JPH05170754A - モノグリシジルオキシ化合物の製造方法 - Google Patents
モノグリシジルオキシ化合物の製造方法Info
- Publication number
- JPH05170754A JPH05170754A JP3356448A JP35644891A JPH05170754A JP H05170754 A JPH05170754 A JP H05170754A JP 3356448 A JP3356448 A JP 3356448A JP 35644891 A JP35644891 A JP 35644891A JP H05170754 A JPH05170754 A JP H05170754A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- general formula
- lower alkyl
- compound
- epihalohydrin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Epoxy Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は感熱記録紙の画像保存安定剤とし
て有用なモノグリシジルオキシ化合物の製造方法を提案
する。 【構成】 一般式（ＩＩ）で表される芳香族ヒドロキシ
化合物と一般式（ＩＩＩ）で表されるエピハロヒドリン
とを触媒である４級アンモニウム塩、３級アミン、ホス
ホニウム塩及びスルホニウム塩の内一種以上の存在下で
反応して一般式（ＩＶ）で表される２−プロパノール化
合物を製造し、次いで脱ハロゲン化水素剤の存在下で反
応する一般式（Ｉ）で表されるモノグリシジルオキシ化
合物の製造方法である。 （上記一般式中において、Ｒ1 は低級アルキル基、低級
アルケニル基及び置換基を有していてもよいベンジル
基、フェネチル基及びナフチルメチル基を示し、Ｒ2 及
びＲ3 は低級アルキル基、低級アルコキシ基及び低級ア
ルケニル基を示し、Ｒ4 は水素原子及び低級アルキル基
を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、Ａは−Ｃ（ＣＨ 3）
2 −、−ＣＯ−，−ＳＯ2 −及び−Ｓ−を示す。ｍ及び
ｎは０または４以下の整数を示す。）
て有用なモノグリシジルオキシ化合物の製造方法を提案
する。 【構成】 一般式（ＩＩ）で表される芳香族ヒドロキシ
化合物と一般式（ＩＩＩ）で表されるエピハロヒドリン
とを触媒である４級アンモニウム塩、３級アミン、ホス
ホニウム塩及びスルホニウム塩の内一種以上の存在下で
反応して一般式（ＩＶ）で表される２−プロパノール化
合物を製造し、次いで脱ハロゲン化水素剤の存在下で反
応する一般式（Ｉ）で表されるモノグリシジルオキシ化
合物の製造方法である。 （上記一般式中において、Ｒ1 は低級アルキル基、低級
アルケニル基及び置換基を有していてもよいベンジル
基、フェネチル基及びナフチルメチル基を示し、Ｒ2 及
びＲ3 は低級アルキル基、低級アルコキシ基及び低級ア
ルケニル基を示し、Ｒ4 は水素原子及び低級アルキル基
を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、Ａは−Ｃ（ＣＨ 3）
2 −、−ＣＯ−，−ＳＯ2 −及び−Ｓ−を示す。ｍ及び
ｎは０または４以下の整数を示す。）
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は感熱記録紙の画像保存安
定剤として有用なモノグリシジルオキシ化合物の製造方
法に関する。
定剤として有用なモノグリシジルオキシ化合物の製造方
法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般にグリシジルオキシ基を有する化合
物は複数個のグリシジルオキシ基を有し、主にエポキシ
樹脂の原料として使用されている。そして、それらの製
造方法が数多く提案されている。例えば、触媒として三
フッ化ホウ素エチルエーテルが好ましいとした多価アル
コールとエピハロヒドリンとを反応する製造方法が特開
昭６１−１７８９７４号で、触媒として第４級アンモニ
ウム塩を使用したアクリルアミド基及び水酸基を１個以
上を有する芳香族環の２核体化合物とエピハロヒドリン
とを反応する製造方法が特公平２−５１５５０号等で開
