JPH05134431A - 電子写真感光体用導電性基体の洗浄方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 １，１，１−トリクロルエタンとほぼ同等の
洗浄効果を有し、ハジキ、シミ等の発生及び乾燥不良に
よる乾燥ムラ、シミ等の発生を抑制し、優れた画像形成
能を有する電子写真感光体を製造するための導電性基体
の洗浄方法を提供する。 【構成】 電子写真感光体用導電性基体を水又は界面活
性剤含有水で洗浄し、該基体表面に付着している液を水
吸収性物質を接触又は押圧して吸収或いはブレードを摺
接して除去・乾燥する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は電子写真感光体の導電性
基体の洗浄方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般的に電子写真感光体は、ドラム状導
電性基体上に感光層を形成したものである。このドラム
状導電性基体は円筒状のアルミを鏡面加工又は板状のア
ルミをインパクト成形することにより作成される。鏡面
加工又はインパクト成形中に基体表面には、切削油のミ
スト、空気中のダスト、切粉等が付着するため、基体表
面を洗浄処理して除去した後に、縮合多環顔料、アゾ顔
料等の電荷発生物質、樹脂の結着剤等から成る電荷発生
層及びヒドラゾン系又はアリールアミン系電荷輸送物
質、樹脂の結着剤、酸化防止剤等から成る電荷輸送層を
順次塗布・積層し、乾燥して感光層を形成する。

【０００３】電荷発生層及び電荷輸送層は、上述した電
荷発生層及び電荷輸送層を構成する物質をそれぞれ含有
する塗布液にドラム状導電性基体を公知の方法で浸漬す
ることによって該基体の表面に形成される。ここでおこ
なう浸漬塗布方法としては、特に制限はなく公知の方法
が使用し得るが、例えば特開昭４９−１３０７３６、特
開昭５７−５０４７及び特開昭５９−４６１７１に開示
される方法が挙げられる。

【０００４】浸漬塗布方法において、前処理である導電
性基体表面の洗浄が不十分であると、その表面に油、ダ
スト等が残り、塗布の際にハジキ、シミ等の塗布欠陥の
原因となる。このような電子写真感光体上に発生した欠
陥は、コピー画像に黒ポチ、白ポチ、ハーフトーン画像
のムラ等となって現われ、画像品質に悪影響を及ぼし、
かような電子写真感光体は実用に適さないものである。

【０００５】基体表面の洗浄としては、通常有機溶媒
中、又は必要に応じて加温された有機溶媒中に基体を浸
漬処理又は超音波の作用下で浸漬処理する浸漬洗浄；基
体を溶媒に浸漬中又は基体に溶媒をシャワーリングしな
がらブラシ、スポンジ等により物理的に擦する接触洗
浄；溶媒を高圧下でスリットより基本表面に噴出するジ
ェット洗浄及び溶媒蒸気中に基体を挿入する蒸気洗浄が
挙げられ、これらの単独又は組合せにより基体表面の洗
浄がおこなわれている。

【０００６】ここで使用される溶媒としては、メチレン
クロライド、エチレンクロライド、１，１，１−トリク
ロルエタン、トリクロルエチレン、パークロルエチレン
等の塩素系溶剤、フロン−１１２、フロン−１１３等の
フッ素系溶剤、該フッ素系溶剤とメタノール、メチレン
クロライド等との混合溶剤、ベンゼン、トルエン、メタ
ノール、エタノール、イソプロピルアルコール、石油系
炭化水素等及びこれらの混合物が挙げられる。これらの
溶剤中には引火性、発火性を有するもの、人体に有害で
あるので使用許容濃度が低いもの、洗浄能力が低いもの
が含まれており、最も一般的に使用されている溶剤は、
１，１，１−トリクロルエタンである。

【０００７】しかしながら、１，１，１−トリクロルエ
タンは、洗浄能力が高い、取扱いが容易等の長所がある
ものの、地球温暖化、オゾン層の破壊等を引起す物質の
一つであると推考され、フロンとともに全世界でその削
減が決定されており、１，１，１−トリクロルエタンの
代替洗浄液の提供又は代替洗浄法の開発が要求されてい
る。

