JPH051664A - 真空排気装置 - Google Patents
真空排気装置Info
- Publication number
- JPH051664A JPH051664A JP18188691A JP18188691A JPH051664A JP H051664 A JPH051664 A JP H051664A JP 18188691 A JP18188691 A JP 18188691A JP 18188691 A JP18188691 A JP 18188691A JP H051664 A JPH051664 A JP H051664A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vapor deposition
- chamber
- vacuum chamber
- titanium
- vacuum
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 安定的に効率のよい真空引きを行える真空排
気装置を提供する。 【構成】 ゲッターポンプ装置４は、蒸着室５と、回転
体６と、チタン球８とを備えている。蒸着室５は真空室
１に隣接して配置されている。回転体６は、真空室１と
蒸着室５との間に、その表面が両室に露出するように回
転可能に配置されている。チタン球８は、蒸着室５内に
配置され、回転体６に化学的に活性な物質の蒸着膜を形
成するための装置である。
気装置を提供する。 【構成】 ゲッターポンプ装置４は、蒸着室５と、回転
体６と、チタン球８とを備えている。蒸着室５は真空室
１に隣接して配置されている。回転体６は、真空室１と
蒸着室５との間に、その表面が両室に露出するように回
転可能に配置されている。チタン球８は、蒸着室５内に
配置され、回転体６に化学的に活性な物質の蒸着膜を形
成するための装置である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、真空排気装置、特に、
化学的に活性な物質の蒸着膜に気体を化学吸着させて真
空排気を行う真空排気装置に関する。
化学的に活性な物質の蒸着膜に気体を化学吸着させて真
空排気を行う真空排気装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、たとえば薄膜を形成するため
の真空排気装置として、ロータリーポンプ、ターボ分子
ポンプ、イオンポンプ、及び蒸発型ゲッターポンプ等が
用いられている。このうち、蒸発型ゲッターポンプは、
化学的に活性な金属の蒸着膜を作り、それに気体を化学
吸着あるいは収着させるものであり、超高真空を得るの
に使用される。
の真空排気装置として、ロータリーポンプ、ターボ分子
ポンプ、イオンポンプ、及び蒸発型ゲッターポンプ等が
用いられている。このうち、蒸発型ゲッターポンプは、
化学的に活性な金属の蒸着膜を作り、それに気体を化学
吸着あるいは収着させるものであり、超高真空を得るの
に使用される。
【０００３】図３に示すゲッターポンプ装置２４は、真
空室２１内を真空排気するための装置である。真空室２
１には図示しない他の排気装置が接続されている。
空室２１内を真空排気するための装置である。真空室２
１には図示しない他の排気装置が接続されている。
【０００４】ゲッターポンプ装置２４は、主に、蒸着室
２５と、蒸着室２５内に設けられたチタンワイヤ２６
と、チタンワイヤ２６と真空室２１との間に配置された
シールド板２７とから構成されている。真空室２１と蒸
着室２５とは連通している。チタンワイヤ２６には、外
部の図示しない電源装置が接続されている。
２５と、蒸着室２５内に設けられたチタンワイヤ２６
と、チタンワイヤ２６と真空室２１との間に配置された
シールド板２７とから構成されている。真空室２１と蒸
着室２５とは連通している。チタンワイヤ２６には、外
部の図示しない電源装置が接続されている。
【０００５】このような装置では、真空室２１及び蒸着
室２５を図示しない排気装置によってある程度真空引き
する。この状態で、外部の電源装置からチタンワイヤ２
６の蒸発用フィラメントに通電し、蒸着室２５の周辺の
壁にチタンの蒸着膜を形成する。このとき、シールド板
