JPH05142804A - 電子写真感光体用導電性基体の洗浄方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 洗浄不良によるハジキ、シミ及び乾燥不良に
よる乾燥ムラ、シミの発生を抑制し、１，１，１−トリ
クロルエタンとほぼ同等の洗浄・乾燥効果を有する電子
写真感光体用基体の洗浄方法を提供する。 【構成】 導電性基体の外側にギャップを形成するよう
に設けられた、内面に複数本の連続した構形状の流体吹
出口を有する表面洗浄ユニットの下段から順次ダスト除
去用エアー、界面活性剤含有洗浄液、濯ぎ液、乾燥用エ
アーを噴射することから成る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は電子写真感光体の導電性
基体の洗浄方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般的に電子写真感光体は、ドラム状導
電性基体上に感光層を形成したものである。このドラム
状導電性基体は円筒状のアルミを鏡面加工又は板状のア
ルミをインパクト成形することにより作成される。鏡面
加工又はインパクト成形中に基体表面には、切削油のミ
スト、空気中のダスト、切粉等が付着するため、基体表
面を洗浄処理して除去した後に、縮合多環顔料、アゾ顔
料等の電荷発生物質、樹脂の結着剤等から成る電荷発生
層及びヒドラゾン系又はアリールアミン系電荷輸送物
質、樹脂の結着剤、酸化防止剤等から成る電荷輸送層を
順次塗布・積層し、乾燥して感光層を形成する。

【０００３】電荷発生層及び電荷輸送層は、上述した電
荷発生層及び電荷輸送層を構成する物質をそれぞれ含有
する塗布液にドラム状導電性基体を公知の方法で浸漬す
ることによって該基体の表面に形成される。ここでおこ
なう浸漬塗布方法としては、特に制限はなく公知の方法
が使用し得るが、例えば特開昭４９−１３０７３６、特
開昭５７−５０４７及び特開昭５９−４６１７１に開示
される方法が挙げられる。

【０００４】浸漬塗布方法において、前処理である導電
性基体表面の洗浄が不十分であると、その表面に油、ダ
スト等が残り、塗布の際にハジキ、シミ等の塗布欠陥の
原因となる。このような電子写真感光体上に発生した欠
陥は、コピー画像に黒ポチ、白ポチ、ハーフトーン画像
のムラ等となって現われ、画像品質に悪影響を及ぼし、
かような電子写真感光体は実用に適さないものである。

【０００５】基体表面の洗浄としては、通常有機溶媒
中、又は必要に応じて加温された有機溶媒中に基体を浸
漬処理又は超音波の作用下で浸漬処理する浸漬洗浄；基
体を溶媒に浸漬中又は基体に溶媒をシャワーリングしな
がらブラシ、スポンジ等により物理的に擦する接触洗
浄；及び溶媒蒸気中に基体を挿入する蒸気洗浄が挙げら
れ、これらの単独又は組合せにより基体表面の洗浄がお
こなわれている。

【０００６】ここで使用される溶媒としては、メチレン
クロライド、エチレンクロライド、１，１，１−トリク
ロルエタン、トリクロルエチレン、パークロルエチレン
等の塩素系溶剤、フロン−１１２、フロン−１１３等の
フッ素系溶剤、該フッ素系溶剤とメタノール、メチレン
クロライド等の混合溶剤、ベンゼン、トルエン、メタノ
ール、エタノール、イソプロピルアルコール、石油系炭
化水素等及びこれらの混合物が挙げられる。これらの溶
剤中には引火性、発火性を有するもの、人体に有害であ
るので使用許容濃度が低いもの、洗浄能力が低いものが
含まれており、最も一般的に使用されている溶剤は、
１，１，１−トリクロルエタンである。

【０００７】しかしながら、１，１，１−トリクロルエ
タンは、洗浄能力が高い、取扱いが容易等の長所がある
ものの、地球温暖化、オゾン層の破壊等を引起す物質の
一つであると推考され、フロンとともに全世界でその削
減が決定されており、１，１，１−トリクロルエタンの
代替洗浄液の提供又は代替洗浄法の開発が要求されてい
る。

【０００８】１，１，１−トリクロルエタン等の有機溶
媒を用いる洗浄の代替として、いくつかの方法が開発さ
れているが、コストが約１０〜２０倍程度を要するため
に、実際に使用されている例としては、特に小さくて数
量も少ない基体の洗浄に限られてしまっているのが現状
で、電子写真感光体用導電性基体の洗浄には適するもの
がなかった。