【０００８】１，１，１−トリクロルエタン等の有機溶
媒を用いる洗浄の代替として、純水又は界面活性剤含有
水に浸漬洗浄する、所謂水洗浄が提案されている。

【０００９】前述の有機溶媒による洗浄後の乾燥は、空
気中への開放により溶媒が瞬時に蒸発して乾燥が完了す
るが、水洗浄の場合は、常温における水の蒸発速度が遅
いので、空気中のダストが付着したり、乾燥ムラ、シミ
が導電性基体表面に生じたりする傾向があり、この導電
性基体を用いて製造した電子写真感光体は、コピー画像
に黒ポチ、白ポチ、ハーフトーン等の画像欠陥を生じる
ことが度々ある。

【００１０】洗浄処理された導電性基体表面の乾燥処理
として、エアーを基体表面に吹き付けるエアーブロー法
がある。しかしながら、エアーブロー法は、空気中のダ
ストが付着しやすく、水滴の濃縮により水中に含まれる
ダスト等に基づくシミの発生の原因となる。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】イオン交換水、純水等
を洗浄液として用いた導電性基体表面の水洗浄におい
て、洗浄後の乾燥を早く確実におこない乾燥ムラ、シミ
等の欠陥のない導電性基体を得る方法の開発が強く望ま
れている。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明者等の鋭意研究の
結果、電子写真感光体用導電性基体表面を純水、イオン
交換水又は界面活性剤含有水で洗浄した後、該基体表面
に付着している水を、（１）水吸収性物質を接触又は押
圧して吸収し、或いは（２）ブレードを摺接して除去し
て、水切り・乾燥することにより、水切り・乾燥不良に
よる乾燥ムラ、シミ等の発生を防止でき、生産設備とし
て簡便であるので生産コストダウンを図ることが出来る
ことを見出し、この知見に基づいて本発明を成すに至っ
た。

【００１３】

【作用】図７は本発明の洗浄方法の概略を示す図であ
る。

【００１４】（ｉ）「洗浄工程」：切削加工又はインパ
クト成形された基体１はレール３に配置されたロボット
ハンド２に支持されている。第１の洗浄層１１は純水又
はイオン交換水、好ましくは界面活性剤が溶解した純水
又はイオン交換水の洗浄液１８で満たされており、該洗
浄液はヒーター１６により４０〜６０℃に加熱されてお
り、且つ洗浄槽１１底部には超音波発振器１７が備付け
られ、基体浸漬時に超音波が発振するようになってい
る。洗浄槽１１にはパイプ１２から洗浄液がタンク（図
示せず）より定常的に送り込まれている。洗浄によって
基体表面から除去された油、ダスト、切粉が分散してい
る洗浄液は配管１９からポンプ１４によりフィルター１
５を経て循環し、ダスト、切粉等はフィルター１５に補
足される。基体の浸漬によりオーバーフローする液は配
管１３から排出される。排出された洗浄液は排液処理装
置（図示せず）により処理される。

【００１５】（ii）「濯ぎ工程」：第２の洗浄槽２１、
第３の洗浄槽３１及び第４の洗浄槽４１にはそれぞれ洗
浄液２５，３５，４５として純水又はイオン交換水が満
たされていて濯ぎ処理がなされる。それぞれの洗浄槽底
部には超音波発振器２４，３４，４４が配備され、各洗
浄槽の洗浄液は、それぞれ配管２６，３６，４６からポ
ンプ２２，３２，４２によりフィルター２３，３３，４
３を経て循環し、該フィルターによって、ダスト、切粉
等が補足される。洗浄液はタンク４７より洗浄槽４１に
供給され、第４の洗浄槽４１からのオーバーフローによ
り第３の洗浄槽３１に洗浄液が供給され、第３の洗浄槽
３１からのオーバーフローにより、第２の洗浄槽２１に
洗浄液が供給され、且つ第２の洗浄槽２１からオーバー
フローする液は配管２７から排出され、排液処理装置で
処理される。

