JPH05172458A - 空気分離装置における不純物除去装置 - Google Patents
空気分離装置における不純物除去装置Info
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- JPH05172458A JPH05172458A JP3343340A JP34334091A JPH05172458A JP H05172458 A JPH05172458 A JP H05172458A JP 3343340 A JP3343340 A JP 3343340A JP 34334091 A JP34334091 A JP 34334091A JP H05172458 A JPH05172458 A JP H05172458A
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Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F25—REFRIGERATION OR COOLING; COMBINED HEATING AND REFRIGERATION SYSTEMS; HEAT PUMP SYSTEMS; MANUFACTURE OR STORAGE OF ICE; LIQUEFACTION SOLIDIFICATION OF GASES
- F25J—LIQUEFACTION, SOLIDIFICATION OR SEPARATION OF GASES OR GASEOUS OR LIQUEFIED GASEOUS MIXTURES BY PRESSURE AND COLD TREATMENT OR BY BRINGING THEM INTO THE SUPERCRITICAL STATE
- F25J3/00—Processes or apparatus for separating the constituents of gaseous or liquefied gaseous mixtures involving the use of liquefaction or solidification
- F25J3/08—Separating gaseous impurities from gases or gaseous mixtures or from liquefied gases or liquefied gaseous mixtures
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 空気分離装置において、原料空気中の一酸化
炭素及び水素を高レベルで除去することにより、超高純
度窒素の製造を可能にする。 【構成】 原料空気中の一酸化炭素及び水素の酸化を促
進させる触媒塔２０と、この触媒塔２０に原料空気を通
す原料空気通路１２，１８，２４，３４とを備えた不純
物除去装置。上記触媒塔２０よりも上流側の位置に、上
記原料空気中から上記触媒塔２０の触媒毒となる炭化水
素と二酸化炭素と水とを吸着除去する吸着ユニット１４
を配置する。
炭素及び水素を高レベルで除去することにより、超高純
度窒素の製造を可能にする。 【構成】 原料空気中の一酸化炭素及び水素の酸化を促
進させる触媒塔２０と、この触媒塔２０に原料空気を通
す原料空気通路１２，１８，２４，３４とを備えた不純
物除去装置。上記触媒塔２０よりも上流側の位置に、上
記原料空気中から上記触媒塔２０の触媒毒となる炭化水
素と二酸化炭素と水とを吸着除去する吸着ユニット１４
を配置する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造用窒素等を
製造するための空気分離装置において、その低温分離部
に原料空気を導入する前に、予めこの原料空気から一酸
化炭素や水素等の不純物を除去しておくための装置に関
するものである。
製造するための空気分離装置において、その低温分離部
に原料空気を導入する前に、予めこの原料空気から一酸
化炭素や水素等の不純物を除去しておくための装置に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に、原料空気から窒素を分離する窒
素製造装置や空気分離装置は、保冷箱内に主熱交換器や
精留塔が設置された低温分離部を備えており、この低温
分離部に外部から原料空気が導入されることにより、窒
素等の精製が行われるようになっている。
素製造装置や空気分離装置は、保冷箱内に主熱交換器や
精留塔が設置された低温分離部を備えており、この低温
分離部に外部から原料空気が導入されることにより、窒
素等の精製が行われるようになっている。
【０００３】ところで、近年、半導体製造の活発化に伴
い、超高純度窒素の需要が急速に高まっている。このよ
うな超高純度窒素を上記空気分離装置によって得ようと
するには、その低温分離部に原料空気を導入する前に、
この原料空気から予め一酸化炭素や水素といった不純物
を除去しておく必要がある。
い、超高純度窒素の需要が急速に高まっている。このよ
うな超高純度窒素を上記空気分離装置によって得ようと
するには、その低温分離部に原料空気を導入する前に、
この原料空気から予め一酸化炭素や水素といった不純物
を除去しておく必要がある。
【０００４】従来、このような不純物を除去する手段と
しては、上記原料空気を白金系触媒やパラジウム系触媒
等に通し、ここで一酸化炭素及び水素の酸化を促進して
これらを二酸化炭素及び水に変換するといったことが行
われている（例えば1988年10月発行の日経マイクロデバ
イス別冊No.２「超クリーン技術」参照。）。
しては、上記原料空気を白金系触媒やパラジウム系触媒
等に通し、ここで一酸化炭素及び水素の酸化を促進して
これらを二酸化炭素及び水に変換するといったことが行
われている（例えば1988年10月発行の日経マイクロデバ
イス別冊No.２「超クリーン技術」参照。）。
【０００５】このような操作を行うための装置の一例を
図３に示す。図において、圧縮機１００により圧縮され
た原料空気は、熱交換器１０２で予熱され、さらに電気
ヒータ１０４で加熱された後、触媒塔１０６へ導入され
る。この触媒塔１０６では、一酸化炭素及び水の酸化反
応（燃焼反応）、すなわち、２ＣＯ＋Ｏ2→２ＣＯ2、及
び２Ｈ2＋Ｏ2→２Ｈ2Ｏといった反応が促進され、これ
により、原料空気中の一酸化炭素及び水素は、それぞれ
二酸化炭素及び水に変換される。
図３に示す。図において、圧縮機１００により圧縮され
た原料空気は、熱交換器１０２で予熱され、さらに電気
ヒータ１０４で加熱された後、触媒塔１０６へ導入され
る。この触媒塔１０６では、一酸化炭素及び水の酸化反