示されている。一方、本発明の方法で製造されるモノグ
リシジルオキシ化合物は感熱記録紙の発色した画像が包
装用の樹脂によって消色する等を防止する画像保存安定
剤として使用される新規な化合物である。
物は複数個のグリシジルオキシ基を有し、主にエポキシ
樹脂の原料として使用されている。そして、それらの製
造方法が数多く提案されている。例えば、触媒として三
フッ化ホウ素エチルエーテルが好ましいとした多価アル
コールとエピハロヒドリンとを反応する製造方法が特開
昭６１−１７８９７４号で、触媒として第４級アンモニ
ウム塩を使用したアクリルアミド基及び水酸基を１個以
上を有する芳香族環の２核体化合物とエピハロヒドリン
とを反応する製造方法が特公平２−５１５５０号等で開
示されている。一方、本発明の方法で製造されるモノグ
リシジルオキシ化合物は感熱記録紙の発色した画像が包
装用の樹脂によって消色する等を防止する画像保存安定
剤として使用される新規な化合物である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】一般式（Ｉ）で表され
るモノグリシジルオキシ化合物を収率良く製造する方法
である。
るモノグリシジルオキシ化合物を収率良く製造する方法
である。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は一般式（ＩＩ）
で表される芳香族ヒドロキシ化合物と一般式（ＩＩＩ）
で表されるエピハロヒドリンとを触媒である４級アンモ
ニウム塩、３級アミン、ホスホニウム塩及びスルホニウ
ム塩の内一種以上の存在下で反応して一般式（ＩＶ）で
表される２−プロパノール化合物を製造し、次いで脱ハ
ロゲン化水素剤の存在下で反応する一般式（Ｉ）で表さ
れるモノグリシジルオキシ化合物の製造方法である。 （上記一般式中において、Ｒ1 は低級アルキル基、低級
アルケニル基及び置換基を有していてもよいベンジル
基、フェネチル基及びナフチルメチル基を示し、Ｒ2 及
びＲ3 は低級アルキル基、低級アルコキシ基及び低級ア
ルケニル基を示し、Ｒ4 は水素原子及び低級アルキル基
を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、Ａは−Ｃ（ＣＨ 3）
2 −、−ＣＯ−，−ＳＯ2 −及び−Ｓ−を示す。ｍ及び
ｎは０または４以下の整数を示す。） 本発明の一般式中の置換基において、低級アルキル基と
あるはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ア
ミル基、イソアミル基等の側鎖を有していてもよい炭素
原子数１〜５のアルキル基を意味しており、低級アルケ
ニル基とあるはビニル基、２−プロペニル基、１−プロ
ペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテ
ニル基、イソブテニル基等の側鎖を有していてもよい炭
素原子数２〜５のアルケニル基を意味しており、低級ア
ルコキシ基とあるはメトキシ基、エトキシ基、プロポキ
シ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ
基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、アミルオキシ、イソアミル
オキシ基等の側鎖を有していてもよい炭素原子数１〜５
のアルコキシ基を意味している。置換基を有していても
よいベンジル基、フェネチル基及びナフチルメチル基の
置換基としては上記と同意の低級アルキル基、低級アル
コキシ基及びハロゲン原子を意味している。そのナフチ
ルメチル基にはα−ナフチルメチル基及びβ−ナフチル
メチル基がある。
で表される芳香族ヒドロキシ化合物と一般式（ＩＩＩ）
で表されるエピハロヒドリンとを触媒である４級アンモ
ニウム塩、３級アミン、ホスホニウム塩及びスルホニウ
ム塩の内一種以上の存在下で反応して一般式（ＩＶ）で
表される２−プロパノール化合物を製造し、次いで脱ハ
ロゲン化水素剤の存在下で反応する一般式（Ｉ）で表さ
れるモノグリシジルオキシ化合物の製造方法である。 （上記一般式中において、Ｒ1 は低級アルキル基、低級
アルケニル基及び置換基を有していてもよいベンジル
基、フェネチル基及びナフチルメチル基を示し、Ｒ2 及
びＲ3 は低級アルキル基、低級アルコキシ基及び低級ア
ルケニル基を示し、Ｒ4 は水素原子及び低級アルキル基