【０００９】最近、１，１，１−トリクロルエタン等の
有機溶媒を用いる洗浄の代替として、純水又は界面活性
剤含有水に浸漬洗浄する、所謂水洗浄が提案されてい
る。

【００１０】電子写真感光体の基体としては一般的に、
材料（素質）の作製がしやすく、比較的安価で、軽く
て、錆にくく切削加工が容易であるアルミニウムが多く
利用されているが、反応性が高く、柔らかい欠点があ
る。フロンや１，１，１−トリクロルエタン等の有機溶
媒を用いて超音波洗浄処理をした場合には問題はない
が、水を用いて超音波洗浄処理をすると、水はキャビテ
ーションが強いことからアルミニウム基体表面に５〜５
０μm （直径）の凹部ができたり、水との反応によりそ
の表面が腐食したりすることがある。このような基体に
感光層を形成すると、白ポチ、黒ポチの画像欠陥が生ず
ることとなる。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】界面活性剤含有水を用
いた水洗浄において、洗浄工程中に生ずる基体表面欠陥
及び水切り・乾燥の不良による乾燥ムラ、シミの欠陥の
発生することのない導電性基体の洗浄方法の開発が強く
望まれている。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明者等の鋭意研究の
結果、導電性基体の外側にギャップを形成するように設
けられ且つ内面に複数本の連続した溝形状の流体吹出口
を有する表面洗浄ユニットの下段の吹出口からエアーを
噴射してダストを除去する工程、中段の吹出口から界面
活性剤含有洗浄液を噴射して洗浄する工程、上段の吹出
口から濯ぎ液を噴射して濯ぎ処理をする工程、及び最上
段の吹出口から乾燥エアーを噴射して乾燥する工程を、
相対的に該導電性基体を上昇させることによって、順次
おこなうことにより洗浄工程中に生ずる基体表面の欠陥
の発生を防止でき、且つ水切り・乾燥不良による乾燥ム
ラ、シミ等の欠陥の発生を防止出来ることを見出し、こ
の知見に基づいて本発明を成すに至った。

【００１３】

【作用】図１は本発明の表面洗浄環状ユニットを用いた
洗浄方法の概略を示す図であり、図２は該表面洗浄環状
ユニットの断面図である。

【００１４】導電性基体（円筒上基体）１００の外側に
は、内周面に複数本の連続した溝形状の流体吹出口を有
する表面洗浄環状ユニット８０が該導電性基体の外表面
との間に環状のギャップを形成するように設けられる。

【００１５】導電性基体は主に表面切削加工して製造さ
れているので、材料の切削粉が必ずといっていいほど切
削表面に付着しており、更に空気中のダストも切削表面
に付着してる。このような状態の基体表面に水によるジ
ェット洗浄をおこなうと、切削粉やダストが基体表面に
強く接触するので、該基体表面に傷や凹部が生ずる。

【００１６】このような傷や凹部の発生を防止するため
に、ダスト除去用エアー管１を経由し吹出口１ａからエ
アーを噴射して、切削粉や大きなダストの除去をおこな
う。

【００１７】エアーとしてはクリーンエアー及び圧縮空
気を使用し得る。吹出口１ａのスリット幅は０．５〜５
mm、好ましくは１〜３mmで、エアー圧は２〜１５kg／cm
² 、好ましくは４〜１２kg／cm² で、エアーの基体表面
に当たる角度は１０〜８０°、好ましくは３０〜６０°
である。

【００１８】エアーの当たる角度が１０°未満であると
ダスト除去効果が半減し、８０°を超えるとエアーによ
って飛ばされた切削粉、ダスト等が再び基体表面の別の
場所に付着することがある。

【００１９】界面活性剤含有洗浄液は洗浄液管１０を経
由して吹出口１０ａから噴出される。吹出口１０ａのス
リット幅は０．３〜４mm、好ましくは０．５〜２mmであ
る。スリット幅が０．３mm未満であると洗浄効果が劣
り、４mmを超えると使用する界面活性剤の量が増え、洗
浄コストが高くなり好ましくない。