応（燃焼反応）、すなわち、２ＣＯ＋Ｏ2→２ＣＯ2、及
び２Ｈ2＋Ｏ2→２Ｈ2Ｏといった反応が促進され、これ
により、原料空気中の一酸化炭素及び水素は、それぞれ
二酸化炭素及び水に変換される。
【０００６】その後、原料空気は、上記熱交換器１０
２、水冷却器１０８、さらにはフロン冷凍機１１０で冷
却され、モレキュラシーブ等の吸着剤を収容した吸着ユ
ニット１１２へ導入される。この吸着ユニット１１２に
おいて、上記原料空気中に含まれる二酸化炭素及び水が
吸着除去され、残りの原料空気は、主熱交換器や精留塔
等を備えた図外の低温分離部へ導入される。
２、水冷却器１０８、さらにはフロン冷凍機１１０で冷
却され、モレキュラシーブ等の吸着剤を収容した吸着ユ
ニット１１２へ導入される。この吸着ユニット１１２に
おいて、上記原料空気中に含まれる二酸化炭素及び水が
吸着除去され、残りの原料空気は、主熱交換器や精留塔
等を備えた図外の低温分離部へ導入される。
【０００７】すなわち、この装置では、まず触媒塔１０
６によって原料空気中の一酸化炭素及び水素が除去さ
れ、その後に吸着ユニット１１２によって二酸化炭素及
び水が除去されるようになっている。
６によって原料空気中の一酸化炭素及び水素が除去さ
れ、その後に吸着ユニット１１２によって二酸化炭素及
び水が除去されるようになっている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】近年、半導体の集積度
の向上が大きな課題とされているが、これに伴って窒素
の純度も極めて高いレベルのものが要求されている。例
えば、６４ＭＢのメモリが得られる程度まで半導体の集
積度を向上させようとするには、その製造に使用される
窒素中の一酸化炭素及び水素の濃度を１ppb レベルまで
下げる必要がある。
の向上が大きな課題とされているが、これに伴って窒素
の純度も極めて高いレベルのものが要求されている。例
えば、６４ＭＢのメモリが得られる程度まで半導体の集
積度を向上させようとするには、その製造に使用される
窒素中の一酸化炭素及び水素の濃度を１ppb レベルまで
下げる必要がある。
【０００９】しかしながら、前記図３に示した従来装置
では、原料空気中の一酸化炭素及び水素の濃度を約１０
ppb レベルまでしか下げることができず、よって半導体
の高集積化への対応が困難な状況となっている。その主
な理由としては、 原料空気中に含まれる炭化水素分
が触媒塔１０６における触媒毒となり、触媒の性能を比
較的短時間で劣化させてしまうこと、 原料空気中の
二酸化炭素濃度及び水分濃度が高いため、その分、一酸
化炭素及び水素の酸化反応（２ＣＯ＋Ｏ2→２ＣＯ2、及
び２Ｈ2＋Ｏ2→２Ｈ2Ｏ）が抑制されてしまうこと、が
挙げられる。
では、原料空気中の一酸化炭素及び水素の濃度を約１０
ppb レベルまでしか下げることができず、よって半導体
の高集積化への対応が困難な状況となっている。その主
な理由としては、 原料空気中に含まれる炭化水素分
が触媒塔１０６における触媒毒となり、触媒の性能を比
較的短時間で劣化させてしまうこと、 原料空気中の
二酸化炭素濃度及び水分濃度が高いため、その分、一酸
化炭素及び水素の酸化反応（２ＣＯ＋Ｏ2→２ＣＯ2、及
び２Ｈ2＋Ｏ2→２Ｈ2Ｏ）が抑制されてしまうこと、が
挙げられる。
【００１０】本発明は、このような事情に鑑み、空気分
離装置において、原料空気中の一酸化炭素及び水素を高
レベルで除去することにより、超高純度窒素の製造を可
能にすることができる装置を提供することを目的とす
る。
離装置において、原料空気中の一酸化炭素及び水素を高
レベルで除去することにより、超高純度窒素の製造を可
能にすることができる装置を提供することを目的とす
る。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明は、空気分離装置
に設けられ、その低温分離部に導入される前の原料空気
から不純物を除去するための装置であって、上記原料空
気中の一酸化炭素及び水素の酸化を促進させる触媒装置
と、この触媒装置に原料空気を通して上記低温分離部へ
導く原料空気通路とを備えるとともに、この原料空気通
路において上記触媒装置よりも上流側の位置に、上記原
料空気中から上記触媒装置の触媒毒となる炭化水素と二
酸化炭素と水とを吸着除去する吸着装置を設けたもので
ある（請求項１）。
に設けられ、その低温分離部に導入される前の原料空気
から不純物を除去するための装置であって、上記原料空
気中の一酸化炭素及び水素の酸化を促進させる触媒装置
と、この触媒装置に原料空気を通して上記低温分離部へ
導く原料空気通路とを備えるとともに、この原料空気通
路において上記触媒装置よりも上流側の位置に、上記原
料空気中から上記触媒装置の触媒毒となる炭化水素と二
酸化炭素と水とを吸着除去する吸着装置を設けたもので
ある（請求項１）。
【００１２】さらに、上記触媒装置と低温分離部との間
に、原料空気中から二酸化炭素と水とを吸着除去し、か
つその吸着容量が上記吸着装置の吸着容量よりも小さい
副吸着装置を設けたり（請求項２）、上記吸着装置に３
つ以上の吸着塔を設け、各吸着塔の入口側に原料空気を
導入するための第１の原料空気通路と、各吸着塔の出口
側を上記触媒装置の入口側に接続する第２の原料空気通
路と、上記触媒装置の出口側を各吸着塔の入口側に接続
する第３の原料空気通路と、各吸着塔の出口側を上記低
温分離部に接続する第４の原料空気通路とを備えるとと
もに、各吸着塔を、この吸着塔に上記第１の原料空気通
路から原料空気が流入して上記第２の原料空気通路に流
出する第１の使用状態と、上記吸着塔に第３の原料空気
通路から原料空気が流入して上記第４の原料空気通路に
流出する第２の使用状態と、再生状態とに切換える流路
切換手段を備えたりする（請求項３）ことにより、後述
のようなより優れた効果が得られる。
に、原料空気中から二酸化炭素と水とを吸着除去し、か
つその吸着容量が上記吸着装置の吸着容量よりも小さい
副吸着装置を設けたり（請求項２）、上記吸着装置に３
つ以上の吸着塔を設け、各吸着塔の入口側に原料空気を
導入するための第１の原料空気通路と、各吸着塔の出口
側を上記触媒装置の入口側に接続する第２の原料空気通
路と、上記触媒装置の出口側を各吸着塔の入口側に接続
する第３の原料空気通路と、各吸着塔の出口側を上記低
温分離部に接続する第４の原料空気通路とを備えるとと
もに、各吸着塔を、この吸着塔に上記第１の原料空気通
路から原料空気が流入して上記第２の原料空気通路に流
出する第１の使用状態と、上記吸着塔に第３の原料空気
通路から原料空気が流入して上記第４の原料空気通路に
流出する第２の使用状態と、再生状態とに切換える流路
切換手段を備えたりする（請求項３）ことにより、後述
