JPH0514399B2 - - Google Patents
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- JPH0514399B2 JPH0514399B2 JP60223905A JP22390585A JPH0514399B2 JP H0514399 B2 JPH0514399 B2 JP H0514399B2 JP 60223905 A JP60223905 A JP 60223905A JP 22390585 A JP22390585 A JP 22390585A JP H0514399 B2 JPH0514399 B2 JP H0514399B2
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- JP
- Japan
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- electrode
- nozzle
- diffuser
- plasma torch
- plasma
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/26—Plasma torches
- H05H1/32—Plasma torches using an arc
- H05H1/34—Details, e.g. electrodes, nozzles
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/26—Plasma torches
- H05H1/32—Plasma torches using an arc
- H05H1/34—Details, e.g. electrodes, nozzles
- H05H1/3484—Convergent-divergent nozzles
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/26—Plasma torches
- H05H1/32—Plasma torches using an arc
- H05H1/34—Details, e.g. electrodes, nozzles
- H05H1/3436—Hollow cathodes with internal coolant flow
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/26—Plasma torches
- H05H1/32—Plasma torches using an arc
- H05H1/34—Details, e.g. electrodes, nozzles
- H05H1/3478—Geometrical details
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Geometry (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は電極の外壁に沿つてガスを供給するた
めノズルブロツク内に挿入した電極を有し、電極
がイオン化可能ガスのための中心出口を有する流
路を有し、かつ液冷した電極ホルダに固定されて
いるプラズマトーチに関する。
めノズルブロツク内に挿入した電極を有し、電極
がイオン化可能ガスのための中心出口を有する流
路を有し、かつ液冷した電極ホルダに固定されて
いるプラズマトーチに関する。
従来の技術
プラズマトーチの電極がイオン化可能プラズマ
ガスの一部をプラズマ炎に供給するための中心流
路を有する場合、中実電極に比して中心に供給す
るプラズマガスを介して付加的に冷却される利点
が達成される。このようなプラズマトーチに長い
安定なアークを保証するため、円錐台形電極と電
極を収容する同軸のノズルブロツクの間にリング
ノズルを形成し、これを介してプラズマガスを鋭
角にアークへ導入することは公知である(西独公
開特許公報第3241476号参照)。このノズルの形に
よつて流出するガスはアーク安定性を決定的に改
善する方向を得る。もちろん電極がノズルブロツ
クより軸方向に引込んだ特殊なノズル形のため、
ノズルブロツクが大きい熱負荷にさらされ、ノズ
ルが早く焼損し、したがつてノズルの形が変化
し、所望の流れ角度を長時間にわたつて維持する
のが困難となるのが欠点である。さらに電極の電
流負荷能力が制限される。
ガスの一部をプラズマ炎に供給するための中心流
路を有する場合、中実電極に比して中心に供給す
るプラズマガスを介して付加的に冷却される利点
が達成される。このようなプラズマトーチに長い
安定なアークを保証するため、円錐台形電極と電
極を収容する同軸のノズルブロツクの間にリング
ノズルを形成し、これを介してプラズマガスを鋭
角にアークへ導入することは公知である(西独公
開特許公報第3241476号参照)。このノズルの形に
よつて流出するガスはアーク安定性を決定的に改
善する方向を得る。もちろん電極がノズルブロツ