【００１６】本発明で使用する界面活性剤としては、基
体を腐食することのないノニオン系界面活性剤及び／又
はアニオン系界面活性剤が使用し得、その具体例として
は、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポ
リオキシエチレン・ポリオキシプロピレン・ブロックコ
ポリマー型及びノニルフェノールポリオキシエチンエー
テルのノニオン系界面活性剤及びアルキルベンゼン、高
級アルコール、α−オレフィンなどの硫酸塩、ケイ酸
塩、炭酸塩又はリン酸塩のアニオン系界面活性剤が挙げ
られる。

【００１７】本発明の洗浄液の界面活性剤の濃度は０．
５〜３０％、好ましくは４〜１５％である。

【００１８】本発明における洗浄時間（浸漬時間）は、
０．５〜１０分間、好ましくは１．５〜５分間で、第２
〜第４の洗浄槽における浸漬時間もそれぞれ０．５〜１
０分間、好ましくは１．５〜５分間である。尚、浸漬
中、必要に応じて、基体を揺動させても良い。

【００１９】（iii)「乾燥工程」：濯ぎ処理が終了した
基体は、基体表面に付着している水滴を除去するため
に、乾燥室５０の中で図１乃至図６のいずれかの方法に
より乾燥処理される。

【００２０】図１乃至図６は、それぞれ基体表面に付着
している水滴を除去するための手段の概略を示す図であ
る。

【００２１】図１は、基体１表面にロール状吸収材７０
を接触させ、それぞれを回転させることにより基体表面
から水滴を吸収する。

【００２２】図２は、基体１表面にブレード状吸収材７
１を押圧させて基体を回転させることにより、また図３
は基体１表面に環状ブレード吸収材７２を接触させて基
体を相対的に上昇させることにより、基体表面から水滴
を吸収する。

【００２３】図４乃び図５は、基体１表面にシート状吸
収材７３及び７４をそれぞれ接触させて、基体を回転さ
せるとともに、ローラー７５乃至７７及び７８乃至７９
をそれぞれ回転させてシート状吸収材７３及び７４を走
行させ、基体表面から水滴を吸収する。

【００２４】図１乃至図５の吸収材は、水吸収性物質か
ら成っており、接触もしくは押圧により水を吸収するた
めに基体に変形又は変質を生じさせない物質であって、
且つダスト等の発生により洗浄後の基体を再汚染させる
ことのないもので、水吸収性の高いものである。例え
ば、（イ）紙、（ロ）不織布（再汚染防止のための接着
剤を使用していないもので、材質としては、綿、麻、絹
等の天然繊維、レーヨン、ナイロン、ポリエステル等の
吸水性、親水性に富む合成繊維が挙げられ、これらの繊
維を「朝シャンタオル」に代表される極細繊維に仕上げ
たものが好ましい）、（ハ）スポンジ（材質としては、
海綿、ポリビニルアルコール、ポリエチレン、ウレタ
ン、軟質塩化ビニル樹脂、ナイロン、ポリエステル、ポ
リプロピレン等が挙げられる）を例示し得る。上述のよ
うな材質の物質にポリアクリル酸ソーダに代表される高
分子吸収剤を含有させたものは、吸水性が更に高まり、
基体表面がより効果的に乾燥されるので好ましい。

【００２５】吸収材は、その吸収性を増すためにはそれ
らの表面積（吸収面積）が大きい方が良く、接触部分に
小突起を配列したブラシ状やクレープ状のものが好まし
い。

【００２６】図１乃至図５の乾燥処理時間は０．５〜１
０分間、好ましくは１〜５分間である。吸収材を押圧さ
せる場合の圧力は５kg／cm² 以下が好ましい。

【００２７】図６において、濯ぎ処理が終了した基体１
は、移載装置により押上げスピンドル１１３上のスペー
サー１１２に装着される。押上げスピンドル１１３の上
昇に伴い基体１の外周がドーナツ状に加工されたブレー
ド１１７の内径に摺接しながら上昇するので、基体表面
の水滴がブレード１１７により除去される。

【００２８】ブレード１１７の材質としては、非水溶性
物質で、引張り弾性率が５〜３５kg/mm² 、好ましくは
７〜２０kg／mm² である。引張り弾性率が５kg／mm² 未
満であると、水滴の除去が不確実となり、乾燥ムラの原
因となることがある。３５kg／mm² を超えると、基体表
面に傷が付くことがある。引張り弾性率：１５kg／mm²
のポリウレタンエラストマー（大日本プラスチック
（株）製）がブレードの材料として最も好ましい。

