JPH0515712Y2 - - Google Patents
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- JPH0515712Y2 JPH0515712Y2 JP5088888U JP5088888U JPH0515712Y2 JP H0515712 Y2 JPH0515712 Y2 JP H0515712Y2 JP 5088888 U JP5088888 U JP 5088888U JP 5088888 U JP5088888 U JP 5088888U JP H0515712 Y2 JPH0515712 Y2 JP H0515712Y2
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この考案は、例えばイオン注入装置等に用いら
れるものであつて、固体物質蒸発源を有するイオ
ン源に関する。
れるものであつて、固体物質蒸発源を有するイオ
ン源に関する。
この種のイオン源の従来例を第3図に示す。
プラズマ生成容器2内にプラズマ6生成用のフ
イラメント4を、その開口部にイオンビーム10
引出し用の引出し電極8をそれぞれ配置すると共
に、このプラズマ生成容器2内に固体物質蒸発源
12を通じさせている。
イラメント4を、その開口部にイオンビーム10
引出し用の引出し電極8をそれぞれ配置すると共
に、このプラズマ生成容器2内に固体物質蒸発源
12を通じさせている。
固体物質蒸発源12は、常温においてガス状で
ない固体物質(例えば金属やリン、シリコン等の
半導体)20を収納したるつぼ(材質は金属、セ
ラミツク等)18を、プラズマ生成容器2につな
がる蒸発源容器14内に熱伝導性の支柱16によ
つて支持し、そしてこのるつぼ18を(勿論、そ
こに収納した固体物質20と共に。以下同じ)こ
の例では蒸発源容器14に取り付けたタングステ
ンフイラメント等のヒータ22からの熱輻射によ
つて加熱するようにしているが、シースヒータに
よる抵抗加熱や電子衝撃加熱等によつて加熱する
場合もある。
ない固体物質(例えば金属やリン、シリコン等の
半導体)20を収納したるつぼ(材質は金属、セ
ラミツク等)18を、プラズマ生成容器2につな
がる蒸発源容器14内に熱伝導性の支柱16によ
つて支持し、そしてこのるつぼ18を(勿論、そ
こに収納した固体物質20と共に。以下同じ)こ
の例では蒸発源容器14に取り付けたタングステ
ンフイラメント等のヒータ22からの熱輻射によ
つて加熱するようにしているが、シースヒータに
よる抵抗加熱や電子衝撃加熱等によつて加熱する
場合もある。
また上記るつぼ18は、プラズマ生成容器2内
のフイラメント4からの熱輻射および生成された
プラズマ6の電子またはイオンの衝撃等によつて
も加熱される。
のフイラメント4からの熱輻射および生成された
プラズマ6の電子またはイオンの衝撃等によつて
も加熱される。
上記のような加熱によつて、るつぼ18内の固
体物質20が蒸気化されてプラズマ生成容器2内
に供給され、その状態でアノード兼用のプラズマ
生成容器2とフイラメント4間でアーク放電を起
こさせると、この蒸気がプラズマ化されてプラズ
マ6が生成され、このプラズマ6から引出し電極
8によつて電界の作用でイオンビーム10が引き
出される。
体物質20が蒸気化されてプラズマ生成容器2内
に供給され、その状態でアノード兼用のプラズマ
生成容器2とフイラメント4間でアーク放電を起
こさせると、この蒸気がプラズマ化されてプラズ
マ6が生成され、このプラズマ6から引出し電極
8によつて電界の作用でイオンビーム10が引き
出される。
尚、蒸発源容器14は、プラズマ生成容器2と
共通でも良く、その場合は両者の区別は無くな
る。
共通でも良く、その場合は両者の区別は無くな
る。
上記のようなイオン源において、仮にプラズマ
生成容器2側からるつぼ18への熱入力が無い場
合は、ヒータ22のような制御できる熱源からの
るつぼ18への熱入力と、るつぼ18からの熱輻
射損失および支柱16を経由しての熱伝導損失と
の熱平衡からるつぼ18の温度が決まり、この熱
入力の制御によつてるつぼ18の温度制御が可能
である。
生成容器2側からるつぼ18への熱入力が無い場
合は、ヒータ22のような制御できる熱源からの
るつぼ18への熱入力と、るつぼ18からの熱輻
射損失および支柱16を経由しての熱伝導損失と
の熱平衡からるつぼ18の温度が決まり、この熱
入力の制御によつてるつぼ18の温度制御が可能
である。
しかしながら現実には、前述したようにヒータ
22以外の熱源、即ちプラズマ生成容器2内のフ
イラメント4やプラズマ6からの熱入力が存在
し、しかもこの熱入力はるつぼ18の加熱とは通
常は独立に変化させる熱源からのものであるた