を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、Ａは−Ｃ（ＣＨ 3）
2 −、−ＣＯ−，−ＳＯ2 −及び−Ｓ−を示す。ｍ及び
ｎは０または４以下の整数を示す。） 本発明の一般式中の置換基において、低級アルキル基と
あるはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ア
ミル基、イソアミル基等の側鎖を有していてもよい炭素
原子数１〜５のアルキル基を意味しており、低級アルケ
ニル基とあるはビニル基、２−プロペニル基、１−プロ
ペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテ
ニル基、イソブテニル基等の側鎖を有していてもよい炭
素原子数２〜５のアルケニル基を意味しており、低級ア
ルコキシ基とあるはメトキシ基、エトキシ基、プロポキ
シ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ
基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、アミルオキシ、イソアミル
オキシ基等の側鎖を有していてもよい炭素原子数１〜５
のアルコキシ基を意味している。置換基を有していても
よいベンジル基、フェネチル基及びナフチルメチル基の
置換基としては上記と同意の低級アルキル基、低級アル
コキシ基及びハロゲン原子を意味している。そのナフチ
ルメチル基にはα−ナフチルメチル基及びβ−ナフチル
メチル基がある。
【０００５】次いで、一般式（ＩＩＩ）で表されるエピ
ハロヒドリンとしては、エピクロロヒドリン、エピブロ
モヒドリン、エピヨージドヒドリン、２−メチルエピク
ロロヒドリン、２−エチルエピクロロヒドリン、２−プ
ロピルエピクロロヒドリン、２−メチルエピブロモヒド
リン、２−エチルエピブロモヒドリン、２−プロピルエ
ピブロモヒドリン、２−メチルエピヨージドヒドリン、
２−エチルエピヨージドヒドリン、２−プロピルエピヨ
ージドヒドリン等が代表例として挙げられる。
ハロヒドリンとしては、エピクロロヒドリン、エピブロ
モヒドリン、エピヨージドヒドリン、２−メチルエピク
ロロヒドリン、２−エチルエピクロロヒドリン、２−プ
ロピルエピクロロヒドリン、２−メチルエピブロモヒド
リン、２−エチルエピブロモヒドリン、２−プロピルエ
ピブロモヒドリン、２−メチルエピヨージドヒドリン、
２−エチルエピヨージドヒドリン、２−プロピルエピヨ
ージドヒドリン等が代表例として挙げられる。
【０００６】触媒である４級アンモニウム塩、３級アミ
ン、ホスホニウム塩及びスルホニウム塩の代表的なもの
としては次の例が挙げられる。４級アンモニウム塩とし
ては、例えば塩化アンモニウム、テトラメチルアンモニ
ウムクロリド、テトラメチルアンモニウムブロミド、テ
トラメチルアンモニウムヨージド、テトラエチルアンモ
ニウムクロリド、テトラエチルアンモニウムブロミド、
テトラエチルアンモニウムヨージド、テトラブチルアン
モニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムブロミ
ド、テトラブチルアンモニウムヨージド、テトラヘキシ
ルアンモニウムヨージド、ベンジルトリエチルアンモニ
ウムクロリド、トリオクチルメチルアンモニウムクロリ
ド、ベンジルトリブチルアンモニウムクロリド、ジエタ
ノールメチルデカンアンモニウムブロミド、ジメタノー
ルメチルデカンアンモニウムブロミド等が挙げられる。
３級アミンとしては、例えば４−ジメチルアミノピリジ
ン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、ピリジ
ン、ピコリン類等が挙げられる。ホスホニウム塩及びス
ルホニウム塩としては、例えばテトラブチルホスホニウ
ムブロマイド、トリメチルスルホニウムヨージド等が挙
げられる。
ン、ホスホニウム塩及びスルホニウム塩の代表的なもの
としては次の例が挙げられる。４級アンモニウム塩とし
ては、例えば塩化アンモニウム、テトラメチルアンモニ
ウムクロリド、テトラメチルアンモニウムブロミド、テ
トラメチルアンモニウムヨージド、テトラエチルアンモ
ニウムクロリド、テトラエチルアンモニウムブロミド、
テトラエチルアンモニウムヨージド、テトラブチルアン
モニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムブロミ
