JPH051618B2 - - Google Patents
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- JPH051618B2 JPH051618B2 JP60126752A JP12675285A JPH051618B2 JP H051618 B2 JPH051618 B2 JP H051618B2 JP 60126752 A JP60126752 A JP 60126752A JP 12675285 A JP12675285 A JP 12675285A JP H051618 B2 JPH051618 B2 JP H051618B2
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- Japan
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- less
- base material
- lead frame
- cladding
- plating
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-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10W—GENERIC PACKAGES, INTERCONNECTIONS, CONNECTORS OR OTHER CONSTRUCTIONAL DETAILS OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10W70/00—Package substrates; Interposers; Redistribution layers [RDL]
- H10W70/40—Leadframes
- H10W70/456—Materials
- H10W70/457—Materials of metallic layers on leadframes
Landscapes
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体チツプと外部端子とを接続する
電子部品であるリードフレームの素材として使用
されるリードフレーム材料に関するものであり、
更に詳しくは低クロムの鉄クロム系合金のC、
Si、Mn、Alの上限値を規定すると共に、さらに
Ni、Cu、MoあるいはNb、Ti、Ta、Zrを添加
したベース材にクラツド材としてNi又はNi合金
をクラツドした耐食性に優れかつ、メツキ性及び
はんだ付け性を改善したリードフレーム材料に関
するものである。
〔従来の技術〕
従来リードフレーム材としては強度と熱膨張特
性の点でFe−Ni42合金が主として使用されて来
た。このFe−Ni42合金は高価であるためより低
廉な材料が要望され、コストメリツトと導電性の
点から一方では銅合金も使用されている。しかし
この銅合金も導電性及び熱放散の点で優れている
が、Fe−Ni42合金に比べて強度が不足し、この
ことは特にICの自動組立て工程においてアウタ
ーリードを部品に差込む際に折れ曲るというよう
な不都合がある。コストの点からは純鉄や低炭素
鋼は最も安価であるが、錆が発生し易く耐食性に
劣るため使用出来ない。そこで耐食性及び強度の
点からステンレス鋼を使用することが考えられ
る。しかし、リードフレーム材は、接点部やチツ
ブ搭載部の信頼性を高めるために、メツキ下地を
施してはんだ付けされる関係から、はんだ付け性
とメツキ性が要求されるが、ステンレス鋼は、は
んだ付け性及びメツキ性に劣る。そのため発明者
はこの点の改善を試み、低CrでC、Si、Mn、Al
の上限値を規定した鉄クロム合金からなるリード
フレーム材を提案している(特開昭59−9149)。
〔発明が解決しようとする問題点〕
この発明者が提案した低クロム鉄合金では、メ
ツキ性及びはんだ付け性がなお充分でなくAu、
Agの下地メツキの密着性向上のため、Au、Ag
のメツキをするのに先立ちCuやNiのストライク
メツキを行なう必要があつた。
本発明は先に提案された低クロム鉄合金からな
るリードフレーム材の前記したような問題点を解
決すべくなされたものであつて、メツキ性及びは
んだ付け性に優れたリードフレーム材を提供する
ことを目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
そこで発明者は先に提案した低クロム鉄合金を
ベース材として、これにクラツド材としてNi又
はNi合金をクラツドすることによりメツキ性は
んだ付け性が改善されることを新たに知見し本発
明を完成するに至つたものである。
本発明の第1発明のリードフレーム材料は重量
%で、Cr;5.0〜10.5%、C;0.10%以下、Si;
2.0%以下、Mn;2.0%以下、Al;0.10%以下を含
有し、残部実質的にFeよりなるベース材に、ク
ラツド材としてNi又はNi合金をクラツドして成
ることを要旨とする。
