JPH0514903U - 異物検査装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】構成および制御が簡単で、ペリクル枠が円形で
あっても、迷光の影響を受けることなく確実に検査する
ことができる異物検査装置を提供すること。 【構成】スリット10の近傍に、レーザ光Ｌの走査位置の
変化に応じて回転するハートカム21によってスリット10
の長手方向に直線的に変位するスリットマスク部材13を
設け、スリット10の光透過有効長さを調節するようにし
ている。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、主としてＬＳＩ製造プロセスにおいて、半導体ウエハに回路パター ンを焼き付けるために用いられるレティクルやマスク、あるいは、回路パターン が形成された製品ウエハ、さらには、液晶用基板などの検査対象基板の表面に、 異物が付着しているか否かおよびその大きさや付着場所を特定することができる 異物検査装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】

図４は、従来の異物検査装置の要部構成を示すもので、この図において、１は 表面に回路パターン（図示せず）が描かれた検査対象基板で、図外の検査ステー ジ上に水平に載置され、その表面にはペリクル枠２が設けられている。なお、前 記検査ステージは１は、図中の矢印Ｘ方向およびこれと直交する矢印Ｙ方向にそ れぞれスライド移動できるようにしてある。

【０００３】 ３は前記検査対象基板１の表面にレーザ光Ｌを直線的に矢印Ｘ方向に走査しな がら照射するための入射光学系で、一定の偏向角を有するレーザ光Ｌを発する例 えばＨｅ−Ｎｅレーザ発振器４、ビームエキスパンダ５、例えばガルバノミラー からなり、矢印Ｕ−Ｖ方向に回動してレーザ光Ｌをスキャニングする光走査ミラ ー６、および、集光レンズ７などよりなり、レーザ発振器４からのレーザ光Ｌを 、検査対象基板１の所定角度斜め上方向から、Ｘ方向における所定範囲内で、両 矢印で示すように、往復直線走査しながら照射するように構成されている。

【０００４】 ８は前記検査対象基板１に照射されたレーザ光Ｌの照射表面からの反射散乱光 Ｒを検出するための検出光学系で、検査対象基板１のＸ方向における両側斜め上 方に配置されており、これらの検出光学系８はそれぞれ、集光レンズ９、反射散 乱光に対する入射光制限用の細長いスリット10を有するスリット部材11、および 、例えば光電子倍増管からなる光検出器12などからなる。

【０００５】 このように構成された異物検査装置においては、検査ステージを矢印Ｙ方向に 直線的に移動させつつ、レーザ発振器４からのレーザ光Ｌを、検査対象基板１の 所定角度斜め上方向から、Ｘ方向における所定範囲内で往復直線走査しながら照 射し、そのときの検査対象基板１の表面からの反射散乱光Ｒを光検出器12に入射 させるようにしている。そして、往復検査対象基板１の表面に異物が存在してい ると、検査対象基板１の表面に照射されたレーザ光Ｌが異物により全方向にアッ トランダムに散乱され、反射散乱光Ｒが側方に位置する光検出器12に検出される ことによって、検査対象基板１の表面における異物の存在を検知することができ る。

【０００６】

【考案が解決しようとする課題】

しかしながら、上記した従来構成の異物検査装置においては、次のような欠点 があった。すなわち、前記検出光学系８は、迷光の影響を少なくするために、光 検出器12の前方に、反射散乱光Ｒに対するスリット10を有するスリット部材11を 設ける、という手段を採用して構成されていたが、このような固定スリット方式 では、常に確実に迷光の影響を除去することは不可能であった。

【０００７】 それは、検査対象基板１およびその表面上に形成されるペリクル枠２の大きさ は種々多様であり、検査対象基板１およびペリクル枠２の大きさによっては、図 ５に例示しているように、スリット10の投影像がペリクル枠２に重複してしまう ことが往々にして生じることがある。このような場合には、ペリクル枠２からの 反射散乱光Ｒが検出光学系８へ迷光として入射して、異物が存在するものとして 誤検出されてしまうことになる。

【０００８】 つまり、上記従来構成の異物検査装置では、ペリクル枠２に近い箇所について は、迷光の影響が大きくて異物検出性能に限界があり、従って、異物検出可能領 域にも制限があった（具体的には、ペリクル枠２から２〜３mm離れた領域までし か検査できなかった）。

【０００９】 このような問題を解決する手段として、例えば特開平１−129144号公報に示さ れるように、スリット部材の直前または直後に、回転スリットを設け、この回転 スリットを、レーザ光の走査位置の変化に応じて回転変位させることにより、ス リット部材のスリットをさらに適宜制限可能にすることが提案されている。

【００１０】 しかしながら、この公報に開示されたものは、回転スリットを回転させるため の機構が複雑であり、その制御系が複雑化するといった欠点があった。

【００１１】 本考案は、上述の事柄に留意してなされたもので、その目的とするところは、 構成および制御が簡単で、ペリクル枠が円形であっても、迷光の影響を受けるこ となく確実に検査することができる異物検査装置を提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】

上記目的を達成するため、本考案に係る異物検査装置は、スリットの近傍に、 レーザ光の走査位置の変化に応じて回転するハートカムによってスリットの長手 方向に直線的に変位するスリットマスク部材を設け、スリットの光透過有効長さ を調節するようにしている。