【００２０】洗浄液の水圧は２０〜１８０kg／cm² 、好
ましくは４０〜１３０kg／cm² である。水圧が２０kg／
cm² 未満であると洗浄効果が劣り、１８０kg／cm² を超
えると基体に凹部、穴があくことが度々起る。洗浄液の
基体表面に当たる角度は１０〜８０°、好ましくは３０
〜６０°である。洗浄液の当たる角度が１０°未満であ
ると、洗浄効果が半減し、８０°を超えると洗浄された
汚れが再び基体表面の別の場所に付着することがある。

【００２１】本発明で使用する界面活性剤としては、基
体を腐食することのないノニオン系界面活性剤及び／又
はアニオン系界面活性剤が使用し得、その具体例として
は、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポ
リオキシエチレン・ポリオキシプロピレン・ブロックコ
ポリマー型及びノニルフェノールポリオキシエチンエー
テルのノニオン系界面活性剤及びアルキルベンゼン、高
級アルコール、α−オレフィンなどの硫酸塩、ケイ酸
塩、炭酸塩又はリン酸塩のアニオン系界面活性剤が挙げ
られる。洗浄液としては純水及びイオン交換水が挙げら
れる。

【００２２】本発明の洗浄液の界面活性剤の濃度は０．
５〜３０％、好ましくは４〜１５％である。

【００２３】また、洗浄液の温度は、３５〜９０℃、好
ましくは４０〜８０℃である。

【００２４】濯ぎ液は配管２０を経由して吹出口２０ａ
から噴出される。濯ぎ処理が不充分であると感光層が基
体上に均一に形成されず、画像ムラの原因となることが
ある。洗浄効果の向上及び洗浄による品質の向上を考慮
すると、複数回の濯ぎを行なうこと、例えば、配管２１
を経由して吹出口２１ａからも濯ぎ液を噴射することが
好ましい。

【００２５】吹出口２０ａ及び２１ａのスリット幅はそ
れぞれ０．２〜４mm、好ましくは０．５〜２mmで、濯ぎ
液の水圧はそれぞれ２０〜１８０kg／cm² 、好ましくは
４０〜１２０kg／cm²である。スリット幅が０．２mm未
満であると濯ぎ効果が半減し、スリット幅が４mmを超え
ると、使用する濯ぎ液の量が増え、洗浄コスト高の原因
となり好ましくない。濯ぎ液の水圧が２０kg／cm² 未満
であると、洗浄効果が劣り、１８０kg／cm² を超えると
基体に凹部、穴があくことが度々起る。

【００２６】濯ぎ処理を複数回行なう場合には、各スリ
ット幅や水圧を変えても良い。この場合、洗浄後の第一
濯ぎ処理が重要で、第二濯ぎ処理以降は第一濯ぎ処理よ
りも、スリット幅を狭くしたり、水圧を低くしたりし
て、使用水量を少なくすることも出来る。

【００２７】濯ぎ液の基体表面に当たる角度は１０〜８
０℃、好ましくは２０〜６０℃である。濯ぎ液の当たる
角度が１０°未満であると、濯ぎ効果が半減し、８０°
を超えると、濯いだ液の水滴がはね返って再び基体表面
に付着することがあるので好ましくない。

【００２８】濯ぎ液としては純水及びイオン交換水が挙
げられる。濯ぎ液の温度は特に制限はされないが、乾燥
を考慮すると４０〜７０℃が好ましい。

【００２９】洗浄工程及び濯ぎ工程の後、基体表面に付
着した水滴を出来るだけ早く、且つ完全に除去すること
が必要である。従来の有機溶媒による洗浄後の乾燥は、
空気中への開放により溶媒が瞬時に蒸発して乾燥が完了
するが、水洗浄の場合は、常温における水の蒸発速度が
遅いので、乾燥処理に時間がかかり乾燥処理中に空気中
のダストが付着したり、乾燥ムラ、シミが導電性基体表
面に生じたりする傾向があり、この導電性基体を用いて
製造した電子写真感光体は、コピー画像に黒ポチ、白ポ
チ、ハーフトーン等の画像欠陥を生じることが度々あ
る。