ド、テトラブチルアンモニウムヨージド、テトラヘキシ
ルアンモニウムヨージド、ベンジルトリエチルアンモニ
ウムクロリド、トリオクチルメチルアンモニウムクロリ
ド、ベンジルトリブチルアンモニウムクロリド、ジエタ
ノールメチルデカンアンモニウムブロミド、ジメタノー
ルメチルデカンアンモニウムブロミド等が挙げられる。
３級アミンとしては、例えば４−ジメチルアミノピリジ
ン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、ピリジ
ン、ピコリン類等が挙げられる。ホスホニウム塩及びス
ルホニウム塩としては、例えばテトラブチルホスホニウ
ムブロマイド、トリメチルスルホニウムヨージド等が挙
げられる。
【０００７】本発明の製造方法は、触媒の存在下で一般
式（ＩＩ）で表される芳香族ヒドロキシ化合物に一般式
（ＩＩＩ）で表されるエピハロヒドリンを付加反応して
一般式（ＩＶ）で表される２−プロパノール化合物を製
造し、次いで脱ハロゲン化水素剤でエポキシ環化して一
般式（Ｉ）で表されるモノグリシジルオキシ化合物を製
造する二つの反応からなる。これらの反応を詳細に説明
する。
式（ＩＩ）で表される芳香族ヒドロキシ化合物に一般式
（ＩＩＩ）で表されるエピハロヒドリンを付加反応して
一般式（ＩＶ）で表される２−プロパノール化合物を製
造し、次いで脱ハロゲン化水素剤でエポキシ環化して一
般式（Ｉ）で表されるモノグリシジルオキシ化合物を製
造する二つの反応からなる。これらの反応を詳細に説明
する。
【０００８】第一反応は、使用する触媒が生成した一般
式（ＩＶ）の２−プロパノール化合物の脱ハロゲン化水
素反応を促す触媒効果をも合わせて有し、該２−プロパ
ノール化合物の一部が目的化合物の一般式（Ｉ）のモノ
グリシジルオキシ化合物に成る特徴を有している。この
特徴は好ましく考えられるが、工業的には遊離したハロ
ゲン化水素が次にエピハロヒドリンに付加してエポキシ
環を開き、高価なエピハロヒドリンを消耗してしまいむ
しろ欠点となる。発明者らは、エポキシ環を開いたハロ
ゲン化水素−エピハロヒドリン付加化合物が常圧下で沸
点温度に加熱すると脱ハロゲン化水素を起してもとのエ
ピハロヒドリンになることを見出した。尚、遊離したハ
ロゲン化水素は先の特徴と逆の反応を起こし、該モノグ
リシジルオキシ化合物に付加して該２−プロパノール化
合物を生成している。本発明では高価なエピハロヒドリ
ンを大量に使用したとしても、反応に関与しないエピハ
ロヒドリンを高回収率で得る製造方法を完成した。即
ち、第一反応は、芳香族ヒドロキシ化合物の１重量部を
エピハロヒドリンの４重量部以上、好ましくは６〜８重
量部に溶解あるいは分散し、触媒を加え、反応温度７０
〜１３０℃で２〜２４時間反応し、反応終了後過剰のエ
ピハロヒドリンを常圧下で回収して完了する方法であ
る。この場合、触媒の使用割合は芳香族ヒドロキシ化合
物の１００重量部に対し１０〜０．０１重量部であり、
好ましくは５．０〜０．０５重量部である。本反応は、
例えばトルエン、キシレン、クメン、クロロベンゼン、
ジクロロベンゼン等の不活性な有機溶媒中で行うことも
出来る。しかし、有機溶媒中では反応速度が低下するこ
と、エピハロヒドリンの回収が難しくなる等から好まし
い方法とは言えない。
式（ＩＶ）の２−プロパノール化合物の脱ハロゲン化水
素反応を促す触媒効果をも合わせて有し、該２−プロパ
ノール化合物の一部が目的化合物の一般式（Ｉ）のモノ
グリシジルオキシ化合物に成る特徴を有している。この
特徴は好ましく考えられるが、工業的には遊離したハロ
ゲン化水素が次にエピハロヒドリンに付加してエポキシ
環を開き、高価なエピハロヒドリンを消耗してしまいむ
しろ欠点となる。発明者らは、エポキシ環を開いたハロ
ゲン化水素−エピハロヒドリン付加化合物が常圧下で沸
点温度に加熱すると脱ハロゲン化水素を起してもとのエ
ピハロヒドリンになることを見出した。尚、遊離したハ
ロゲン化水素は先の特徴と逆の反応を起こし、該モノグ
リシジルオキシ化合物に付加して該２−プロパノール化
合物を生成している。本発明では高価なエピハロヒドリ
ンを大量に使用したとしても、反応に関与しないエピハ
ロヒドリンを高回収率で得る製造方法を完成した。即
ち、第一反応は、芳香族ヒドロキシ化合物の１重量部を
エピハロヒドリンの４重量部以上、好ましくは６〜８重
量部に溶解あるいは分散し、触媒を加え、反応温度７０
