JPH05140472A - 新規なジクロロスズフタロシアニン結晶の製造方法及びその結晶を用いた電子写真感光体 - Google Patents
新規なジクロロスズフタロシアニン結晶の製造方法及びその結晶を用いた電子写真感光体Info
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Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 新規なジクロロスズフタロシアニン結晶の製
造方法およびこの結晶を光導電材料として用いた高い感
度と耐久性を有する電子写真感光体を提供する。 【構成】 X線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角
(2θ±0.2°)=8.7°、9.9°、10.9
°、13.1°、15.2°、16.3°、17.4
°、21.9°、25.5°に強い回折ピークを有する
ジクロロスズフタロシアニン結晶、または、ブラッグ角
(2θ±0.2°)=9.2°、12.2°、13.4
°、14.6°、17.0°、25.3°に強い回折ピ
ークを有するジクロロスズフタロシアニン結晶を、有機
溶剤中で処理して、結晶を変換させ、ブラッグ角(2θ
±0.2°)の25°から30°の範囲において、2
8.2°に最も強い回折ピークを有するジクロロスズフ
タロシアニン結晶を得る方法および導電性支持体上に、
該方法で得られたジクロロスズフタロシアニン結晶を含
有する感光層を設けてなる電子写真感光体。
造方法およびこの結晶を光導電材料として用いた高い感
度と耐久性を有する電子写真感光体を提供する。 【構成】 X線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角
(2θ±0.2°)=8.7°、9.9°、10.9
°、13.1°、15.2°、16.3°、17.4
°、21.9°、25.5°に強い回折ピークを有する
ジクロロスズフタロシアニン結晶、または、ブラッグ角
(2θ±0.2°)=9.2°、12.2°、13.4
°、14.6°、17.0°、25.3°に強い回折ピ
ークを有するジクロロスズフタロシアニン結晶を、有機
溶剤中で処理して、結晶を変換させ、ブラッグ角(2θ
±0.2°)の25°から30°の範囲において、2
8.2°に最も強い回折ピークを有するジクロロスズフ
タロシアニン結晶を得る方法および導電性支持体上に、
該方法で得られたジクロロスズフタロシアニン結晶を含
有する感光層を設けてなる電子写真感光体。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、新規なジクロロスズフ
タロシアニン結晶の製造方法および該新規ジクロロスズ
フタロシアニン結晶を用いた電子写真感光体に関する。
タロシアニン結晶の製造方法および該新規ジクロロスズ
フタロシアニン結晶を用いた電子写真感光体に関する。
【0002】
【従来の技術】フタロシアニンは、塗料、印刷インキ、
触媒あるいは電子材料として有用な材料であり、特に、
近年、電子写真感光体用材料、光記憶用材料および光電
変換材料として、広範に検討がなされている。
触媒あるいは電子材料として有用な材料であり、特に、
近年、電子写真感光体用材料、光記憶用材料および光電
変換材料として、広範に検討がなされている。
【0003】電子写真感光体についてみると、近年、従
来提案された有機光導電材料の感光波長域を、近赤外の
半導体レーザーの波長(780〜830nm)にまで伸
ばし、レーザープリンター等のデジタル記録用の感光体
として使用することの要求が高まっており、この観点か
ら、スクエアリリウム化合物(特開昭49−10553
6号及び同58−21416号公報)、トリフェニルア
ミン系トリスアゾ化合物(特開昭61−151659号
公報)、フタロシアニン化合物(特開昭48−3418
9号及び同57−148745号公報)等が、半導体レ
ーザー用の光導電材料として提案されている。
来提案された有機光導電材料の感光波長域を、近赤外の
半導体レーザーの波長(780〜830nm)にまで伸
ばし、レーザープリンター等のデジタル記録用の感光体
として使用することの要求が高まっており、この観点か
ら、スクエアリリウム化合物(特開昭49−10553
6号及び同58−21416号公報)、トリフェニルア
ミン系トリスアゾ化合物(特開昭61−151659号
公報)、フタロシアニン化合物(特開昭48−3418
9号及び同57−148745号公報)等が、半導体レ
ーザー用の光導電材料として提案されている。
【0004】半導体レーザー用の感光材料として、有機
光導電材料を使用する場合は、まず、感光波長域が長波
長まで伸びていること、次に、形成される感光体の感
度、耐久性が良いこと等が要求される。前記の有機光導
電材料は、必ずしも、これらの諸条件を十分に満足する
ものではない。これらの欠点を克服するために、前記の
有機光導電材料について、結晶型と電子写真特性の関係
が検討されており、特に、フタロシアニン化合物につい
ては多くの報告が出されている。
光導電材料を使用する場合は、まず、感光波長域が長波
長まで伸びていること、次に、形成される感光体の感
度、耐久性が良いこと等が要求される。前記の有機光導
電材料は、必ずしも、これらの諸条件を十分に満足する
ものではない。これらの欠点を克服するために、前記の
有機光導電材料について、結晶型と電子写真特性の関係
が検討されており、特に、フタロシアニン化合物につい
ては多くの報告が出されている。
【0005】一般に、フタロシアニン化合物は、製造方
法、処理方法の違いにより、幾つかの結晶型を示し、こ
の結晶型の違いは、フタロシアニン化合物の光電変換特
性に大きな影響を及ぼすことが知られている。フタロシ
アニン化合物の結晶型については、例えば、銅フタロシ
アニンについてみると、安定系のβ型以外に、α、π、
x、ρ、γ、δ等の結晶型が知られており、これらの結
晶型は、機械的張力、硫酸処理、有機溶剤処理及び熱処
