JPH051343Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本考案は、半導体基板、セラミツク基板、ガラ
ス基板等（以下、基板という）を、回転チヤツク
に保持して回転させながら、基板の表面に液剤を
塗布する回転塗布装置に関し、特に、回転チヤツ
クの周囲に付設したカツプの内面に付着する液剤
や、それが乾燥した粉末状細塵等（以下、液剤等
という）を、効率よく洗浄するようにした装置に
関する。

［従来の技術］ 上述のような回転塗布装置は、一般に「スピン
ナ」と呼ばれ、周知のように、基板にフオトレジ
スト剤やドーパント剤を塗布する工程や、パター
ン露光後の現像処理をする工程に適用されてい
る。

これらの適用に際して、供給された液剤が回転
部の遠心力のために飛散して、装置の周囲を汚損
することを防ぐために、通常の回転処理装置は、
回転部の周囲に、カツプと称する円筒状の遮蔽板
を付設している。ところが、フオトレジスト等の
乾燥により固化する液剤を使用した場合、カツプ
の内面に液剤が乾燥した皮膜が形成され、回転時
の振動により、あるいは飛散する液剤の衝撃力に
よつて、その破片が粉末状の塵埃となつて飛散
し、被処理基板の面に付着して、不良品を生じる
要因となる。

この不都合に対処する手段としては、塗布時に
カツプの内面に、使用する液剤を溶解し得る洗浄
液を注ぎかけて、回転部から飛散してカツプの内
壁に付着した液剤等を、直ちに洗い流すようにす
ることが行われている。

［考案が解決しようとする問題点］ 上記のカツプ内壁の洗浄を行うに際して、カツ
プが単純な円筒形等であれば、その内壁面に洗浄
液を供給することは容易であり、また、洗浄の状
態も容易に確認することができるが、実際に回転
塗布装置に使用されるカツプは、たとえば第３図
示のような形状であつて、円筒状をなす壁面１上
部に円錐状のカバー２を付設し、さらにその内縁
に、被処理基板の外縁部の近傍に向けてフランジ
３を形成するといつた構造になつている。かかる
形状のカツプでは、内壁面に洗浄液を供給するこ
とが、かなり困難になる。

もちろん、単に内壁面に洗浄液を注ぎかけるの
みであれば、適宜の位置にスプレイチユーブを設
置すればよいのであるが、それではスプレイチユ
ーブ自体に付着する液剤の洗浄をすることができ
ないので、問題の解決にはならない。

［問題点を解決するための手段］ 本考案の回転塗布装置は、カツプの円錐状をな
すカバー部に、洗浄液が流入する環状の導管を付
設し、該導管からカツプのカバーとフランジとの
接合部に向けて、適数個の送液管を設けて、その
先端を該接合部に開口させ、導管に洗浄液を圧入
して各送液管の先端開口から射出させるようにし
て、洗浄液が、カバーとフランジの内面に沿つて
流下するようにしたものである。

［作用］ カツプの最上端部に位置するカバーとフランジ
の接合部の内面側に、洗浄液が渦巻き方向に射出
供給され、内壁に沿つて流下するので、効率よく
洗浄をすることができる。

［実施例］ 第１図は、本考案装置の１実施例のカツプを示
す平面図、第２図は、第１図−線における断
面図である。

カツプの円筒状の側壁１１、円錐状のカバー部
１２、及びカバー部１２の内周縁に下方に向けて
垂下して形成されたフランジ１３は、前述第３図
示の手段に準じて構成されている。

本考案装置では、カバー部１２の上面に、環状
の張出し部１４をカバー部と一体的に形成し、そ
の内部に導管１５を環状に設けてある。

張出し部１４の外周面の適所に、導管１５に連
通する洗浄液供給管１６が付設してあり、また、
導管１５の内側と、カバー部１２とフランジ１３
との接合部との間に、複数個の送液管１７が第１
図示のように渦巻き状に設けてある。