〜１３０℃で２〜２４時間反応し、反応終了後過剰のエ
ピハロヒドリンを常圧下で回収して完了する方法であ
る。この場合、触媒の使用割合は芳香族ヒドロキシ化合
物の１００重量部に対し１０〜０．０１重量部であり、
好ましくは５．０〜０．０５重量部である。本反応は、
例えばトルエン、キシレン、クメン、クロロベンゼン、
ジクロロベンゼン等の不活性な有機溶媒中で行うことも
出来る。しかし、有機溶媒中では反応速度が低下するこ
と、エピハロヒドリンの回収が難しくなる等から好まし
い方法とは言えない。
【０００９】次いで第二反応はエピハロヒドリンを回収
した後に、例えばトルエン、キシレン、クメン、クロロ
ベンゼン、ジクロロベンゼン等の不活性な有機溶媒で加
熱溶解・分散し、脱ハロゲン化水素剤の固体又はその水
溶液を加えて加熱し、２−プロパノール化合物を完全に
エポキシ環化してモノグリシジル化合物を製造する。こ
こで使用する脱ハロゲン化水素剤としては、例えば水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸
カリウム等のアルカリ金属塩類等が好ましく、その使用
量としては芳香族ヒドロキシ化合物の１．０重量部に対
し、１．０〜１．３重量部が好ましい。この様にして製
造した一般式（Ｉ）で表されるモノグリシジル化合物は
純度の高い白色結晶であり、それらは感熱記録材料の画
像保存安定剤として有効なものであった。
した後に、例えばトルエン、キシレン、クメン、クロロ
ベンゼン、ジクロロベンゼン等の不活性な有機溶媒で加
熱溶解・分散し、脱ハロゲン化水素剤の固体又はその水
溶液を加えて加熱し、２−プロパノール化合物を完全に
エポキシ環化してモノグリシジル化合物を製造する。こ
こで使用する脱ハロゲン化水素剤としては、例えば水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸
カリウム等のアルカリ金属塩類等が好ましく、その使用
量としては芳香族ヒドロキシ化合物の１．０重量部に対
し、１．０〜１．３重量部が好ましい。この様にして製
造した一般式（Ｉ）で表されるモノグリシジル化合物は
純度の高い白色結晶であり、それらは感熱記録材料の画
像保存安定剤として有効なものであった。
【００１０】以下、実施例をもって本発明を詳細に説明
するが、これによって本発明が限定されることはない。 実施例１ ３００ｍｌコルベンに４−ヒドロキシ−４’−ベンジル
オキシジフェニルスルホン３４ｇ（０．１モル）、２−
メチルエピクロロヒドリン８５．３ｇ（０．８モル）及
びテトラブチルアンモニウムブロマイド１．０ｇ（０．
００３モル）を加え、８５〜９０℃の反応温度で６時間
加熱攪拌して反応した。反応終了後、溶媒として使用し
た過剰の２−メチルエピクロロヒドリンを常圧で回収し
た。その回収率は反応に関与しない量の９５％であっ
た。次いで、生成物にトルエン２００ｍｌを加えて加熱
溶解した。２０％水酸化ナトリウム水溶液２２ｇを加
え、１時間加熱還流した。トルエン層を水洗した後、濃
縮冷却、濾過乾燥して４−（２−メチルグリシジル）オ
キシ−４’−ベンジルオキシジフェニルスルホンの白色
結晶、融点１６０〜１６２℃、３８．２ｇを得た。４−
ヒドロキシ−４’−ベンジルオキシジフェニルスルホン
からの収率は９３％であった。 実施例２ 実施例１のテトラブチルアンモニウムブロマイドの代わ
りに、トリエタノールアミン０．１３ｇ（０．０９モ
ル）を使用し、反応温度１００℃で、以下実施例１と同
様に反応して、４−（２−メチルグリシジル）オキシ−
４’−ベンジルオキシジフェニルスルホンの白色結晶、
融点１６０〜１６２℃、３７．８ｇを得た。この場合の
収率は９２％であった。 実施例３ 実施例１のテトラブチルアンモニウムブロマイドの代わ
りに、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド０．７
ｇ（０．００３モル）を使用し、以下実施例１と同様に
反応して、４−（２−メチルグリシジル）オキシ−４’
−ベンジルオキシジフェニルスルホンの白色結晶、融点
１６０〜１６２℃、３８．１ｇを得た。この場合の収率
は９３％であった。 実施例４ 実施例１と同様にして、４−ヒドロキシ−４’−イソプ
ロポキシジフェニルスルホン２９．３ｇ（０．１モル）
とエピクロロヒドリン５５．０ｇ（０．６モル）とを使
用し、触媒のトリメチルスルホニウムヨージド１．０ｇ