理等により、相互に転移が可能であることが知られてい
る。(例えば、米国特許第2,770,629号、同第
3,1060,635号、同第3,708,292号及
び3,357,989号明細書)。また、特開昭50−
38543号公報には、銅フタロシアニンの結晶型の違
いと電子写真特性について、記載されている。他方、特
開昭62−119547号公報には、ジハロゲノスズフ
タロシアニンを電荷発生材料として用いた電子写真感光
体が記載されており、特開平1−14405号公報に
は、X線回折図上で特定の回折ピークを有するスズフタ
ロシアニン化合物およびそれを用いた電子写真感光体が
記載されている。
法、処理方法の違いにより、幾つかの結晶型を示し、こ
の結晶型の違いは、フタロシアニン化合物の光電変換特
性に大きな影響を及ぼすことが知られている。フタロシ
アニン化合物の結晶型については、例えば、銅フタロシ
アニンについてみると、安定系のβ型以外に、α、π、
x、ρ、γ、δ等の結晶型が知られており、これらの結
晶型は、機械的張力、硫酸処理、有機溶剤処理及び熱処
理等により、相互に転移が可能であることが知られてい
る。(例えば、米国特許第2,770,629号、同第
3,1060,635号、同第3,708,292号及
び3,357,989号明細書)。また、特開昭50−
38543号公報には、銅フタロシアニンの結晶型の違
いと電子写真特性について、記載されている。他方、特
開昭62−119547号公報には、ジハロゲノスズフ
タロシアニンを電荷発生材料として用いた電子写真感光
体が記載されており、特開平1−14405号公報に
は、X線回折図上で特定の回折ピークを有するスズフタ
ロシアニン化合物およびそれを用いた電子写真感光体が
記載されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来開
発されている上記のフタロシアニン化合物は、感光材料
として使用した場合の光感度と耐久性の点でまだ十分満
足のいくものではなかった。本発明は、従来の技術にお
ける上記のような実情に鑑みてなされたものである。す
なわち、本発明の目的は、長波長域に感度を有する光導
電性材料として有用なジクロロスズフタロシアニンの新
規な結晶の製造方法を提供することにある。本発明の他
の目的は、ジクロロスズフタロシアニンの新規な結晶を
光導電材料として用いた高い感度と耐久性を有する電子
写真感光体を提供することにある。
発されている上記のフタロシアニン化合物は、感光材料
として使用した場合の光感度と耐久性の点でまだ十分満
足のいくものではなかった。本発明は、従来の技術にお
ける上記のような実情に鑑みてなされたものである。す
なわち、本発明の目的は、長波長域に感度を有する光導
電性材料として有用なジクロロスズフタロシアニンの新
規な結晶の製造方法を提供することにある。本発明の他
の目的は、ジクロロスズフタロシアニンの新規な結晶を
光導電材料として用いた高い感度と耐久性を有する電子
写真感光体を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、ジクロロ
スズフタロシアニンの結晶系について検討した結果、ジ
クロロスズフタロシアニンには、I〜IV型の4つの結晶
型があること、これらの結晶型は、合成後のジクロロス
ズフタロシアニンを粉砕処理したり、有機溶剤と共にミ
リング処理することによって得られるが、このうち、II
I 型及びIV型結晶は、I型及びII型に比べて不安定であ
り、適当な有機溶剤で処理することにより、容易にI型
結晶に転移することを見出だした。さらに、III 型及び
IV型結晶を経て得られたI型結晶は、III 型及びIV型結
晶を経ないで得られたI型結晶に比べて、粉末X線回折
のピークはほぼ一致するものの、ピーク強度比が全く異
なっており、電子写真特性が優れていることを見出だ
し、本発明を完成した。
スズフタロシアニンの結晶系について検討した結果、ジ
クロロスズフタロシアニンには、I〜IV型の4つの結晶
型があること、これらの結晶型は、合成後のジクロロス
ズフタロシアニンを粉砕処理したり、有機溶剤と共にミ
リング処理することによって得られるが、このうち、II
I 型及びIV型結晶は、I型及びII型に比べて不安定であ
り、適当な有機溶剤で処理することにより、容易にI型
結晶に転移することを見出だした。さらに、III 型及び
IV型結晶を経て得られたI型結晶は、III 型及びIV型結
晶を経ないで得られたI型結晶に比べて、粉末X線回折
のピークはほぼ一致するものの、ピーク強度比が全く異
なっており、電子写真特性が優れていることを見出だ
し、本発明を完成した。
【0008】すなわち、本発明のジクロロスズフタロシ
アニンの製造方法は、X線回折スペクトルにおいて、λ
=1.5418A.U.のCuKα放射線に対するブラ
ッグ角(以下ブラッグ角という)(2θ±0.2°)=
8.7°、9.9°、10.9°、13.1°、15.
2°、16.3°、17.4°、21.9°、25.5
°に強い回折ピークを有するIII 型に属するジクロロス
ズフタロシアニン結晶、または、ブラッグ角(2θ±
0.2°)=9.2°、12.2°、13.4°、1
4.6°、17.0°、25.3°に強い回折ピークを
有するIV型に属するジクロロスズフタロシアニン結晶
を、有機溶剤中で処理して、ブラッグ角(2θ±0.2
°)の25°から30°の範囲において、28.2°に
最も強い回折ピークを有するI型に属するジクロロスズ
フタロシアニン結晶に転移させることを特徴とする。本
発明の電子写真感光体は、導電性支持体上に、上記のよ
うにして製造されたブラッグ角(2θ±0.2°)の2
5°から30°の範囲において、28.2°に最も強い
回折ピークを有するジクロロスズフタロシアニン結晶を
含有する感光層を設けてなることを特徴とする。
アニンの製造方法は、X線回折スペクトルにおいて、λ
=1.5418A.U.のCuKα放射線に対するブラ
ッグ角(以下ブラッグ角という)(2θ±0.2°)=
8.7°、9.9°、10.9°、13.1°、15.