第2発明のリードフレーム材料は、重量%で、
Cr;5.0〜10.5%、C;0.10%以下、Si;2.0%以
下、Mn;2.0%以下、Al;0.10%以下を含有し、
さらにNb、Ti、Ta、Zrのうち1種または2種
以上を0.6%以下含有し、残部実質的にFeよりな
るベース材に、Ni又はNi合金Ni合金をクラツド
して成ることを要旨とする。
第3発明のリードフレーム材料は、重量%で、
Cr;5.0〜10.5%、C;0.10%以下、Si;2.0%以
下、Mn;2.0%以下、Al;0.10%以下を含有し、
さらにNi;3.0%以下、Cu;2.0%以下、Mo;4.0
%以下のうち1種または2種以上を含有し、残部
実質的にFeよりなるベース材に、クラツド材と
してNi又はNi合金をクラツドして成ることを要
旨とする。
第4発明のリードフレーム材料は、重量%で、
Cr;5.0〜10.5%、C;0.10%以下、Si;2.0%以
下、Mn;2.0%以下、Al;0.10%以下を含有し、
さらにNi;3.0%以下、Cu;2.0%以下、Mo;4.0
%以下のうち1種または2種以上及びNb、Ti、
Ta、Zrのうち1種または2種以上を0.6%以下含
有し、残部実質的にFeよりなるベース材に、ク
ラツド材としてNi又はNi合金をクラツドして成
ることを要旨とする。
本発明によるリードフレーム材料は、低クロム
系鉄合金のC、Si、Mn、Alの上限値を規定する
と共に必要に応じてNi、Cu、MoまたはNb、
Ti、Ta、Zrのうち1種または2種以上を含有し
たものをベース材としているが、以下にその成分
範囲(重量%)の限定理由について説明する。
Cr;5.0〜10.5%
Crはベース材のメツキ性、耐熱性および耐食
性を向上させる元素であり、このような効果を得
るためには5.0%以上含有させることが必要であ
る。しかし、多すぎると、メツキ性、はんだ付け
性を阻害するので10.5%以下とする必要がある。
C:0.10%以下
Cはベース材としての強度を得るためにある程
度含有させることが必要であるが、多すぎると耐
食性やはんだ付け性を劣化するので0.10%以下に
抑制する必要がある。
Si:2.0%以下
Siは溶製時に脱酸剤として作用するとともに耐
食性をも若干増大させるのに有効な元素である
が、多すぎると、はんだ付け性を害し、ベース材
の靭性を害するので2.0%以下とする必要がある。
Mn:2.0%以下
Mnは溶製時に脱酸および脱硫剤として作用す
る元素であるが、多すぎるとベース材の靭性を劣
化させるので2.0%以下とする必要がある。
Al;0.10%以下
Alは脱酸剤として作用するが、多すぎるとは
んだ付け性を阻害するので、0.10%以下にする必
要がある。
Ni:3.0%以下、Cu:2.0%以下、Mo:4.0%以
下のうち1種または2種以上
Ni、Cu、Moは耐食性の改善に寄与する元素で
あるので、これらの1種または2種以上を添加す
るが、多すぎるとベース材の靭性を害するので
Niは3.0%以下、Cuは2.0%以下、Moは4.0%以下
とする必要がある。
Nb、Ti、Ta、Zrのうち1種または2種以上
を0.6%以下
Nb、Ti、Ta、Zrはいずれもベース材の強度
を高めるのに寄与する元素であるので、これらの
1種または2種以上を添加するが、多すぎるとか
えつて靭性を害するのでこれらの合計で0.6%以
下とする必要がある。
上記した成分からなるベース材にクラツドされ
るクラツド材のNiは、所期の耐食性、はんだ付
け性及びメツキ性を得るためには、Ni40%以上
を含有し、残部鉄のもので充分であり必ずしも純
度の高いNiは必要としない。
又、場合によつては、Ni40%以上のNiとCuの
合金の他のNi合金を使用しても良い。
上記したベース材にNiからなるクラツド材を
クラツドする場合に、ベース材の表裏全面にクラ
ツド材をクラツドする態様、ベース材の片面側に
のみクラツド材をクラツドする態様、あるいはベ
ース材の片面または両面の一部、(例えば中央部)
にのみクラツド材をクラツドする態様などがあ
る。
また、ベース材とクラツド材との厚さの比及び
部分的にクラツドする場合の面積比等はリードフ
レーム材料の要求仕様などに応じて適宜選択され
る。
さらに、ベース材にクラツド材をクラツドする
手段としては、ベース材とクラツド材とを重ね合
わせて圧延して圧着するのが最も量産的であり、
また低価格で製造することができる。
〔実施例〕
本発明の実施例について述べ、本発明の効果を
明らかにする。第1表に本実施例に用いたベース
材の化学成分(重量%)を示す。
[Industrial Application Field] The present invention relates to a lead frame material used as a material for a lead frame, which is an electronic component that connects a semiconductor chip and an external terminal.