のようなより優れた効果が得られる。
【００１３】
【作用】まず、請求項１記載の装置によれば、原料空気
が触媒装置に導入される前に、この触媒装置の触媒毒と
なる炭化水素が予め吸着装置において原料空気中から除
去されるため、その後、原料空気が触媒装置に導入され
た際の触媒装置の劣化が抑えられる。また、上記吸着装
置において二酸化炭素及び水も吸着除去され、原料空気
中の二酸化炭素濃度及び水分濃度が著しく低減した状態
で原料空気が触媒装置に導入されるため、この触媒装置
において一酸化炭素及び水素の酸化反応（２ＣＯ＋Ｏ2
→２ＣＯ2、及び２Ｈ2＋Ｏ2→２Ｈ2Ｏ）がさらに促進さ
れ、これにより一酸化炭素濃度及び水素濃度は大幅に軽
減される。従って、この原料空気が低温分離部に導入さ
れることにより、極めて純度の高い製品窒素が製造され
ることとなる。
が触媒装置に導入される前に、この触媒装置の触媒毒と
なる炭化水素が予め吸着装置において原料空気中から除
去されるため、その後、原料空気が触媒装置に導入され
た際の触媒装置の劣化が抑えられる。また、上記吸着装
置において二酸化炭素及び水も吸着除去され、原料空気
中の二酸化炭素濃度及び水分濃度が著しく低減した状態
で原料空気が触媒装置に導入されるため、この触媒装置
において一酸化炭素及び水素の酸化反応（２ＣＯ＋Ｏ2
→２ＣＯ2、及び２Ｈ2＋Ｏ2→２Ｈ2Ｏ）がさらに促進さ
れ、これにより一酸化炭素濃度及び水素濃度は大幅に軽
減される。従って、この原料空気が低温分離部に導入さ
れることにより、極めて純度の高い製品窒素が製造され
ることとなる。
【００１４】なお、上記酸化反応により新たに二酸化炭
素及び水が発生し、原料空気中に混在することになる
が、これら二酸化炭素及び水の生成量は微量であり、し
かもこれらは沸点が高くて低温分離部で確実に空気から
分離されるため、その除去は必ずしも必要ではない。た
だし、低温分離部で長時間の運転が行われると、上記二
酸化炭素や水が主熱交換器の通路内等で凍結し、ガスの
良好な流通を妨げるおそれがあるので、請求項２記載の
装置のように、触媒装置と低温分離部との間に副吸着装
置を設け、原料空気を触媒装置に通してから低温分離部
に導入するまでの間に、上記二酸化炭素及び水を再吸着
除去することが好ましい。この場合、上述のように二酸
化炭素及び水の量は微量であるため、副吸着装置には前
記吸着装置よりも吸着容量の低い小規模の装置を用いる
ことが可能である。
素及び水が発生し、原料空気中に混在することになる
が、これら二酸化炭素及び水の生成量は微量であり、し
かもこれらは沸点が高くて低温分離部で確実に空気から
分離されるため、その除去は必ずしも必要ではない。た
だし、低温分離部で長時間の運転が行われると、上記二
酸化炭素や水が主熱交換器の通路内等で凍結し、ガスの
良好な流通を妨げるおそれがあるので、請求項２記載の
装置のように、触媒装置と低温分離部との間に副吸着装
置を設け、原料空気を触媒装置に通してから低温分離部
に導入するまでの間に、上記二酸化炭素及び水を再吸着
除去することが好ましい。この場合、上述のように二酸
化炭素及び水の量は微量であるため、副吸着装置には前
記吸着装置よりも吸着容量の低い小規模の装置を用いる
ことが可能である。
【００１５】また、請求項３記載の装置によれば、吸着
装置における各吸着塔の状態切換によって、触媒装置導
入前における原料空気からの不純物除去、及び触媒装置
通過後の不純物除去の双方を単一の吸着装置で連続的に
行うことができる。
装置における各吸着塔の状態切換によって、触媒装置導
入前における原料空気からの不純物除去、及び触媒装置
通過後の不純物除去の双方を単一の吸着装置で連続的に
行うことができる。
【００１６】例えば、最初の段階では第１の吸着塔を第
１の使用状態、すなわち、この吸着塔に上記第１の原料
空気通路から原料空気が流入して上記第２の原料空気通
路に流出する状態に切換え、第２の吸着塔を第２の使用
状態、すなわち、この吸着塔に第３の原料空気通路から
原料空気が流入して上記第４の原料空気通路に流出する
状態に切換え、第３の吸着塔を再生状態に切換えること
により、触媒装置前後における不純物除去を同時に行う
ことができる。
１の使用状態、すなわち、この吸着塔に上記第１の原料
空気通路から原料空気が流入して上記第２の原料空気通
路に流出する状態に切換え、第２の吸着塔を第２の使用
状態、すなわち、この吸着塔に第３の原料空気通路から
原料空気が流入して上記第４の原料空気通路に流出する
状態に切換え、第３の吸着塔を再生状態に切換えること
により、触媒装置前後における不純物除去を同時に行う
ことができる。
【００１７】その後、第１の吸着塔については再生状
態、第２の使用状態、第１の使用状態…の順に切換え、
第２の吸着塔については第１の使用状態、再生状態、第
２の使用状態…の順に切換え、第３の吸着塔については
第２の使用状態、第１の使用状態、再生状態…の順に切
換えていくことにより、これら３つの吸着塔を用いて、
間に再生操作を適当に挾みながら、吸着除去操作を続行
させることができる。
態、第２の使用状態、第１の使用状態…の順に切換え、
第２の吸着塔については第１の使用状態、再生状態、第
２の使用状態…の順に切換え、第３の吸着塔については
第２の使用状態、第１の使用状態、再生状態…の順に切
換えていくことにより、これら３つの吸着塔を用いて、
間に再生操作を適当に挾みながら、吸着除去操作を続行
させることができる。
【００１８】ここで、各状態の切換については、第２の
使用状態、第１の使用状態、再生状態、第２の使用状
態、…の順に行うことが望ましい。なぜならば、第２の
使用状態で吸着塔が吸着する二酸化炭素量及び水分量は
僅かであるため、この第２の使用状態からそのまま第１
の使用状態に移行することは可能であるが、この第１の
使用状態では比較的多量の不純物を吸着するため、次の
吸着を行うには再生工程に移る必要があるからである。
使用状態、第１の使用状態、再生状態、第２の使用状
態、…の順に行うことが望ましい。なぜならば、第２の
使用状態で吸着塔が吸着する二酸化炭素量及び水分量は
僅かであるため、この第２の使用状態からそのまま第１
の使用状態に移行することは可能であるが、この第１の
使用状態では比較的多量の不純物を吸着するため、次の
吸着を行うには再生工程に移る必要があるからである。
【００１９】
【実施例】本発明の第１実施例を図１に基づいて説明す
る。
る。
【００２０】ここに示す装置は、原料空気から窒素や酸
素、アルゴン等を分離する空気分離装置において、その
低温分離部（すなわち主熱交換器や精留塔が収容された
保冷箱）に原料空気を導入する前に、この原料空気から
予め一酸化炭素や水素といった不純物を除去するための
