JPH0515748A - 気体分離膜 - Google Patents
気体分離膜Info
- Publication number
- JPH0515748A JPH0515748A JP17534391A JP17534391A JPH0515748A JP H0515748 A JPH0515748 A JP H0515748A JP 17534391 A JP17534391 A JP 17534391A JP 17534391 A JP17534391 A JP 17534391A JP H0515748 A JPH0515748 A JP H0515748A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- separation membrane
- gas
- gas separation
- polyamide
- formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000926 separation method Methods 0.000 title claims abstract description 27
- 239000012528 membrane Substances 0.000 title claims abstract description 23
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 claims abstract description 15
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 claims abstract description 15
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 claims abstract description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 10
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract description 31
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 abstract description 12
- 230000035699 permeability Effects 0.000 abstract description 9
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 abstract description 6
- 150000005690 diesters Chemical class 0.000 abstract description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 abstract 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 abstract 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 11
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 6
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 6
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 6
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- -1 polydimethylsiloxane Polymers 0.000 description 5
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 4
- HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N triphenyl phosphite Chemical compound C=1C=CC=CC=1OP(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 HVLLSGMXQDNUAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 3
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 3
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 3
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 3
- DGBKTJIQJQNAIN-UHFFFAOYSA-N 2-butyl-3-methylbutanedioic acid Chemical compound CCCCC(C(O)=O)C(C)C(O)=O DGBKTJIQJQNAIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KMKWGXGSGPYISJ-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C=1C=C(OC=2C=CC(N)=CC=2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 KMKWGXGSGPYISJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M lithium chloride Chemical compound [Li+].[Cl-] KWGKDLIKAYFUFQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000003345 natural gas Substances 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- ASOKPJOREAFHNY-UHFFFAOYSA-N 1-Hydroxybenzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N(O)N=NC2=C1 ASOKPJOREAFHNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRBJSXQPQWSCCF-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethoxybenzidine Chemical group C1=C(N)C(OC)=CC(C=2C=C(OC)C(N)=CC=2)=C1 JRBJSXQPQWSCCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXJLFVRAWOOQDR-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminophenoxy)aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=C(N)C=CC=2)=C1 LXJLFVRAWOOQDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDXGRHCEHPFUSU-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminophenyl)aniline Chemical group NC1=CC=CC(C=2C=C(N)C=CC=2)=C1 NDXGRHCEHPFUSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LJGHYPLBDBRCRZ-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminophenyl)sulfonylaniline Chemical compound NC1=CC=CC(S(=O)(=O)C=2C=C(N)C=CC=2)=C1 LJGHYPLBDBRCRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBMISJGHVWNWTE-UHFFFAOYSA-N 3-(4-aminophenoxy)aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=CC(N)=C1 ZBMISJGHVWNWTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKOFBUUFHALZGK-UHFFFAOYSA-N 3-[(3-aminophenyl)methyl]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(CC=2C=C(N)C=CC=2)=C1 CKOFBUUFHALZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVXYMCJCMDTSQA-UHFFFAOYSA-N 3-[2-(3-aminophenyl)propan-2-yl]aniline Chemical compound C=1C=CC(N)=CC=1C(C)(C)C1=CC=CC(N)=C1 DVXYMCJCMDTSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKKYOQYISDAQER-UHFFFAOYSA-N 3-[3-(3-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=C(OC=3C=C(N)C=CC=3)C=CC=2)=C1 DKKYOQYISDAQER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NYRFBMFAUFUULG-UHFFFAOYSA-N 3-[4-[2-[4-(3-aminophenoxy)phenyl]propan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C=1C=C(OC=2C=C(N)C=CC=2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OC1=CC=CC(N)=C1 NYRFBMFAUFUULG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCXGOVYROJJXHA-UHFFFAOYSA-N 3-[4-[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfonylphenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=CC(=CC=2)S(=O)(=O)C=2C=CC(OC=3C=C(N)C=CC=3)=CC=2)=C1 WCXGOVYROJJXHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPXCORHXFPYJEH-UHFFFAOYSA-N 3-[[3-aminopropyl(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilyl]propan-1-amine Chemical compound NCCC[Si](C)(C)O[Si](C)(C)CCCN GPXCORHXFPYJEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 4,4'-diaminodiphenylmethane Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CC1=CC=C(N)C=C1 YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MITHMOYLTXMLRB-UHFFFAOYSA-N 4-(4-aminophenyl)sulfinylaniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)C1=CC=C(N)C=C1 MITHMOYLTXMLRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEQFBGHQPUXOFH-UHFFFAOYSA-N 4-(4-carboxyphenyl)benzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 NEQFBGHQPUXOFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTRJWYHGORURML-UHFFFAOYSA-N 4-(9h-fluoren-1-yloxy)aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=CC2=C1CC1=CC=CC=C21 OTRJWYHGORURML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZIHTWJGPDVSGE-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-aminocyclohexyl)methyl]cyclohexan-1-amine Chemical compound C1CC(N)CCC1CC1CCC(N)CC1 DZIHTWJGPDVSGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYEDGEXYGKWJPB-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-aminophenyl)propan-2-yl]aniline