For more details, C of low chromium iron-chromium alloy,
In addition to stipulating the upper limits of Si, Mn, and Al,
This relates to a lead frame material with excellent corrosion resistance and improved plating and solderability, which is made by cladding Ni or Ni alloy as a cladding material to a base material containing Ni, Cu, Mo or Nb, Ti, Ta, or Zr. . [Prior Art] Conventionally, Fe-Ni42 alloy has been mainly used as a lead frame material due to its strength and thermal expansion characteristics. Since this Fe-Ni42 alloy is expensive, a cheaper material is desired, and copper alloys are also used from the viewpoint of cost merit and conductivity. However, although this copper alloy also has excellent conductivity and heat dissipation, it lacks strength compared to Fe-Ni42 alloy, and this is especially true when outer leads are inserted into components in the automatic IC assembly process. There are inconveniences such as bending. Pure iron and low carbon steel are the cheapest in terms of cost, but cannot be used because they are prone to rust and have poor corrosion resistance. Therefore, it is considered to use stainless steel from the viewpoint of corrosion resistance and strength. However, lead frame materials are required to have good solderability and plating properties because they are soldered to a plating base in order to increase the reliability of the contacts and chip mounting parts. Poor attachment and plating properties. Therefore, the inventor tried to improve this point, and with low Cr, C, Si, Mn, Al
proposed a lead frame material made of an iron-chromium alloy with a specified upper limit value (Japanese Patent Laid-Open No. 59-9149). [Problems to be solved by the invention] The low chromium iron alloy proposed by this inventor still has insufficient plating and soldering properties,
Au, Ag
It was necessary to perform strike plating of Cu and Ni before plating. The present invention was made to solve the above-mentioned problems of the previously proposed lead frame material made of a low chromium iron alloy, and provides a lead frame material with excellent plating and soldering properties. The purpose is to [Means for solving the problem] Therefore, the inventor used the previously proposed low chromium iron alloy as a base material and clad this with Ni or Ni alloy as a cladding material, thereby improving plating and soldering properties. This new finding led to the completion of the present invention. The lead frame material of the first invention of the present invention has Cr; 5.0 to 10.5%, C; 0.10% or less, Si;
2.0% or less, Mn: 2.0% or less, Al: 0.10% or less, and the remainder substantially consists of Fe, and Ni or a Ni alloy is clad as a cladding material. The lead frame material of the second invention is, in weight%,
Contains Cr; 5.0 to 10.5%, C; 0.10% or less, Si; 2.0% or less, Mn; 2.0% or less, Al; 0.10% or less,
The gist is that the base material further contains 0.6% or less of one or more of Nb, Ti, Ta, and Zr, and the remainder is substantially Fe, and is clad with Ni or Ni alloy Ni alloy. . The lead frame material of the third invention is, in weight%,
Contains Cr; 5.0 to 10.5%, C; 0.10% or less, Si; 2.0% or less, Mn; 2.0% or less, Al; 0.10% or less,
Furthermore, Ni: 3.0% or less, Cu: 2.0% or less, Mo: 4.0
The main feature is that Ni or Ni alloy is clad as a cladding material on a base material containing one or more of the following. The lead frame material of the fourth invention is, in weight%,
Contains Cr; 5.0 to 10.5%, C; 0.10% or less, Si; 2.0% or less, Mn; 2.0% or less, Al; 0.10% or less,
Furthermore, Ni: 3.0% or less, Cu: 2.0% or less, Mo: 4.0
% or less and Nb, Ti,
The gist is that the base material contains 0.6% or less of one or more of Ta and Zr, and the remainder is substantially Fe, and Ni or Ni alloy is clad as the clad material. The lead frame material according to the present invention specifies the upper limit values of C, Si, Mn, and Al of the low chromium iron alloy, and also contains Ni, Cu, Mo, or Nb as necessary.