【００２９】ブレードの厚みは７５〜１２５μm 、好ま
しくは９０〜１１０μm である。厚みが７５μm 未満で
あると水滴除去効率が半減し、１２５μm を超えると、
基体表面に傷が付くことがある。ドーナツ状のブレード
の内径Ｄ₂ は基体の外径Ｄに対して、０．９０×Ｄ＜Ｄ
₂ ＜０．９８×Ｄで、ドーナツ状のブレードの押え位置
Ｄ₁ は基体の外径Ｄに対して、０．９０×Ｄ＜Ｄ₂ ＜
１．７×Ｄであることが好ましい。ブレードの内径及び
押さえ位置が上記の範囲外であると、キズが生じたり、
乾燥ムラが発生したりすることがある。

【００３０】押上げスピンドルの上昇速度、即ち、ブレ
ードの内径を基体１が通過する速度は３０mm／sec 以
下、好ましくは５〜２５mm／sec である。上昇速度が３
０mm／sec を超えると、キズが生ずることがある。

【００３１】基体表面を乾燥する前に導電性基体１の内
部を乾燥することが好ましい。例えば、内部吸収材１１
８を回転させながら下降させ円筒上基体１の内面に接触
させ、付着している水滴を吸収・除去する。

【００３２】本発明の方法にて基体を乾燥させる際に、
エアーブロー法、温純水（５０〜９０℃）の浸漬・引上
げ法を併用しても良い。

【００３３】洗浄処理された導電性基体表面に公知の方
法で感光層を形成する。例えば、浸漬塗布法、リング方
式塗布法又はスプレー塗布法によって、洗浄処理された
導電性基体表面に電荷発生層を形成し、次いで、電荷発
生層の上に浸漬塗布法又はスプレー塗布法によって電荷
輸送層を形成する。

【００３４】本発明で用いる電子写真感光体の導電性基
体としては、アルミニウム、銅、ニッケル、ステンレ
ス、真ちゅう等の金属の円筒状基体又は薄膜シート、ま
たはアルミニウム、錫合金、酸化インジウム等をポリエ
ステルフィルムあるいは紙、金属フィルムの円筒状基体
などに蒸着したものが上げられる。

【００３５】感光体層の接着性改良、塗布性改良、基体
上の欠陥の被覆及び基体から電荷発生層への電荷注入性
改良などのために下引き層が設けられることが有る。下
引き層の材料としては、ポリアミド、共重合ナイロン、
カゼイン、ポリビニルアルコール、セルロース、ゼラチ
ン等の樹脂が知られている。これらを各種有機溶媒に溶
解し、膜厚が０．１〜５μm 程度になるように導電性円
筒状基体上に塗布される。

【００３６】電荷発生層は、光照射により電荷を発生す
る電荷発生材料を主成分とし、必要に応じて公知の結合
剤、可塑剤、増感剤を含有し、膜厚が１．０μm 以下
（乾燥膜厚）となるように導電性円筒状基体又は下引き
層の上に塗布される。

【００３７】電荷発生材料としては、ペリレン系顔料、
多環キノン系顔料、フタロシアニン顔料、金属フタロシ
アニン系顔料、スクエアリウム色素、アズレニウム色
素、チアピリリウム色素、及びカルバゾール骨格、スチ
リルスチルベン骨格、トリフェニルアミン骨格、ジベン
ゾチオフェン骨格、オキサジアゾール骨格、フルオレノ
ン骨格、ビススチルベン骨格、ジスチリルオキサジアゾ
ール骨格又はジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ
顔料などが挙げられる。

【００３８】電荷輸送層は、電荷発生材料が発生した電
荷を受け入れこれを輸送する能力を有する電荷輸送材
料、シリコーン系レベリング剤及び結着剤を必須成分と
し、必要に応じて公知の可塑剤、増感剤などを含有し、
乾燥膜厚５〜７０μm となるように電荷発生層の上に塗
布される。

