0513396Y2 - - Google Patents

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JPH0513396Y2
JPH0513396Y2 JP198585U JP198585U JPH0513396Y2 JP H0513396 Y2 JPH0513396 Y2 JP H0513396Y2 JP 198585 U JP198585 U JP 198585U JP 198585 U JP198585 U JP 198585U JP H0513396 Y2 JPH0513396 Y2 JP H0513396Y2
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reaction tube
tube
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arm
guide
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Description

【考案の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この考案は、半導体を製造するために用いる反
応管の吊り下げ装置に関するものである。
[従来の技術] 半導体製造装置としては、たとえば、縦形炉に
材料を入れた反応管を吊り下げ、回転させつつ反
応管内に半導体を合成製造するものがある。
[考案が解決しようとする問題点] しかしながら、反応管を吊り下げつつ回転させ
ると、吊り下げ用のワイヤを反応管の中心に位置
させにくく、回転振れを生じやすい問題点があつ
た。
この考案の目的は、以上の点に鑑み、反応管の
心出しの容易な反応管吊り下げ装置を提供するこ
とである。
[問題点を解決するための手段] この考案は、反応管の上部に設けられたアーム
と、このアームにかけられたワイヤと、このワイ
ヤがその中心孔に挿通され反応管上部の内径部と
接するガイド板とを備えるようにした反応管吊り
下げ装置である。
[実施例] 第1図は、この考案の一実施例を示す正面説明
図、第2図は、一部断面側面説明図である。
図において、1は、加熱炉、2は、昇降装置で
ある。加熱炉1は、適当な箱体11内に炉芯管1
2を上下方向に設け、その周囲に加熱ヒータ1
3、底部に断熱材14を設け、また、炉芯管12
の上方の開口15から反応管3が吊り下げ挿入さ
れ、炉心管12内は図示しない制御手段により所
定の温度とされる。昇降装置2は、反応管3を吊
り下げるワイヤ等よりなる吊り下げ具4を支持装
置21に支持させ、駆動軸210を自動または手
動ハンドル211で駆動して支持装置21を上下
に昇降させるとともに、適当な回転手段により吊
り下げ具4を介して反応管3を回転させる構成と
なつている。
また、昇降装置2には、上下方向に2本の指示
軸51,52、この指示軸51,52を上下にス
ライドするスライド板53,54、下部に反応管
3の落下防止板55等よりなる保持装置が設けら
れている。
スライド板53,54は、第3図で示すよう
に、反応管3が上下に十分挿通できる開口53
0,540、吊り下げ具4のワイヤ等が水平方向
に挿通できるスリツト531,532が形成され
ている。なお、第4図で示すように、ガイド板5
3,54の代わりに、指示軸50を中心に水平方
向に回転可能な保持アーム56の把持部560に
反応管3を挟持して炉芯管12の開口15上に位
置させるようにしてもよい。この把持部560
は、固定アーム561、回動アーム562を有
し、回動アーム562は軸563を中心にクリツ
ク564により、開、閉、および図示のように保
持管3の確定位置に一時保持させれる。なお、底
部には、軸563を中心に回動する定板565が
設けられ、落下防止を図つている。また、2個の
固定アーム561の中間に1個の回動アーム56
2を設けるようにしてもよい。
また、落下防止板55は、たとえば、第5図で
示すように、反応管3が上下に挿通できる開口を
有する下板551と、水平方向にスライドする反
応管3の底部を位置決めする穴を有する上板55
2よりなるものである。なお、第6図で示すよう
に、上板として左右に開く開閉板553,554
を用いてもよい。
第7図は、反応管3と吊り下げ具4との接続構
成を示し、反応管3のアーム30に、1本のワイ
ヤ40を2つ折りにした折り曲げ部をかけ、円盤
状の第1のガイド板41の中心孔410に挿通す
る。この第1のガイド板41の中央円柱部411
には、反応管3の内径部と接する比較的やわらか
い材質の第2のガイド板42が挿通され、止具4
3により抜け止めされている。円柱部411とガ
イド板42、止具43と接する部分はネジ山とす
るとよい。このように、反応管3の心出しを行い
反応管3の回転振れを少くしている。
さらにワイヤ40は、案内管44に案内され、
第8図で示すように、その上部は、案内管44の
上部のネジ部441の上下方向に2箇所形成され
た切溝に引き込まれ、その外部を固定具45でネ
ジ込んでワイヤ40は固定される。固定具45
は、さらに、ベアリング46、バネ47、リング
48を含むチヤツク部49により支持されるよう
になつている。
つまり、反応管3を、加熱炉1に挿入する前
に、吊り下げ具4により、第7図、第8図で示す
ような状態に吊り下げ、落下防止板55上にその
底部をのせ、第3図で示すガイド板53,54の
開口530,540に通す。次いで、反応管3を
少しもち上げ、回転させ、振れ状態を確認する。
そして、落下防止板55の第5図、第6図の上板
552,553,554をスライド、回転させて
開口を作り、反応管3を加熱炉1の炉芯管12の
所定位置に降下させる。この反応管3の加熱炉1
内の接地位置として最適位置があり、この位置決
めは、スケール22および支持装置21、スライ
ド板53,54のインデツクス23,24,25
により確認することができる。
そして、反応管3を回転させつつ加熱炉1内で
徐々に下降させ、半導体を合成製造し、製造終了
後は、反応管3を上昇させ、取り出すことができ
る。
[考案の効果] 以上述べたように、この考案は、ガイド板を介
して反応管を吊り下げ心出しを行つているので、
反応管を回転させても回転振れは少く、より安全
で高精度のものとなる。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図、第3図、第4図、第5図、第
6図、第7図、第8図は、この考案の一実施例を
示す構成説明図である。 1……加熱炉、2……昇降装置、3……反応
管、4……吊り下げ具、51〜55……保持装
置、30……アーム、41,42……ガイド板。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 反応管の上部に設けられたアームと、このアー
    ムにかけられたワイヤと、このワイヤがその中心
    孔に挿通され反応管上部の内径部と接するガイド
    板と、前記ワイヤを垂直に案内する案内管を含み
    昇降または回転される吊り下げ具とを備えた反応
    管吊り下げ装置。
JP198585U 1985-01-11 1985-01-11 Expired - Lifetime JPH0513396Y2 (ja)

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JP198585U JPH0513396Y2 (ja) 1985-01-11 1985-01-11

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JP198585U JPH0513396Y2 (ja) 1985-01-11 1985-01-11

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Publication Number Publication Date
JPS61118636U JPS61118636U (ja) 1986-07-26
JPH0513396Y2 true JPH0513396Y2 (ja) 1993-04-08

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ID=30475234

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JPS61118636U (ja) 1986-07-26

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