2°、16.3°、17.4°、21.9°、25.5
°に強い回折ピークを有するIII 型に属するジクロロス
ズフタロシアニン結晶、または、ブラッグ角(2θ±
0.2°)=9.2°、12.2°、13.4°、1
4.6°、17.0°、25.3°に強い回折ピークを
有するIV型に属するジクロロスズフタロシアニン結晶
を、有機溶剤中で処理して、ブラッグ角(2θ±0.2
°)の25°から30°の範囲において、28.2°に
最も強い回折ピークを有するI型に属するジクロロスズ
フタロシアニン結晶に転移させることを特徴とする。本
発明の電子写真感光体は、導電性支持体上に、上記のよ
うにして製造されたブラッグ角(2θ±0.2°)の2
5°から30°の範囲において、28.2°に最も強い
回折ピークを有するジクロロスズフタロシアニン結晶を
含有する感光層を設けてなることを特徴とする。
【0009】以下、本発明について詳細に説明する。本
発明の製造方法において、出発原料である上記III 型ジ
クロロスズフタロシアニン結晶およびIV型ジクロロスズ
フタロシアニン結晶は、いずれも新規な結晶であり、次
のようにして製造される。すなわち、公知の方法で製造
されたジクロロスズフタロシアニン結晶をボールミル等
を用い、特定の有機溶剤中で粉砕することによって、製
造することができる。また、乾式粉砕の後、溶剤で処理
することによっても得られる。使用する有機溶剤は、II
I 型ジクロロスズフタロシアニン結晶の場合には、トル
エン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素が
使用されるが、なかでも、クロロベンゼンが最も好まし
く用いられる。また、IV型ジクロロスズフタロシアニン
結晶の場合には、テトラヒドロフラン、1、4−ジオキ
サン等のエーテル類が使用される。そのなかでも、テト
ラヒドロフランが好ましく用いられる。
発明の製造方法において、出発原料である上記III 型ジ
クロロスズフタロシアニン結晶およびIV型ジクロロスズ
フタロシアニン結晶は、いずれも新規な結晶であり、次
のようにして製造される。すなわち、公知の方法で製造
されたジクロロスズフタロシアニン結晶をボールミル等
を用い、特定の有機溶剤中で粉砕することによって、製
造することができる。また、乾式粉砕の後、溶剤で処理
することによっても得られる。使用する有機溶剤は、II
I 型ジクロロスズフタロシアニン結晶の場合には、トル
エン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素が
使用されるが、なかでも、クロロベンゼンが最も好まし
く用いられる。また、IV型ジクロロスズフタロシアニン
結晶の場合には、テトラヒドロフラン、1、4−ジオキ
サン等のエーテル類が使用される。そのなかでも、テト
ラヒドロフランが好ましく用いられる。
【0010】粉砕には、ボールミルの他、サンドミル、
ニーダー等を用いることができるが、それ等に限定され
るものではない。また、必要に応じて、ガラスビーズ、
スチールビーズ等の磨砕メディア、あるいは食塩、ぼう
硝等の磨砕助剤を用いることができる。粉砕処理は、温
度範囲10〜50°C、通常は室温において、10〜1
00時間行うことが好ましい。
ニーダー等を用いることができるが、それ等に限定され
るものではない。また、必要に応じて、ガラスビーズ、
スチールビーズ等の磨砕メディア、あるいは食塩、ぼう
硝等の磨砕助剤を用いることができる。粉砕処理は、温
度範囲10〜50°C、通常は室温において、10〜1
00時間行うことが好ましい。
【0011】上記のようにして、ブラッグ角(2θ±
0.2°)=8.7°、9.9°、10.9°、13.
1°、15.2°、16.3°、17.4°、21.9
°、25.5°に強い回折ピークを有するIII 型のジク
ロロスズフタロシアニン結晶およびブラッグ角(2θ±
0.2°)=9.2°、12.2°、13.4°、1
4.6°、17.0°、25.3°に強い回折ピークを
有するIV型のジクロロスズフタロシアニン結晶が製造さ
れる。これらの結晶は、次いで、有機溶剤中で処理する
ことによって、ブラッグ角(2θ±0.2°)の25°
から30°の範囲において、28.2°に最も強い回折
ピークを有するI 型のジクロロスズフタロシアニン結晶
に転移させる。
0.2°)=8.7°、9.9°、10.9°、13.
1°、15.2°、16.3°、17.4°、21.9
°、25.5°に強い回折ピークを有するIII 型のジク
ロロスズフタロシアニン結晶およびブラッグ角(2θ±
0.2°)=9.2°、12.2°、13.4°、1
4.6°、17.0°、25.3°に強い回折ピークを
有するIV型のジクロロスズフタロシアニン結晶が製造さ
れる。これらの結晶は、次いで、有機溶剤中で処理する
ことによって、ブラッグ角(2θ±0.2°)の25°
から30°の範囲において、28.2°に最も強い回折
ピークを有するI 型のジクロロスズフタロシアニン結晶
に転移させる。
【0012】使用される有機溶剤としては、アセトン、
メチルエチルケトン(MEK)等のケトン類、塩化メチ
レン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エ
チル、酢酸ブチル等の酢酸エステル類、ジメチルホルム
アミド(DMF)、ピリジン等の種々のものがあげられ
るが、本発明においては、得られるジクロロスズフタロ
シアニン結晶が、ブラッグ角(2θ±0.2°)の25
°から30°の範囲において、28.2°に最も強い回
折ピークを有するI 型の結晶型を有するものになるよう
に、適宜選択して使用する。これらの中でも、酢酸エス
テル類が特に好ましく使用することができる。
メチルエチルケトン(MEK)等のケトン類、塩化メチ
レン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エ
チル、酢酸ブチル等の酢酸エステル類、ジメチルホルム
アミド(DMF)、ピリジン等の種々のものがあげられ
るが、本発明においては、得られるジクロロスズフタロ
シアニン結晶が、ブラッグ角(2θ±0.2°)の25
°から30°の範囲において、28.2°に最も強い回
折ピークを有するI 型の結晶型を有するものになるよう
に、適宜選択して使用する。これらの中でも、酢酸エス
テル類が特に好ましく使用することができる。
【0013】上記結晶転移の際に、有機溶剤中に結着樹
脂を配合してもよい。その場合、分散処理を行うことに
よって、結晶転移が行われると共に、得られた分散液
は、直接、電荷発生層形成用塗布液として使用すること
ができるので、電子写真感光体の製造上有利である。上
記有機溶剤処理に際しては、必要に応じて、ガラスビー
ズ、スチールビーズ等の磨砕メディア等を用いて磨砕を