クより軸方向に引込んだ特殊なノズル形のため、
ノズルブロツクが大きい熱負荷にさらされ、ノズ
ルが早く焼損し、したがつてノズルの形が変化
し、所望の流れ角度を長時間にわたつて維持する
のが困難となるのが欠点である。さらに電極の電
流負荷能力が制限される。
プラズマジエツト発生器の電気的出力および効
率を上昇するため、ノズルから出るプラズマジエ
ツトの速度を上昇することは公知である。(西独
特許第1954851号公報参照)。この目的でプラズマ
ジエツト発生器のアーク燃焼室の出口ノズルを2
重ノズルとして形成し、その際内側ノズル出口孔
と外側のリング状ノズル出口孔がラバールノズル
を形成する。この公知プラズマジエツト発生器の
場合、トーチ出力の出口ノズルの形成による上昇
が出口ノズルの範囲にすでにアーク燃焼室内で発
生したプラズマジエツトが存在するので、不可能
なことは不利である。
率を上昇するため、ノズルから出るプラズマジエ
ツトの速度を上昇することは公知である。(西独
特許第1954851号公報参照)。この目的でプラズマ
ジエツト発生器のアーク燃焼室の出口ノズルを2
重ノズルとして形成し、その際内側ノズル出口孔
と外側のリング状ノズル出口孔がラバールノズル
を形成する。この公知プラズマジエツト発生器の
場合、トーチ出力の出口ノズルの形成による上昇
が出口ノズルの範囲にすでにアーク燃焼室内で発
生したプラズマジエツトが存在するので、不可能
なことは不利である。
発明が解決しようとする問題点
したがつて本発明の目的はこれらの欠点を避
け、前記プラズマトーチを比較的簡単な手段によ
りトーチ出力が上昇し、電極寿命が長くなるよう
に改善することである。
け、前記プラズマトーチを比較的簡単な手段によ
りトーチ出力が上昇し、電極寿命が長くなるよう
に改善することである。
問題点を解決するための手段
この目的は本発明により流路の中心出口をデイ
フユーザとして形成し、デイフユーザの出口孔が
ノズルブロツクから軸方向に突出することによつ
て解決される。
フユーザとして形成し、デイフユーザの出口孔が
ノズルブロツクから軸方向に突出することによつ
て解決される。
作 用
プラズマジエツト発生のため2つの電極を備え
ているアーク燃焼室の出口ノズルでなくて、電極
の中心流路の出口をデイフユーザとして形成する
ことによつて、供給するプラズマガスの膨張およ
び円筒形の孔に比して拡大した表面積との関連で
電極の付加的冷却が達成される。しかしデイフユ
ーザはプラズマガスの流れの有利な形成も保証
し、それによつてノズル直後に発生するプラズマ
ジエツトが安定化される。さらに高いアーク安定
性はアークの範囲内の浴の運動を生ずるので、溶
湯に浮くスラグ層の運動から生ずる破砕のため、
溶湯への直接的熱伝達が可能になる。デイフユー
ザによつて達成される大きい電極表面により大き
い放出面が得られ、それによつて電極の表面負荷
が低くなり、したがつてトーチ出力が高くなる。
ているアーク燃焼室の出口ノズルでなくて、電極
の中心流路の出口をデイフユーザとして形成する
ことによつて、供給するプラズマガスの膨張およ
び円筒形の孔に比して拡大した表面積との関連で
電極の付加的冷却が達成される。しかしデイフユ
ーザはプラズマガスの流れの有利な形成も保証
し、それによつてノズル直後に発生するプラズマ
ジエツトが安定化される。さらに高いアーク安定
性はアークの範囲内の浴の運動を生ずるので、溶
湯に浮くスラグ層の運動から生ずる破砕のため、
溶湯への直接的熱伝達が可能になる。デイフユー
ザによつて達成される大きい電極表面により大き
い放出面が得られ、それによつて電極の表面負荷
が低くなり、したがつてトーチ出力が高くなる。
トーチ出力の増大にも拘らず十分な寿命が保証
されるように、デイフユーザの出口孔は軸方向に
ノズルブロツクから離れて突出する。デイフユー
ザによつてプラズマジエツトが十分安定化される
ので、電極より引込んだ常用法で冷却されるノズ
ルブロツクは破壊的熱負荷にさらされる危険がな
い。それゆえノズルの形状は長い寿命にわたつ
て、とくに電極とノズルブロツクの間の半径方向
間隔がデイフユーザの出口孔に向つて増大する場
合、維持される。この間隔増大はノズルブロツク
の熱負荷に有利に作用するだけでなく、ノズルを
通して供給するガスの流れにも、デイフユーザ効
果によつて層流の形成が助長されるので、有利な
影響をおよぼす。
されるように、デイフユーザの出口孔は軸方向に
ノズルブロツクから離れて突出する。デイフユー
ザによつてプラズマジエツトが十分安定化される
ので、電極より引込んだ常用法で冷却されるノズ
ルブロツクは破壊的熱負荷にさらされる危険がな
い。それゆえノズルの形状は長い寿命にわたつ
て、とくに電極とノズルブロツクの間の半径方向
間隔がデイフユーザの出口孔に向つて増大する場
合、維持される。この間隔増大はノズルブロツク
の熱負荷に有利に作用するだけでなく、ノズルを
通して供給するガスの流れにも、デイフユーザ効
果によつて層流の形成が助長されるので、有利な
影響をおよぼす。
アークに導入するプラズマガスのためのとくに
有利な流れ条件を得るため、デイフユーザをラバ