The base material is one containing one or more of Ti, Ta, and Zr, and the reasons for limiting the range of the components (wt%) will be explained below. Cr; 5.0 to 10.5% Cr is an element that improves the plating properties, heat resistance, and corrosion resistance of the base material, and in order to obtain such effects, it is necessary to contain it in an amount of 5.0% or more. However, if it is too large, it will impair plating and soldering properties, so it must be kept at 10.5% or less. C: 0.10% or less It is necessary to contain C to some extent in order to obtain strength as a base material, but too much C deteriorates corrosion resistance and solderability, so it is necessary to suppress it to 0.10% or less. Si: 2.0% or less Si is an effective element that acts as a deoxidizing agent during melting and slightly increases corrosion resistance, but if it is too much, it impairs solderability and the toughness of the base material. % or less. Mn: 2.0% or less Mn is an element that acts as a deoxidizing and desulfurizing agent during melting, but if it is too large, it deteriorates the toughness of the base material, so it must be kept at 2.0% or less. Al: 0.10% or less Al acts as a deoxidizing agent, but too much Al impairs solderability, so it must be kept at 0.10% or less. One or more of the following: Ni: 3.0% or less, Cu: 2.0% or less, Mo: 4.0% or less Ni, Cu, and Mo are elements that contribute to improving corrosion resistance, so one or more of these elements However, too much will damage the toughness of the base material.
Ni needs to be 3.0% or less, Cu 2.0% or less, and Mo 4.0% or less. 0.6% or less of one or more of Nb, Ti, Ta, and Zr Since Nb, Ti, Ta, and Zr are all elements that contribute to increasing the strength of the base material, one or more of these Although more than 100% of the content is added, too much will actually harm the toughness, so the total content should be 0.6% or less. In order to obtain the desired corrosion resistance, solderability, and plating properties, it is sufficient that the Ni of the clad material, which is clad in the base material consisting of the above-mentioned components, contains 40% or more of Ni, with the balance being iron. High purity Ni is not required. Further, in some cases, other Ni alloys such as alloys of Ni and Cu containing 40% or more of Ni may be used. When cladding the above-mentioned base material with a cladding material made of Ni, the cladding material may be clad on the entire front and back surfaces of the base material, the cladding material may be clad only on one side of the base material, or one or both sides of the base material. a part of (e.g. central part)
There is a mode in which the cladding material is clad only in the case of cladding. Further, the thickness ratio between the base material and the cladding material, the area ratio in the case of partial cladding, etc. are appropriately selected depending on the required specifications of the lead frame material. Furthermore, as a means of cladding the cladding material to the base material, the most mass-producible method is to overlap the base material and the cladding material, roll them, and press them together.
Moreover, it can be manufactured at low cost. [Example] Examples of the present invention will be described to clarify the effects of the present invention. Table 1 shows the chemical components (% by weight) of the base material used in this example.
【表】【table】
【表】
第1表においてNo.1及びNo.2は比較例であつ
て、No.1はSUS304相当、No.2はSUS430相当で
ある。No.3〜No.12は発明例であつて、No.3は本発
明の組成範囲内のCr、C、Si、Mn、Alを含有す
るベース材であり、No.4〜No.5は上記基本組成の
ものにNb、Ti、Ta、Zrの1種以上を添加した
ベース材であり、No.6〜No.7は上記基本組成に
Ni、Mo及びCuを添加したものである。また、No.
