JPH0514903U - Foreign matter inspection device - Google Patents
Foreign matter inspection deviceInfo
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- JPH0514903U JPH0514903U JP6725791U JP6725791U JPH0514903U JP H0514903 U JPH0514903 U JP H0514903U JP 6725791 U JP6725791 U JP 6725791U JP 6725791 U JP6725791 U JP 6725791U JP H0514903 U JPH0514903 U JP H0514903U
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- foreign matter
- light
- matter inspection
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- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】構成および制御が簡単で、ペリクル枠が円形で
あっても、迷光の影響を受けることなく確実に検査する
ことができる異物検査装置を提供すること。
【構成】スリット10の近傍に、レーザ光Lの走査位置の
変化に応じて回転するハートカム21によってスリット10
の長手方向に直線的に変位するスリットマスク部材13を
設け、スリット10の光透過有効長さを調節するようにし
ている。
(57) [Abstract] [Purpose] To provide a foreign matter inspection device which has a simple configuration and control and can reliably perform an inspection without being affected by stray light even when the pellicle frame has a circular shape. [Structure] Near the slit 10, a slit 10 is formed by a heart cam 21 that rotates in response to a change in the scanning position of the laser light L.
A slit mask member 13 which is linearly displaced in the longitudinal direction is provided so that the effective light transmission length of the slit 10 is adjusted.
Description
【0001】[0001]
本考案は、主としてLSI製造プロセスにおいて、半導体ウエハに回路パター ンを焼き付けるために用いられるレティクルやマスク、あるいは、回路パターン が形成された製品ウエハ、さらには、液晶用基板などの検査対象基板の表面に、 異物が付着しているか否かおよびその大きさや付着場所を特定することができる 異物検査装置に関する。 The present invention is mainly applied to a reticle or mask used for printing a circuit pattern on a semiconductor wafer in a LSI manufacturing process, or a product wafer on which a circuit pattern is formed, and a surface of an inspection target substrate such as a liquid crystal substrate. In addition, the present invention relates to a foreign matter inspection device capable of specifying whether or not a foreign matter is attached and the size and place of the foreign matter.
【0002】[0002]
図4は、従来の異物検査装置の要部構成を示すもので、この図において、1は 表面に回路パターン(図示せず)が描かれた検査対象基板で、図外の検査ステー ジ上に水平に載置され、その表面にはペリクル枠2が設けられている。なお、前 記検査ステージは1は、図中の矢印X方向およびこれと直交する矢印Y方向にそ れぞれスライド移動できるようにしてある。 FIG. 4 shows a main part configuration of a conventional foreign matter inspection apparatus. In this figure, reference numeral 1 is a substrate to be inspected on which a circuit pattern (not shown) is drawn on a surface, which is on an inspection stage (not shown). It is placed horizontally, and the pellicle frame 2 is provided on the surface thereof. The inspection stage 1 is designed so as to be slidable in the arrow X direction and the arrow Y direction orthogonal thereto in the drawing.
【0003】 3は前記検査対象基板1の表面にレーザ光Lを直線的に矢印X方向に走査しな がら照射するための入射光学系で、一定の偏向角を有するレーザ光Lを発する例 えばHe−Neレーザ発振器4、ビームエキスパンダ5、例えばガルバノミラー からなり、矢印U−V方向に回動してレーザ光Lをスキャニングする光走査ミラ ー6、および、集光レンズ7などよりなり、レーザ発振器4からのレーザ光Lを 、検査対象基板1の所定角度斜め上方向から、X方向における所定範囲内で、両 矢印で示すように、往復直線走査しながら照射するように構成されている。Reference numeral 3 denotes an incident optical system for irradiating the surface of the substrate 1 to be inspected with the laser light L while scanning it linearly in the direction of the arrow X. For example, the laser light L having a constant deflection angle is emitted. A He-Ne laser oscillator 4, a beam expander 5, for example, a galvanometer mirror, and an optical scanning mirror 6 that rotates in the direction of arrow UV to scan the laser light L, and a condenser lens 7 and the like. The laser beam L from the laser oscillator 4 is configured to irradiate the substrate 1 to be inspected from a diagonally upper direction at a predetermined angle within a predetermined range in the X direction while performing reciprocal linear scanning as shown by a double-headed arrow. .