【００３０】従って、水洗浄における乾燥は、濯ぎ処理
後、直ちに行ない且つ瞬時に、均一にそして確実に乾燥
されなければならない。

【００３１】乾燥エアーを配管３０を経由して、吹出口
３０ａから噴射することによって、基体表面の乾燥は瞬
時に、均一に且つ確実におこなわれる。

【００３２】吹出口３０ａのスリット幅は０．５mm以
上、好ましくは１〜３mmで、乾燥エアーの圧力は、８〜
４０kg／cm² 、好ましくは１０〜３０kg／cm² である。
スリット幅が０．５mm未満であると、水滴除去効果が半
減する。またエアー圧が８kg／cm² 未満であると、水滴
除去効果が劣る。

【００３３】乾燥エアーの基体表面に当る角度は１０〜
８０°、好ましくは１５〜４５°である。乾燥エアーの
当る角度が１０°未満であると、水滴除去効果が劣り、
８０°を超えると、エアーにより吹き飛した水滴が再び
基体表面に付着することがあるので好ましくない。

【００３４】乾燥エアーの温度は３０〜３００℃、好ま
しくは５０〜１５０℃である。３０〜３００℃の乾燥エ
アーを噴射すると、基体全体の温度が上昇するので、界
面活性剤含有洗浄液の洗浄効果、濯ぎ効果も相乗的に向
上する。

【００３５】乾燥をより完全にするために、第二乾燥と
して、乾燥エアーを配管４０を経由して吹出口４０ａか
ら噴射しても良い、また乾燥処理により暖たまった基体
を冷却させるために或いは仕上げ処理としてクリーンエ
アー吹出口４０ａから噴射しても良い。

【００３６】表面洗浄ユニット８０における、ダスト除
去エアーの吹出口１ａと界面活性剤含有洗浄液の吹出口
１０ａとの距離は５〜３０mm、好ましくは１０〜１５mm
で、該界面活性剤含有洗浄液の吹出口１０ａと濯ぎ液の
吹出口２０ａとの距離は５〜３０mm、好ましくは１０〜
１５mmで、該濯ぎ液の吹出口２０ａと乾燥エアーの吹出
口３０ａとの距離は５〜３０mm、好ましくは１０〜１５
mmである。また、乾燥エアーの吹出口３０ａと冷却エア
ーの吹出口４０ａとの距離は２０〜３０mmであることが
好ましい。

【００３７】導電性基体の内部の両端部には、表面切削
の加工精度を高めるために、且つ感光層を形成後、回転
治具に組込まれるようにインロー加工によりインロー部
が形成されている。即ち、基体内部も切削加工されてい
るのであって、切削粉やクーラント剤が内面に付着して
いる。従って、内面洗浄を行なわずに塗布液中に浸漬さ
せると塗布液中に該付着物が混入したりして、そのよう
な塗布液を用いて浸漬塗布により感光層を形成すると、
白ポチ、黒ポチ、ムラ等の画像欠陥が発生するばかりで
なく、塗布液の劣化の原因となる。特に、浸漬塗布にお
いては、導電性基体の内部もその表面と同じとはいかな
いまでも、洗浄することが必要である。

【００３８】導電性基体内部洗浄ユニット９０は、パイ
プ９５によって支持されており、パイプ９５の内部には
基体内部を洗浄するに必要な流体の配管が組み込まれて
いる。

【００３９】界面活性剤含有洗浄液は配管１５を経由し
て吹出口１５ａから噴射される。吹出口１５ａのスリッ
ト幅は０．１〜３mm、好ましくは０．２〜１mmである。
スリット幅から０．１mm未満であると洗浄効率が半減す
る。洗浄液の水圧は２０〜１８０kg／cm² 、好ましくは
３０〜１００kg／cm² である。水圧が２０kg／cm² 未満
であると、洗浄効率が半減する。洗浄液の基体内面に当
てる角度は１０〜９０°、好ましくは２０〜７０°であ
る。

【００４０】濯ぎ液は配管２５を経由して吹出口２５ａ
から噴射される。吹出口２５ａのスリット幅、濯ぎ液の
水圧及び基体内面に当てる角度は上述の界面活性剤含有
洗浄液で基体内部を洗浄する場合と同じである。

【００４１】乾燥エアーは配管３５を経由して吹出口３
５ａから噴射される。基体内部の乾燥に関する条件は基
体表面の乾燥条件と同じである。

【００４２】導電性基体内部洗浄ユニットにおいて、界
面活性剤含有洗浄液吹出口１５ａと濯ぎ液の吹出口２５
ａとの距離は５〜５０mm、好ましくは２０〜３０mmで、
該濯ぎ液の吹出口２５ａと乾燥エアー吹出口３５ａとの
距離は５〜５０mm、好ましくは２０〜３０mmである。