行いながら処理することも可能である。
脂を配合してもよい。その場合、分散処理を行うことに
よって、結晶転移が行われると共に、得られた分散液
は、直接、電荷発生層形成用塗布液として使用すること
ができるので、電子写真感光体の製造上有利である。上
記有機溶剤処理に際しては、必要に応じて、ガラスビー
ズ、スチールビーズ等の磨砕メディア等を用いて磨砕を
行いながら処理することも可能である。
【0014】本発明により得られるI型結晶は、III 型
及びIV型結晶を経ないで得られたI型結晶に比べて、電
子写真特性において優れたものであって、その粉末X線
回折のピークはIII 型及びIV型結晶を経ないで得られた
I型結晶とほぼ一致するが、ピーク強度比が全く異なっ
ている。これは、III 型またはIV型結晶からI型結晶に
転移する際に、III 型、IV型結晶に取り込まれていた揮
発性成分が抜け出すために結晶格子に歪みがかかり、結
晶の成長軸が異なり、配向性に影響を及ぼすためと推測
される。
及びIV型結晶を経ないで得られたI型結晶に比べて、電
子写真特性において優れたものであって、その粉末X線
回折のピークはIII 型及びIV型結晶を経ないで得られた
I型結晶とほぼ一致するが、ピーク強度比が全く異なっ
ている。これは、III 型またはIV型結晶からI型結晶に
転移する際に、III 型、IV型結晶に取り込まれていた揮
発性成分が抜け出すために結晶格子に歪みがかかり、結
晶の成長軸が異なり、配向性に影響を及ぼすためと推測
される。
【0015】次に、本発明の製造方法で得られたジクロ
ロスズフタロシアニン結晶を、感光層における光導電材
料として使用した電子写真感光体について説明する。本
発明の電子写真感光体は、感光層が単層構造のもので
も、電荷発生層と電荷輸送層とに機能分離された積層構
造のものであってもよい。
ロスズフタロシアニン結晶を、感光層における光導電材
料として使用した電子写真感光体について説明する。本
発明の電子写真感光体は、感光層が単層構造のもので
も、電荷発生層と電荷輸送層とに機能分離された積層構
造のものであってもよい。
【0016】感光層が積層構造を有する場合、電荷発生
層は、上記I型ジクロロスズフタロシアニン結晶及び結
着樹脂から構成される。結着樹脂は、広範な絶縁性樹脂
から選択することができ、また、ポリ−N−ビニルカル
バゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン
等の有機光導電性ポリマーから選択することもできる。
好ましい結着樹脂としては、ポリビニルブチラール、ポ
リアリレート(ビスフェノールAとフタル酸の重縮合体
等)、ポリカーボネート、ポリエステル、フェノキシ樹
脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニ
ル、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド、ポリアミド、
ポリビニルピリジン、セルロース系樹脂、ウレタン樹
脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール、
ポリビニルピロリドン等の絶縁性樹脂をあげることがで
きる。
層は、上記I型ジクロロスズフタロシアニン結晶及び結
着樹脂から構成される。結着樹脂は、広範な絶縁性樹脂
から選択することができ、また、ポリ−N−ビニルカル
バゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン
等の有機光導電性ポリマーから選択することもできる。
好ましい結着樹脂としては、ポリビニルブチラール、ポ
リアリレート(ビスフェノールAとフタル酸の重縮合体
等)、ポリカーボネート、ポリエステル、フェノキシ樹
脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニ
ル、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド、ポリアミド、
ポリビニルピリジン、セルロース系樹脂、ウレタン樹
脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール、
ポリビニルピロリドン等の絶縁性樹脂をあげることがで
きる。
【0017】電荷発生層は、上記結着樹脂を有機溶剤に
溶解した溶液に、上記I型ジクロロスズフタロシアニン
結晶を分散させて塗布液を調製し、それを導電性支持体
の上に塗布することによって形成することができる。ま
た、III 型、IV型結晶を用い、塗布液中で結晶転移させ
てもよい。その場合、使用するジクロロスズフタロシア
ニン結晶と結着樹脂の配合比は、40:1〜1:10、
好ましくは10:1〜1:4である。ジクロロスズフタ
ロシアニン結晶の比率が高すぎる場合には、塗布液の安
定性が低下し、低すぎる場合には、感度が低下するの
で、上記範囲に設定するのが好ましい。
溶解した溶液に、上記I型ジクロロスズフタロシアニン
結晶を分散させて塗布液を調製し、それを導電性支持体
の上に塗布することによって形成することができる。ま
た、III 型、IV型結晶を用い、塗布液中で結晶転移させ
てもよい。その場合、使用するジクロロスズフタロシア
ニン結晶と結着樹脂の配合比は、40:1〜1:10、
好ましくは10:1〜1:4である。ジクロロスズフタ
ロシアニン結晶の比率が高すぎる場合には、塗布液の安
定性が低下し、低すぎる場合には、感度が低下するの
で、上記範囲に設定するのが好ましい。
【0018】使用する溶剤としては、下引き層あるいは
電荷輸送層を溶解しないものから選択するのが好まし
い。具体的な有機溶剤としては、メタノール、エタノー
ル、イソプロパノール等のアルコール類、アセトン、M
EK、シクロヘキサノン等のケトン類、DMF、N,N
−ジメチルアセトアミド等のアミド類、ジメチルスルホ
キシド類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレン
グルコールモノメチルエーテル等のエーテル類、酢酸メ
チル、酢酸エチル等のエステル類、クロロホルム、塩化
メチレン、ジクロルエチレン、四塩化炭素、トリクロル
エチレン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、リグロイン、モノクロルベンゼン、
ジクロルベンゼン等の脂肪族、芳香族炭化水素等を用い
ることができる。このうち、酢酸エステル類が特に好ま
しい。
電荷輸送層を溶解しないものから選択するのが好まし
い。具体的な有機溶剤としては、メタノール、エタノー
ル、イソプロパノール等のアルコール類、アセトン、M
EK、シクロヘキサノン等のケトン類、DMF、N,N