【0004】 8は前記検査対象基板1に照射されたレーザ光Lの照射表面からの反射散乱光 Rを検出するための検出光学系で、検査対象基板1のX方向における両側斜め上 方に配置されており、これらの検出光学系8はそれぞれ、集光レンズ9、反射散 乱光に対する入射光制限用の細長いスリット10を有するスリット部材11、および 、例えば光電子倍増管からなる光検出器12などからなる。Reference numeral 8 denotes a detection optical system for detecting the reflected and scattered light R from the irradiation surface of the laser light L radiated to the inspection target substrate 1, which is arranged diagonally above both sides of the inspection target substrate 1 in the X direction. Each of these detection optical systems 8 includes a condenser lens 9, a slit member 11 having an elongated slit 10 for limiting incident light with respect to reflected scattered light, and a photodetector 12 including, for example, a photomultiplier tube. Consists of.
【0005】 このように構成された異物検査装置においては、検査ステージを矢印Y方向に 直線的に移動させつつ、レーザ発振器4からのレーザ光Lを、検査対象基板1の 所定角度斜め上方向から、X方向における所定範囲内で往復直線走査しながら照 射し、そのときの検査対象基板1の表面からの反射散乱光Rを光検出器12に入射 させるようにしている。そして、往復検査対象基板1の表面に異物が存在してい ると、検査対象基板1の表面に照射されたレーザ光Lが異物により全方向にアッ トランダムに散乱され、反射散乱光Rが側方に位置する光検出器12に検出される ことによって、検査対象基板1の表面における異物の存在を検知することができ る。In the foreign matter inspection apparatus thus configured, the laser beam L from the laser oscillator 4 is moved obliquely upward from the inspection target substrate 1 by a predetermined angle while the inspection stage is linearly moved in the arrow Y direction. In addition, irradiation is performed while reciprocating linearly scanning within a predetermined range in the X direction, and the reflected scattered light R from the surface of the inspection target substrate 1 at that time is made incident on the photodetector 12. When a foreign substance is present on the surface of the reciprocating inspection target substrate 1, the laser light L radiated on the surface of the inspection target substrate 1 is randomly scattered in all directions by the foreign substance, and the reflected scattered light R is radiated to the side. The presence of the foreign matter on the surface of the inspection target substrate 1 can be detected by the detection by the photodetector 12 located on one side.
【0006】[0006]
しかしながら、上記した従来構成の異物検査装置においては、次のような欠点 があった。すなわち、前記検出光学系8は、迷光の影響を少なくするために、光 検出器12の前方に、反射散乱光Rに対するスリット10を有するスリット部材11を 設ける、という手段を採用して構成されていたが、このような固定スリット方式 では、常に確実に迷光の影響を除去することは不可能であった。 However, the above-described conventional foreign matter inspection apparatus has the following drawbacks. That is, the detection optical system 8 is configured by adopting a means of providing a slit member 11 having a slit 10 for the reflected scattered light R in front of the photodetector 12 in order to reduce the influence of stray light. However, it was not always possible to reliably eliminate the effects of stray light with such a fixed slit method.
【0007】 それは、検査対象基板1およびその表面上に形成されるペリクル枠2の大きさ は種々多様であり、検査対象基板1およびペリクル枠2の大きさによっては、図 5に例示しているように、スリット10の投影像がペリクル枠2に重複してしまう ことが往々にして生じることがある。このような場合には、ペリクル枠2からの 反射散乱光Rが検出光学系8へ迷光として入射して、異物が存在するものとして 誤検出されてしまうことになる。The sizes of the inspection target substrate 1 and the pellicle frame 2 formed on the surface of the inspection target substrate 1 are various, and depending on the sizes of the inspection target substrate 1 and the pellicle frame 2, an example is shown in FIG. As described above, the projection image of the slit 10 sometimes overlaps with the pellicle frame 2. In such a case, the reflected and scattered light R from the pellicle frame 2 enters the detection optical system 8 as stray light and is erroneously detected as the presence of foreign matter.
【0008】 つまり、上記従来構成の異物検査装置では、ペリクル枠2に近い箇所について は、迷光の影響が大きくて異物検出性能に限界があり、従って、異物検出可能領 域にも制限があった(具体的には、ペリクル枠2から2〜3mm離れた領域までし か検査できなかった)。In other words, in the foreign matter inspection device having the above-described conventional configuration, a portion near the pellicle frame 2 is greatly affected by stray light and thus has a limit in foreign matter detection performance, and accordingly, a foreign matter detectable area is also limited. (Specifically, it was possible to inspect only the area 2 to 3 mm away from the pellicle frame 2).