装置を示したものである。なお、上記低温分離部につい
ては、通常知られている空気分離装置のそれと同等であ
るため、その図示を省略する。
素、アルゴン等を分離する空気分離装置において、その
低温分離部（すなわち主熱交換器や精留塔が収容された
保冷箱）に原料空気を導入する前に、この原料空気から
予め一酸化炭素や水素といった不純物を除去するための
装置を示したものである。なお、上記低温分離部につい
ては、通常知られている空気分離装置のそれと同等であ
るため、その図示を省略する。
【００２１】図において、１０は原料空気を圧縮する圧
縮機であり、この圧縮機１０は第１の原料空気通路１２
を介して吸着ユニット（吸着装置）１４の入口側に接続
され、第１の原料空気通路１２の途中には熱交換器１６
及びフロン冷凍機１７が設けられている。
縮機であり、この圧縮機１０は第１の原料空気通路１２
を介して吸着ユニット（吸着装置）１４の入口側に接続
され、第１の原料空気通路１２の途中には熱交換器１６
及びフロン冷凍機１７が設けられている。
【００２２】吸着ユニット１４は、互いに並列に配され
た２つの吸着塔１４ａ，１４ｂを備え、これらの吸着塔
１４ａ，１４ｂ内には、後述の触媒塔２０において触媒
毒となる炭化水素(ＣmＨn）と、二酸化炭素と、水とを
除去するための吸着剤が充填されている。この吸着剤と
しては、モレキュラシーブやアルミナゲル（温度スイン
グ吸着を行う場合）、あるいは合成ゼオライト（圧力ス
イング吸着を行う場合）等が好適であるが、その種類は
特に問わない。各吸着塔１４ａ，１４ｂの入口側及び出
口側にはそれぞれ図外の弁が設けられており、一方の吸
着塔１４ａにおいて吸着工程が行われる間に、他方の吸
着塔１４ｂにおいて図外の手段により再生工程が行われ
るようになっている。
た２つの吸着塔１４ａ，１４ｂを備え、これらの吸着塔
１４ａ，１４ｂ内には、後述の触媒塔２０において触媒
毒となる炭化水素(ＣmＨn）と、二酸化炭素と、水とを
除去するための吸着剤が充填されている。この吸着剤と
しては、モレキュラシーブやアルミナゲル（温度スイン
グ吸着を行う場合）、あるいは合成ゼオライト（圧力ス
イング吸着を行う場合）等が好適であるが、その種類は
特に問わない。各吸着塔１４ａ，１４ｂの入口側及び出
口側にはそれぞれ図外の弁が設けられており、一方の吸
着塔１４ａにおいて吸着工程が行われる間に、他方の吸
着塔１４ｂにおいて図外の手段により再生工程が行われ
るようになっている。
【００２３】上記吸着ユニット１４は、第２の原料空気
通路１８を介して触媒塔２０の入口側に接続されてい
る。上記第２の原料空気通路１８の途中には、上記熱交
換器１６及び電気ヒータ２２が設けられており、熱交換
器１６において、第１の原料空気通路１２を通る原料空
気と第２の原料空気通路１８を通る原料空気との間で熱
交換が行われるようになっている。
通路１８を介して触媒塔２０の入口側に接続されてい
る。上記第２の原料空気通路１８の途中には、上記熱交
換器１６及び電気ヒータ２２が設けられており、熱交換
器１６において、第１の原料空気通路１２を通る原料空
気と第２の原料空気通路１８を通る原料空気との間で熱
交換が行われるようになっている。
【００２４】上記触媒塔２０内には、原料空気中の一酸
化炭素の酸化反応（燃焼反応）、すなわち、２ＣＯ＋Ｏ
2→２ＣＯ2という反応を促進させる触媒（例えば白金系
触媒）と、原料空気中の水素の酸化反応（燃焼反応）、
すなわち２Ｈ2＋Ｏ2→２Ｈ2Ｏという反応を促進させる
触媒（例えばパラジウム系触媒）が充填されている。
化炭素の酸化反応（燃焼反応）、すなわち、２ＣＯ＋Ｏ
2→２ＣＯ2という反応を促進させる触媒（例えば白金系
触媒）と、原料空気中の水素の酸化反応（燃焼反応）、
すなわち２Ｈ2＋Ｏ2→２Ｈ2Ｏという反応を促進させる
触媒（例えばパラジウム系触媒）が充填されている。
【００２５】この触媒塔２０の出口側は、第３の原料空
気通路２４を介して副吸着ユニット（副吸着装置）２６
の入口側に接続され、第３の原料空気通路２４の途中に
は、水冷却器２８が設けられている。
気通路２４を介して副吸着ユニット（副吸着装置）２６
の入口側に接続され、第３の原料空気通路２４の途中に
は、水冷却器２８が設けられている。
【００２６】副吸着ユニット２６は、上記吸着ユニット
１４と同様に、互いに並列に配された２つの吸着塔２６
ａ，２６ｂを備えている。両吸着塔２６ａ，２６ｂに
は、原料空気中の二酸化炭素及び水を吸着除去するため
の吸着剤が充填されており、その吸着容量は上記吸着ユ
ニット１４における各吸着塔１４ａ，１４ｂの吸着容量
よりも小さく設定されている。具体的には、後述のよう
に触媒塔２０における酸化反応で生じる二酸化炭素や水
を吸着除去するのに十分な程度の吸着容量に設定されて
いる。
１４と同様に、互いに並列に配された２つの吸着塔２６
ａ，２６ｂを備えている。両吸着塔２６ａ，２６ｂに
は、原料空気中の二酸化炭素及び水を吸着除去するため
の吸着剤が充填されており、その吸着容量は上記吸着ユ
ニット１４における各吸着塔１４ａ，１４ｂの吸着容量
よりも小さく設定されている。具体的には、後述のよう
に触媒塔２０における酸化反応で生じる二酸化炭素や水
を吸着除去するのに十分な程度の吸着容量に設定されて
いる。
【００２７】この副吸着ユニット２６も、上記吸着ユニ
ット１４と同様、一方の吸着塔で吸着工程が行われる間
に、他方の吸着塔で再生工程が行われるようになってい
る。そして、各吸着塔２６ａ，２６ｂの出口側が第４の
原料空気通路３０を介して図外の低温分離部に接続され
るようになっている。
ット１４と同様、一方の吸着塔で吸着工程が行われる間
に、他方の吸着塔で再生工程が行われるようになってい
る。そして、各吸着塔２６ａ，２６ｂの出口側が第４の
原料空気通路３０を介して図外の低温分離部に接続され
るようになっている。
【００２８】次に、この装置の作用を説明する。
【００２９】まず、圧縮機１０で圧縮された原料空気
は、熱交換器１６で予冷され、さらにフロン冷凍機１７
で冷却された後、吸着ユニット１４の吸着塔１４ａ（ま
たは１４ｂ）内に導入される。ここで、原料空気中に含
まれる所定の炭化水素、すなわち、触媒塔２０において
触媒毒となり得る炭化水素が吸着除去されるとともに、
二酸化炭素及び水も吸着除去される。
は、熱交換器１６で予冷され、さらにフロン冷凍機１７
で冷却された後、吸着ユニット１４の吸着塔１４ａ（ま
たは１４ｂ）内に導入される。ここで、原料空気中に含
まれる所定の炭化水素、すなわち、触媒塔２０において
触媒毒となり得る炭化水素が吸着除去されるとともに、
二酸化炭素及び水も吸着除去される。
【００３０】このようにして、上記炭化水素等の濃度が
低減した原料空気は、熱交換器１６及び電気ヒータ２２