8〜12は上記基本組成のものにNi、Cu、Mo及び
Nb、Ti、Ta、Zrの1種以上を添加したベース
材である。
ベース材として第1表の成分からなる帯材(厚
さ0.35mm)を用い、クラツド材としてNi70%以上
残部Feからなる帯材(厚さ0.05mm)をベース材の
表裏両面に当てた状態で冷間圧延することによつ
て、第1図に示すように、ベース材10の表裏全
体にクラツド材12,12をクラツドしたリード
フレーム材料14を製作した。ここで得られたリ
ードフレーム材料14の最終厚さは0.25mmであ
り、最終クラツド状態で表面のクラツド層の厚さ
は約25μm程度であつた。このようにして得られ
たリードフレーム材をさらにアンモニア分解ガス
中で650℃3分間ひずみ取り焼鈍し、耐食性、メ
ツキ性及びはんだ付け性の試験を行つた。
耐食性の評価は、温度49゜、湿度98%の湿潤雰
囲気中で96時間放置する湿潤試験を行い、その時
点での発錆の有無を調べた。その結果は第2表に
示すが、錆の発生が無かつたものについては〇印
で示し、発生があつたものについては×印で示し
た。
メツキ性の評価は、Ni表面に直接にAgのスポ
ツトメツキ(約5μm)を施し、その後450℃で5
分間加熱した後の表面状況を調べることにより行
つた。その結果は第2表に示すが、加熱によるふ
くれがなかつたものについては〇印で示し、加熱
によるふくれがあつたものについては×で示し
た。
はんだ付け性の評価は非ハロゲンフラツクスを
用い、温度230℃で60%Sn〜40%Pbよりなるはん
だ中に10秒間浸漬することにより行つた。この結
果も同じく第2表に示すが、はんだの密着性が良
好であつたものについては〇印で示し、はんだの
密着性が良好でなかつたもの、すなわち、クラツ
ド材中央部へのねじれ不良が生じたものについて
は×印で示した。[Table] In Table 1, No. 1 and No. 2 are comparative examples, where No. 1 is equivalent to SUS304 and No. 2 is equivalent to SUS430. No. 3 to No. 12 are invention examples, No. 3 is a base material containing Cr, C, Si, Mn, and Al within the composition range of the present invention, and No. 4 to No. 5 are examples of the invention. This is a base material with one or more of Nb, Ti, Ta, and Zr added to the above basic composition, and No.6 to No.7 have the above basic composition.
Added Ni, Mo and Cu. Also, No.
8 to 12 have the above basic composition plus Ni, Cu, Mo and
A base material containing one or more of Nb, Ti, Ta, and Zr. A strip material (thickness 0.35 mm) made of the components shown in Table 1 was used as the base material, and a strip material (thickness 0.05 mm) made of 70% Ni or more and the balance Fe was applied as the cladding material to both the front and back sides of the base material. As shown in FIG. 1, a lead frame material 14 was produced by cold rolling, in which cladding materials 12 were clad on the entire front and back sides of a base material 10. The final thickness of the lead frame material 14 obtained here was 0.25 mm, and the thickness of the surface clad layer in the final clad state was about 25 μm. The lead frame material thus obtained was further strain-relieved annealed at 650° C. for 3 minutes in ammonia decomposition gas, and tested for corrosion resistance, plating properties, and solderability. Corrosion resistance was evaluated by performing a humidity test in which the product was left in a humid atmosphere at a temperature of 49° and a humidity of 98% for 96 hours, and the presence or absence of rust was examined at that point. The results are shown in Table 2, where the samples with no rust generation are marked with a circle, and the samples with rust are marked with an x mark. To evaluate the plating property, we applied Ag spot plating (approximately 5 μm) directly to the Ni surface, and then
This was done by examining the surface condition after heating for a minute. The results are shown in Table 2, and those that did not blister due to heating are marked with a circle, and those that did blister due to heating are marked with an x. Solderability was evaluated using non-halogen flux by immersing it in solder consisting of 60% Sn to 40% Pb for 10 seconds at a temperature of 230°C. These results are also shown in Table 2, where the cases where the solder adhesion was good are marked with a circle, and the cases where the solder adhesion was not good, that is, there was poor twisting to the center of the clad material. Those that occurred are marked with an x.