【００３９】電荷輸送材料としては、ポリ−Ｎ−ビニル
カルバゾール及びその誘導体、ポリ−γ−カルバゾリル
エチルグルタメート及びその誘導体、ピレン−ホルムア
ルデヒド縮合物及びその誘導体、ポリビニルピレン、ポ
リビニルフェナントレン、オキサゾール誘導体、オキソ
ジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、９−（ｐ−ジ
エチルアミノスチリル）アントラセン、１，１−ビス
（４−ジベンジルアミノフェニル）プロパン、スチリル
アントラセン、スチリルピラゾリン、フェニルヒドラゾ
ン類、ヒドラゾン誘導体等の電子供与性物質、或いはフ
ルオレノン誘導体、ジベンゾチオフェン誘導体、インデ
ノチオフェン誘導体、フェナンスレンキノン誘導体、イ
ンデノピリジン誘導体、チオキサントン誘導体、ベンゾ
［ｃ］シンノリン誘導体、フェナジンオキサイド誘導
体、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタ
ン、プロマニル、クロラニル、ベンゾキノン等の電子受
容性物質などが挙げられる。

【００４０】電荷輸送層を構成する結着剤としては、電
荷輸送材料と相溶性を有するものであれば良く、例えば
ポリカーボネート、ポリビニルブチラール、ポリアミ
ド、ポリエステル、ポリケトン、エポキシ樹脂、ポリウ
レタン、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリアクリ
ルアミド、フェノール樹脂、フェノキシ樹脂等が挙げら
れる。

【００４１】本発明の方法で製造された電子写真感光体
はハジキ、シミ等による画像への黒ポチ、白ポチの発生
がほとんどなく、良品率が高い。更に、洗浄工程におい
て、有機溶媒を使用しないので、有機溶媒の使用による
大気汚染、人体への影響、高い引火性及び発火性による
爆発の危険等がない。

【００４２】

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれら実施例に限定されるものではな
い。

【００４３】実施例１ 図７で示した方法により、切削加工した円筒状基体を洗
浄処理した。第１の洗浄槽の洗浄液として、ＣＷ−５５
２０（第一工業製薬（株）製）の５％イオン交換水溶液
を用い、第２〜４の洗浄槽の洗浄液として、イオン交換
水を用いた。第１の洗浄槽の洗浄液は４０℃に加温され
ており、第２〜４の洗浄槽の洗浄液の温度はそれぞれ２
５℃であった。第１乃至第４の洗浄槽への浸漬時間はそ
れぞれ２分間であった。

【００４４】次いで、濯ぎ工程の終了した基体に図１に
示したポリビニルアルコールを素材とした吸水ローラー
（鐘紡（株）製）を接触させ、基体を５０rpm 、吸水ロ
ーラーを１００rpm で回転させながら２分間、吸水乾燥
を行なった。その後クリーン度をクラス１００に保った
クリーンエアーを１分間基体に吹きつけて乾燥を終了し
た。

【００４５】得られた円筒状基体を公知の浸漬塗布方法
により下記Ａ液を円筒状基体の表面に乾燥後の膜厚０．
５μm になるように浸漬塗布し、７５℃の温度で１時間
乾燥し、更に下記Ｂ液をＡ液が塗布された円筒状基体の
表面に乾燥後の膜厚２０μmになるように浸漬塗布し、
７５℃の温度で１時間乾燥した。

【００４６】Ａ液 ジブロムアンスアンスロン２重量部、ブチラール樹脂
［エスレックＢＭ−２、セキスイ化学（株）製］２重量
部、シクロヘキサノン２３０重量部をボールミルにて８
時間分散処理して得られた液。

【００４７】Ｂ液 ヒドラゾン系電荷輸送材［ＡＢＰＨ、日本化薬（株）
製］１重量部、ポリカーボネート樹脂［パンライトＬ−
１２５０、帝人化成（株）製］１重量部をジクロルエタ
ン８重量部に溶解して得られた液。

【００４８】得られた電子写真感光体５０本を回転用治
具に装着し複写機［ＳＦ−８１００、シャープ（株）
製］に搭載してコピーを取り画像評価を行なった。結果
を表１に示す。