−ジメチルアセトアミド等のアミド類、ジメチルスルホ
キシド類、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレン
グルコールモノメチルエーテル等のエーテル類、酢酸メ
チル、酢酸エチル等のエステル類、クロロホルム、塩化
メチレン、ジクロルエチレン、四塩化炭素、トリクロル
エチレン等の脂肪族ハロゲン化炭化水素、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、リグロイン、モノクロルベンゼン、
ジクロルベンゼン等の脂肪族、芳香族炭化水素等を用い
ることができる。このうち、酢酸エステル類が特に好ま
しい。
【0019】塗布液の塗布は、浸漬コーティング法、ス
プレーコーティング法、スピナーコーティング法、ビー
ドコーティング法、ワイパーコーティング法、ブレード
コーティング法、ローラーコーティング法、カーテンコ
ーティング法等のコーティング法を用いることができ
る。また、乾燥は、室温における指触乾燥後、加熱乾燥
する方法が好ましい。加熱乾燥は、30〜200°Cの
温度で5分〜2時間の範囲で静止または送風下で行うこ
とができる。また、電荷発生層の膜厚は、通常、0.0
5〜5μm程度になるように塗布される。
プレーコーティング法、スピナーコーティング法、ビー
ドコーティング法、ワイパーコーティング法、ブレード
コーティング法、ローラーコーティング法、カーテンコ
ーティング法等のコーティング法を用いることができ
る。また、乾燥は、室温における指触乾燥後、加熱乾燥
する方法が好ましい。加熱乾燥は、30〜200°Cの
温度で5分〜2時間の範囲で静止または送風下で行うこ
とができる。また、電荷発生層の膜厚は、通常、0.0
5〜5μm程度になるように塗布される。
【0020】電荷輸送層は、電荷輸送材料および結着樹
脂より構成される。電荷輸送材料としては、例えば、ア
ントラセン、ピレン、フェナントレン等の多環芳香族化
合物、インドール、カルバゾール、イミダゾール等の含
窒素複素環を有する化合物、ピラゾリン化合物、ヒドラ
ゾン化合物、トリフェニルメタン化合物、トリフェニル
アミン化合物、エナミン化合物、スチルベン化合物等、
公知のものならば如何なるものでも使用することができ
る。更にまた、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ハロゲ
ン化ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリビニルアント
ラセン、ポリ−N−ビニルフェニルアントラセン、ポリ
ビニルピレン、ポリビニルアセナフチレン、ポリグリシ
ジカルバゾール、ピレン−ホルムアルデヒド樹脂、エチ
ルカルバゾール−ホルムアルデヒド樹脂等の光導電性ポ
リマーがあげられ、これ等はそれ自体で層を形成しても
よい。また、結着樹脂としては、上記した電荷発生層に
使用されるものと同様な絶縁性樹脂が使用できる。
脂より構成される。電荷輸送材料としては、例えば、ア
ントラセン、ピレン、フェナントレン等の多環芳香族化
合物、インドール、カルバゾール、イミダゾール等の含
窒素複素環を有する化合物、ピラゾリン化合物、ヒドラ
ゾン化合物、トリフェニルメタン化合物、トリフェニル
アミン化合物、エナミン化合物、スチルベン化合物等、
公知のものならば如何なるものでも使用することができ
る。更にまた、ポリ−N−ビニルカルバゾール、ハロゲ
ン化ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリビニルアント
ラセン、ポリ−N−ビニルフェニルアントラセン、ポリ
ビニルピレン、ポリビニルアセナフチレン、ポリグリシ
ジカルバゾール、ピレン−ホルムアルデヒド樹脂、エチ
ルカルバゾール−ホルムアルデヒド樹脂等の光導電性ポ
リマーがあげられ、これ等はそれ自体で層を形成しても
よい。また、結着樹脂としては、上記した電荷発生層に
使用されるものと同様な絶縁性樹脂が使用できる。
【0021】電荷輸送層は、上記電荷輸送材料と結着樹
脂および上記と同様な有機溶剤とを用いて塗布液を調製
したあと、同様に塗布して形成することができる。電荷
輸送材料と結着樹脂との配合比(重量部)は、通常5:
1〜1:5の範囲で設定される。また、電荷輸送層の膜
厚は、通常10〜30μm程度に設定される。
脂および上記と同様な有機溶剤とを用いて塗布液を調製
したあと、同様に塗布して形成することができる。電荷
輸送材料と結着樹脂との配合比(重量部)は、通常5:
1〜1:5の範囲で設定される。また、電荷輸送層の膜
厚は、通常10〜30μm程度に設定される。
【0022】電子写真感光体が、単層構造を有する場合
においては、感光層は上記のジクロロスズフタロシアニ
ン結晶が電荷輸送材料および結着樹脂よりなる層に分散
された構成を有する光導電層よりなる。その場合、電荷
輸送材料と結着樹脂との配合比は、1:20〜5:1、
ジクロロスズフタロシアニン結晶と電荷輸送材料との配
合比は、1:10〜10:1程度に設定するのが好まし
い。電荷輸送材料および結着樹脂は、上記と同様なもの
が使用され、上記と同様にして光導電層が形成される。
においては、感光層は上記のジクロロスズフタロシアニ
ン結晶が電荷輸送材料および結着樹脂よりなる層に分散
された構成を有する光導電層よりなる。その場合、電荷
輸送材料と結着樹脂との配合比は、1:20〜5:1、
ジクロロスズフタロシアニン結晶と電荷輸送材料との配
合比は、1:10〜10:1程度に設定するのが好まし
い。電荷輸送材料および結着樹脂は、上記と同様なもの
が使用され、上記と同様にして光導電層が形成される。
【0023】導電性支持体としては、電子写真感光体と
して使用することが公知のものならば、如何なるもので
も使用することができる。本発明において、導電性支持
体上に下引き層が設けられてもよい。下引き層は、導電
性支持体からの不必要な電荷の注入を阻止するために有
効であり、感光層の帯電性を高める作用がある。さら
に、感光層と導電性支持体との密着性を高める作用もあ
る。下引き層を構成する材料としては、ポリビニルアル
コール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピリジン、
セルロースエーテル類、セルロースエステル類、ポリア
ミド、ポリウレタン、カゼイン、ゼラチン、ポリグルタ
ミン酸、澱粉、スターチアセテート、アミノ澱粉、ポリ
アクリル酸、ポリアクリルアミド、ジルコニウムキレー
ト化合物、ジルコニウムアルコキシド化合物、有機ジル
コニウム化合物、チタニルキレート化合物、チタニルア
ルコキシド化合物、有機チタニル化合物、シランカップ
リング剤等があげられる。下引き層の膜厚は、0.05