【表】
第2表から明らかなように、比較例であるNo.1
及びNo.2は耐食性については問題ないがメツキ性
及びはんだ付け性において劣るのに対し、本発明
の発明例であるNo.3〜No.12は耐食性、メツキ性及
びはんだ付け性のいずれにも優れていることが確
かめられた。なお、ひずみ取り焼鈍を行なつたも
のと行なわなかつたものにメツキ性及びはんだ付
け性に有意な差は認められなかつた。
〔発明の効果〕
本発明は以上説明したように重量%で、Cr:
5.0〜10.5%、C:0.10%以下、Si:2.0%以下、
Mn:2.0%以下、Al:0.10%以下を基本組成と
し、これに必要に応じてNi:;3.0%以下、Cu;
2.0%以下、Mo;4.0%以下のうち1種または2
種以上あるいはNb、Ti、Ta、Zrのうち1種ま
たは2種以上を0.6%以下添加し、残部実質的に
Feよりなるベース材に、クラツド材としてNiを
クラツドして成るリードフレーム材料であるの
で、従来の発明者が開発した低クロムの鉄合金に
比較し、著しくメツキ性及びはんだ付け性が改善
されており、従来のようにAu、Agのメツキに先
立つてNiストライクメツキを行なう必要がなく、
この工程を省略して直接にAu、Agをメツキして
も充分なメツキ性及びはんだ付け性が得られると
いう優れた効果がある。またフエライト系あるい
はオーステナイト系のステンレス鋼からなるリー
ドフレーム材料よりもメツキ性及びはんだ付け性
において優れたリードフレーム材料を提供するこ
とができる。[Table] As is clear from Table 2, No. 1 is a comparative example.
and No. 2 have no problem with corrosion resistance, but are inferior in plating and soldering properties, whereas Nos. 3 to 12, which are examples of the invention, have no problems in corrosion resistance, plating properties, and soldering properties. It was confirmed that it was excellent. Note that no significant difference in plating and soldering properties was observed between those that were subjected to strain relief annealing and those that were not. [Effects of the Invention] As explained above, the present invention has Cr:
5.0 to 10.5%, C: 0.10% or less, Si: 2.0% or less,
The basic composition is Mn: 2.0% or less, Al: 0.10% or less, and Ni: 3.0% or less, Cu;
2.0% or less, Mo; 1 or 2 of 4.0% or less
0.6% or less of one or more of Nb, Ti, Ta, and Zr is added, and the remainder is substantially
Since the lead frame material is made by cladding Ni as a cladding material to a base material made of Fe, it has significantly improved plating and soldering properties compared to the previous low chromium iron alloy developed by the inventor. Therefore, there is no need to perform Ni strike plating before plating Au and Ag as in the past.
Even if this step is omitted and Au or Ag is directly plated, sufficient plating and solderability can be obtained, which is an excellent effect. Furthermore, it is possible to provide a lead frame material that has better plating and soldering properties than lead frame materials made of ferrite or austenitic stainless steel.
第1図はこの発明の実施例において製作したリ
ードフレーム材料の部分斜視図である。
10…ベース材、12…クラツド材、14…リ
ードフレーム材料。
FIG. 1 is a partial perspective view of a lead frame material manufactured in an embodiment of the present invention. 10... Base material, 12... Clad material, 14... Lead frame material.