２７により、蒸発したチタンが真空室２１内に飛散する
ことはない。蒸着室２５の壁に形成されたチタン蒸着膜
は、真空室２１内の気体を化学吸着あるいは収着させ
る。チタン蒸着膜に収着及び化学吸着能力がなくなる
と、再びチタンを蒸発させて活性なチタン蒸着膜を形成
する。このようにして、真空室２１内が高真空状態にな
る。
室２５を図示しない排気装置によってある程度真空引き
する。この状態で、外部の電源装置からチタンワイヤ２
６の蒸発用フィラメントに通電し、蒸着室２５の周辺の
壁にチタンの蒸着膜を形成する。このとき、シールド板
２７により、蒸発したチタンが真空室２１内に飛散する
ことはない。蒸着室２５の壁に形成されたチタン蒸着膜
は、真空室２１内の気体を化学吸着あるいは収着させ
る。チタン蒸着膜に収着及び化学吸着能力がなくなる
と、再びチタンを蒸発させて活性なチタン蒸着膜を形成
する。このようにして、真空室２１内が高真空状態にな
る。
【０００６】
【考案が解決しようとする課題】前記従来のゲッターポ
ンプ装置２４においては、真空室２１と蒸着室２５とが
連通しているため、チタンワイヤ２６からチタンが蒸発
するときに蒸着室２５内の圧力が高くなり、それにより
真空室２１の圧力も高くなってしまう。そのため、チタ
ン蒸発時にはそのつど真空室２１での作業を中止しなけ
ればならない。
ンプ装置２４においては、真空室２１と蒸着室２５とが
連通しているため、チタンワイヤ２６からチタンが蒸発
するときに蒸着室２５内の圧力が高くなり、それにより
真空室２１の圧力も高くなってしまう。そのため、チタ
ン蒸発時にはそのつど真空室２１での作業を中止しなけ
ればならない。
【０００７】また、前記従来例においては、真空室２１
内の気体は、蒸着室２５の壁に形成されたチタン蒸着膜
に化学吸着あるいは収着される。このとき、気体はシー
ルド板２７により規制され、抵抗が大きくなるため効率
良く排気されない。
内の気体は、蒸着室２５の壁に形成されたチタン蒸着膜
に化学吸着あるいは収着される。このとき、気体はシー
ルド板２７により規制され、抵抗が大きくなるため効率
良く排気されない。
【０００８】本発明の目的は、安定的に効率のよい真空
引きを行える真空排気装置を提供することにある。
引きを行える真空排気装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明に係る真空排気装
置は、真空室の真空引きを行う装置である。この装置
は、蒸着室と、回転体と、蒸着膜形成装置とを備えてい
る。前記蒸着室は真空室に隣接して配置されている。前
記回転体は、真空室と蒸着室との間に、その表面が両室
に露出するように回転可能に配置されている。前記蒸着
膜形成装置は、蒸着室内に配置され、回転体に化学的に
活性な物質の蒸着膜を形成するための装置である。
置は、真空室の真空引きを行う装置である。この装置
は、蒸着室と、回転体と、蒸着膜形成装置とを備えてい
る。前記蒸着室は真空室に隣接して配置されている。前
記回転体は、真空室と蒸着室との間に、その表面が両室
に露出するように回転可能に配置されている。前記蒸着
膜形成装置は、蒸着室内に配置され、回転体に化学的に
活性な物質の蒸着膜を形成するための装置である。
【００１０】
【作用】本発明に係る真空排気装置では、蒸着室内に配
置された蒸着膜形成装置が、真空室と蒸着室との間で回
転している回転体に化学的に活性な物質の蒸着膜を形成
する。この蒸着膜形成面が真空室側に露出するときに、
蒸着膜が真空室内の気体を化学吸着あるいは収着する。
気体を化学吸着及び収着することで排気能力がなくなっ
た蒸着膜形成面は、回転体が回転して蒸着室に露出され
るときに、蒸着膜形成装置より新たにその表面に蒸着膜
が形成される。このようにして、真空室内の気体は連続
して、新たに形成された蒸着膜で効率良く真空引きされ
る。
置された蒸着膜形成装置が、真空室と蒸着室との間で回
転している回転体に化学的に活性な物質の蒸着膜を形成
する。この蒸着膜形成面が真空室側に露出するときに、
蒸着膜が真空室内の気体を化学吸着あるいは収着する。
気体を化学吸着及び収着することで排気能力がなくなっ
た蒸着膜形成面は、回転体が回転して蒸着室に露出され
るときに、蒸着膜形成装置より新たにその表面に蒸着膜