Chemical compound C=1C=C(N)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(N)C=C1 ZYEDGEXYGKWJPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUPRYUDHUFLKFL-UHFFFAOYSA-N 4-[3-(4-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=CC(OC=2C=CC(N)=CC=2)=C1 WUPRYUDHUFLKFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCRRFJIVUPSNTA-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 JCRRFJIVUPSNTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWLWYFNIQHOJMF-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[1-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]ethyl]phenoxy]aniline Chemical compound C=1C=C(OC=2C=CC(N)=CC=2)C=CC=1C(C)C(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 KWLWYFNIQHOJMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QFKVSICCVWBSGV-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)-3-chlorophenyl]propan-2-yl]-2-chlorophenoxy]aniline Chemical compound C=1C=C(OC=2C=CC(N)=CC=2)C(Cl)=CC=1C(C)(C)C(C=C1Cl)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 QFKVSICCVWBSGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALFOPRUBEYLKCR-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)-3-methylphenyl]propan-2-yl]-2-methylphenoxy]aniline Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C=2C=C(C)C(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 ALFOPRUBEYLKCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHLMWQDRYZAENA-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]-1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(C(C=2C=CC(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)(C(F)(F)F)C(F)(F)F)C=C1 HHLMWQDRYZAENA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYDATEKARGDBKU-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]phenoxy]aniline Chemical group C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(C=2C=CC(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)C=C1 HYDATEKARGDBKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTDAGHZGKXPRQI-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfonylphenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(S(=O)(=O)C=2C=CC(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)C=C1 UTDAGHZGKXPRQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJCCVNKHRXIAHZ-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[[4-(4-aminophenoxy)phenyl]methyl]phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC(C=C1)=CC=C1CC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 PJCCVNKHRXIAHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZNUCJOYPXKLTA-UHFFFAOYSA-N 5-chlorobenzene-1,3-diamine Chemical compound NC1=CC(N)=CC(Cl)=C1 VZNUCJOYPXKLTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N Acetylene Chemical compound C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N Dapsone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=C1 MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N Deuterium Chemical compound [2H] YZCKVEUIGOORGS-OUBTZVSYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CCNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USWMCMSAHICGFU-UHFFFAOYSA-N O-aminosilylhydroxylamine Chemical class NO[SiH2]N USWMCMSAHICGFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWMVMTVKBNGEAK-UHFFFAOYSA-N Styrene oxide Chemical compound C1OC1C1=CC=CC=C1 AWMVMTVKBNGEAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMNPXXIGUOKIPP-UHFFFAOYSA-N [4-(carbamothioylamino)phenyl]thiourea Chemical compound NC(=S)NC1=CC=C(NC(N)=S)C=C1 AMNPXXIGUOKIPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000370 acceptor Substances 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N benzidine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1 HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRIMHVFWRMABGJ-UHFFFAOYSA-N bicyclo[2.2.1]hepta-2,5-diene-2,3-dicarboxylic acid Chemical compound C1C2C(C(=O)O)=C(C(O)=O)C1C=C2 NRIMHVFWRMABGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLSMCQSGRWNEGX-UHFFFAOYSA-N bis(4-aminophenyl)methanone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N)C=C1 ZLSMCQSGRWNEGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,4-diamine Chemical compound NC1CCC(N)CC1 VKIRRGRTJUUZHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N cyclohexene oxide Chemical compound C1CCCC2OC21 ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWFSEYBSWVRWGL-UHFFFAOYSA-N cyclohexene oxide Natural products O=C1CCCC=C1 FWFSEYBSWVRWGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000000813 microbial effect Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- OOHAUGDGCWURIT-UHFFFAOYSA-N n,n-dipentylpentan-1-amine Chemical compound CCCCCN(CCCCC)CCCCC OOHAUGDGCWURIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFFZOPXDTCDZDP-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,5-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)O)=CC=CC2=C1C(O)=O DFFZOPXDTCDZDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003014 phosphoric acid esters Chemical class 0.000 description 1
- FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N phosphorus trichloride Chemical compound ClP(Cl)Cl FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920002863 poly(1,4-phenylene oxide) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 description 1
- 229920000306 polymethylpentene Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 1
- 239000012779 reinforcing material Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 1
- VOZKAJLKRJDJLL-UHFFFAOYSA-N tolylenediamine group Chemical group CC1=C(C=C(C=C1)N)N VOZKAJLKRJDJLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 製膜が容易で、耐熱性と気体透過性にすぐれ
る気体分離膜を得ることを目的とする。 【構成】 下記一般式(I) 【化1】 (式中、Arは芳香族ジアミンのアミノ基を除いた2価
の残基である)で示される繰り返し単位を有するポリア
ミド重合体を含有してなる気体分離膜。
る気体分離膜を得ることを目的とする。 【構成】 下記一般式(I) 【化1】 (式中、Arは芳香族ジアミンのアミノ基を除いた2価
の残基である)で示される繰り返し単位を有するポリア
ミド重合体を含有してなる気体分離膜。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は気体分離膜に関し、特
に、気体透過性及び分離性に優れていると共に耐熱性、
機械的強度、加工性等に優れている気体分離膜に関す
る。
に、気体透過性及び分離性に優れていると共に耐熱性、
機械的強度、加工性等に優れている気体分離膜に関す
る。
【0002】
【従来の技術】近年、空気の酸素富化、窒素富化、溶接
ガス等の混入した使用済みヘリウムからのヘリウムの回
収、精製、天然ガス中のヘリウムの濃縮、アンモニアプ
ラントのパージガスからの水素の回収、合成ガス中の一
酸化炭素/水素のモル比調節、水添脱硫プラントのパー
ジガスからの水素の回収、原子回収時に地中に注入され
た炭酸ガスの炭化水素からの分離、回収、天然ガス中の
炭酸ガスの分離除去、嫌気性微生物分解により生じたバ
イオガスからのメタンの分離、回収等に高分子材料から
なる気体分離膜を用いることが、省資源、省エネルギー
の観点から注目されている。
ガス等の混入した使用済みヘリウムからのヘリウムの回