め、るつぼ18の温度を不安定に上昇させる。
22以外の熱源、即ちプラズマ生成容器2内のフ
イラメント4やプラズマ6からの熱入力が存在
し、しかもこの熱入力はるつぼ18の加熱とは通
常は独立に変化させる熱源からのものであるた
め、るつぼ18の温度を不安定に上昇させる。
そしてこの制御できない熱入力がヒータ22の
ような制御できる熱源からの熱入力と比較して同
程度かそれ以上になると、るつぼ18の温度制御
ができなくなつてその中の固体物質20の安定蒸
気化ができなくなり、ひいてはイオンビーム10
のビーム量が不安定化する等の不都合が生じる。
ような制御できる熱源からの熱入力と比較して同
程度かそれ以上になると、るつぼ18の温度制御
ができなくなつてその中の固体物質20の安定蒸
気化ができなくなり、ひいてはイオンビーム10
のビーム量が不安定化する等の不都合が生じる。
そこでこの考案は、上記のようなるつぼへの熱
入力の変動に応じてるつぼの熱伝導損失量を調節
することができる機構を設けることによつて、固
体物質を収納したるつぼの温度を一定化して固体
物質の安定蒸気化を図ることができるようにした
イオン源を提供することを目的とする。
入力の変動に応じてるつぼの熱伝導損失量を調節
することができる機構を設けることによつて、固
体物質を収納したるつぼの温度を一定化して固体
物質の安定蒸気化を図ることができるようにした
イオン源を提供することを目的とする。
上記目的を達成するため、この考案のイオン源
においては、前述したようなるつぼの支柱に接触
させた熱伝統性の接触器と、この接触器を冷却す
る冷却手段と、この接触器を支柱に沿つてその接
触を保つた状態で移動させる駆動機構と、前記る
つぼの温度を計測する温度計測器と、この温度計
測器からの信号に応答して、るつぼの温度が一定
になるように前記駆動機構を制御する制御装置と
を設けている。
においては、前述したようなるつぼの支柱に接触
させた熱伝統性の接触器と、この接触器を冷却す
る冷却手段と、この接触器を支柱に沿つてその接
触を保つた状態で移動させる駆動機構と、前記る
つぼの温度を計測する温度計測器と、この温度計
測器からの信号に応答して、るつぼの温度が一定
になるように前記駆動機構を制御する制御装置と
を設けている。
上記接触器をその駆動機構によつてるつぼ側に
近づけると、るつぼの熱伝導損失量が増加してる
つぼの温度が下がり、逆に接触器をるつぼから遠
ざけると、るつぼの熱伝導損失量が減少してるつ
ぼの温度が上昇する。従つてこの接触器の移動に
よつて熱伝導損失量を調節して、固体物質を収納
したるつぼの温度が一定になるように制御するこ
とができ、それによつて固体物質の安定蒸気化を
図ることができるようになる。
近づけると、るつぼの熱伝導損失量が増加してる
つぼの温度が下がり、逆に接触器をるつぼから遠
ざけると、るつぼの熱伝導損失量が減少してるつ
ぼの温度が上昇する。従つてこの接触器の移動に
よつて熱伝導損失量を調節して、固体物質を収納
したるつぼの温度が一定になるように制御するこ
とができ、それによつて固体物質の安定蒸気化を
図ることができるようになる。
また、上記のような温度計測器と制御装置とを
設けているので、上記のようなるつぼの温度一定
化制御を自動化することができる。
設けているので、上記のようなるつぼの温度一定
化制御を自動化することができる。
第1図は、この考案の一実施例に係るイオン源
を示す断面図である。第3図の例と同一または相
当する部分には同一符号を付し、以下においては
従来例との相違点を主に説明する。
を示す断面図である。第3図の例と同一または相
当する部分には同一符号を付し、以下においては
従来例との相違点を主に説明する。
この実施例においては、前述したようなるつぼ
18の支柱16の外側に、熱伝導率の良い材質
(例えば銅、モリブデン等)でできた接触器24
を接触させている。
18の支柱16の外側に、熱伝導率の良い材質
(例えば銅、モリブデン等)でできた接触器24
を接触させている。
そしてその駆動機構として、接触器24を支え
るものであつて真空シール部28を介して蒸発源
容器14を直動自在に貫通させた軸26、その端
部に取り付けたボールねじ30およびそれに結合
させたモータ34を設けており、このモータ34
を回転させることによつて軸26を前後させ、そ
れによつて接触器24を支柱16に沿つてその接
触を保つた状態で移動させるようにしている。
るものであつて真空シール部28を介して蒸発源
容器14を直動自在に貫通させた軸26、その端
部に取り付けたボールねじ30およびそれに結合
させたモータ34を設けており、このモータ34
を回転させることによつて軸26を前後させ、そ
れによつて接触器24を支柱16に沿つてその接