で加熱された後、触媒塔２０内に導入される。この触媒
塔２０内において、原料空気中に含まれる一酸化炭素及
び水素の酸化反応が促進されることにより、これらはそ
れぞれ二酸化炭素及び水となって原料空気から分離さ
れ、除去される。
低減した原料空気は、熱交換器１６及び電気ヒータ２２
で加熱された後、触媒塔２０内に導入される。この触媒
塔２０内において、原料空気中に含まれる一酸化炭素及
び水素の酸化反応が促進されることにより、これらはそ
れぞれ二酸化炭素及び水となって原料空気から分離さ
れ、除去される。
【００３１】ここで、触媒塔２０に導入される原料空気
中からは、既に、触媒毒となり得る炭化水素が除去され
ているので、従来装置に比べて触媒塔２０における触媒
の劣化が著しく抑えられ、これにより触媒塔２０の寿命
が延長されるとともに、一酸化炭素及び水の酸化反応が
より促進される。しかも、上記原料空気中からは、一酸
化炭素及び水素の酸化反応の反応生成物である二酸化炭
素及び水も予め除去されているので、上記酸化反応はよ
り促進されることとなる。よって、この触媒塔２０を通
過する原料空気の一酸化炭素濃度及び水素濃度は極めて
低い値、具体的には１ppbレベルまで削減することが可
能となる。
中からは、既に、触媒毒となり得る炭化水素が除去され
ているので、従来装置に比べて触媒塔２０における触媒
の劣化が著しく抑えられ、これにより触媒塔２０の寿命
が延長されるとともに、一酸化炭素及び水の酸化反応が
より促進される。しかも、上記原料空気中からは、一酸
化炭素及び水素の酸化反応の反応生成物である二酸化炭
素及び水も予め除去されているので、上記酸化反応はよ
り促進されることとなる。よって、この触媒塔２０を通
過する原料空気の一酸化炭素濃度及び水素濃度は極めて
低い値、具体的には１ppbレベルまで削減することが可
能となる。
【００３２】この触媒塔２０から排出された原料空気
は、水冷却器２８で冷却された後、副吸着ユニット２６
の吸着塔２６ａ（または２６ｂ）に導入される。この吸
着ユニット２６により、上記触媒塔２０における酸化反
応で生成された微量の二酸化炭素及び水が再び吸着除去
される。このようにして各不純物の濃度が下げられた原
料空気は、第４の原料空気通路３０を通じて低温分離部
へ導入され、この低温分離部において上記原料空気から
窒素等が精製される。
は、水冷却器２８で冷却された後、副吸着ユニット２６
の吸着塔２６ａ（または２６ｂ）に導入される。この吸
着ユニット２６により、上記触媒塔２０における酸化反
応で生成された微量の二酸化炭素及び水が再び吸着除去
される。このようにして各不純物の濃度が下げられた原
料空気は、第４の原料空気通路３０を通じて低温分離部
へ導入され、この低温分離部において上記原料空気から
窒素等が精製される。
【００３３】以上のように、この装置では、従来のよう
に触媒塔に原料空気を通してから二酸化炭素及び水を吸
着除去するのではなく、触媒塔２０よりも上流側の位置
に吸着ユニット１４を配置し、この吸着ユニット１４で
二酸化炭素や水、さらには触媒毒である炭化水素を予め
除去した後に上記触媒塔２０へ原料空気を導入するよう
にしているので、従来装置に比べ、触媒塔２０における
一酸化炭素及び水素の酸化反応をより促進することがで
きる。このため、低温分離部へ導入される原料空気中の
一酸化炭素濃度及び水素濃度を大幅に低減させることが
でき、これによって超高純度窒素の製造を実現すること
ができる。
に触媒塔に原料空気を通してから二酸化炭素及び水を吸
着除去するのではなく、触媒塔２０よりも上流側の位置
に吸着ユニット１４を配置し、この吸着ユニット１４で
二酸化炭素や水、さらには触媒毒である炭化水素を予め
除去した後に上記触媒塔２０へ原料空気を導入するよう
にしているので、従来装置に比べ、触媒塔２０における
一酸化炭素及び水素の酸化反応をより促進することがで
きる。このため、低温分離部へ導入される原料空気中の
一酸化炭素濃度及び水素濃度を大幅に低減させることが
でき、これによって超高純度窒素の製造を実現すること
ができる。
【００３４】さらに、この実施例では、触媒塔２０を通
過した原料空気を副吸着ユニット２６に通し、触媒塔２
０における反応で生成された二酸化炭素及び水を再吸着
除去するようにしているので、低温分離部における二酸
化炭素や水の凍結をより確実に防ぐことができる。しか
も、触媒塔２０で発生する二酸化炭素及び水の量は、当
初、原料空気に含まれている二酸化炭素や水の量に比べ
て極めて少ないので、副吸着ユニット２６の吸着塔２６
ａ，２６ｂには吸着ユニット１４における吸着塔１４
ａ，１４ｂよりも小規模のものを用いることができ、よ
って、多大なコストの増大を伴うことなく上記効果を得
ることができる。
過した原料空気を副吸着ユニット２６に通し、触媒塔２
０における反応で生成された二酸化炭素及び水を再吸着
除去するようにしているので、低温分離部における二酸
化炭素や水の凍結をより確実に防ぐことができる。しか
も、触媒塔２０で発生する二酸化炭素及び水の量は、当
初、原料空気に含まれている二酸化炭素や水の量に比べ
て極めて少ないので、副吸着ユニット２６の吸着塔２６
ａ，２６ｂには吸着ユニット１４における吸着塔１４
ａ，１４ｂよりも小規模のものを用いることができ、よ
って、多大なコストの増大を伴うことなく上記効果を得
ることができる。
【００３５】次に、第２実施例を図２に基づいて説明す
る。
る。
【００３６】ここでは、上記第１実施例における吸着ユ
ニット１４及び副吸着ユニット２６に代え、３つの吸着
塔３２ａ，３２ｂ，３２ｃをもつ吸着ユニット３２を設
置し、この単一の吸着ユニット３２によって、触媒塔導
入前の原料空気からの不純物除去、及び触媒塔通過後の
原料空気からの不純物除去の双方を行うようにしてい
る。
ニット１４及び副吸着ユニット２６に代え、３つの吸着
塔３２ａ，３２ｂ，３２ｃをもつ吸着ユニット３２を設
置し、この単一の吸着ユニット３２によって、触媒塔導
入前の原料空気からの不純物除去、及び触媒塔通過後の
原料空気からの不純物除去の双方を行うようにしてい
る。
【００３７】具体的に、各吸着塔３２ａ，３２ｂ，３２
ｃの入口側は、それぞれ弁（流路切換手段を構成）３４
ａ，３４ｂ，３４ｃ及び共通の第１の原料空気通路１２
を介して圧縮機１０の出口側に接続されるとともに、弁
３６ａ，３６ｂ，３６ｃ（流路切換手段を構成）及び共
通の第３の原料空気通路２４を介して触媒塔２０の出口
側に接続されている。また、各吸着塔３２ａ，３２ｂ，
３２ｃの出口側は、それぞれ弁（流路切換手段を構成）
３８ａ，３８ｂ，３８ｃ及び共通の第２の原料空気通路
１８を介して触媒塔２０の入口側に接続されるととも