〜2μm程度に設定するのが好ましい。
して使用することが公知のものならば、如何なるもので
も使用することができる。本発明において、導電性支持
体上に下引き層が設けられてもよい。下引き層は、導電
性支持体からの不必要な電荷の注入を阻止するために有
効であり、感光層の帯電性を高める作用がある。さら
に、感光層と導電性支持体との密着性を高める作用もあ
る。下引き層を構成する材料としては、ポリビニルアル
コール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピリジン、
セルロースエーテル類、セルロースエステル類、ポリア
ミド、ポリウレタン、カゼイン、ゼラチン、ポリグルタ
ミン酸、澱粉、スターチアセテート、アミノ澱粉、ポリ
アクリル酸、ポリアクリルアミド、ジルコニウムキレー
ト化合物、ジルコニウムアルコキシド化合物、有機ジル
コニウム化合物、チタニルキレート化合物、チタニルア
ルコキシド化合物、有機チタニル化合物、シランカップ
リング剤等があげられる。下引き層の膜厚は、0.05
〜2μm程度に設定するのが好ましい。
【0024】
【実施例】以下、実施例によって本発明を説明する。 合成例1(ジクロロスズフタロシアニンの合成) フタロニトリル50g及び無水塩化第2スズ27gを、
1−クロルナフタレン350ml中に加え、195°C
において5時間反応させた後、生成物を濾別し、1−ク
ロルナフタレン、アセトン、メタノール、次いで水で洗
浄した後、減圧乾燥して、ジクロロスズフタロシアニン
結晶18.3g(27%)を得た。得られたジクロロス
ズフタロシアニン結晶の粉末X線回折図を、図1に示
す。
1−クロルナフタレン350ml中に加え、195°C
において5時間反応させた後、生成物を濾別し、1−ク
ロルナフタレン、アセトン、メタノール、次いで水で洗
浄した後、減圧乾燥して、ジクロロスズフタロシアニン
結晶18.3g(27%)を得た。得られたジクロロス
ズフタロシアニン結晶の粉末X線回折図を、図1に示
す。
【0025】合成例2 合成例1で得られたジクロロスズフタロシアニン結晶1
gを、ガラスビーズ(1mmφ)100gとともにクロ
ロベンゼン(以下MCBという)30ml中で、ボール
ミルを用いて室温にて72時間粉砕し、得られたスラリ
ーを濾過し、メタノールで繰り返し洗浄した後、減圧乾
燥して、ジクロロスズフタロシアニンのIII 結晶0.9
7gを得た。得られたジクロロスズフタロシアニンのII
I 型結晶の粉末X線回折図を、図2に示す。熱重量分析
の結果を、図14に示す。約130℃で約11%の重量
減少が見られた(試料量は9.39mg)。
gを、ガラスビーズ(1mmφ)100gとともにクロ
ロベンゼン(以下MCBという)30ml中で、ボール
ミルを用いて室温にて72時間粉砕し、得られたスラリ
ーを濾過し、メタノールで繰り返し洗浄した後、減圧乾
燥して、ジクロロスズフタロシアニンのIII 結晶0.9
7gを得た。得られたジクロロスズフタロシアニンのII
I 型結晶の粉末X線回折図を、図2に示す。熱重量分析
の結果を、図14に示す。約130℃で約11%の重量
減少が見られた(試料量は9.39mg)。
【0026】合成例3 合成例2において、粉砕時の溶剤として、テトラヒドロ
フラン(以下THFという)を用いた以外は、同様に処
理して、ジクロロスズフタロシアニンのIV型結晶0.9
3gを得た。得られたジクロロスズフタロシアニンのIV
型結晶の粉末X線回折図を、図3に示す。熱重量分析の
結果を、図15に示す。約150℃で約7%の重量減少
が見られた(試料量は9.79mg)
フラン(以下THFという)を用いた以外は、同様に処
理して、ジクロロスズフタロシアニンのIV型結晶0.9
3gを得た。得られたジクロロスズフタロシアニンのIV
型結晶の粉末X線回折図を、図3に示す。熱重量分析の
結果を、図15に示す。約150℃で約7%の重量減少
が見られた(試料量は9.79mg)
【0027】合成例4 合成例1で得たジクロロスズフタロシアニン5gをメノ
ウボール(20mmφ)500gとともにメノウ製ポッ
ト(500ml)に入れ、遊星型ボールミル(フリッチ
ュ社製:P−5製)にて、400rpmで1時間粉砕し
た。得られたジクロロスズフタロシアニン結晶の粉末X
線回折図を、図4に示す。
ウボール(20mmφ)500gとともにメノウ製ポッ
ト(500ml)に入れ、遊星型ボールミル(フリッチ
ュ社製:P−5製)にて、400rpmで1時間粉砕し
た。得られたジクロロスズフタロシアニン結晶の粉末X
線回折図を、図4に示す。
【0028】合成例5 合成例4で得たジクロロスズフタロシアニン結晶0.5
gをMCB15ml、ガラスビーズ30gと共に室温下
24時間ミリング処理した後、ガラスビーズを濾別、乾
燥して、ジクロロスズフタロシアニンのIII 型結晶0.
45gを得た。(X線は図2と同様)
gをMCB15ml、ガラスビーズ30gと共に室温下
24時間ミリング処理した後、ガラスビーズを濾別、乾
燥して、ジクロロスズフタロシアニンのIII 型結晶0.
45gを得た。(X線は図2と同様)
【0029】合成例6 合成例5のMCBをTHFにかえて同様に処理し、ジク
ロロスズフタロシアニンのIV型結晶を0.43g得た。
(X線は図3と同様)
ロロスズフタロシアニンのIV型結晶を0.43g得た。
(X線は図3と同様)
【0030】実施例1 合成例2で得たジクロロスズフタロシアニンのIII 型結
晶0.5gをn−酢酸ブチル15mlを用いて、合成例
5と同様に処理して、ジクロロスズフタロシアニンのI
型結晶0.40gを得た。得られたジクロロスズフタロ
シアニンのI型結晶の粉末X線回折図を、図5に示す。
熱重量分析の結果を、図16に示す。0〜200℃の間
で重量変化はほとんど見られなかった(試料量は9.7
8mg)。
晶0.5gをn−酢酸ブチル15mlを用いて、合成例
5と同様に処理して、ジクロロスズフタロシアニンのI
型結晶0.40gを得た。得られたジクロロスズフタロ
シアニンのI型結晶の粉末X線回折図を、図5に示す。
熱重量分析の結果を、図16に示す。0〜200℃の間
で重量変化はほとんど見られなかった(試料量は9.7
8mg)。
【0031】実施例2 合成例3で得たジクロロスズフタロシアニンのIV型結晶
0.5gを用いた他は、実施例1と同様にして、本発明
のジクロロスズフタロシアニンのI型結晶0.42gを
得た。得られたジクロロスズフタロシアニンのI型結晶
の粉末X線回折図を、図6に示す。
0.5gを用いた他は、実施例1と同様にして、本発明
のジクロロスズフタロシアニンのI型結晶0.42gを
得た。得られたジクロロスズフタロシアニンのI型結晶
の粉末X線回折図を、図6に示す。
【0032】比較例1 合成例4で得たジクロロスズフタロシアニン結晶0.5