触を保つた状態で移動させるようにしている。
真空シール部28は、図示例のようにOリング
を用いる構造でも良いし、その他ベローズ等を用
いる構造でも良い。
を用いる構造でも良いし、その他ベローズ等を用
いる構造でも良い。
また、るつぼ18の熱伝導損失量を大きくし、
るつぼ18の冷却を効率良く行うためには、接触
器24の温度は低い方が良く、そのためにこの接
触器24を冷却する冷却手段を設けている。即ち
この例では、接触器24を支える軸26の内部を
二重構造にする等して軸26内に冷媒(冷却水、
フレオン等)Wを循環させて接触器24を冷却す
るようにしている。
るつぼ18の冷却を効率良く行うためには、接触
器24の温度は低い方が良く、そのためにこの接
触器24を冷却する冷却手段を設けている。即ち
この例では、接触器24を支える軸26の内部を
二重構造にする等して軸26内に冷媒(冷却水、
フレオン等)Wを循環させて接触器24を冷却す
るようにしている。
また、モータ34以外の駆動源によつて軸26
を駆動するようにしても良い。
を駆動するようにしても良い。
また、接触器24は、第2図に示すように支柱
16を中空のものとしてその内側から接触させる
ようにしても良く、その場合、支柱16の内部が
真空の場合は軸26の貫通部に上記例と同様に真
空シール部28を設ける必要があるが、大気圧状
態の場合は真空シール部28を設ける必要は無く
なる。
16を中空のものとしてその内側から接触させる
ようにしても良く、その場合、支柱16の内部が
真空の場合は軸26の貫通部に上記例と同様に真
空シール部28を設ける必要があるが、大気圧状
態の場合は真空シール部28を設ける必要は無く
なる。
上記構造によれば、モータ34を回転させる等
して接触器24をるつぼ18側に近づけると、る
つぼ18の熱伝導損失量が増加してるつぼ18の
温度が下がり、逆に接触器24をるつぼ18から
遠ざけると、るつぼ18の熱伝導損失量が減少し
てるつぼ18の温度が上昇する。従つて、制御で
きる熱源(この例ではヒータ22)からの熱入力
以外の熱がるつぼ18に入る場合でしかもヒータ
22のみではるつぼ18の温度を制御できない場
合でも、この接触器24の移動によつて熱伝導損
失量を調節してるつぼ18の温度を一定になるよ
うに制御することができ、それによつてるつぼ1
8内の固体物質20の安定蒸気化が可能になる。
その結果、当該イオン源から引き出すイオンビー
ム10のビーム量の安定化等を図ることができる
ようになる。
して接触器24をるつぼ18側に近づけると、る
つぼ18の熱伝導損失量が増加してるつぼ18の
温度が下がり、逆に接触器24をるつぼ18から
遠ざけると、るつぼ18の熱伝導損失量が減少し
てるつぼ18の温度が上昇する。従つて、制御で
きる熱源(この例ではヒータ22)からの熱入力
以外の熱がるつぼ18に入る場合でしかもヒータ
22のみではるつぼ18の温度を制御できない場
合でも、この接触器24の移動によつて熱伝導損
失量を調節してるつぼ18の温度を一定になるよ
うに制御することができ、それによつてるつぼ1
8内の固体物質20の安定蒸気化が可能になる。
その結果、当該イオン源から引き出すイオンビー
ム10のビーム量の安定化等を図ることができる
ようになる。
また、従来は、るつぼ18の温度制御を可能に
するため、かつ固体物質蒸発源12の立ち下げの
ときるつぼ18を早く冷却できるようにするた
め、支柱16における熱伝導損失量をある程度大
きくしており、そのためヒータ22によるるつぼ
18の加熱効率が低下していたが、この実施例で
は、接触器24によつてるつぼ18の熱伝導損失
量を任意に制御できるため、接触器24を遠ざけ
たときの支柱16のみの熱伝導損失量を小さく設
計することができ、それによつてヒータ22等に
よるるつぼ18の加熱効率を向上させることもで
きる。
するため、かつ固体物質蒸発源12の立ち下げの
ときるつぼ18を早く冷却できるようにするた
め、支柱16における熱伝導損失量をある程度大
きくしており、そのためヒータ22によるるつぼ
18の加熱効率が低下していたが、この実施例で
は、接触器24によつてるつぼ18の熱伝導損失
量を任意に制御できるため、接触器24を遠ざけ
たときの支柱16のみの熱伝導損失量を小さく設
計することができ、それによつてヒータ22等に
よるるつぼ18の加熱効率を向上させることもで
きる。
また、第1図に示すように、るつぼ18の温度
を計測する熱電対(図示例の場合)やパイロメー
タ等の温度計測器36と制御装置38とを更に設
け、この制御装置38によつて、温度計測器36
で計測した温度が一定に(即ち設定値に)なるよ
うにモータ34を制御して接触器24を移動させ
るようにしているので、るつぼ18の温度一定化