に、弁４０ａ，４０ｂ，４０ｃ（流路切換手段を構成）
及び共通の第４の原料空気通路３０を介して図外の低温
分離部に接続されている。
ｃの入口側は、それぞれ弁（流路切換手段を構成）３４
ａ，３４ｂ，３４ｃ及び共通の第１の原料空気通路１２
を介して圧縮機１０の出口側に接続されるとともに、弁
３６ａ，３６ｂ，３６ｃ（流路切換手段を構成）及び共
通の第３の原料空気通路２４を介して触媒塔２０の出口
側に接続されている。また、各吸着塔３２ａ，３２ｂ，
３２ｃの出口側は、それぞれ弁（流路切換手段を構成）
３８ａ，３８ｂ，３８ｃ及び共通の第２の原料空気通路
１８を介して触媒塔２０の入口側に接続されるととも
に、弁４０ａ，４０ｂ，４０ｃ（流路切換手段を構成）
及び共通の第４の原料空気通路３０を介して図外の低温
分離部に接続されている。
【００３８】次に、この装置による一酸化炭素及び水素
の除去要領の一例を説明する。
の除去要領の一例を説明する。
【００３９】まず、各弁のうち弁３４ａ，３６ｂ，３８
ａ，４０ｂのみを開くとともに、吸着塔３２ｃ内には図
外の手段を用いて再生用ガスを通す。これにより、圧縮
機１０で圧縮された原料空気は第１の原料空気通路１２
を通じて吸着塔３２ａ内に導入され、ここで原料空気中
の炭化水素、二酸化炭素、及び水が除去された後、残り
の原料空気が第２の原料空気通路１８を通じて触媒塔２
０に導入される。そして、この触媒塔２０における酸化
反応で原料空気中の一酸化炭素及び水素が除去された
後、その生成物である微量の二酸化炭素及び水を含んだ
原料空気が第３の原料空気通路２４を通じて吸着塔３２
ｂ内に導入され、この吸着塔３２ｂで上記微量の二酸化
炭素及び水が吸着除去された後に、残りの原料空気が第
４の原料空気通路３０を通じて図外の低温分離部へ導入
される。この間、吸着塔３２ｃにおいては、再生ガスに
よる再生工程が行われる。
ａ，４０ｂのみを開くとともに、吸着塔３２ｃ内には図
外の手段を用いて再生用ガスを通す。これにより、圧縮
機１０で圧縮された原料空気は第１の原料空気通路１２
を通じて吸着塔３２ａ内に導入され、ここで原料空気中
の炭化水素、二酸化炭素、及び水が除去された後、残り
の原料空気が第２の原料空気通路１８を通じて触媒塔２
０に導入される。そして、この触媒塔２０における酸化
反応で原料空気中の一酸化炭素及び水素が除去された
後、その生成物である微量の二酸化炭素及び水を含んだ
原料空気が第３の原料空気通路２４を通じて吸着塔３２
ｂ内に導入され、この吸着塔３２ｂで上記微量の二酸化
炭素及び水が吸着除去された後に、残りの原料空気が第
４の原料空気通路３０を通じて図外の低温分離部へ導入
される。この間、吸着塔３２ｃにおいては、再生ガスに
よる再生工程が行われる。
【００４０】次に、上記吸着塔３２ａがほぼ破過した時
点で、上記弁３４ａ，３６ｂ，３８ａ，４０ｂを閉じる
とともに、弁３４ｂ，３６ｃ，３８ｂ，４０ｃを開き、
かつ、吸着塔３２ａ内に再生用ガスを通す。これによ
り、圧縮機１０で圧縮された原料空気は第１の原料空気
通路１２を通じて今度は吸着塔３２ｂ内に導入され、そ
の後、第２の原料空気通路１８、触媒塔２０、及び第３
の原料空気通路２４を経て吸着塔３２ｃ内に導入され
る。この間、吸着塔３２ａにおいて再生工程が行われ
る。すなわち、上記各弁の開閉切換により、吸着塔３２
ａは圧縮機１０からの原料空気が導入される状態（第１
の使用状態）から再生状態に切換えられ、同様に、吸着
塔３２ｂは触媒塔２０からの原料空気が導入される状態
（第２の使用状態）から上記第１の使用状態に切換えら
れ、吸着塔３２ｃは再生状態から上記第２の使用状態に
切換えられることとなる。
点で、上記弁３４ａ，３６ｂ，３８ａ，４０ｂを閉じる
とともに、弁３４ｂ，３６ｃ，３８ｂ，４０ｃを開き、
かつ、吸着塔３２ａ内に再生用ガスを通す。これによ
り、圧縮機１０で圧縮された原料空気は第１の原料空気
通路１２を通じて今度は吸着塔３２ｂ内に導入され、そ
の後、第２の原料空気通路１８、触媒塔２０、及び第３
の原料空気通路２４を経て吸着塔３２ｃ内に導入され
る。この間、吸着塔３２ａにおいて再生工程が行われ
る。すなわち、上記各弁の開閉切換により、吸着塔３２
ａは圧縮機１０からの原料空気が導入される状態（第１
の使用状態）から再生状態に切換えられ、同様に、吸着
塔３２ｂは触媒塔２０からの原料空気が導入される状態
（第２の使用状態）から上記第１の使用状態に切換えら
れ、吸着塔３２ｃは再生状態から上記第２の使用状態に
切換えられることとなる。
【００４１】上記吸着塔３２ｂがほぼ破過した後は、上
記弁３４ｂ，３６ｃ，３８ｂ，４０ｃを閉じるととも
に、弁３４ｃ，３６ａ，３８ｃ，４０ａを開き、かつ、
吸着塔３２ｂ内に再生用ガスを通すようにすればよい。
これにより、吸着塔３２ａは上記再生状態から第２の使
用状態に切換えられ、吸着塔３２ｂは上記第１の使用状
態から再生状態に切換えられ、吸着塔３２ｃは上記第２
の使用状態から第１の使用状態に切換えられることとな
る。以下、このような切換を繰り返すことにより、３つ
の吸着塔３２ａ，３２ｂ，３２ｃを用いて、触媒塔２０
に導入する前の一酸化炭素及び水素の除去、触媒塔２０
通過後の一酸化炭素及び水素の除去、及び各吸着塔の再
生工程を連続的に効率良く行うことができる。
記弁３４ｂ，３６ｃ，３８ｂ，４０ｃを閉じるととも
に、弁３４ｃ，３６ａ，３８ｃ，４０ａを開き、かつ、
吸着塔３２ｂ内に再生用ガスを通すようにすればよい。
これにより、吸着塔３２ａは上記再生状態から第２の使
用状態に切換えられ、吸着塔３２ｂは上記第１の使用状
態から再生状態に切換えられ、吸着塔３２ｃは上記第２
の使用状態から第１の使用状態に切換えられることとな
る。以下、このような切換を繰り返すことにより、３つ
の吸着塔３２ａ，３２ｂ，３２ｃを用いて、触媒塔２０
に導入する前の一酸化炭素及び水素の除去、触媒塔２０
通過後の一酸化炭素及び水素の除去、及び各吸着塔の再
生工程を連続的に効率良く行うことができる。
【００４２】ここで、各吸着塔の状態切換は、第２の使
用状態、第１の使用状態、再生状態、第２の使用状態、
…の順に行うことが肝要である。なぜならば、第２の使
用状態では、触媒塔２０で生成された微量の二酸化炭素
及び水を吸着するだけであるので、そのまま続けて第１
の使用状態に移行することができるのに対し、第１の使
用状態では、元来原料空気に含まれている比較的多量の
二酸化炭素、水、及び炭化水素を吸着除去するので、そ
の後、再生操作が必要だからである。
用状態、第１の使用状態、再生状態、第２の使用状態、
…の順に行うことが肝要である。なぜならば、第２の使
用状態では、触媒塔２０で生成された微量の二酸化炭素
及び水を吸着するだけであるので、そのまま続けて第１