【００４３】導電性基体１００は、表面洗浄環状ユニッ
ト８０との間に環状のギャップを形成するようにその内
側に挿入され、支持板５５に付いている環状の固定治具
５０により固定される。該基板５５はボールネジ７０に
より昇降する。支持パイプの外径よりも大きい内径を有
する環状の固定治具５０の内側には導電性基体内部洗浄
ユニット９０を頭部に有するパイプ９５が貫通してい
る。

【００４４】図１の方法では噴射口は連続する溝が環状
になって、その中心を洗浄物が通過するのであるが、連
続する噴射溝は環状である必要はなく、例えば、シート
状の感光体に対しては連続した線状の噴射溝にすればよ
い。また図１は、基体の内面もジェット洗浄を行ったが
内面洗浄ユニット９０をブラシ洗浄ユニットに変更すれ
ば、基体表面をジェット洗浄、内面をブラシ洗浄の洗浄
方法となる。

【００４５】図３は本発明の洗浄方法の他の態様の概略
を示す断面図である。

【００４６】導電性基体１００の外側に設けられた、内
周面に複数本の連続した溝形状の流体吹出口を有する表
面洗浄環状ユニット８０は、昇降装置１２０により上下
に移動する。

【００４７】導電性基体１００は表面洗浄環状ユニット
８０との間に環状のギャップを形成するように内側に挿
入され、超音波振動を与える超音波振動子１１０に固定
される。超音波振動子１１０の外径は導電性基体１００
の内径よりも０．１〜１．５mm、好ましくは０．３〜
１．０mm小さい。該外径と内径との幅が０．１mm未満と
なると、超音波振動子１１０と導電性基体１００が熱を
持ち接合してしまい、また幅が１．５１を超えると超音
波振動が導電性基体１００に伝わらない。

【００４８】超音波振動子としては、１０〜２０kHz の
周波数の超音波を発振するものであれば特に制限はない
が、例えば積層磁歪型ＮＡ型Ｎ超音波発振措置（（株）
東洋理工製作所製）等が挙げられる。

【００４９】導電性基体を振動させることは、該基体に
付いている水が瞬時に飛散して水切・乾燥処理が簡単に
なるばかりか、界面活性剤含有洗浄液による洗浄及び濯
ぎ処理においても、洗浄効果、濯ぎ効果が相乗的に向上
するので好ましい。

【００５０】図１の導電性基体表面の洗浄は、次のよう
にしておこなわれる。

【００５１】洗浄されるべき導電性基体１００の上端イ
ンロー部１０１を基体上部保持具６０のクランプ部６１
にクランプさせる。導電性基体１００を保持した上部保
持具６０は表面洗浄環状ユニット８０と内部洗浄ユニッ
ト９０の間にそれぞれ接することなく下降し、内部洗浄
ユニット９０の下方で待機している支持板５５上の環状
固定治具５０と接合した時点で停止した後、上部保持具
６０のクランプ部６１によるクランプが解除される。

【００５２】表面洗浄環状ユニット８０と導電性基体
（円筒状基体）との間には均一の幅の環状ギャップが形
成され、このギャップは１〜５０mm、好ましくは３〜１
０mmである。また、該導電性基体と、内部洗浄ユニット
９０との間にも均一の幅の環状ギャップが形成され、こ
のギャップは１〜５０mm、好ましくは３〜１０mmであ
る。

【００５３】ボールネジ７０を回転させることによっ
て、導電性基体１００をのせた支持板５５を設定された
最下端まで下げる。この時、導電性基体１００の上端は
表面洗浄用の洗浄液噴射と内面洗浄用の洗浄液噴射とが
交わる位置よりも下方になければならない。

【００５４】まず、エアー吹出口１ａからエアーを噴射
し、ダストを除去する。ボールネジ７０を回転させるこ
とによって、導電性基体１００を上昇させ、洗浄液吹出
口１０ａから洗浄液を、濯ぎ液吹出口２０ａから濯ぎ液
を、乾燥エアー吹出口３０ａから乾燥エアを噴射して、
洗浄・濯ぎ・乾燥が順次なされる。