（０．００４９モル）の存在下で反応して、４−グリシ
ジルオキシ−４’−イソプロポキシジフェニルスルホン
の白色結晶、融点１３２．８〜１３３．９℃、３２．３
ｇを得た。この場合の収率は９３％であった。
するが、これによって本発明が限定されることはない。 実施例１ ３００ｍｌコルベンに４−ヒドロキシ−４’−ベンジル
オキシジフェニルスルホン３４ｇ（０．１モル）、２−
メチルエピクロロヒドリン８５．３ｇ（０．８モル）及
びテトラブチルアンモニウムブロマイド１．０ｇ（０．
００３モル）を加え、８５〜９０℃の反応温度で６時間
加熱攪拌して反応した。反応終了後、溶媒として使用し
た過剰の２−メチルエピクロロヒドリンを常圧で回収し
た。その回収率は反応に関与しない量の９５％であっ
た。次いで、生成物にトルエン２００ｍｌを加えて加熱
溶解した。２０％水酸化ナトリウム水溶液２２ｇを加
え、１時間加熱還流した。トルエン層を水洗した後、濃
縮冷却、濾過乾燥して４−（２−メチルグリシジル）オ
キシ−４’−ベンジルオキシジフェニルスルホンの白色
結晶、融点１６０〜１６２℃、３８．２ｇを得た。４−
ヒドロキシ−４’−ベンジルオキシジフェニルスルホン
からの収率は９３％であった。 実施例２ 実施例１のテトラブチルアンモニウムブロマイドの代わ
りに、トリエタノールアミン０．１３ｇ（０．０９モ
ル）を使用し、反応温度１００℃で、以下実施例１と同
様に反応して、４−（２−メチルグリシジル）オキシ−
４’−ベンジルオキシジフェニルスルホンの白色結晶、
融点１６０〜１６２℃、３７．８ｇを得た。この場合の
収率は９２％であった。 実施例３ 実施例１のテトラブチルアンモニウムブロマイドの代わ
りに、ベンジルトリエチルアンモニウムクロリド０．７
ｇ（０．００３モル）を使用し、以下実施例１と同様に
反応して、４−（２−メチルグリシジル）オキシ−４’
−ベンジルオキシジフェニルスルホンの白色結晶、融点
１６０〜１６２℃、３８．１ｇを得た。この場合の収率
は９３％であった。 実施例４ 実施例１と同様にして、４−ヒドロキシ−４’−イソプ
ロポキシジフェニルスルホン２９．３ｇ（０．１モル）
とエピクロロヒドリン５５．０ｇ（０．６モル）とを使
用し、触媒のトリメチルスルホニウムヨージド１．０ｇ
（０．００４９モル）の存在下で反応して、４−グリシ
ジルオキシ−４’−イソプロポキシジフェニルスルホン
の白色結晶、融点１３２．８〜１３３．９℃、３２．３
ｇを得た。この場合の収率は９３％であった。
【００１１】実施例５ 実施例１の４−ヒドロキシ−４’−ベンジルオキシジフ
ェニルスルホンに代わる種々の化合物と２−メチルエピ
クロロヒドリンとを、実施例１に従って製造した。その
化合物と融点を下記に示した。尚、これらの収率は９０
〜９５％であった。 ４−（２−メチルグリシジル）オキシ−４’−（２−クロロベンジル）オキシ ジフェニルスルホン 融点 １３９〜１４５℃ ４−（２−メチルグリシジル）オキシ−４’−（４−クロロベンジル）オキシ ジフェニルスルホン 融点 １６４〜１６６℃ ４−（２−メチルグリシジル）オキシ−４’−（４−メチルベンジル）オキシ ジフェニルスルホン 融点 １４３〜１４５℃ 実施例６ 実施例１の４−ヒドロキシ−４’−ベンジルオキシジフ
ェニルスルホンに代わる種々の化合物とエピクロロヒド
リンとを、実施例１に従って製造した。その化合物と融
点を下記に示した。尚、これらの収率は９０〜９５％で
あった。 ４−グリシジルオキシ−４’−（４−クロロベンジル）オキシジフェニルスル ホン 融点 １４０〜１４１℃ ４−グリシジルオキシ−４’−（４−メチルベンジル）オキシジフェニルスル ホン 融点 １２６〜１２７℃ ４−グリシジルオキシ−４’−アリルオキシジフェニルスルホン 融点 １６４〜１６５℃ ４−グリシジルオキシ−４’−（α−ナフチルメチル）オキシジフェニルスル ホン 融点 １９３〜１９４℃ 比較例１ 実施例１のテトラブチルアンモニウムブロマイドを使用
しないで、以下実施例１と同様にして反応して、４−
（２−メチルグリシジル）オキシ−４’−ベンジルオキ
シジフェニルスルホンの白色結晶、融点１５９〜１６２
℃、１９．０ｇを得た。この場合の収率は４６％であ
り、触媒を使用しない方法では収率が大幅に低下した。
ェニルスルホンに代わる種々の化合物と２−メチルエピ
クロロヒドリンとを、実施例１に従って製造した。その
化合物と融点を下記に示した。尚、これらの収率は９０