の使用状態に移行することができるのに対し、第１の使
用状態では、元来原料空気に含まれている比較的多量の
二酸化炭素、水、及び炭化水素を吸着除去するので、そ
の後、再生操作が必要だからである。
【００４３】すなわち、この装置は、触媒塔通過後の原
料空気から二酸化炭素及び水を吸着除去する量が微量で
あることに着目し、各吸着塔を第２の使用状態、第１の
使用状態、再生状態、第２の使用状態、…の順に切換え
ることにより、触媒塔２０の前後における一酸化炭素及
び水素の除去を単一の吸着ユニット３２で効率良く行う
ことを可能にしたものであるといえる。
料空気から二酸化炭素及び水を吸着除去する量が微量で
あることに着目し、各吸着塔を第２の使用状態、第１の
使用状態、再生状態、第２の使用状態、…の順に切換え
ることにより、触媒塔２０の前後における一酸化炭素及
び水素の除去を単一の吸着ユニット３２で効率良く行う
ことを可能にしたものであるといえる。
【００４４】なお、前記第１実施例では、吸着ユニット
１４及び副吸着ユニット２６において、２つの吸着塔を
備えたものを示したが、吸着塔の具体的な数は問わず、
用途に応じて適宜設定すればよい。また、第２実施例に
おける吸着ユニット３２においては、吸着塔の数は３つ
以上の範囲で適宜設定することが可能である。
１４及び副吸着ユニット２６において、２つの吸着塔を
備えたものを示したが、吸着塔の具体的な数は問わず、
用途に応じて適宜設定すればよい。また、第２実施例に
おける吸着ユニット３２においては、吸着塔の数は３つ
以上の範囲で適宜設定することが可能である。
【００４５】
【発明の効果】以上のように本発明は、従来のように触
媒装置に原料空気を通してから二酸化炭素及び水を吸着
除去するのではなく、触媒装置よりも上流側の位置に吸
着装置を配置し、この吸着装置で二酸化炭素や水、さら
には上記触媒装置で触媒毒となり得る成分を予め除去し
た後に上記触媒装置へ原料空気を導入するようにしてい
るので、触媒装置における一酸化炭素及び水素の酸化反
応を従来に比して著しく促進することができ、これによ
り、低温分離部へ導入される原料空気中の一酸化炭素濃
度及び水素濃度を大幅に低減させ、もって超高純度窒素
の製造を実現することができる効果がある。
媒装置に原料空気を通してから二酸化炭素及び水を吸着
除去するのではなく、触媒装置よりも上流側の位置に吸
着装置を配置し、この吸着装置で二酸化炭素や水、さら
には上記触媒装置で触媒毒となり得る成分を予め除去し
た後に上記触媒装置へ原料空気を導入するようにしてい
るので、触媒装置における一酸化炭素及び水素の酸化反
応を従来に比して著しく促進することができ、これによ
り、低温分離部へ導入される原料空気中の一酸化炭素濃
度及び水素濃度を大幅に低減させ、もって超高純度窒素
の製造を実現することができる効果がある。
【００４６】さらに、請求項２記載の装置では、触媒装
置を通過した原料空気を副吸着装置に通し、触媒装置に
おける反応で生成された二酸化炭素及び水を再吸着除去
するようにしているので、低温分離部における二酸化炭
素や水の凍結をより確実に防ぐことができる。しかも、
触媒装置で発生する二酸化炭素及び水の量は、当初、原
料空気に含まれている二酸化炭素や水の量に比べて極め
て少なく、副吸着装置は上記吸着塔よりも吸着容量の小
さい小規模のものを使用することができるので、多大な
コストの増大を伴うことなく、上記効果を得ることがで
きる。
置を通過した原料空気を副吸着装置に通し、触媒装置に
おける反応で生成された二酸化炭素及び水を再吸着除去
するようにしているので、低温分離部における二酸化炭
素や水の凍結をより確実に防ぐことができる。しかも、
触媒装置で発生する二酸化炭素及び水の量は、当初、原
料空気に含まれている二酸化炭素や水の量に比べて極め
て少なく、副吸着装置は上記吸着塔よりも吸着容量の小
さい小規模のものを使用することができるので、多大な
コストの増大を伴うことなく、上記効果を得ることがで
きる。
【００４７】また、請求項３記載の装置は、３つ以上の
吸着塔をもつ吸着装置を備えるとともに、各吸着塔を、
この吸着塔に触媒装置導入前の原料空気が導入される第
１の使用状態と、触媒装置通過後の原料空気が導入され
る第２の使用状態と、再生状態とに切換える流路切換手
段を備えたものであるので、各吸着塔を第２の使用状
態、第１の使用状態、再生状態の順に互いに位相をずら
しながら切換えることにより、複数の吸着装置を用いる
ことなく、単一の吸着装置によって触媒装置前後におけ
る一酸化炭素及び水素の除去を効率良く行うことがで
き、これによりコストの削減を図ることができる効果が
ある。
吸着塔をもつ吸着装置を備えるとともに、各吸着塔を、
この吸着塔に触媒装置導入前の原料空気が導入される第
１の使用状態と、触媒装置通過後の原料空気が導入され
る第２の使用状態と、再生状態とに切換える流路切換手
段を備えたものであるので、各吸着塔を第２の使用状
態、第１の使用状態、再生状態の順に互いに位相をずら
しながら切換えることにより、複数の吸着装置を用いる
ことなく、単一の吸着装置によって触媒装置前後におけ
る一酸化炭素及び水素の除去を効率良く行うことがで
き、これによりコストの削減を図ることができる効果が
ある。
【図１】本発明の第１実施例における空気分離装置の不
純物除去装置を示すフローシートである。
純物除去装置を示すフローシートである。
【図２】第２実施例における空気分離装置の不純物除去
装置を示すフローシートである。
装置を示すフローシートである。
【図３】従来の空気分離装置の不純物除去装置の一例を
示すフローシートである。
示すフローシートである。
１２ 第１の原料空気通路 １４ 吸着ユニット（吸着装置） １８ 第２の原料空気通路 ２０ 触媒塔（触媒装置） ２４ 第３の原料空気通路 ２６ 副吸着ユニット（副吸着装置） ３０ 第４の原料空気通路 ３２ 吸着ユニット（吸着装置） ３２ａ，３２ｂ，３２ｃ 吸着塔 ３４ａ，３４ｂ，３４ｃ，３６ａ，３６ｂ，３６ｃ，３
８ａ，３８ｂ，３８ｃ，４０ａ，４０ｂ，４０ｃ 弁
（流路切換手段）
８ａ，３８ｂ，３８ｃ，４０ａ，４０ｂ，４０ｃ 弁
（流路切換手段）
Claims (3)
- 【請求項１】 空気分離装置に設けられ、その低温分離
部に導入される前の原料空気から不純物を除去するため
の装置であって、上記原料空気中の一酸化炭素及び水素
の酸化を促進させる触媒装置と、この触媒装置に原料空
気を通して上記低温分離部へ導く原料空気通路とを備え
るとともに、この原料空気通路において上記触媒装置よ
りも上流側の位置に、上記原料空気中から上記触媒装置
の触媒毒となる炭化水素と二酸化炭素と水とを吸着除去
する吸着装置を設けたことを特徴とする空気分離装置に