【0009】 このような問題を解決する手段として、例えば特開平1−129144号公報に示さ れるように、スリット部材の直前または直後に、回転スリットを設け、この回転 スリットを、レーザ光の走査位置の変化に応じて回転変位させることにより、ス リット部材のスリットをさらに適宜制限可能にすることが提案されている。As a means for solving such a problem, for example, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 1-129144, a rotary slit is provided immediately before or after a slit member, and the rotary slit is provided at a scanning position of a laser beam. It has been proposed that the slit of the slit member can be further appropriately restricted by rotationally displacing it according to the change of
【0010】 しかしながら、この公報に開示されたものは、回転スリットを回転させるため の機構が複雑であり、その制御系が複雑化するといった欠点があった。However, the device disclosed in this publication has a drawback that the mechanism for rotating the rotary slit is complicated and the control system thereof is complicated.
【0011】 本考案は、上述の事柄に留意してなされたもので、その目的とするところは、 構成および制御が簡単で、ペリクル枠が円形であっても、迷光の影響を受けるこ となく確実に検査することができる異物検査装置を提供することにある。The present invention has been made in consideration of the above matters, and its purpose is to be simple in configuration and control, and even if the pellicle frame is circular, it is not affected by stray light. It is to provide a foreign matter inspection device capable of surely inspecting.
【0012】[0012]
上記目的を達成するため、本考案に係る異物検査装置は、スリットの近傍に、 レーザ光の走査位置の変化に応じて回転するハートカムによってスリットの長手 方向に直線的に変位するスリットマスク部材を設け、スリットの光透過有効長さ を調節するようにしている。 In order to achieve the above object, the foreign matter inspection apparatus according to the present invention is provided with a slit mask member near the slit, which is linearly displaced in the longitudinal direction of the slit by a heart cam that rotates according to a change in the scanning position of laser light. , The slit's effective light transmission length is adjusted.
【0013】[0013]
レーザ発振器から発せられるレーザ光の走査位置の変化に応じて回転するハー トカムによって、スリットマスク部材を、スリットの長手方向に直線的に変位す るだけで、スリットの光透過有効長さを、レーザ光の照射位置に過不足なく対応 して調節することができる。そして、円運動を直線運動に変換するハートカムを 用いているので、ペリクル枠が円形であっても、迷光の影響を確実に阻止するこ とができ、従って、異物検出性能を大幅に高感度化でき、また、ペリクル枠の極 く近い領域まで迷光の影響を受けることなく確実に検査することができる。 With a heart cam that rotates in response to changes in the scanning position of the laser light emitted from the laser oscillator, the slit mask member can be linearly displaced in the longitudinal direction of the slit to determine the effective light transmission length of the slit. It is possible to adjust the light irradiation position according to the excess or deficiency. Furthermore, since a heart cam that converts circular motion into linear motion is used, it is possible to reliably prevent the effect of stray light even if the pellicle frame is circular, thus significantly improving the foreign matter detection performance. Moreover, it is possible to reliably inspect an area very close to the pellicle frame without being affected by stray light.
【0014】[0014]
【実施例】 以下、本考案の実施例を、図面に基づいて説明する。なお、以下の説明におい て、図4および図5に示した符号と同一の符号は同一物を示している。Embodiment An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the following description, the same symbols as those shown in FIGS. 4 and 5 indicate the same items.
【0015】 図1において、一実施例に係る異物検査装置を示し、この図において、13はス リット10の近傍に設けられるスリットマスク部材である。このスリットマスク部 材13およびスリット10近傍の構成について、図2に基づいて説明する。FIG. 1 shows a foreign matter inspection apparatus according to one embodiment. In this figure, 13 is a slit mask member provided near the slit 10. The configuration around the slit mask member 13 and the slit 10 will be described with reference to FIG.