収、精製、天然ガス中のヘリウムの濃縮、アンモニアプ
ラントのパージガスからの水素の回収、合成ガス中の一
酸化炭素/水素のモル比調節、水添脱硫プラントのパー
ジガスからの水素の回収、原子回収時に地中に注入され
た炭酸ガスの炭化水素からの分離、回収、天然ガス中の
炭酸ガスの分離除去、嫌気性微生物分解により生じたバ
イオガスからのメタンの分離、回収等に高分子材料から
なる気体分離膜を用いることが、省資源、省エネルギー
の観点から注目されている。
【0003】従来から、これらに用いられる高分子材料
としては、ポリジメチルシロキサン、ポリ(4−メチル
ペンテン−1)、ポリ(2,6−ジメチル酸化フェニレ
ン)、エチルセルロース、酢酸セルロース、ポリスルホ
ン、ポリアミド、ポリイミド等が知られている。更に、
分離が100℃以上の高温で行われる場合には、耐熱性
に優れている芳香族ポリイミドがよく用いられる。
としては、ポリジメチルシロキサン、ポリ(4−メチル
ペンテン−1)、ポリ(2,6−ジメチル酸化フェニレ
ン)、エチルセルロース、酢酸セルロース、ポリスルホ
ン、ポリアミド、ポリイミド等が知られている。更に、
分離が100℃以上の高温で行われる場合には、耐熱性
に優れている芳香族ポリイミドがよく用いられる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、一般
に、芳香族ポリイミドは溶剤に不溶であるため、その前
駆体であるポリアミド酸の状態で溶剤に溶かし、製膜し
た後、300℃以上の高温で加熱して脱水環化し、イミ
ド化を行うため、品質の安定したポリイミド膜を得るこ
とは非常に困難である。
に、芳香族ポリイミドは溶剤に不溶であるため、その前
駆体であるポリアミド酸の状態で溶剤に溶かし、製膜し
た後、300℃以上の高温で加熱して脱水環化し、イミ
ド化を行うため、品質の安定したポリイミド膜を得るこ
とは非常に困難である。
【0005】更に、このようにして得られる芳香族ポリ
イミド膜は、分離性には優れているものの気体透過性に
劣るという問題点があった。
イミド膜は、分離性には優れているものの気体透過性に
劣るという問題点があった。
【0006】本発明は、製膜加工性と共に耐熱性、気体
透過性及び気体分離性に優れる気体分離膜を提供するこ
とを目的としてなされたものである。
透過性及び気体分離性に優れる気体分離膜を提供するこ
とを目的としてなされたものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は下記一般式
(I)
(I)
【化2】 (式中、Arは芳香族ジアミンのアミノ基を除いた2価
の残基である)で示される繰り返し単位を有するポリア
ミド重合体を含有してなる気体分離膜に関する。
の残基である)で示される繰り返し単位を有するポリア
ミド重合体を含有してなる気体分離膜に関する。
【0008】本発明において用いられるポリアミド重合
体は、カルボニル酸成分としての(2−エンド、3−エ
キソ)−(±)−ビシクロ[2,2,1]ヘプタン−
2,3−ジカルボン酸、またはこのジハライド若しくは
ジエステルとジアミン成分としての一般式(II)
体は、カルボニル酸成分としての(2−エンド、3−エ
キソ)−(±)−ビシクロ[2,2,1]ヘプタン−
2,3−ジカルボン酸、またはこのジハライド若しくは
ジエステルとジアミン成分としての一般式(II)
【化3】 (ただし、Arは、一般式(I)におけると同意義であ
る)で表されるジアミンとを重縮合させることにより製
造できる。
る)で表されるジアミンとを重縮合させることにより製
造できる。
【0009】(2−エンド、3−エキソ)−(±)−ビ
シクロ[2,2,1]ヘプタン−2,3−ジカルボン酸
は、米国特許4,166,824号に記載されている方
法に準拠して得ることができる。
シクロ[2,2,1]ヘプタン−2,3−ジカルボン酸
は、米国特許4,166,824号に記載されている方
法に準拠して得ることができる。
【0010】上記一般式(II)で表されるジアミンと
しては、メタトルレンジアミン、5−クロロ−m−フェ
ニレンジアミン、4,4′−ジアミノジフェニルエーテ
ル、3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフェニ
ルエーテル、3,3′−ジメトキシ−4,4′−ジアミ
ノジフェニルエーテル、3,3′−ジアミノジフェニル
エーテル、3,4′−ジアミノジフェニルエーテル4,
4′−ベンジジン、4,4′−ジアミノジフェニルチオ
エーテル、3,3′−ジアミノジフェニルチオエーテ
ル、4,4′−ジアミノベンゾフェノン、3,3′−ジ
アミノジフェニルメタン、4,4′−ジアミノジフェニ
ルメタン、2,2−ビス(3−アミノフェニル)プロパ
ン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)プロパン、
4,4′−ジアミノジフェニルスルホン、4,4′−ジ
アミノジフェニルスルホキシド、3,3′−ジアミノジ
フェニルスルホン、3,3′−ジアミノビフェニル、
1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,
3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−
ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4′−
[1,3−フェニレンビス(1−メチルエチリデ
ン)]、4,4′−[1,4−フェニレンビス(1−メ
チルエチリデン)]、2,2−ビス[4−(4−アミノ
フェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[3−
メチル−4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロ
パン、2,2−ビス[3−クロロ−4−(4−アミノフ
ェノキシ)フェニル]プロパン、1,1−ビス[4−
(4−アミノフェノキシ)フェニル]エタン、ビス[4
−(4−アミノフェノキシ)フェニル]メタン、3,
3′−ジメトキシ−4,4′−ジアミンビフェニル、ビ
ス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホ
ン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]ス
ルホン、2,2−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)
フェニル]プロパン、4,4−ビス(4−アミノフェノ
キシ)ビフェニル、2,2−ビス[4−(4−アミノフ
ェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、9,9
−ビス(4−アミノフェノキシ)フルオレン等の芳香族
ジアミンがある。
しては、メタトルレンジアミン、5−クロロ−m−フェ
ニレンジアミン、4,4′−ジアミノジフェニルエーテ
ル、3,3′−ジメチル−4,4′−ジアミノジフェニ
ルエーテル、3,3′−ジメトキシ−4,4′−ジアミ
ノジフェニルエーテル、3,3′−ジアミノジフェニル