おける不純物除去装置。 - 【請求項２】 請求項１記載の空気分離装置における不
純物除去装置において、上記触媒装置と低温分離部との
間に、原料空気中から二酸化炭素と水とを吸着除去し、
かつその吸着容量が上記吸着装置の吸着容量よりも小さ
い副吸着装置を設けたことを特徴とする空気分離装置に
おける不純物除去装置。 - 【請求項３】 請求項１記載の空気分離装置における不
純物除去装置において、上記吸着装置に３つ以上の吸着
塔を設け、各吸着塔の入口側に原料空気を導入するため
の第１の原料空気通路と、各吸着塔の出口側を上記触媒
装置の入口側に接続する第２の原料空気通路と、上記触
媒装置の出口側を各吸着塔の入口側に接続する第３の原
料空気通路と、各吸着塔の出口側を上記低温分離部に接
続する第４の原料空気通路とを備えるとともに、各吸着
塔を、この吸着塔に上記第１の原料空気通路から原料空
気が流入して上記第２の原料空気通路に流出する第１の
使用状態と、上記吸着塔に第３の原料空気通路から原料
空気が流入して上記第４の原料空気通路に流出する第２
の使用状態と、再生状態とに切換える流路切換手段を備
えたことを特徴とする空気分離装置における不純物除去
装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3343340A JPH05172458A (ja) | 1991-12-25 | 1991-12-25 | 空気分離装置における不純物除去装置 |
| TW081106451A TW197955B (ja) | 1991-12-25 | 1992-08-14 | |
| KR1019920025218A KR960001718B1 (ko) | 1991-12-25 | 1992-12-23 | 공기분리장치에 있어서의 불순물 제거장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3343340A JPH05172458A (ja) | 1991-12-25 | 1991-12-25 | 空気分離装置における不純物除去装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05172458A true JPH05172458A (ja) | 1993-07-09 |
Family
ID=18360772
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3343340A Pending JPH05172458A (ja) | 1991-12-25 | 1991-12-25 | 空気分離装置における不純物除去装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05172458A (ja) |
| KR (1) | KR960001718B1 (ja) |
| TW (1) | TW197955B (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1133356A (ja) * | 1997-07-25 | 1999-02-09 | Osaka Oxygen Ind Ltd | 空気清浄装置 |
| JPWO2005094986A1 (ja) * | 2004-03-30 | 2008-02-14 | 大陽日酸株式会社 | 空気液化分離装置の前処理精製装置、炭化水素吸着剤、及び原料空気の前処理方法 |
| CN106621692A (zh) * | 2017-03-06 | 2017-05-10 | 成都赛普瑞兴科技有限公司 | 一种联合再生净化系统及净化方法 |
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| KR101695497B1 (ko) * | 2010-09-30 | 2017-01-11 | 한국전력공사 | 순산소연소 발전시스템의 효율 향상 방법 |
| DE102011076117B4 (de) * | 2011-05-19 | 2021-10-14 | Robert Bosch Gmbh | Ultraschall-Messsystem und Verfahren zum Detektieren eines Hindernisses mittels Ultraschall |
| KR102598299B1 (ko) * | 2021-11-09 | 2023-11-06 | 주식회사 디에스피 | 건축용 유리 고정프레임 어셈블리 및 그 제조방법 |
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| JPH03194381A (ja) * | 1985-03-29 | 1991-08-26 | Hitachi Ltd | 窒素製造方法および装置 |
-
1991
- 1991-12-25 JP JP3343340A patent/JPH05172458A/ja active Pending
-
1992
- 1992-08-14 TW TW081106451A patent/TW197955B/zh active
- 1992-12-23 KR KR1019920025218A patent/KR960001718B1/ko not_active Expired - Fee Related
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| US7931736B2 (en) | 2004-03-30 | 2011-04-26 | Taiyo Nippon Sanso Corporation | Pre-purification unit of cryogenic air separation unit, hydrocarbon adsorbent, and method of pre-treating feed air |
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| CN106621692A (zh) * | 2017-03-06 | 2017-05-10 | 成都赛普瑞兴科技有限公司 | 一种联合再生净化系统及净化方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR930012077A (ko) | 1993-07-20 |
| TW197955B (ja) | 1993-01-11 |
| KR960001718B1 (ko) | 1996-02-03 |
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