【００４９】実施例２ 第２〜４の洗浄槽の洗浄液として純水を及び乾燥方式と
して下記条件における図６の方法を用いた以外は実施例
１と同様の方法にて円筒状基体を洗浄処理し、次いで、
実施例１と同じ方法で感光層を塗布し、得られた電子写
真感光体５０本を実施例１と同じ方法にて画像評価をお
こなった。結果を表１に示す。

【００５０】図６において、ブレードとしてポリウレタ
ンエラストマー（大日本プラスチック（株）製）を使用
した。

【００５１】 （１）引張り弾性率： １５kg／mm² （２）ブレードの厚み： １００μw （３）ブレードの内径： ７８mm （４）ブレードの押え位置： ６８mm （５）円筒状基体の上昇速度： ２０mm／sec （６）円筒状基体の外径： ８０mm比較例１ 切削加工した円筒状基体を、有機溶剤として６０℃の
１，１，１−トリクロルエタンを用い超音波・温浴洗浄
処理を３０秒間行なった。２０℃の１，１，１−トリク
ロルエタンに３０秒間冷浴した後、１，１，１−トリク
ロルエタンを用いて蒸気洗浄を３０秒間行ない、クリー
ンルームで２０分間放冷した。得られた円筒状基体の表
面に実施例１と同様の方法で感光体層を形成した。

【００５２】得られた電子写真感光体５０本を実施例１
と同様の方法で画像評価を行なった。結果を表１に示
す。

【００５３】比較例２ 更に、洗浄処理をしない円筒状基体の表面に実施例１と
同様の方法で感光体層を形成した。得られた電子写真感
光体１０本を実施例１と同様の方法で画像評価をおこな
った。結果を表１に示す。

【００５４】参考例１ 更に、実施例１と同様に「水洗浄」を行ない、乾燥工程
において、８０℃の熱風を３分間濯ぎ後の基体に吹きつ
けて乾燥を行なった。得られた円筒状基体の表面に実施
例１と同様の方法で感光層を形成し、得られた電子写真
感光体５０本を実施例１と同様の方法で画像評価を行な
った。結果を表１に示す。

【００５５】

【表１】

【００５６】

【発明の効果】本発明の方法は、洗浄不良によるハジ
キ、シミ及び乾燥不良による乾燥ムラ、シミ等の発生が
防止され、良品率においても、従来の１，１，１−トリ
クロルエタン洗浄液を使用する場合とほとんど同じで良
品率の低下が防止され、実用可能な高収率で電子写真感
光体が得られる。更に、洗浄液として有機溶剤を使用し
ないので、有機溶剤の使用による大気汚染、人体への影
響、高い引火性及び発火性による爆発の危険、特に１，
１，１−トリクロルエタン、フロンの洗浄液としての使
用による地球温暖化及びオゾン層の破壊等の問題が解消
される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の水切・乾燥方法の概略を示す図であ
る。

【図２】本発明の他の水切・乾燥方法の概略を示す図で
ある。

【図３】本発明の他の水切・乾燥方法の概略を示す図で
ある。

【図４】本発明の他の水切・乾燥方法の概略を示す図で
ある。

【図５】本発明の他の水切・乾燥方法の概略を示す図で
ある。

【図６】本発明の他の水切・乾燥方法の概略を示す図で
ある。

【図７】本発明の洗浄方法の概略を示す図である。

【符号の説明】

１ 導電性基体 １１ 第１の洗浄槽 １７ 第１の洗浄槽超音波発信器 １８ 第１の洗浄槽の洗浄液 ２１ 第２の洗浄槽 ３１ 第３の洗浄槽 ４１ 第４の洗浄槽 ５０ 乾燥室 ７０ ロール状吸収材 ７１ ブレード状吸収材 ７２ 環状ブレード吸収材 ７３ シート状吸収材 １１７ ブレード １１８ 内部吸収材

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松本 雅則 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ヤープ株式会社内 (72)発明者 松本 浩史 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ヤープ株式会社内 (72)発明者 谷口 英明 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ヤープ株式会社内

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 電子写真感光体用導電性基体表面を水又
   は界面活性剤含有水で洗浄した後、該基体表面に付着し
   ている水を、水吸収性物質を接触もしくは押圧して吸収
   ・乾燥、或いはブレードを摺接して除去・乾燥すること
   を特徴とする電子写真感光体用導電性基体の洗浄方法。