【００５５】導電性基体１００の上端インロー部１０１
が待機している上部保持具６０と接合した時点でボール
ネジの回転は停止する。基体上部保持具６０のクランプ
部６１が上端インロー部をクランプすると、上部保持具
６０は、ボールネジ７０の回転による上昇速度と同じ速
度で上昇する。環状固定治具５０は、ボールネジの回転
が停止した位置で次の洗浄のための導電性基体の下降を
待機する。

【００５６】導電性基体１００の上昇速度は洗浄能力に
比例するが導電性基体の汚れ、吹出口のスリット幅、吹
出口の角度（流体の基体表面に当る角度）によっても変
わるため、導電性基体の洗浄具合を見ながら決定する、
が好ましい上昇速度は０．５〜５mm／sec である。

【００５７】洗浄処理された導電性基体表面に公知の方
法で感光層を形成する。例えば、浸漬塗布法、リング方
式塗布法又はスプレー塗布法によって、洗浄処理された
導電性基体表面に電荷発生層を形成し、次いで、電荷発
生層の上に浸漬塗布法又はスプレー塗布法によって電荷
輸送層を形成する。

【００５８】本発明で用いる電子写真感光体の導電性基
体としては、アルミニウム、銅、ニッケル、ステンレ
ス、真ちゅう等の金属の円筒状基体又は薄膜シート、ま
たはアルミニウム、錫合金、酸化インジウム等をポリエ
ステルフィルムあるいは紙、金属フィルムの円筒状基体
などに蒸着したものが上げられる。

【００５９】感光体層の接着性改良、塗布性改良、基体
上の欠陥の被覆及び基体から電荷発生層への電荷注入性
改良などのために下引き層が設けられることが有る。下
引き層の材料としては、ポリアミド、共重合ナイロン、
カゼイン、ポリビニルアルコール、セルロース、ゼラチ
ン等の樹脂が知られている。これらを各種有機溶媒に溶
解し、膜厚が０．１〜５μm 程度になるように導電性円
筒状基体上に塗布される。

【００６０】電荷発生層は、光照射により電荷を発生す
る電荷発生材料を主成分とし、必要に応じて公知の結合
剤、可塑剤、増感剤を含有し、膜厚が１．０μm 以下
（乾燥膜厚）となるように導電性円筒状基体又は下引き
層の上に塗布される。

【００６１】電荷発生材料としては、ペリレン系顔料、
多環キノン系顔料、フタロシアニン顔料、金属フタロシ
アニン系顔料、スクエアリウム色素、アズレニウム色
素、チアピリリウム色素、及びカルバゾール骨格、スチ
リルスチルベン骨格、トリフェニルアミン骨格、ジベン
ゾチオフェン骨格、オキサジアゾール骨格、フルオレノ
ン骨格、ビススチルベン骨格、ジスチリルオキサジアゾ
ール骨格又はジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ
顔料などが挙げられる。

【００６２】電荷輸送層は、電荷発生材料が発生した電
荷を受け入れこれを輸送する能力を有する電荷輸送材
料、シリコーン系レベリング剤及び結着剤を必須成分と
し、必要に応じて公知の可塑剤、増感剤などを含有し、
乾燥膜厚５〜７０μm となるように電荷発生層の上に塗
布される。

【００６３】電荷輸送材料としては、ポリ−Ｎ−ビニル
カルバゾール及びその誘導体、ポリ−γ−カルバゾリル
エチルグルタメート及びその誘導体、ピレン−ホルムア
ルデヒド縮合物及びその誘導体、ポリビニルピレン、ポ
リビニルフェナントレン、オキサゾール誘導体、オキソ
ジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、９−（ｐ−ジ
エチルアミノスチリル）アントラセン、１，１−ビス
（４−ジベンジルアミノフェニル）プロパン、スチリル
アントラセン、スチリルピラゾリン、フェニルヒドラゾ
ン類、ヒドラゾン誘導体等の電子供与性物質、或いはフ
ルオレノン誘導体、ジベンゾチオフェン誘導体、インデ
ノチオフェン誘導体、フェナンスレンキノン誘導体、イ
ンデノピリジン誘導体、チオキサントン誘導体、ベンゾ
［ｃ］シンノリン誘導体、フェナジンオキサイド誘導
体、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタ
ン、プロマニル、クロラニル、ベンゾキノン等の電子受
容性物質などが挙げられる。