エーテル、3,4′−ジアミノジフェニルエーテル4,
4′−ベンジジン、4,4′−ジアミノジフェニルチオ
エーテル、3,3′−ジアミノジフェニルチオエーテ
ル、4,4′−ジアミノベンゾフェノン、3,3′−ジ
アミノジフェニルメタン、4,4′−ジアミノジフェニ
ルメタン、2,2−ビス(3−アミノフェニル)プロパ
ン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)プロパン、
4,4′−ジアミノジフェニルスルホン、4,4′−ジ
アミノジフェニルスルホキシド、3,3′−ジアミノジ
フェニルスルホン、3,3′−ジアミノビフェニル、
1,3−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,
3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4−
ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4′−
[1,3−フェニレンビス(1−メチルエチリデ
ン)]、4,4′−[1,4−フェニレンビス(1−メ
チルエチリデン)]、2,2−ビス[4−(4−アミノ
フェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[3−
メチル−4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロ
パン、2,2−ビス[3−クロロ−4−(4−アミノフ
ェノキシ)フェニル]プロパン、1,1−ビス[4−
(4−アミノフェノキシ)フェニル]エタン、ビス[4
−(4−アミノフェノキシ)フェニル]メタン、3,
3′−ジメトキシ−4,4′−ジアミンビフェニル、ビ
ス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]スルホ
ン、ビス[4−(3−アミノフェノキシ)フェニル]ス
ルホン、2,2−ビス[4−(3−アミノフェノキシ)
フェニル]プロパン、4,4−ビス(4−アミノフェノ
キシ)ビフェニル、2,2−ビス[4−(4−アミノフ
ェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、9,9
−ビス(4−アミノフェノキシ)フルオレン等の芳香族
ジアミンがある。
【0011】本発明におけるポリアミド樹脂は、カルボ
ン酸成分として、テレフタル酸、イソフタル酸、4,
4′−ジフェニルエーテルジカルボン酸、4,4′−ジ
フェニルジカルボン酸、1,5−ナフタリンジカルボン
酸等の芳香族ジカルボン酸を含んでいてもよい。これら
は、全カルボン酸成分に対して50モル%以下で使用す
ることが好ましい。これらが多すぎると有機剤溶解性が
低下する傾向がある。また、カルボン酸成分としてアジ
ビン酸、セバシン酸等の脂肪族ジカルボン酸を全カルボ
ン酸成分に対して50モル%以下で含んでいてもよい。
脂肪族ジカルボン酸が多すぎると、耐熱性が低下しやす
い。
ン酸成分として、テレフタル酸、イソフタル酸、4,
4′−ジフェニルエーテルジカルボン酸、4,4′−ジ
フェニルジカルボン酸、1,5−ナフタリンジカルボン
酸等の芳香族ジカルボン酸を含んでいてもよい。これら
は、全カルボン酸成分に対して50モル%以下で使用す
ることが好ましい。これらが多すぎると有機剤溶解性が
低下する傾向がある。また、カルボン酸成分としてアジ
ビン酸、セバシン酸等の脂肪族ジカルボン酸を全カルボ
ン酸成分に対して50モル%以下で含んでいてもよい。
脂肪族ジカルボン酸が多すぎると、耐熱性が低下しやす
い。
【0012】同様にジアミン成分として、ヘキサメチレ
ンジアミン、エチレンジアミン等の脂肪族ジアミン、
1,3−ビス(3−アミノプロピル)テトラメチルジシ
ロキサン、1,3−ビス(4−アミノフェニル)テトラ
メチルジシロキサン等のシロキサンジアミン1,3−ジ
アミノシクロヘキサン、1,4−ジアミノシクロヘキサ
ン、4,4−ジアミノジシクロヘキシルメタン等の脂肪
族環ジアミンなどを含んでいても良いが、全ジアミンに
対して30モル%以下で使用することが好ましい。これ
らが多すぎると耐熱性が低下する傾向がある。
ンジアミン、エチレンジアミン等の脂肪族ジアミン、
1,3−ビス(3−アミノプロピル)テトラメチルジシ
ロキサン、1,3−ビス(4−アミノフェニル)テトラ
メチルジシロキサン等のシロキサンジアミン1,3−ジ
アミノシクロヘキサン、1,4−ジアミノシクロヘキサ
ン、4,4−ジアミノジシクロヘキシルメタン等の脂肪
族環ジアミンなどを含んでいても良いが、全ジアミンに
対して30モル%以下で使用することが好ましい。これ
らが多すぎると耐熱性が低下する傾向がある。
【0013】上記芳香族ジカルボン酸及び脂肪族ジカル
ボン酸は、用いる重合法にあわせて、そのまま、または
ジハライド若しくはジエステルとして使用される。
ボン酸は、用いる重合法にあわせて、そのまま、または
ジハライド若しくはジエステルとして使用される。
【0014】上記ポリアミド重合体の重縮合方法として
は、低温重縮合法、直接重縮合法、活性エステル法等を
採用することができ、特に制限はない。
は、低温重縮合法、直接重縮合法、活性エステル法等を
採用することができ、特に制限はない。
【0015】低温重縮合法では、例えば、上記ジアミン
1当量に対して上記ジカルボン酸のジハライドを好まし
く0.9〜1.2当量使用し、トリエチルアミン、トリ
プロピルアミン、トリブチルアミン、トリアミルアミン
等の第三級アミン、酸化プロピレン、スチレンオキシ
ド、シクロヘキセンオキシド等の1,2−エポキシドな
どの酸化受容剤の存在下、N−メチル−2−ピロリド
ン、ジメチルアセトアミド等の非反応性極性溶媒中でマ
イナス十数度から該有機溶媒の還流温度までの範囲の温
度下に反応させる。
1当量に対して上記ジカルボン酸のジハライドを好まし
く0.9〜1.2当量使用し、トリエチルアミン、トリ
プロピルアミン、トリブチルアミン、トリアミルアミン
等の第三級アミン、酸化プロピレン、スチレンオキシ
ド、シクロヘキセンオキシド等の1,2−エポキシドな
どの酸化受容剤の存在下、N−メチル−2−ピロリド
ン、ジメチルアセトアミド等の非反応性極性溶媒中でマ
イナス十数度から該有機溶媒の還流温度までの範囲の温
度下に反応させる。
【0016】直接重合法では、例えば、上記ジカルボン
酸と上記ジアミンを当量またはほぼ当量使用し、トリフ
ェニルホスファイト、三塩化りん、縮合りん酸エステル
等のりん系触媒及びピリジン若しくは、上記したのと同
様の非反応性極性有機溶媒中で室温から還流温度までの
範囲内の温度下で反応させる。この場合、りん系触媒は
上記ジカルボン酸または上記ジアミンと当量またはほぼ
当量で使用され、ピリジンまたはその誘導体は上記ジカ
ルボン酸または上記ジアミンに対して10モル%以上使
用するのが好ましい。
酸と上記ジアミンを当量またはほぼ当量使用し、トリフ
ェニルホスファイト、三塩化りん、縮合りん酸エステル
等のりん系触媒及びピリジン若しくは、上記したのと同
様の非反応性極性有機溶媒中で室温から還流温度までの
範囲内の温度下で反応させる。この場合、りん系触媒は