〜９５％であった。 ４−（２−メチルグリシジル）オキシ−４’−（２−クロロベンジル）オキシ ジフェニルスルホン 融点 １３９〜１４５℃ ４−（２−メチルグリシジル）オキシ−４’−（４−クロロベンジル）オキシ ジフェニルスルホン 融点 １６４〜１６６℃ ４−（２−メチルグリシジル）オキシ−４’−（４−メチルベンジル）オキシ ジフェニルスルホン 融点 １４３〜１４５℃ 実施例６ 実施例１の４−ヒドロキシ−４’−ベンジルオキシジフ
ェニルスルホンに代わる種々の化合物とエピクロロヒド
リンとを、実施例１に従って製造した。その化合物と融
点を下記に示した。尚、これらの収率は９０〜９５％で
あった。 ４−グリシジルオキシ−４’−（４−クロロベンジル）オキシジフェニルスル ホン 融点 １４０〜１４１℃ ４−グリシジルオキシ−４’−（４−メチルベンジル）オキシジフェニルスル ホン 融点 １２６〜１２７℃ ４−グリシジルオキシ−４’−アリルオキシジフェニルスルホン 融点 １６４〜１６５℃ ４−グリシジルオキシ−４’−（α−ナフチルメチル）オキシジフェニルスル ホン 融点 １９３〜１９４℃ 比較例１ 実施例１のテトラブチルアンモニウムブロマイドを使用
しないで、以下実施例１と同様にして反応して、４−
（２−メチルグリシジル）オキシ−４’−ベンジルオキ
シジフェニルスルホンの白色結晶、融点１５９〜１６２
℃、１９．０ｇを得た。この場合の収率は４６％であ
り、触媒を使用しない方法では収率が大幅に低下した。
【００１２】
【発明の効果】感熱記録紙の画像安定剤である一般式
（Ｉ）で表されるモノグリシジルオキシ化合物を製造す
るに際し、触媒に４級アンモニウム塩、３級アミン、ホ
スホニウム塩及びスルホニウム塩の内一種以上を使用し
て反応することにより、芳香族ヒドロキシ化合物からの
収率が９０〜９５％の高収率で得ることができた。また
高価なエピハロヒドリンを溶媒として使用したとしても
高回収率で得ることのできる経済的に優れた製造方法で
ある。
（Ｉ）で表されるモノグリシジルオキシ化合物を製造す
るに際し、触媒に４級アンモニウム塩、３級アミン、ホ
スホニウム塩及びスルホニウム塩の内一種以上を使用し
て反応することにより、芳香族ヒドロキシ化合物からの
収率が９０〜９５％の高収率で得ることができた。また
高価なエピハロヒドリンを溶媒として使用したとしても
高回収率で得ることのできる経済的に優れた製造方法で
ある。
Claims (2)
- 【請求項１】 一般式（ＩＩ）で表される芳香族ヒドロ
キシ化合物と一般式（ＩＩＩ）で表されるエピハロヒド
リンとを触媒である４級アンモニウム塩、３級アミン、
ホスホニウム塩及びスルホニウム塩の内一種以上の存在
下で反応して一般式（ＩＶ）で表される２−プロパノー
ル化合物を製造し、次いで脱ハロゲン化水素剤の存在下
で反応する一般式（Ｉ）で表されるモノグリシジルオキ
シ化合物の製造方法。 （上記一般式中において、Ｒ1 は低級アルキル基、低級
アルケニル基及び置換基を有していてもよいベンジル
基、フェネチル基及びナフチルメチル基を示し、Ｒ2 及
びＲ3 は低級アルキル基、低級アルコキシ基及び低級ア
ルケニル基を示し、Ｒ4 は水素原子及び低級アルキル基
を示し、Ｘはハロゲン原子を示し、Ａは−Ｃ（ＣＨ 3）
2 −、−ＣＯ−，−ＳＯ2 −及び−Ｓ−を示す。ｍ及び
ｎは０または４以下の整数を示す。） - 【請求項２】 一般式中においてＡが−ＳＯ2 −である
特許請求範囲第１項記載の一般式（Ｉ）で表されるモノ
グリシジルオキシ化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3356448A JPH05170754A (ja) | 1991-12-25 | 1991-12-25 | モノグリシジルオキシ化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3356448A JPH05170754A (ja) | 1991-12-25 | 1991-12-25 | モノグリシジルオキシ化合物の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05170754A true JPH05170754A (ja) | 1993-07-09 |
Family
ID=18449062