が形成される。このようにして、真空室内の気体は連続
して、新たに形成された蒸着膜で効率良く真空引きされ
る。
【００１１】また、この装置では、真空室と蒸着室とは
連通していないため、蒸着室内で蒸着膜が形成されると
きにも真空室側に悪影響を与えることはない。さらに、
従来装置のようなシールド板が不要であり、真空室内の
気体は規制されることなく直接蒸着膜に化学吸着及び収
着されるので、排気効率がよくなる。
連通していないため、蒸着室内で蒸着膜が形成されると
きにも真空室側に悪影響を与えることはない。さらに、
従来装置のようなシールド板が不要であり、真空室内の
気体は規制されることなく直接蒸着膜に化学吸着及び収
着されるので、排気効率がよくなる。
【００１２】
【実施例】図１は、本考案の一実施例が採用された真空
排気装置の概略図を示す。図において、真空室１は、内
部に超高真空を得て薄膜形成を行うためのものである。
真空室１には、バルブ２を介してターボ分子ポンプ３が
接続されている。ターボ分子ポンプ３には、補助ポンプ
として油回転ポンプ１４が接続されている。
排気装置の概略図を示す。図において、真空室１は、内
部に超高真空を得て薄膜形成を行うためのものである。
真空室１には、バルブ２を介してターボ分子ポンプ３が
接続されている。ターボ分子ポンプ３には、補助ポンプ
として油回転ポンプ１４が接続されている。
【００１３】真空室１の側方には、ゲッターポンプ装置
４が配置されている。ゲッターポンプ装置４は、主に、
真空室１に隣接して配置された蒸着室５と、蒸着室５と
真空室１との間に配置された回転体６と、蒸着室５内に
配置されたチタン球８とから構成されている。
４が配置されている。ゲッターポンプ装置４は、主に、
真空室１に隣接して配置された蒸着室５と、蒸着室５と
真空室１との間に配置された回転体６と、蒸着室５内に
配置されたチタン球８とから構成されている。
【００１４】蒸着室５には、バルブ１０を介してターボ
分子ポンプ１１が接続されている。ターボ分子ポンプ１
１には、補助ポンプとしての油回転ポンプ１５が接続さ
れている。真空室１と蒸着室５との間には、仕切り板１
３が配置されている。なお、仕切り板１３と回転体６表
面との間には、回転体６が自由に回転でき、しかも真空
室１と蒸着室２との間でガス等が自由に行き来しない程
度の隙間が設けられている。
分子ポンプ１１が接続されている。ターボ分子ポンプ１
１には、補助ポンプとしての油回転ポンプ１５が接続さ
れている。真空室１と蒸着室５との間には、仕切り板１
３が配置されている。なお、仕切り板１３と回転体６表
面との間には、回転体６が自由に回転でき、しかも真空
室１と蒸着室２との間でガス等が自由に行き来しない程
度の隙間が設けられている。
【００１５】回転体６は、図２に示すように、円筒状の
部材である。この回転体６は、真空室１と蒸着室５との
間で両室に露出するように回転自在であり、図示しない
駆動機構によって速度可変で回転させられるようになっ
ている。
部材である。この回転体６は、真空室１と蒸着室５との
間で両室に露出するように回転自在であり、図示しない
駆動機構によって速度可変で回転させられるようになっ
ている。
【００１６】チタン球８は、チタンボールと、その中に
配置されたフィラメントとを有しており、このフィラメ
ントが外部の電源９に接続されている。
配置されたフィラメントとを有しており、このフィラメ
ントが外部の電源９に接続されている。
【００１７】次に真空排気動作について説明する。最初
に、バルブ２，１０を開けてターボ分子ポンプ３，１１
により真空室１及び蒸着室５内の真空引きを行う。真空
室１及び蒸着室５内が１０-2Ｐａ程度の圧力になると、
ゲッターポンプ装置４を作動させる。
に、バルブ２，１０を開けてターボ分子ポンプ３，１１
により真空室１及び蒸着室５内の真空引きを行う。真空
室１及び蒸着室５内が１０-2Ｐａ程度の圧力になると、
ゲッターポンプ装置４を作動させる。
【００１８】回転体６は、外部の駆動機構により図１に
示す矢印方向に回転する。一方、チタン球８のフィラメ
ントには、外部の電源９から通電される。これにより、
フィラメントがチタンを加熱し、チタンを蒸発させる。
蒸発させられたチタンは、回転する回転体６の表面に付