【００１３】

【作用】

レーザ発振器から発せられるレーザ光の走査位置の変化に応じて回転するハー トカムによって、スリットマスク部材を、スリットの長手方向に直線的に変位す るだけで、スリットの光透過有効長さを、レーザ光の照射位置に過不足なく対応 して調節することができる。そして、円運動を直線運動に変換するハートカムを 用いているので、ペリクル枠が円形であっても、迷光の影響を確実に阻止するこ とができ、従って、異物検出性能を大幅に高感度化でき、また、ペリクル枠の極 く近い領域まで迷光の影響を受けることなく確実に検査することができる。

【００１４】

【実施例】 以下、本考案の実施例を、図面に基づいて説明する。なお、以下の説明におい て、図４および図５に示した符号と同一の符号は同一物を示している。

【００１５】 図１において、一実施例に係る異物検査装置を示し、この図において、13はス リット10の近傍に設けられるスリットマスク部材である。このスリットマスク部 材13およびスリット10近傍の構成について、図２に基づいて説明する。

【００１６】 図２に示すように、スリット10が形成されたスリット部材11は、スリット10に 対応した細長い開口（図外）が形成された固定ベース14に固着されている。この 固定ベース14のスリット部材11側の表面には、スリット10の長手方向に沿うよう にして設けられたガイド部材15およびこのガイド部材15によってガイドされるス ライド部材16が設けられている。17は後述するハートカム21に対応するカムフォ ロアとしてのコロで、スライド部材16に軸着されている。

【００１７】 スリットマスク部材13は、その後端側（下方側）を、スライド部材16の側部に 樹立された例えば棒状の取り付け部材18によって保持され、スライド部材16と共 に上下方向（両矢印で示す方向）に直線的にスライドできるようにしてある。19 はスリットマスク部材13をスリット部材11の表面に対して常時押しつけ付勢する ばねである。また、20はスリットマスク部材13とスリット部材11の表面との間に 僅かな間隙が生ずるように、スリットマスク部材13の先端側（上方側）を保持す るベアリングである。

【００１８】 次に、前記スライド部材16（従って、スリットマスク部材13）を上下方向に変 位させる機構について説明すると、21は平面視形状がハート型のカムで、このハ ートカム21は、一端が固定ベース14に設けられた軸受22に保持され、他端が他の 軸受23に保持された水平な軸24に固着されている。そして、水平軸24にはプーリ 25が固着され、タイミングベルトなどの駆動ベルト26によってレーザ光の走査位 置の変化に応じて回転するように構成してある。

【００１９】 上記のような構成のスリットマスク部材13は、２つの検出光学系８にそれぞれ 設けてある。そして、レーザ発振器４から発せられるレーザ光Ｌの走査位置の変 化に応じてハートカム21が回転すると、この回転に伴って、スリットマスク部材 13は、図３に示すように、スリット10の長手方向に直線的に変位し、スリット10 の光透過有効長さを、レーザ光の照射位置に過不足なく対応して調節する。従っ て、ペリクル枠２の外側からの反射散乱光Ｒ´は、仮想線で示すように、スリッ トマスク部材13によって光検出器12への入射が阻止され、迷光の影響が確実に阻 止される。

【００２０】 特に、本考案においては、円運動を直線運動に変換するハートカム21を用いて いるから、ペリクル枠２が円形であっても、迷光の影響を確実に阻止することが でき、従って、異物検出性能を大幅に高感度化でき、また、ペリクル枠２の極く 近い領域まで迷光の影響を受けることなく確実に検査することができる。

【００２１】

【考案の効果】

以上説明したように、本考案によれば、レーザ光の照射位置以外の不要な箇所 からの迷光が光検出器へ到達することを確実に防止できるようになり、以って、 従来のものに比べて格段に優れた異物検出性能を有すると共に、円形のペリクル 枠であっても、これに極く近接したより広い領域まで迷光の影響を受けることな く確実に検査できる。また、スリットマスク部材を駆動する機構や制御方法も簡 単であるといった実用的効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の一実施例に係る異物検査装置の要部構
成を概略的に示す図である。

【図２】スリットおよびスリットマスク部材近傍の構成
を示す斜視図である。

【図３】動作説明図である。

【図４】従来の異物検査装置の要部構成を概略的に示す
図である。

【図５】前記検出光学系における問題点を説明するため
の図である。

【符号の説明】

１…検査対象基板、10…スリット、12…光検出器、13…
スリットマスク部材、21…ハートカム、Ｌ…レーザ光、
Ｒ…反射散乱光。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/66 Ｊ 7013−4Ｍ

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 検査対象基板の表面に対して一定の偏向
   角を有するレーザ光を走査しながら照射し、そのときの
   検査対象基板の表面からの反射散乱光を細長いスリット
   を介して光検出器に入射させ、光検出器による反射散乱
   光の検出結果に基づいて検査対象基板の表面における異
   物を検査するように構成されている異物検査装置におい
   て、前記スリットの近傍に、前記レーザ光の走査位置の
   変化に応じて回転するハートカムによってスリットの長
   手方向に直線的に変位するスリットマスク部材を設け、
   スリットの光透過有効長さを調節するようにしたことを
   特徴とする異物検査装置。