【００６４】電荷輸送層を構成する結着剤としては、電
荷輸送材料と相溶性を有するものであれば良く、例えば
ポリカーボネート、ポリビニルブチラール、ポリアミ
ド、ポリエステル、ポリケトン、エポキシ樹脂、ポリウ
レタン、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリアクリ
ルアミド、フェノール樹脂、フェノキシ樹脂等が挙げら
れる。

【００６５】本発明の方法で製造された電子写真感光体
はハジキ、シミ等による画像への黒ポチ、白ポチの発生
がほとんどなく、良品率が高い。更に、洗浄工程におい
て、有機溶媒を使用しないので、有機溶媒の使用による
大気汚染、人体への影響、高い引火性及び発火性による
爆発の危険等がない。

【００６６】

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれら実施例に限定されるものではな
い。

【００６７】実施例１−４ 図１及び図２の洗浄方法における各条件を次の通り設定
した。

【００６８】 円筒状基体上昇（洗浄）速度： ５mm／sec ダスト除去用エアー吹出口スリット幅： ２mm ダスト除去用エアー圧： ８kg／cm² ダスト除去用エアー吹出角度： ４５° 界面活性剤名： CW-5520 （第一工業製薬（株）製） 界面活性剤の濃度： １０％ 界面活性剤含有純水の水温： ６０℃ 界面活性剤含有水吹出口スリット幅： １mm 界面活性剤含有水の水圧： ８０kg／cm² 界面活性剤含有水吹出角度： ４５° 濯ぎ用水の種類： 純水 濯ぎ用水の水温： ６０℃ 濯ぎＩ，IIの吹出口スリット幅： １mm 濯ぎＩ，IIの水圧： ６０kg／cm² 濯ぎＩの吹出角度： ４５° 濯ぎIIの吹出角度： ４０° 乾燥用エアーの温度： １００℃ 乾燥用エアー吹出口スリット幅： １mm 乾燥用エアー圧： １２kg／cm² 乾燥用エフー吹出角度： ４５° 冷却用エアーの温度： ５℃ 冷却用エアー吹出口スリット幅： １mm 冷却用エアー圧： ６kg／cm² 冷却用エアー吹出角度： ４５° （注）濯ぎＩは第１回目の濯ぎで、濯ぎIIは第２回目の
濯ぎを意味する。

【００６９】以上の条件において図１及び図２の洗浄方
法によって円筒状基体を洗浄した。

【００７０】得られた円筒状基体を公知の浸漬塗布方法
により下記Ａ液を円筒状基体の表面に乾燥後の膜厚０．
５μm になるように浸漬塗布し、７５℃の温度で１時間
乾燥し、更に下記Ｂ液をＡ液が塗布された円筒状基体の
表面に乾燥後の膜厚２０μmになるように浸漬塗布し、
７５℃の温度で１時間乾燥した。

【００７１】Ａ液 ジブロムアンスアンスロン２重量部、ブチラール樹脂
［エスレックＢＭ−２、セキスイ化学（株）製］２重量
部、シクロヘキサノン２３０重量部をボールミルにて８
時間分散処理して得られた液。

【００７２】Ｂ液 ヒドラゾン系電荷輸送材［ＡＢＰＨ、日本化薬（株）
製］１重量部、ポリカーボネート樹脂［パンライトＬ−
１２５０、帝人化成（株）製］１重量部をジクロルエタ
ン８重量部で溶解して得られた液。

【００７３】得られた電子写真感光体それぞれ３０本ず
つを回転用治具に装着し複写機［ＳＦ−８１００、シャ
ープ（株）製］に搭載してコピーを取り画像評価を行な
った。結果を表１に示す。

【００７４】実施例５ 図３の洗浄方法によって導電性基体を洗浄した。ＣＷ−
５５２０の界面活性剤１０％含有純水の水温：５０℃、
濯ぎ用純水の水温：５０℃、乾燥用エアーの温度：６０
℃及び内部洗浄ユニットのかわりに超音波発振子１１０
（最大超音波発振出力：７００Ｗ、超音波の使用周波
数：１０〜２０kHz ）を用いた以外は実施例１と同じ条
件で洗浄処理をおこなった。