着し、表面にチタンの蒸着膜を形成する。
示す矢印方向に回転する。一方、チタン球８のフィラメ
ントには、外部の電源９から通電される。これにより、
フィラメントがチタンを加熱し、チタンを蒸発させる。
蒸発させられたチタンは、回転する回転体６の表面に付
着し、表面にチタンの蒸着膜を形成する。
【００１９】チタン蒸着膜が形成された表面は回転体６
が回転することにより、真空室１内に移動する。このと
き真空室１内の気体、特に水素，酸素及び窒素等が強く
チタン蒸着膜に化学吸着及び収着される。気体を化学吸
着及び収着することにより排気能力がなくなったチタン
蒸着膜形成面は再び蒸着室５側に移動させられ、チタン
球８からの蒸発チタンにより新たなチタン蒸着膜が形成
される。
が回転することにより、真空室１内に移動する。このと
き真空室１内の気体、特に水素，酸素及び窒素等が強く
チタン蒸着膜に化学吸着及び収着される。気体を化学吸
着及び収着することにより排気能力がなくなったチタン
蒸着膜形成面は再び蒸着室５側に移動させられ、チタン
球８からの蒸発チタンにより新たなチタン蒸着膜が形成
される。
【００２０】このようにして、真空室１側に露出される
チタン蒸着膜は、常に気体の化学吸着及び収着能力が良
く、また回転体６が回転を続けることでゲッターポンプ
装置４が連続して真空室１の真空引きを行う。
チタン蒸着膜は、常に気体の化学吸着及び収着能力が良
く、また回転体６が回転を続けることでゲッターポンプ
装置４が連続して真空室１の真空引きを行う。
【００２１】真空室１内の圧力が高い段階では、回転体
６の回転速度を高めて新たな蒸着膜を速く形成して排気
能力の低下を防ぐ。真空室１内の圧力が低くなると、回
転体６の回転速度を落としても、排気能力を維持でき
る。これは、吸着ガスが希薄になっているため、蒸着膜
の劣化が進みにくいからである。
６の回転速度を高めて新たな蒸着膜を速く形成して排気
能力の低下を防ぐ。真空室１内の圧力が低くなると、回
転体６の回転速度を落としても、排気能力を維持でき
る。これは、吸着ガスが希薄になっているため、蒸着膜
の劣化が進みにくいからである。
【００２２】この実施例においては、真空室１と蒸着室
５とは、回転体６及び仕切り板１２及び１３によって仕
切られているため、チタン球８からチタンが蒸発する際
に起こる圧力の上昇等の悪影響は真空室１側に及ぼされ
ることはなく、真空室１では良好な真空引きが行われ
る。
５とは、回転体６及び仕切り板１２及び１３によって仕
切られているため、チタン球８からチタンが蒸発する際
に起こる圧力の上昇等の悪影響は真空室１側に及ぼされ
ることはなく、真空室１では良好な真空引きが行われ
る。
【００２３】〔他の実施例〕 （ａ） 前記実施例においては、真空室１と蒸着室５と
の間に仕切り板１３を配置していたが、仕切り板を二重
にして間に中間室を設け、その中間室をターボ分子ポン
プで排気する構造にしてもよい。この場合、蒸着室５の
圧力上昇が真空室１に悪影響をより及ぼしにくくなり、
真空室１では良好な真空引きが行われる。
の間に仕切り板１３を配置していたが、仕切り板を二重
にして間に中間室を設け、その中間室をターボ分子ポン
プで排気する構造にしてもよい。この場合、蒸着室５の
圧力上昇が真空室１に悪影響をより及ぼしにくくなり、
真空室１では良好な真空引きが行われる。
【００２４】（ｂ） 前記実施例においては、化学的に
活性な物質としてチタンを用いたが、放出ガスの少ない
高真空向きの他の化学的に活性な物質を用いてもよい。
活性な物質としてチタンを用いたが、放出ガスの少ない
高真空向きの他の化学的に活性な物質を用いてもよい。
【００２５】
【発明の効果】本発明に係る真空排気装置では、回転体
が蒸着室側で蒸着膜を形成しながら真空室側で気体を化
学吸着及び収着するように回転している。これにより、
常に新たに形成された蒸着膜が真空室に露出され、効率
良くかつ連続的に排気できる。また、真空室と蒸着室と
は連通していないため、蒸着室側の蒸着膜形成時におけ
る圧力の上昇等が真空室側に悪影響を及ぼすことはな
い。
が蒸着室側で蒸着膜を形成しながら真空室側で気体を化
学吸着及び収着するように回転している。これにより、
常に新たに形成された蒸着膜が真空室に露出され、効率