ールノズルの一部とすることができる。
有利な流れ条件を得るため、デイフユーザをラバ
ールノズルの一部とすることができる。
電極の放出ゾーンはデイフユーザまたはラバー
ルノズルを超えて流路に向つて拡がるので、デイ
フユーザまたはラバールノズルを少なくとも2つ
の貫通孔を介して流路へ接続するのが有利であ
る。同じ流路断面の場合2つまたは多数の貫通孔
の表面はただ1つの貫通孔の表面より大きいの
で、電極の放出面はこの手段によつて著しく拡大
され、電極の比表面負荷は低下し、最大許容表面
負荷があらかじめ与えられた場合トーチ出力の相
当する上昇が可能になる。
ルノズルを超えて流路に向つて拡がるので、デイ
フユーザまたはラバールノズルを少なくとも2つ
の貫通孔を介して流路へ接続するのが有利であ
る。同じ流路断面の場合2つまたは多数の貫通孔
の表面はただ1つの貫通孔の表面より大きいの
で、電極の放出面はこの手段によつて著しく拡大
され、電極の比表面負荷は低下し、最大許容表面
負荷があらかじめ与えられた場合トーチ出力の相
当する上昇が可能になる。
実施例
次に本発明のプラズマトーチの実施例を図面に
より説明する。
より説明する。
図示のプラズマトーチは主として水冷した電極
ホルダ2に常用法で固定した電極1からなる。こ
の電極1は電極ホルダ2とともに水冷したノズル
ブロツク3内に挿入され、このブロツクは電極1
に対して洗浄ガスまたはプラズマガス通過のため
のリングギヤツプ4を形成する、冷却液循環を保
証するため、ノズルブロツク3内にも電極ホルダ
2内にも管からなる隔壁5が備えられる。イオン
化可能プラズマガスの中心供給のため導管6が使
用され、この導管は電極ホルダ2を密に貫通し、
電極1の相当する収容孔に挿入される。この導管
6は中心出口をラバールノズル8として形成した
流路7を形成する。このラバールノズル8は少な
くとも2つの貫通孔9を介して流路7に接続する
ので、イオン化可能ガスは流路7から貫通孔9を
通つてまずラバールノズル8の細まり部10に達
し、次にラバールノズルのデイフユーザ11とし
て形成した部分を介して電極1から流出する。図
から明らかなようにデイフユーザ11の出口孔1
2はノズルブロツク3より軸方向距離aだけ前に
ある。距離aが電極直径の少なくとも1/5に相当
すればとくに有利なノズル条件が得られる。電極
1はその突出端に半球状外壁を有し、ノズルブロ
ツク3の内壁は円錐形に形成されるので、電極1
とノズルブロツク3の間隔bはデイフユーザ11
の出口端12に向つて大きくなる。それゆえリン
グギヤツプ4を通つて導かれるガスはそれによつ
て達成されるデイフユーザ効果のため有害な渦流
形成を避けながら導かれる。リングギヤツプ4の
出口に向つて拡大する間隔bにより副アークのノ
ズルブロツク3に対する重なりが有効に防止さ
れ、同時に突出する電極1のデイフユーザによつ
てアークの良好な安定性が達成される。
ホルダ2に常用法で固定した電極1からなる。こ
の電極1は電極ホルダ2とともに水冷したノズル
ブロツク3内に挿入され、このブロツクは電極1
に対して洗浄ガスまたはプラズマガス通過のため
のリングギヤツプ4を形成する、冷却液循環を保
証するため、ノズルブロツク3内にも電極ホルダ
2内にも管からなる隔壁5が備えられる。イオン
化可能プラズマガスの中心供給のため導管6が使
用され、この導管は電極ホルダ2を密に貫通し、
電極1の相当する収容孔に挿入される。この導管
6は中心出口をラバールノズル8として形成した
流路7を形成する。このラバールノズル8は少な
くとも2つの貫通孔9を介して流路7に接続する
ので、イオン化可能ガスは流路7から貫通孔9を
通つてまずラバールノズル8の細まり部10に達
し、次にラバールノズルのデイフユーザ11とし
て形成した部分を介して電極1から流出する。図
から明らかなようにデイフユーザ11の出口孔1
2はノズルブロツク3より軸方向距離aだけ前に
ある。距離aが電極直径の少なくとも1/5に相当
すればとくに有利なノズル条件が得られる。電極
1はその突出端に半球状外壁を有し、ノズルブロ
ツク3の内壁は円錐形に形成されるので、電極1
とノズルブロツク3の間隔bはデイフユーザ11
の出口端12に向つて大きくなる。それゆえリン
グギヤツプ4を通つて導かれるガスはそれによつ
て達成されるデイフユーザ効果のため有害な渦流
形成を避けながら導かれる。リングギヤツプ4の
出口に向つて拡大する間隔bにより副アークのノ
ズルブロツク3に対する重なりが有効に防止さ
れ、同時に突出する電極1のデイフユーザによつ
てアークの良好な安定性が達成される。
流路出口のラバールノズルの形の形成により中
心を導くプラズマガスのとくに好ましい流れ状態
が保証されるだけでなく、電極1の放出面の拡大
も達成され、それによつて電極の比表面負荷が低
下される。貫通孔9によつて拡大した表面がこの
効果を支援するので、電流負荷は従来の電極に比
して決定的に上昇する。この場合熱負荷は供給す
るプラズマガスによる電極冷却のため許容限内に
留まる。というのは比較的大きい放出表面積およ
びデイフユーザ11内のガスの膨張により電極の