制御を自動化することができる。
を計測する熱電対(図示例の場合)やパイロメー
タ等の温度計測器36と制御装置38とを更に設
け、この制御装置38によつて、温度計測器36
で計測した温度が一定に(即ち設定値に)なるよ
うにモータ34を制御して接触器24を移動させ
るようにしているので、るつぼ18の温度一定化
制御を自動化することができる。
以上のようにこの考案によれば、接触器および
その駆動機構を設けることによつて、固体物質を
収納したるつぼへの熱入力の変動に応じてるつぼ
の熱伝導損失量を調節してるつぼの温度が一定に
なるように制御することができ、それによつてる
つぼ内の固体物質の安定蒸気化を図ることができ
るようになる。しかも、るつぼの支柱のみの熱伝
導損失量を小さく設計することが可能となり、そ
れによつてヒータ等によるるつぼの加熱効率を向
上させることもできる。
その駆動機構を設けることによつて、固体物質を
収納したるつぼへの熱入力の変動に応じてるつぼ
の熱伝導損失量を調節してるつぼの温度が一定に
なるように制御することができ、それによつてる
つぼ内の固体物質の安定蒸気化を図ることができ
るようになる。しかも、るつぼの支柱のみの熱伝
導損失量を小さく設計することが可能となり、そ
れによつてヒータ等によるるつぼの加熱効率を向
上させることもできる。
また、るつぼの温度計測器と制御装置とを設け
ているので、るつぼの温度一定化制御を自動化す
ることができる。
ているので、るつぼの温度一定化制御を自動化す
ることができる。
第1図は、この考案の一実施例に係るイオン源
を示す断面図である。第2図は、この考案の他の
実施例に係るイオン源を部分的に示す断面図であ
る。第3図は、従来のイオン源の一例を示す断面
図である。 12……固体物質蒸発源、16……支柱、18
……るつぼ、20……固体物質、22……ヒー
タ、24……接触器、34……モータ、36……
温度計測器、38……制御装置。
を示す断面図である。第2図は、この考案の他の
実施例に係るイオン源を部分的に示す断面図であ
る。第3図は、従来のイオン源の一例を示す断面
図である。 12……固体物質蒸発源、16……支柱、18
……るつぼ、20……固体物質、22……ヒー
タ、24……接触器、34……モータ、36……
温度計測器、38……制御装置。
Claims (1)
- 固体物質を収納したるつぼをそれの加熱用の熱
源によつて加熱してその固体物質を蒸気化する固
体物質蒸発源であつてそのるつぼが熱伝導性の支
柱によつて容器内に支持された構造のものを有し
ており、かつ当該るつぼに前記熱源以外の熱源か
らの熱入力が存在するイオン源において、前記支
柱に接触させた熱伝導性の接触器と、この接触器
を冷却する冷却手段と、この接触器を支柱に沿つ
てその接触を保つた状態で移動させる駆動機構
と、前記るつぼの温度を計測する温度計測器と、
この温度計測器からの信号に応答して、るつぼの
温度が一定になるように前記駆動機構を制御する
制御装置とを設けたことを特徴とするイオン源。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5088888U JPH0515712Y2 (ja) | 1988-04-18 | 1988-04-18 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5088888U JPH0515712Y2 (ja) | 1988-04-18 | 1988-04-18 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01157155U JPH01157155U (ja) | 1989-10-30 |
| JPH0515712Y2 true JPH0515712Y2 (ja) | 1993-04-26 |
Family
ID=31276915
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5088888U Expired - Lifetime JPH0515712Y2 (ja) | 1988-04-18 | 1988-04-18 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0515712Y2 (ja) |
-
1988
- 1988-04-18 JP JP5088888U patent/JPH0515712Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01157155U (ja) | 1989-10-30 |
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