上記ジカルボン酸または上記ジアミンと当量またはほぼ
当量で使用され、ピリジンまたはその誘導体は上記ジカ
ルボン酸または上記ジアミンに対して10モル%以上使
用するのが好ましい。
【0017】活性エステル法では、例えば、上記ジカル
ボン酸ジハライドと1−ヒドロキシベンゾトリアゾール
との反応によりベンゾトリアジルエステルを製造し、こ
のエステルと上記ジアミンを当量またはほぼ当量使用
し、上記したのと同様の非反応性極性有機溶媒中で室温
またはそれ以上の温度下に反応させる。
ボン酸ジハライドと1−ヒドロキシベンゾトリアゾール
との反応によりベンゾトリアジルエステルを製造し、こ
のエステルと上記ジアミンを当量またはほぼ当量使用
し、上記したのと同様の非反応性極性有機溶媒中で室温
またはそれ以上の温度下に反応させる。
【0018】以上のようにして得られた反応液をメタノ
ール等の低級アルコール、水等の上記有機溶剤と相溶性
であって、樹脂に対して貧溶媒である溶剤の大過剰に注
いで沈殿物を得る。これを濾別し、乾燥することによっ
て本発明におけるポリアミド重合体を回収することがで
きる。
ール等の低級アルコール、水等の上記有機溶剤と相溶性
であって、樹脂に対して貧溶媒である溶剤の大過剰に注
いで沈殿物を得る。これを濾別し、乾燥することによっ
て本発明におけるポリアミド重合体を回収することがで
きる。
【0019】本発明による気体分離膜は、上記ポリアミ
ド重合体を有機溶剤に溶解し、濾過して製膜溶液を調整
し、これをガラス板、金属板等の平滑な表面を有する基
材上に流延塗布した後、常圧下又は減圧下に加熱処理し
て溶剤を蒸発させることにより得ることができる。
ド重合体を有機溶剤に溶解し、濾過して製膜溶液を調整
し、これをガラス板、金属板等の平滑な表面を有する基
材上に流延塗布した後、常圧下又は減圧下に加熱処理し
て溶剤を蒸発させることにより得ることができる。
【0020】製膜溶液としては、ポリアミド合成後の溶
液をそのまま用いてもよいし、単離、乾燥したポリアミ
ド重合体を再溶解したものを用いてもよい。このときの
溶剤としては、ポリアミド合成時に示した非反応性有機
溶媒を挙げることができる。
液をそのまま用いてもよいし、単離、乾燥したポリアミ
ド重合体を再溶解したものを用いてもよい。このときの
溶剤としては、ポリアミド合成時に示した非反応性有機
溶媒を挙げることができる。
【0021】溶剤を蒸発させる温度及び時間は、溶剤の
沸点、減圧度により変わるが、例えば20℃〜100
℃、10mmHg〜常圧で30分から10時間溶剤を蒸
発させた後、基材から膜をはがし、更に、50℃〜15
0℃、0.1mmHg〜常圧で1時間〜20時間溶剤を
除去する。
沸点、減圧度により変わるが、例えば20℃〜100
℃、10mmHg〜常圧で30分から10時間溶剤を蒸
発させた後、基材から膜をはがし、更に、50℃〜15
0℃、0.1mmHg〜常圧で1時間〜20時間溶剤を
除去する。
【0022】なお、本発明の気体分離膜は、上記したよ
うな均質膜でもよく、また、多孔質層と組み合わされた
非対称性膜若しくは複合膜であってもよい。
うな均質膜でもよく、また、多孔質層と組み合わされた
非対称性膜若しくは複合膜であってもよい。
【0023】本発明の気体分離膜の膜厚は、支持体(補
強材)に担持されず単独で用いられるときは、1〜10
μmであることが好ましい。またセラミックシート等の
多孔質材料などの支持体に担持される場合は0.1μm
〜10μmであることが好ましい。厚すぎると透過性が
劣る傾向があり、薄すぎると膜強度が劣る傾向がある。
なお、透過性係数、分離係数等を実験的に評価し求める
場合は、ハンドリングの点から膜厚は、通常、30〜6
0μmである。
強材)に担持されず単独で用いられるときは、1〜10
μmであることが好ましい。またセラミックシート等の
多孔質材料などの支持体に担持される場合は0.1μm
〜10μmであることが好ましい。厚すぎると透過性が
劣る傾向があり、薄すぎると膜強度が劣る傾向がある。
なお、透過性係数、分離係数等を実験的に評価し求める
場合は、ハンドリングの点から膜厚は、通常、30〜6
0μmである。
【0024】
【実施例】以下、本発明を実施例によってさらに詳細に
説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定され
るものではない。
説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定され
るものではない。
【0025】実施例1 リービッヒ冷却管、気体導入管及び撹拌装置を備えた2
00mlセパラブル4口フラスコに(2−エンド、3−
エキソ)−(±)−ビシクロ[2,2,1]ヘプタン−
2,3−ジカルボン酸3.59g(19.5mmo
l)、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フ
ェニル]プロパン8.00g(19.5mmol)、ト
リフェニルホスファイト12.1g(39.0mmo
l)、ピリジン6.0g(75.9mmol)及び塩化
リチウム0.6g(14.1mmol)を入れ、窒素
下、N−メチル−2−ピロリドン40mlを加え10分
間室温で撹拌した後、昇温し、110℃で4.5時間反
応させた。室温まで冷却した後、メタノール400ml
中にあけた。生じた沈殿を濾別し、メタノールで洗浄
し、100℃で一晩乾燥した。
00mlセパラブル4口フラスコに(2−エンド、3−
エキソ)−(±)−ビシクロ[2,2,1]ヘプタン−
2,3−ジカルボン酸3.59g(19.5mmo
l)、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フ
ェニル]プロパン8.00g(19.5mmol)、ト
リフェニルホスファイト12.1g(39.0mmo
l)、ピリジン6.0g(75.9mmol)及び塩化
リチウム0.6g(14.1mmol)を入れ、窒素
下、N−メチル−2−ピロリドン40mlを加え10分
間室温で撹拌した後、昇温し、110℃で4.5時間反
応させた。室温まで冷却した後、メタノール400ml
中にあけた。生じた沈殿を濾別し、メタノールで洗浄
し、100℃で一晩乾燥した。
【0026】この重合体の還元粘度(ηsp/c)(ジ
メチルホルムアミド中の0.2重量%溶液、30℃で測
定)は0.63dl/gであった。また、この重合体の
ガラス転移温度(Tg)は225℃であった(熱機械分
析(TMA)による熱膨張係数の変位温度、昇温速度1
0℃/min)。
メチルホルムアミド中の0.2重量%溶液、30℃で測
定)は0.63dl/gであった。また、この重合体の
ガラス転移温度(Tg)は225℃であった(熱機械分
析(TMA)による熱膨張係数の変位温度、昇温速度1
0℃/min)。
【0027】この重合体7gをN,N−ジメチルホルム
アミド93gに溶解し、7重量%の製膜溶液を作製し
た。こうして得た製膜溶液を表面が平滑なガラス板上に
流延塗布し、400mmHgの減圧下、80℃で5時
間、溶剤を蒸発し、膜をはがして更に1mmHg以下の
減圧下、130℃で10時間真空乾燥して膜厚44μm
のポリアミド膜を得た。
アミド93gに溶解し、7重量%の製膜溶液を作製し