【0016】 図2に示すように、スリット10が形成されたスリット部材11は、スリット10に 対応した細長い開口(図外)が形成された固定ベース14に固着されている。この 固定ベース14のスリット部材11側の表面には、スリット10の長手方向に沿うよう にして設けられたガイド部材15およびこのガイド部材15によってガイドされるス ライド部材16が設けられている。17は後述するハートカム21に対応するカムフォ ロアとしてのコロで、スライド部材16に軸着されている。As shown in FIG. 2, the slit member 11 in which the slit 10 is formed is fixed to a fixed base 14 in which an elongated opening (not shown) corresponding to the slit 10 is formed. A guide member 15 provided along the longitudinal direction of the slit 10 and a slide member 16 guided by the guide member 15 are provided on the surface of the fixed base 14 on the slit member 11 side. Reference numeral 17 denotes a roller as a cam follower corresponding to a heart cam 21 described later, which is pivotally attached to the slide member 16.
【0017】 スリットマスク部材13は、その後端側(下方側)を、スライド部材16の側部に 樹立された例えば棒状の取り付け部材18によって保持され、スライド部材16と共 に上下方向(両矢印で示す方向)に直線的にスライドできるようにしてある。19 はスリットマスク部材13をスリット部材11の表面に対して常時押しつけ付勢する ばねである。また、20はスリットマスク部材13とスリット部材11の表面との間に 僅かな間隙が生ずるように、スリットマスク部材13の先端側(上方側)を保持す るベアリングである。The slit mask member 13 is held on the rear end side (lower side) by a rod-shaped mounting member 18, which is established on the side of the slide member 16, and together with the slide member 16, the slit mask member 13 moves in the vertical direction (indicated by a double-headed arrow). It can slide linearly in the direction shown). Reference numeral 19 is a spring for constantly pressing and urging the slit mask member 13 against the surface of the slit member 11. Reference numeral 20 is a bearing that holds the tip side (upper side) of the slit mask member 13 so that a slight gap is created between the slit mask member 13 and the surface of the slit member 11.
【0018】 次に、前記スライド部材16(従って、スリットマスク部材13)を上下方向に変 位させる機構について説明すると、21は平面視形状がハート型のカムで、このハ ートカム21は、一端が固定ベース14に設けられた軸受22に保持され、他端が他の 軸受23に保持された水平な軸24に固着されている。そして、水平軸24にはプーリ 25が固着され、タイミングベルトなどの駆動ベルト26によってレーザ光の走査位 置の変化に応じて回転するように構成してある。Next, a mechanism for vertically shifting the slide member 16 (and hence the slit mask member 13) will be described. Reference numeral 21 is a heart-shaped cam in plan view, and one end of this heart cam 21 is It is held by a bearing 22 provided on the fixed base 14, and the other end is fixed to a horizontal shaft 24 held by another bearing 23. A pulley 25 is fixed to the horizontal shaft 24, and is driven by a driving belt 26 such as a timing belt so that the pulley 25 is rotated according to a change in the scanning position of the laser light.
【0019】 上記のような構成のスリットマスク部材13は、2つの検出光学系8にそれぞれ 設けてある。そして、レーザ発振器4から発せられるレーザ光Lの走査位置の変 化に応じてハートカム21が回転すると、この回転に伴って、スリットマスク部材 13は、図3に示すように、スリット10の長手方向に直線的に変位し、スリット10 の光透過有効長さを、レーザ光の照射位置に過不足なく対応して調節する。従っ て、ペリクル枠2の外側からの反射散乱光R´は、仮想線で示すように、スリッ トマスク部材13によって光検出器12への入射が阻止され、迷光の影響が確実に阻 止される。The slit mask member 13 having the above-described configuration is provided in each of the two detection optical systems 8. Then, when the heart cam 21 rotates in response to the change of the scanning position of the laser light L emitted from the laser oscillator 4, the slit mask member 13 moves in the longitudinal direction of the slit 10 as shown in FIG. Is linearly displaced to adjust the effective light transmission length of the slit 10 in correspondence with the irradiation position of the laser light. Therefore, the reflected and scattered light R ′ from the outside of the pellicle frame 2 is prevented from entering the photodetector 12 by the slit mask member 13 as shown by a virtual line, and the influence of stray light is surely blocked. .
【0020】 特に、本考案においては、円運動を直線運動に変換するハートカム21を用いて いるから、ペリクル枠2が円形であっても、迷光の影響を確実に阻止することが でき、従って、異物検出性能を大幅に高感度化でき、また、ペリクル枠2の極く 近い領域まで迷光の影響を受けることなく確実に検査することができる。In particular, in the present invention, since the heart cam 21 that converts a circular motion into a linear motion is used, even if the pellicle frame 2 has a circular shape, it is possible to reliably prevent the influence of stray light. The foreign matter detection performance can be significantly enhanced, and a region very close to the pellicle frame 2 can be reliably inspected without being affected by stray light.