良くかつ連続的に排気できる。また、真空室と蒸着室と
は連通していないため、蒸着室側の蒸着膜形成時におけ
る圧力の上昇等が真空室側に悪影響を及ぼすことはな
い。
【図１】本発明の一実施例が採用された真空排気装置の
概略構成図。
概略構成図。
【図２】回転体の斜視図。
【図３】従来例の図１に相当する図。
１ 真空室 ４ ゲッターポンプ装置 ５ 蒸着室 ６ 回転体 ８ チタン球
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】真空室の真空引きを行う真空排気装置であ
って、前記真空室に隣接して配置された蒸着室と、前記
真空室と蒸着室との間に、その表面が両室に露出するよ
うに回転可能に配置された回転体と、前記蒸着室内に配
置され、前記回転体に化学的に活性な物質の蒸着膜を形
成するための蒸着膜形成装置と、を備えた真空排気装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18188691A JPH051664A (ja) | 1991-06-25 | 1991-06-25 | 真空排気装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18188691A JPH051664A (ja) | 1991-06-25 | 1991-06-25 | 真空排気装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH051664A true JPH051664A (ja) | 1993-01-08 |
Family
ID=16108599
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18188691A Pending JPH051664A (ja) | 1991-06-25 | 1991-06-25 | 真空排気装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH051664A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002324663A (ja) * | 2001-04-25 | 2002-11-08 | Toshiba Corp | 電場発光ランプとその製造方法 |
| JP2006221946A (ja) * | 2005-02-10 | 2006-08-24 | Horon:Kk | 電子顕微鏡 |
| WO2024153468A1 (de) * | 2023-01-18 | 2024-07-25 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Vorrichtung und verfahren zur kontaminationsreduzierung in einem optischen system für die mikrolithographie |
-
1991
- 1991-06-25 JP JP18188691A patent/JPH051664A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002324663A (ja) * | 2001-04-25 | 2002-11-08 | Toshiba Corp | 電場発光ランプとその製造方法 |
| JP2006221946A (ja) * | 2005-02-10 | 2006-08-24 | Horon:Kk | 電子顕微鏡 |
| WO2024153468A1 (de) * | 2023-01-18 | 2024-07-25 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Vorrichtung und verfahren zur kontaminationsreduzierung in einem optischen system für die mikrolithographie |
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