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3356448A Pending JPH05170754A (ja) | 1991-12-25 | 1991-12-25 | モノグリシジルオキシ化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05170754A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004087644A1 (en) * | 2003-03-31 | 2004-10-14 | Council Of Scientific And Industrial Research | Mercapto-phenyl-naphthyl-methane derivatives and preparation thereof |
-
1991
- 1991-12-25 JP JP3356448A patent/JPH05170754A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004087644A1 (en) * | 2003-03-31 | 2004-10-14 | Council Of Scientific And Industrial Research | Mercapto-phenyl-naphthyl-methane derivatives and preparation thereof |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN110997649B (zh) | 制备硫代碳酸酯的方法 | |
| KR890701519A (ko) | 하이드록시 방향족 화합물의 프로파르길 에테르를 제조하는 방법 | |
| KR20200023037A (ko) | 폴리스티렌에 담지된 금속을 함유한 이온성 액체 촉매, 이의 제조방법 및 용도 | |
| JPS6247182B2 (ja) | ||
| KR101520059B1 (ko) | 저농도 할로겐을 함유하는 에폭시 수지 및 이의 제조방법 | |
| JPH05239181A (ja) | 高モノマー分を有するジ−第二アルコールのグリシジルエーテルの製造方法 | |
| EP1887010A1 (en) | Method for producing isocyanate group-containing siloxane compound | |
| JPH05170754A (ja) | モノグリシジルオキシ化合物の製造方法 | |
| US4375548A (en) | Preparation of trichloromethyl carbinols | |
| CA1158252A (en) | Process for making vicinal epoxides | |
| JP2500532B2 (ja) | ジフェニルスルホン化合物の製造法 | |
| JP3376598B2 (ja) | ２−プロパノール化合物の製造方法 | |
| JPH0655732B2 (ja) | 多価アルコ−ルグリシジルエ−テルの製法 | |
| JPH05222153A (ja) | 新規アントラセン系エポキシ樹脂及びその製造方法 | |
| US5256802A (en) | Process for the production of oxiranes | |
| JP7528096B2 (ja) | チオカーボネートの調製方法 | |
| JPS58170774A (ja) | 新規エポキシ樹脂およびその製造方法 | |
| JPH01265051A (ja) | ジアリールオキシアルカン製造方法 | |
| JPS5942359A (ja) | スルホン類の製造法 | |
| JPH0637482B2 (ja) | 光学活性アテノロール及びその中間体の製法 | |
| JPH01102072A (ja) | エポキサイド誘導体の製造法 | |
| WO2004056734A1 (ja) | アントラセンジエーテルの製造方法 | |
| JP4336157B2 (ja) | 新規な４、４”−ジ（ヒドロキシアルコキシ）ターフェニル類 | |
| EP0406438A1 (en) | Production of glycidyl ether | |
| JPH04185642A (ja) | ポリシランの製造方法 |