【0021】[0021]
以上説明したように、本考案によれば、レーザ光の照射位置以外の不要な箇所 からの迷光が光検出器へ到達することを確実に防止できるようになり、以って、 従来のものに比べて格段に優れた異物検出性能を有すると共に、円形のペリクル 枠であっても、これに極く近接したより広い領域まで迷光の影響を受けることな く確実に検査できる。また、スリットマスク部材を駆動する機構や制御方法も簡 単であるといった実用的効果を奏する。 As described above, according to the present invention, it is possible to reliably prevent stray light from an unnecessary portion other than the irradiation position of laser light from reaching the photodetector. Compared to this, it has far superior foreign matter detection performance, and even with a circular pellicle frame, it is possible to reliably inspect a wider area very close to it without being affected by stray light. In addition, a practical effect is achieved in that the mechanism for driving the slit mask member and the control method are simple.
【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]
【図1】本考案の一実施例に係る異物検査装置の要部構
成を概略的に示す図である。FIG. 1 is a diagram schematically showing a main part configuration of a foreign matter inspection device according to an embodiment of the present invention.
【図2】スリットおよびスリットマスク部材近傍の構成
を示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing a configuration near a slit and a slit mask member.
【図3】動作説明図である。FIG. 3 is an operation explanatory diagram.
【図4】従来の異物検査装置の要部構成を概略的に示す
図である。FIG. 4 is a diagram schematically showing a main part configuration of a conventional foreign matter inspection device.
【図5】前記検出光学系における問題点を説明するため
の図である。FIG. 5 is a diagram for explaining a problem in the detection optical system.
1…検査対象基板、10…スリット、12…光検出器、13…
スリットマスク部材、21…ハートカム、L…レーザ光、
R…反射散乱光。1 ... Inspected substrate, 10 ... Slit, 12 ... Photodetector, 13 ...
Slit mask member, 21 ... Heart cam, L ... Laser light,
R ... Reflected scattered light.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/66 J 7013−4M ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Internal reference number FI technical display location H01L 21/66 J 7013-4M
Claims (1)
角を有するレーザ光を走査しながら照射し、そのときの
検査対象基板の表面からの反射散乱光を細長いスリット
を介して光検出器に入射させ、光検出器による反射散乱
光の検出結果に基づいて検査対象基板の表面における異
物を検査するように構成されている異物検査装置におい
て、前記スリットの近傍に、前記レーザ光の走査位置の
変化に応じて回転するハートカムによってスリットの長
手方向に直線的に変位するスリットマスク部材を設け、
スリットの光透過有効長さを調節するようにしたことを
特徴とする異物検査装置。1. A photodetector which irradiates a surface of a substrate to be inspected with laser light having a constant deflection angle while scanning, and reflects and scatters light from the surface of the substrate to be inspected at that time through an elongated slit. In the foreign matter inspection device configured to inspect foreign matter on the surface of the substrate to be inspected based on the detection result of the reflected scattered light by the photodetector, in the vicinity of the slit, the scanning position of the laser light. A slit mask member that is linearly displaced in the longitudinal direction of the slit by a heart cam that rotates according to the change of
A foreign matter inspection apparatus characterized in that the effective light transmission length of the slit is adjusted.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6725791U JPH0514903U (en) | 1991-07-30 | 1991-07-30 | Foreign matter inspection device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6725791U JPH0514903U (en) | 1991-07-30 | 1991-07-30 | Foreign matter inspection device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0514903U true JPH0514903U (en) | 1993-02-26 |
Family
ID=13339718
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6725791U Pending JPH0514903U (en) | 1991-07-30 | 1991-07-30 | Foreign matter inspection device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0514903U (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10469734B2 (en) | 2017-01-23 | 2019-11-05 | Gachisoft Inc. | Camera adjusting focus using rotating method and object processing apparatus using the same |
-
1991
- 1991-07-30 JP JP6725791U patent/JPH0514903U/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10469734B2 (en) | 2017-01-23 | 2019-11-05 | Gachisoft Inc. | Camera adjusting focus using rotating method and object processing apparatus using the same |
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