冷却が改善されるからである。さらに乱流がほぼ
避けられることによりアーク他端の浴運動を可能
にするプラズマ流れが得られるので、溶湯に浮く
スラグ層が裂け、溶湯への直接的熱伝達を達成す
ることができる。
心を導くプラズマガスのとくに好ましい流れ状態
が保証されるだけでなく、電極1の放出面の拡大
も達成され、それによつて電極の比表面負荷が低
下される。貫通孔9によつて拡大した表面がこの
効果を支援するので、電流負荷は従来の電極に比
して決定的に上昇する。この場合熱負荷は供給す
るプラズマガスによる電極冷却のため許容限内に
留まる。というのは比較的大きい放出表面積およ
びデイフユーザ11内のガスの膨張により電極の
冷却が改善されるからである。さらに乱流がほぼ
避けられることによりアーク他端の浴運動を可能
にするプラズマ流れが得られるので、溶湯に浮く
スラグ層が裂け、溶湯への直接的熱伝達を達成す
ることができる。
図面は本発明によるプラズマトーチの縦断面図
である。 1…電極、2…電極ホルダ、3…ノズルブロツ
ク、4…リングギヤツプ、5…隔壁、6…導管、
7…流路、8…ラバールノズル、9…貫通孔、1
0…細まり部、11…デイフユーザ、12…出口
孔。
である。 1…電極、2…電極ホルダ、3…ノズルブロツ
ク、4…リングギヤツプ、5…隔壁、6…導管、
7…流路、8…ラバールノズル、9…貫通孔、1
0…細まり部、11…デイフユーザ、12…出口
孔。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 電極1の外壁に沿つてガスを供給するためノ
ズルブロツク3内に挿入した電極1を有し、電極
1がイオン化可能ガスのための中心出口を有する
流路7を有し、かつ液冷した電極ホルダ2に固定
されているプラズマトーチにおいて、流路7の中
心出口がデイフユーザ11として形成され、デイ
フユーザ11の出口孔12がノズルブロツク3か
ら軸方向に距離aだけ突出していることを特徴と
するプラズマトーチ。 2 デイフユーザ11がラバールノズル8の一部
である特許請求の範囲第1項記載のプラズマトー
チ。 3 デイフユーザ11またはラバールノズル8が
少なくとも2つの貫通孔9を介して流路7に接続
している特許請求の範囲第1項または第2項記載
のプラズマトーチ。 4 電極1とノズルブロツク3の半径方向間隔b
がデイフユーザ11またはラバールノズル8の出
口孔12に向つて拡大する特許請求の範囲第1項
から第3項までのいずれか1項に記載のプラズマ
トーチ。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| AT3232/84 | 1984-10-11 | ||
| AT0323284A AT381826B (de) | 1984-10-11 | 1984-10-11 | Plasmabrenner |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61179100A JPS61179100A (ja) | 1986-08-11 |
| JPH0514399B2 true JPH0514399B2 (ja) | 1993-02-24 |
Family
ID=3547431
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60223905A Granted JPS61179100A (ja) | 1984-10-11 | 1985-10-09 | プラズマト−チ |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4650953A (ja) |
| EP (1) | EP0178288B1 (ja) |
| JP (1) | JPS61179100A (ja) |
| AT (1) | AT381826B (ja) |
| CA (1) | CA1241999A (ja) |
| DD (1) | DD239707A5 (ja) |
| DE (1) | DE3580233D1 (ja) |
| ZA (1) | ZA857486B (ja) |
Families Citing this family (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0286306B1 (en) * | 1987-04-03 | 1993-10-06 | Fujitsu Limited | Method and apparatus for vapor deposition of diamond |
| JPH0658840B2 (ja) * | 1988-04-26 | 1994-08-03 | 新日本製鐵株式会社 | 移行形プラズマトーチ |
| US4954683A (en) * | 1989-05-26 | 1990-09-04 | Thermal Dynamics Corporation | Plasma arc gouger |