【００７５】得られた円筒状基体に実施例１と同じよう
に感光層を形成し、画像評価を行なった。結果を表１に
示す。

【００７６】比較例１ 切削加工した円筒状基体を、有機溶剤として６０℃の
１，１，１−トリクロルエタンを用いた超音波・温浴洗
浄処理を３０秒間行なった。２０℃の１，１，１−トリ
クロルエタンで３０秒間冷浴した後、１，１，１−トリ
クロルエタンを用いた蒸気洗浄を３０秒間行ない、クリ
ーンルームで２０分間放冷した。得られた円筒状基体の
表面に実施例と同様の方法で感光体層を形成した。

【００７７】得られた電子写真感光体３０本を実施例１
と同様の方法で画像評価を行なった。結果を表１に示
す。

【００７８】参考例 第１の超音波洗浄槽に実施例１と同じ界面活性剤の１０
％含有純水を洗浄液として用い、６０℃に加温し、超音
波（使用周波数：１０〜２０kHz)を発振し、１分間洗浄
処理をし、第２及び第３の純水槽にて濯ぎ処理を行な
い、８０℃のクリーンエアを３分間吹き付けて乾燥し
た。

【００７９】得られた円筒状基体の表面に実施例１と同
様の方法で感光層を形成し、得られた電子写真感光体３
０本を実施例１と同様の方法で画像評価を行なった。結
果を表１に示す。

【００８０】比較例２ 更に、洗浄処理をしない円筒状基体の表面に実施例１と
同様の方法で感光体層を形成した。得られた電子写真感
光体３０本を実施例１と同様の方法で画像評価をおこな
った。結果を表１に示す。

【００８１】

【表１】

【００８２】

【発明の効果】本発明の方法は、洗浄不良によるハジ
キ、シミ等の発生が防止され、良品率においても、従来
の１，１，１−トリクロルエタン洗浄液を使用する場合
とほとんど同じで、良品率の低下が防止されて、実用可
能な高収率が得られる。更に、洗浄液として有機溶剤を
使用しないので、有機溶剤の使用による大気汚染、人体
への影響、高い引火性及び発火性による爆発の危険、特
に１，１，１−トリクロルエタン、フロンの洗浄液とし
ての使用による地球温暖化及びオゾン層の破壊等の問題
が解消される。

【００８３】また、基体の上昇一工程により洗浄から乾
燥、冷却までが可能なため多槽浸漬水洗浄よりも大幅に
洗浄時間が短縮でき、洗浄槽置も小型になるので生産コ
スト削減が出来る。

【００８４】また、排水を濾過や蒸留すればくり返し利
用できるので、ランニングコストも安く出来る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の表面洗浄環状ユニットを用いた洗浄方
法の概略を示す図である。

【図２】図１の洗浄方法の断面図である。

【図３】超音波振動子を用いた洗浄方法の概略を示す断
面図である。

【符号の説明】

１ ダスト除去用エアー管 １ａ 除去用エアーの吹出口 １０ 界面活性剤含有洗浄液の洗浄液管 １０ａ 洗浄液の吹出口 ２０ 濯ぎ液配管 ２０ａ 濯ぎ液の吹出口 ３０ 乾燥エアー配管 ３０ａ 乾燥エアーの吹出口 ８０ 表面洗浄環状ユニット ９０ 内部洗浄ユニット １１０ 超音波振動子

フロントページの続き (72)発明者 松本 雅則 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ヤープ株式会社内 (72)発明者 松本 浩史 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ヤープ株式会社内 (72)発明者 忍 充弘 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ヤープ株式会社内 (72)発明者 谷口 英明 大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号 シ ヤープ株式会社内

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 導電性基体の外側にギャップを形成する
   ように設けられ且つ内面に複数本の連続した溝形状の流
   体吹出口を有する表面洗浄ユニットの下段の吹出口から
   エアーを噴射してダストを除去する工程、中段の吹出口
   から界面活性剤含有洗浄液を噴射して洗浄する工程、上
   段の吹出口から濯ぎ液を噴射して濯ぎ処理をする工程、
   及び最上段の吹出口から乾燥エアーを噴射して乾燥する
   工程を、相対的に該導電性基体を上昇させることによっ
   て、順次おこなうことを特徴とする電子写真感光体用導
   電性基体の洗浄方法。
2. 【請求項２】 導電性基体を超音波振動子に固定して洗
   浄及び乾燥処理中に超音波振動を与えることを特徴とす
   る請求項１の洗浄方法。