gを酢酸ブチル15ml、ガラスビーズ30gと共に室
温下24時間ミリング処理した後、ガラスビーズを濾
別、乾燥して、ジクロロスズフタロシアニンのI型結晶
0.45gを得た。得られたジクロロスズフタロシアニ
ンのI型結晶の粉末X線回折図を、図7に示す。
gを酢酸ブチル15ml、ガラスビーズ30gと共に室
温下24時間ミリング処理した後、ガラスビーズを濾
別、乾燥して、ジクロロスズフタロシアニンのI型結晶
0.45gを得た。得られたジクロロスズフタロシアニ
ンのI型結晶の粉末X線回折図を、図7に示す。
【0033】実施例3 合成例2で得られたジクロロスズフタロシアニン結晶1
部をポリビニルブチラール(商品名:エスレックBM−
1、積水化学社製)1部及びn−酢酸ブチル100部と
混合し、ガラスビーズと共にペイントシェーカーで1時
間処理して分散した後、得られた塗布液を浸漬コーティ
ング法でアルミニウム基板上に塗布し、100°Cにお
いて5分間加熱乾燥し、膜厚0.2μmの電荷発生層を
形成した。また、この溶液を乾燥し、粉末X線回折を測
定したところ、図8に示すように本発明のジクロロスズ
フタロシアニンのI型結晶であった。
部をポリビニルブチラール(商品名:エスレックBM−
1、積水化学社製)1部及びn−酢酸ブチル100部と
混合し、ガラスビーズと共にペイントシェーカーで1時
間処理して分散した後、得られた塗布液を浸漬コーティ
ング法でアルミニウム基板上に塗布し、100°Cにお
いて5分間加熱乾燥し、膜厚0.2μmの電荷発生層を
形成した。また、この溶液を乾燥し、粉末X線回折を測
定したところ、図8に示すように本発明のジクロロスズ
フタロシアニンのI型結晶であった。
【0034】次に下記構造式
【化1】
【0035】下記構造式
【化2】 で示されるポリ(4,4−シクロヘキシリデンジフェニ
レンカーボネート)3部を、モノクロロベンゼン20部
に溶解し、得られた塗布液を、電荷発生層が形成された
アルミニウム基板上に浸漬コーティング法で塗布し、1
20°Cにおいて1時間加熱乾燥し、膜厚20μmの電
荷発生層を形成した。
レンカーボネート)3部を、モノクロロベンゼン20部
に溶解し、得られた塗布液を、電荷発生層が形成された
アルミニウム基板上に浸漬コーティング法で塗布し、1
20°Cにおいて1時間加熱乾燥し、膜厚20μmの電
荷発生層を形成した。
【0036】得られた電子写真感光体を、常温常湿(2
0°C、50%RH)の環境の中で、静電複写試験装置
(EPA−8100、川口電気(株)製)を用いて、−
6KVのコロナ放電を行い、帯電させた後、タングステ
ンランプの光を、モノクロメーターを用いて800nm
の単色光にし、感光体表面上で1μW/cm2 になるよ
うに調整し、照射した。そしてその表面電位が初期VO
(ボルト)の1/2になるまでの露光量E1/2 (erg
/cm2 )を測定し、その後10ルックスのタングステ
ン光を1秒間感光体表面上に照射し、残留電位VR を測
定した。さらに、上記の帯電、露光を1000回繰り返
した後のVO 、E1/2 、VR を測定した。その結果を表
1に示す。
0°C、50%RH)の環境の中で、静電複写試験装置
(EPA−8100、川口電気(株)製)を用いて、−
6KVのコロナ放電を行い、帯電させた後、タングステ
ンランプの光を、モノクロメーターを用いて800nm
の単色光にし、感光体表面上で1μW/cm2 になるよ
うに調整し、照射した。そしてその表面電位が初期VO
(ボルト)の1/2になるまでの露光量E1/2 (erg
/cm2 )を測定し、その後10ルックスのタングステ
ン光を1秒間感光体表面上に照射し、残留電位VR を測
定した。さらに、上記の帯電、露光を1000回繰り返
した後のVO 、E1/2 、VR を測定した。その結果を表
1に示す。
【0037】実施例4 合成例3で得られたジクロロスズフタロシアニンを用い
た以外は、実施例3と同様にして感光体を作製し、評価
した。結果を表1に示す。また、CGL塗布液を乾燥
し、粉末X線回折を測定したところ図9に示すように本
発明のジクロロスズフタロシアニンのI型結晶であっ
た。
た以外は、実施例3と同様にして感光体を作製し、評価
した。結果を表1に示す。また、CGL塗布液を乾燥
し、粉末X線回折を測定したところ図9に示すように本
発明のジクロロスズフタロシアニンのI型結晶であっ
た。
【0038】比較例2 比較例1で得られたジクロロスズフタロシアニンのI型
結晶を用いたほかは、実施例4と同様にして感光体を作
製し、評価した。結果を表1に示す。また、CGL塗布
液を乾燥し、粉末X線回折を測定したところ図10に示
すようにI型結晶のままであった。
結晶を用いたほかは、実施例4と同様にして感光体を作
製し、評価した。結果を表1に示す。また、CGL塗布
液を乾燥し、粉末X線回折を測定したところ図10に示
すようにI型結晶のままであった。
【0039】比較例3〜5 CGL塗布溶剤としてn−酢酸ブチルの代わりに、n−
ブタノールを用い表1に示した顔料(電荷発生材)用い
た他は、実施例4と同様にして感光体を作製し、評価し
た。またそれぞれのCGL塗布液を乾燥し、粉末X線回
折を測定した。結果を表1にまとめた。
ブタノールを用い表1に示した顔料(電荷発生材)用い
た他は、実施例4と同様にして感光体を作製し、評価し
た。またそれぞれのCGL塗布液を乾燥し、粉末X線回
折を測定した。結果を表1にまとめた。
【0040】
【表1】
【0041】
【発明の効果】本発明によれば、簡単な処理で、ブラッ
グ角(2θ±0.2°)の25°から30°の範囲にお
いて、28.2°に最も強い回折ピークを有するジクロ
ロスズフタロシアニンの新規な結晶が得られる。本発明
によって得られるジクロロスズフタロシアニン結晶は、
半導体レーザーを利用するプリンター等の電子写真感光
体用の光導電材料として非常に有用であり、得られた本
発明の電子写真感光体は、優れた感度および耐久性を有
している。
グ角(2θ±0.2°)の25°から30°の範囲にお
いて、28.2°に最も強い回折ピークを有するジクロ
ロスズフタロシアニンの新規な結晶が得られる。本発明
によって得られるジクロロスズフタロシアニン結晶は、
半導体レーザーを利用するプリンター等の電子写真感光
体用の光導電材料として非常に有用であり、得られた本
発明の電子写真感光体は、優れた感度および耐久性を有
している。
【図1】 合成例1によって得られたジクロロスズフタ
ロシアニン結晶の粉末X線回折スペクトル図である。
ロシアニン結晶の粉末X線回折スペクトル図である。
【図2】 合成例2によって得られたジクロロスズフタ
ロシアニンのIII 型結晶の粉末X線回折スペクトル図で
ある。
ロシアニンのIII 型結晶の粉末X線回折スペクトル図で