図示しない洗浄液供給手段としてのポンプ装置
により、供給管１６から導管１５に送りこまれた
洗浄液は、各送液管１７を通つてカツプのカバー
部１２とフランジ１３の接合部に送り出され、送
液管の末端開口から噴出し、第２図に矢印で示す
ように、カバー部１２及びフランジ１３の面に付
着し、その面に沿つて流下する。

この際、各送液管１７が渦巻き状に形成してあ
るため、噴出する洗浄液は、カツプの円周方向に
向かう流れを生じる。したがつて、洗浄液がフラ
ンジ１３の面に向かつて垂直に噴射される場合よ
りも、面に付着しやすくなり、カバー部１２とフ
ランジ１３の内面、及びカバー部１２の外周下端
に連接されている側壁部１１の内面に、効率よく
洗浄液を供給して、洗浄をすることができる。

また、カツプの内面を適宜の塗装を施す等の処
理を加えて、洗浄液に対して親和性を持つ、いわ
ゆる濡れやすい状態にして、洗浄液の付着性を向
上させることにより、より大きな洗浄効果を得る
ことができる。

なお、上述実施例では、カツプと一体的に形成
した張出し部１４の中に、導管１５と複数個の送
液管１７をトンネル状に設けているが、本考案
は、必ずしも上記の構成に限定されるものではな
い。たとえば、第３図示のような既製の回転塗布
装置のカツプの外壁面に、第２図示の導管１５に
相当する環状パイプと、送液管１７に相当するよ
う、環状パイプとカバー部とフランジの接合部と
の間に、適数本の渦巻き状パイプを配設するとい
つたように、適宜のパイプラインを付設して。実
質的に第１、第２図示手段と同様な洗浄液噴射手
段を構成することも可能である。

なお、送液管は、第１図ではやや湾曲した曲管
として示しているが、直線状の管でも差支えな
い。また、洗浄液をカツプに内面に効率よく供給
するためには、送液管の開口部における送液管の
向きを、カバー部とフランジとの接合部の円周に
おける接線方向に、できるだけ近く設定すること
が望ましい。

［考案の効果］ (1) 回転塗布装置のカツプの截頭円錐状のカバー
部の最上部内壁面に、円周方向に沿つて洗浄液
を噴出させることにより、効率よく洗浄液を供
給して、塗布作業に際してカツプ内面に付着す
る塗布液や粉末状の塵埃等を、少量の洗浄液
で、確実に洗い流すことができる。

(2) カツプの内面には、洗浄液の噴出口が開口す
るだけで、それ以外のパイプ等の洗浄液噴射手
段は、カツプの内側には位置していないので、
洗浄液噴射手段自体が汚損するおそれがない。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の１実施例装置の平面図、第２
図は第１図−線における断面図、第３図は従
来装置の概略を示す断面図である。 １……カツプ側壁、２……カバー部、３……フ
ランジ、１１……カツプ側壁、１２カバー部、１
３……フランジ、１４……張出し部、１５……導
管、１６……洗浄液供給管、１７……送液管。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 回転部の周囲に、円筒状の側壁１１と、その
   上端に連接した截頭円錐状のカバー部１２と、
   カバー部１２の内縁周部に垂設した円筒状のフ
   ランジ１３とよりなるカツプを備えた回転塗布
   装置において、前記カバー部１２の上面に付設
   した環状の導管１５と、該導管１５と前記カバ
   ー部１２とフランジ１３との接合部との間に渦
   巻き状に配置され、その末端が該接合部の内面
   に開口する複数個の送液管１７と、前記導管１
   ５に洗浄液を送りこみ前記送液管１７の末端か
   ら噴出させる洗浄液供給手段、とを備えてなる
   回転塗布装置。 (2) カバー部１２の上面に、張出し部１４を環状
   に形成し、その中に、導管１５及び複数個の送
   液管１７をトンネル状に貫設した実用新案登録
   請求の範囲第(1)項に記載の回転塗布装置。