| US4990739A (en) * | 1989-07-07 | 1991-02-05 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Plasma gun with coaxial powder feed and adjustable cathode |
| IN180745B (ja) * | 1990-01-17 | 1998-03-14 | Univ Sydney | |
| US5079403A (en) * | 1990-10-22 | 1992-01-07 | W. A. Whitney Corp. | Nozzle for plasma arc torch |
| GB9108891D0 (en) * | 1991-04-25 | 1991-06-12 | Tetronics Research & Dev Co Li | Silica production |
| US5208448A (en) * | 1992-04-03 | 1993-05-04 | Esab Welding Products, Inc. | Plasma torch nozzle with improved cooling gas flow |
| US5257500A (en) * | 1992-07-27 | 1993-11-02 | General Electric Company | Aircraft engine ignition system |
| US5640841A (en) * | 1995-05-08 | 1997-06-24 | Crosby; Rulon | Plasma torch ignition for low NOx combustion turbine combustor with monitoring means and plasma generation control means |
| US5771818A (en) * | 1996-05-20 | 1998-06-30 | Prometron Technics Co., Ltd. | Cooling system for waste disposal device |
| DE19626941A1 (de) * | 1996-07-04 | 1998-01-08 | Castolin Sa | Verfahren zum Beschichten oder Schweißen leicht oxidierbarer Werkstoffe sowie Plasmabrenner dafür |
| US6207923B1 (en) | 1998-11-05 | 2001-03-27 | Hypertherm, Inc. | Plasma arc torch tip providing a substantially columnar shield flow |
| US6362450B1 (en) | 2001-01-30 | 2002-03-26 | The Esab Group, Inc. | Gas flow for plasma arc torch |
| WO2004070809A1 (ja) * | 2003-02-06 | 2004-08-19 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | 表示装置の作製方法 |
| US6969819B1 (en) * | 2004-05-18 | 2005-11-29 | The Esab Group, Inc. | Plasma arc torch |
| US20070045241A1 (en) * | 2005-08-29 | 2007-03-01 | Schneider Joseph C | Contact start plasma torch and method of operation |
| CN101998750B (zh) * | 2009-08-14 | 2012-09-26 | 中国科学院金属研究所 | 一种等离子体阴极与保护方法 |
Family Cites Families (11)
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|---|---|---|---|---|
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| US3130292A (en) * | 1960-12-27 | 1964-04-21 | Union Carbide Corp | Arc torch apparatus for use in metal melting furnaces |
| US3304719A (en) * | 1964-07-28 | 1967-02-21 | Giannini Scient Corp | Apparatus and method for heating and accelerating gas |
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