JPH048878A - 超高真空排気システム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、超高真空を達成するための真空装置におい
て、チタンサブリメーションポンプを複数用い、かつ、
各チタンサブリメーションポンプをバルブにより、独立
にし、別々の排気を可能にした超高真空排気システムに
関する。

〔発明の概要〕

本発明は、超高真空を達成するためにチタンサブリメー
ションポンプを使用する真空装置において、チタンサブ
リメーションポンプを複数（例えば２台）用い、かつ、
各チタンサブリメーションポンプをバルブを介して独立
にし、交互に排気することで超高真空の維持を容易にす
るものである。

〔従来の技術〕

従来、第２図に示すように、真空槽１内を超高真空にす
るには、真空槽内が大気の状態から粗弓きポンプ２　（
例えばロータリーポンプ）で排気し、次に、メインポン
プ３（例えばターボ分子ポンプ）で排気し、さらに、チ
タンサブリメーションポンプ４で排気することにより、
超高真空を達成する超高真空排気システムが知られてい
る。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかし、従来の超高真空排気システムは、超高真空を達
成するためにチタンサブリメーションポンプ４を用いる
ため、超高真空の維持できる時間が限られてしまう欠点
があった。

超高真空を維持できる時間が限られてしまう理由を、以
下に述べる。チタンサブリメーションポンプ４で排気を
行うには、まず、チタン４−（ａｌを通電加熱により暴
発させる。蒸発したチタン原子は、液体窒素で冷却され
ているシュラウド４−［ｂｌの内壁に付着する。付着し
たチタンの澤着腹は活性であるため、真空槽１内に残存
するガス分子等を吸着し、排気作用を行っている。つま
り、活性なチタン蒸着膜の排気作用により、超高真空が
達成される。

しかし、時間の経過とともに、活性なチタン蒸着膜は、
吸着ガス分子で覆われ、活性な部分の面積が減少し、排
気作用も減少し、真空度が悪くなっていく。

超高真空を維持するためには、繰り返しチタン４−（ａ
ｌを通電加熱しなければならない。

しかし、チタン４−（ａｌを通電加熱するとき、チタン
内の吸蔵ガスも放出するため、真空槽１内の真空度は急
激に悪化する。真空度の悪化後は、作成された活性なチ
タン蒸着膜の排気作用により超高真空頭載に復帰はする
。真空度の悪化と超高真空の復帰を繰り返すことになり
、超高真空を一定に維持できない欠点があった。

そこで、この発明は従来のこのような欠点を解決するた
めに、超高真空の維持を容易に安定にする超高真空排気
ンステムを得ることを目的としている。

〔課題を解決するための手段〕

上記問題点を解決するために、この発明においては、チ
タンサブリメーションポンプを複数（例えば２台）用い
、各チタンサブリメーションポンプをバルブを介して独
立にし、別々の排気を可能とする構成にし、超高真空の
維持を容易に安定にした。

〔作用〕

上記のように構成された超高真空排気システムにおいて
、一方のチタンサブリメーションポンプのチタン蒸着膜
（排気作用）を作成するときにはバルブを閉じて真空槽
内の真空度悪化を防ぎ、他方のチタンサブリメーション
ポンプで真空槽の排気を行い、排気作用の減少した時点
で両チタンサブリメーションポンプの役割を交代するよ
うにして、超高真空の維持を容易に、安定にすることが
できるのである。

〔実施例〕

以下にこの発明の実施例を図面に基づいて説明する。第
１図において、真空槽１には？ｊ！数（例えば２台）の
チタンサブリメーションポンプ５及び６がゲートバルブ
７及び８を介して取り付けられている。各チタンサブリ
メーションポンプは、さらにケートバルブ９及び１０を
介してメインポンプ３　（例えばターボ分子ポンプ）及
び粗引きポンプ２　（例えばロータリーポンプ）とつな
がっている。

まず、排気の手順を説明説明する。ゲートバルブ７、　
８．　９．１０は開いた状態で、真空槽Ｉを大気から粗
引きポンプ２により真空引きし、次にメインポンプ３で
排気し、さらにチタンサブリメーションポンプ５で排気
することにより、超高真空を達成する。チタンサブリメ
ーションポンプ５が排気作用をもつのは、以下の理由に
よる。チタン５−（ａｌを通電加熱により蒸発させると
、蒸発したチタン原子はツユラウド５−（ｂｌの内壁に
付着する。

付着したチタンの蒸着膜は活性であるため、真空槽１内
に残存するガス分子等を吸着し、排気作用をする。

しかし、時間の経過とともに、排気作用のあるチタン蒸
着膜は吸着ガス分子で覆われ、活性な部分の面積が減少
し、排気作用も減少し、真空度が悪くなっていく。

そこで、チタンサブリメーションポンプ５が排気作用の
あるうちに、別のチタンサブリメーションポンプ６で排
気できるようにする。まず、ゲートバルブ８及び９を閉
して、チタン６−（ａｌを通電加熱し、シェラウド６１
ｂ）の内壁に活性なチタン蒸着膜を付着させる。ゲート
バルブ８及び９を閉しるのは、チタン６−＋ａｌの通電
加熱時、チタン内部に吸蔵されているガスが放出される
ため、メインポンプ３により排気することで、真空槽１
内の真空度へは影響を与えないようにするためである。

次に、チタンサブリメーションポンプ５の排気能力のあ
るうちに、ゲートバルブ８及び９を開き、ゲートバルブ
７及び１０を閉じて、チタンサブリメーションポンプ６
で超高真空を維持する。今度は、チタンサブリメーショ
ンポンプ５の方を排気できるように、チタン５−（ａｌ
を通電加熱しチタン蒸着膜を作成し、排気作用面を再生
しておく。この時、ゲートバルブ７及び１０は閉してい
るので、真空槽１内への真空度悪化の影響はない。

以下同様に交互に繰り返していけば、排気作用面作成時
の真空度悪化もなく、超高真空の維持が容易にしかも安
定して実現できる。

〔発明の効果〕

この発明は以上説明したように、チタンサブリメーショ
ンポンプを複数（例えば２台）用い、各チタンサブリメ
ーションポンプを介して独立にし、別々に排気できる構
成とする。一方のチタンサブリメーションポンプで超高
真空を維持している間に、他方のチタンサブリメーショ
ンポンプをゲートバルブで真空槽を遮断し排気作用面の
再生を行い、しかも、ゲートバルブにより、真空度悪化
を防ぐ、そして、超高真空を維持できているうちに、両
チタンサブリメーションポンプの役割を交代する。

以上を繰り返すことで、超高真空の維持が、容易にしか
も安定に実現できる効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明にかかる超高真空排気システムの説明図
、第２図は従来の超高真空排気システムの説明図である
。 ・真空槽 ・チタンサブリメーションポンプ ・チタンサブリメーションポンプ ・ゲートバルブ ・ゲートバルブ 以上 出願人　セイコー電子工業株式会社 代理人　弁理士　林　　敬　之　助

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 超高真空を達成するためのチタンサブリメーションポン
   プを使用する真空装置において、チタンサブリメーショ
   ンポンプを複数用い、かつ、各チタンサブリメーション
   ポンプをバルブを介して独立にし、別々の排気を可能に
   したことを特徴とする超高真空排気システム。