た。こうして得た製膜溶液を表面が平滑なガラス板上に
流延塗布し、400mmHgの減圧下、80℃で5時
間、溶剤を蒸発し、膜をはがして更に1mmHg以下の
減圧下、130℃で10時間真空乾燥して膜厚44μm
のポリアミド膜を得た。
【0028】圧力法〔「膜学実験法」、209〜227
頁、中垣正幸編、喜多見書房(有)に準じて、装置とし
て同書の214頁の図6に示された高圧真空気体透過測
定装置に準じた装置を用いて測定〕によって測定した各
種気体の透過係数P(cc(STP)cm/cm2・s
ec・cmHg)と温度の関係を図1に、また、30℃
および100℃における窒素に対する分離係数(その気
体の透過係数/窒素の透過係数)(比)と透過係数を表
1に示した。
頁、中垣正幸編、喜多見書房(有)に準じて、装置とし
て同書の214頁の図6に示された高圧真空気体透過測
定装置に準じた装置を用いて測定〕によって測定した各
種気体の透過係数P(cc(STP)cm/cm2・s
ec・cmHg)と温度の関係を図1に、また、30℃
および100℃における窒素に対する分離係数(その気
体の透過係数/窒素の透過係数)(比)と透過係数を表
1に示した。
【0029】比較例1 市販されている芳香族ポリイミド膜について実施例1と
同様にして透過係数P(30℃及び100℃における)
と分離係数(PH2/PN2)(30℃及び100℃におけ
る)を測定した結果を表1に示した。
同様にして透過係数P(30℃及び100℃における)
と分離係数(PH2/PN2)(30℃及び100℃におけ
る)を測定した結果を表1に示した。
【0030】
【表1】 比較例1の気体分離膜は、実施例1の気体分離膜に比べ
て分離係数は優れるが、透過係数が非常に小さく、実用
上、大きな障害がある。
て分離係数は優れるが、透過係数が非常に小さく、実用
上、大きな障害がある。
【0031】
【発明の効果】本発明による気体分離膜は、製膜性及び
耐熱性に優れ、種々の気体に対して大きな透過係数と分
離係数を有している。
耐熱性に優れ、種々の気体に対して大きな透過係数と分
離係数を有している。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1で得られたポリアミド膜の各種気体の
透過係数(P)と温度の関係を示すグラフ。
透過係数(P)と温度の関係を示すグラフ。
1 水素 2 二酸化炭素 3 酸素 4 メタン 5 窒素
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項1】 下記一般式(I) 【化1】 (式中、Arは芳香族ジアミンのアミノ基を除いた2価
の残基である)で示される繰り返し単位を有するポリア
ミド重合体を含有してなる気体分離膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17534391A JPH0515748A (ja) | 1991-07-16 | 1991-07-16 | 気体分離膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17534391A JPH0515748A (ja) | 1991-07-16 | 1991-07-16 | 気体分離膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0515748A true JPH0515748A (ja) | 1993-01-26 |
Family
ID=15994407
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17534391A Pending JPH0515748A (ja) | 1991-07-16 | 1991-07-16 | 気体分離膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0515748A (ja) |
-
1991
- 1991-07-16 JP JP17534391A patent/JPH0515748A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4880442A (en) | Polyimide gas separation membranes | |
| US4948400A (en) | Separation membranes and process for preparing the same | |
| US5969087A (en) | Polyimide, a method for manufacturing the same, a gas separation membrane using the polyimide and a method for manufacturing the same | |
| US5939520A (en) | Gas separation membranes based on regiospecific polyamide-imides | |
| CN114591503B (zh) | 一种可溶聚(苯并咪唑-共-酰亚胺)聚合物及其制备和应用 | |
| JP2009082850A (ja) | 新規ガス分離膜およびその製造方法ならびにそれを用いるガス処理方法 | |
| CN109833784A (zh) | 一种含硅聚酰亚胺气体分离膜及制备方法 | |
| JP2012210607A (ja) | ポリイミド系非対称中空糸膜 | |
| US20180339275A1 (en) | Gas separation membrane, gas separation module, gas separator, and gas separation method | |
| JPS6311045B2 (ja) | ||
| JP3116976B2 (ja) | ポリイミド分離膜 | |
| JPH0342026A (ja) | ポリイミド分離膜の製造方法 | |
| KR100398059B1 (ko) | 기체분리용 불소계 폴리이미드 복합막 제조방법 | |
| JPH0515748A (ja) | 気体分離膜 | |
| JPH038818B2 (ja) | ||
| JP2001040089A (ja) | ポリイミド樹脂、その製造法及びこれからなる気体分離膜 | |
| KR100351628B1 (ko) | 신규 폴리이미드와 이를 이용한 기체 분리막 | |
| JPS6252613B2 (ja) | ||
| JPS6151934B2 (ja) | ||
| JPH0422429A (ja) | 気体分離膜 | |
| JP2827212B2 (ja) | ポリアミドイミド分離膜 | |
| JP2874178B2 (ja) | 芳香族ポリイミド分離膜 | |
| JP2000313742A (ja) | ポリイミド及びこれを用いた気体分離膜並びにこれらの製造方法 | |
| JPS6230524A (ja) | 選択透過膜 | |
| JP2001354767A (ja) | ポリイミド及びその製造法、並びにこれを用いた気体分離膜 |