ある。
【図3】 合成例3によって得られたジクロロスズフタ
ロシアニンのIV型結晶の粉末X線回折スペクトル図であ
る。
ロシアニンのIV型結晶の粉末X線回折スペクトル図であ
る。
【図4】 合成例4によって得られたジクロロスズフタ
ロシアニン結晶の粉末X線回折スペクトル図である。
ロシアニン結晶の粉末X線回折スペクトル図である。
【図5】 実施例1によって得られたジクロロスズフタ
ロシアニンのI型結晶の粉末X線回折スペクトル図であ
る。
ロシアニンのI型結晶の粉末X線回折スペクトル図であ
る。
【図6】 実施例2によって得られたジクロロスズフタ
ロシアニンのI型結晶の粉末X線回折スペクトル図であ
る。
ロシアニンのI型結晶の粉末X線回折スペクトル図であ
る。
【図7】 比較例1によって得られたジクロロスズフタ
ロシアニンのI型結晶の粉末X線回折スペクトル図であ
る。
ロシアニンのI型結晶の粉末X線回折スペクトル図であ
る。
【図8】 実施例3によって得られたジクロロスズフタ
ロシアニンのI型結晶の粉末X線回折スペクトル図であ
る。
ロシアニンのI型結晶の粉末X線回折スペクトル図であ
る。
【図9】 実施例4によって得られたジクロロスズフタ
ロシアニンのI型結晶の粉末X線回折スペクトル図であ
る。
ロシアニンのI型結晶の粉末X線回折スペクトル図であ
る。
【図10】 比較例2及び5によって得られたジクロロ
スズフタロシアニンのI型結晶の粉末X線回折スペクト
ル図である。
スズフタロシアニンのI型結晶の粉末X線回折スペクト
ル図である。
【図11】 比較例3によって得られたジクロロスズフ
タロシアニン結晶の粉末X線回折スペクトル図である。
タロシアニン結晶の粉末X線回折スペクトル図である。
【図12】 比較例4によって得られたジクロロスズフ
タロシアニン結晶の粉末X線回折スペクトル図である。
タロシアニン結晶の粉末X線回折スペクトル図である。
【図13】ジクロロスズフタロシアニンのII型結晶の
粉末X線回折スペクトル図である。
粉末X線回折スペクトル図である。
【図14】 合成例2によって得られたジクロロスズフ
タロシアニンのIII型結晶の熱重量分析図である。
タロシアニンのIII型結晶の熱重量分析図である。
【図15】 合成例3によって得られたジクロロスズフ
タロシアニンのIV型結晶の熱重量分析図である。
タロシアニンのIV型結晶の熱重量分析図である。
【図16】 実施例1によって得られたジクロロスズフ
タロシアニンのI 型結晶の熱重量分析図である。
タロシアニンのI 型結晶の熱重量分析図である。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成4年11月9日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0036
【補正方法】変更
【補正内容】
【0036】得られた電子写真感光体を、常温常湿(2
0℃、40%RH)の環境の中で、静電複写試験装置
(EPA−8100、川口電気(株)製)を用いて、−
6KVのコロナ放電を行い、帯電させた後、タングステ
ンランプの光を、モノクロメーターを用いて800nm
の単色光にし、感光体表面上で1μW/cm2 になるよ
うに調整し、照射した。そしてその表面電位が初期V0
(ボルト)の1/2になるまでの露光量E1/2 (erg
/cm2 )を測定し、その後10ルックスのタングステ
ン光を1秒間感光体表面上に照射し、残留電位VR を測
定した。さらに、上記の帯電、露光を1000回繰り返
した後のV0 、E1/2 、VR を測定した。その結果を表
1に示す。
0℃、40%RH)の環境の中で、静電複写試験装置
(EPA−8100、川口電気(株)製)を用いて、−
6KVのコロナ放電を行い、帯電させた後、タングステ
ンランプの光を、モノクロメーターを用いて800nm
の単色光にし、感光体表面上で1μW/cm2 になるよ
うに調整し、照射した。そしてその表面電位が初期V0
(ボルト)の1/2になるまでの露光量E1/2 (erg
/cm2 )を測定し、その後10ルックスのタングステ
ン光を1秒間感光体表面上に照射し、残留電位VR を測
定した。さらに、上記の帯電、露光を1000回繰り返
した後のV0 、E1/2 、VR を測定した。その結果を表
1に示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大門 克己 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ツクス株式会社竹松事業所内 (72)発明者 飯島 正和 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ツクス株式会社竹松事業所内 (72)発明者 真下 清和 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ツクス株式会社竹松事業所内
Claims (4)
- 【請求項1】 X線回折スペクトルにおいて、ブラッグ
角(2θ±0.2°)=8.7°、9.9°、10.9
°、13.1°、15.2°、16.3°、17.4
°、21.9°、25.5°に強い回折ピークを有する
ジクロロスズフタロシアニン結晶、または、ブラッグ角
(2θ±0.2°)=9.2°、12.2°、13.4
°、14.6°、17.0°、25.3°に強い回折ピ
ークを有するジクロロスズフタロシアニン結晶を、有機
溶剤中で処理し、ブラッグ角(2θ±0.2°)の25
°から30°の範囲において、28.2°に最も強い回
折ピークを有するジクロロスズフタロシアニン結晶に転
移させることを特徴とするブラッグ角(2θ±0.2
°)の25°から30°の範囲において、28.2°に
最も強い回折ピークを有するジクロロスズフタロシアニ
ン結晶の製造方法。 - 【請求項2】 有機溶剤が、結着樹脂を含有することを
特徴とする請求項1記載のブラッグ角(2θ±0.2
°)の25°から30°の範囲において、28.2°に
最も強い回折ピークを有するジクロロスズフタロシアニ
ン結晶の製造方法。 - 【請求項3】 有機溶剤が、酢酸エステル類であること
を特徴とする請求項1記載のブラッグ角(2θ±0.2
°)の25°から30°の範囲において、28.2°に
最も強い回折ピークを有するジクロロスズフタロシアニ
ン結晶の製造方法。 - 【請求項4】 導電性支持体上に請求項1記載のブラッ
グ角(2θ±0.2°)の25°から30°の範囲にお
いて、28.2°に最も強い回折ピークを有するジクロ
ロスズフタロシアニン結晶を含有する感光層を設けてな
ることを特徴とする電子写真感光体。
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