Claims (1)
下、Si;2.0%以下、Mn;2.0%以下、Al;0.10%
以下を含有し、残部実質的にFeよりなるベース
材に、クラツド材としてNi又はNi合金をクラツ
ドして成ることを特徴とするリードフレーム材
料。 2 重量%で、Cr;5.0〜10.5%、C;0.10%以
下、Si;2.0%以下、Mn;2.0%以下、Al;0.10%
以下を含有し、さらにNb、Ti、Ta、Zrのうち
1種または2種以上を0.6%以下含有し、残部実
質的にFeよりなるベース材に、クラツド材とし
てNi又はNi合金をクラツドして成るリードフレ
ーム材料。 3 重量%で、Cr;5.0〜10.5%、C;0.10%以
下、Si;2.0%以下、Mn;2.0%以下、Al;0.10%
以下を含有し、さらにNi;3.0%以下、Cu;2.0%
以下、Mo;4.0%以下のうち1種または2種以上
を含有し、残部実質的にFeよりなるベース材に、
クラツド材としてNi又はNi合金をクラツドして
成ることを特徴とするリードフレーム材料。 4 重量%で、Cr;5.0〜10.5%、C;0.10%以
下、Si;2.0%以下、Mn;2.0%以下、Al;0.10%
以下を含有し、さらにNi;3.0%以下、Cu;2.0%
以下、Mo;4.0%以下のうち1種または2種以上
及びNb、Ti、Ta、Zrのうち1種または2種以
上を0.6%以下含有し、残部実質的にFeよりなる
ベース材に、クラツド材としてNi又はNi合金を
クラツドして成ることを特徴とするリードフレー
ム材料。[Claims] 1% by weight: Cr: 5.0 to 10.5%, C: 0.10% or less, Si: 2.0% or less, Mn: 2.0% or less, Al: 0.10%
1. A lead frame material comprising: a base material containing the following, the remainder substantially consisting of Fe, and cladding with Ni or a Ni alloy as a cladding material. 2 In weight%, Cr: 5.0 to 10.5%, C: 0.10% or less, Si: 2.0% or less, Mn: 2.0% or less, Al: 0.10%
The base material contains the following and further contains 0.6% or less of one or more of Nb, Ti, Ta, and Zr, and the remainder is substantially Fe, and Ni or Ni alloy is clad as a cladding material. Made of lead frame material. 3 In weight%, Cr: 5.0 to 10.5%, C: 0.10% or less, Si: 2.0% or less, Mn: 2.0% or less, Al: 0.10%
Contains the following, plus Ni; 3.0% or less, Cu; 2.0%
Hereinafter, a base material containing one or more of Mo; 4.0% or less, and the remainder substantially consisting of Fe,
A lead frame material characterized by being made of Ni or Ni alloy as a cladding material. 4 In weight%, Cr: 5.0 to 10.5%, C: 0.10% or less, Si: 2.0% or less, Mn: 2.0% or less, Al: 0.10%
Contains the following, plus Ni; 3.0% or less, Cu; 2.0%
Hereinafter, a base material containing one or more of Mo; 4.0% or less and one or more of Nb, Ti, Ta, and Zr of 0.6% or less, and the remainder substantially Fe is used. A lead frame material characterized by being made of Ni or Ni alloy as a cladding material.
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60126752A JPS61284949A (en) | 1985-06-11 | 1985-06-11 | Lead frame material |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60126752A JPS61284949A (en) | 1985-06-11 | 1985-06-11 | Lead frame material |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61284949A JPS61284949A (en) | 1986-12-15 |
| JPH051618B2 true JPH051618B2 (en) | 1993-01-08 |
Family
ID=14943036
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60126752A Granted JPS61284949A (en) | 1985-06-11 | 1985-06-11 | Lead frame material |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61284949A (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102014108916B4 (en) * | 2014-06-25 | 2019-12-05 | Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG | Ribbon-shaped substrate for the production of chip carriers, electronic module with such a chip carrier, electronic device with such a module and method for producing a substrate |
-
1985
- 1985-06-11 JP JP60126752A patent/JPS61284949A/en active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61284949A (en) | 1986-12-15 |
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