JPH0517476B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0517476B2 JPH0517476B2 JP61130609A JP13060986A JPH0517476B2 JP H0517476 B2 JPH0517476 B2 JP H0517476B2 JP 61130609 A JP61130609 A JP 61130609A JP 13060986 A JP13060986 A JP 13060986A JP H0517476 B2 JPH0517476 B2 JP H0517476B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- processing
- bestible
- processing chamber
- pressure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Tunnel Furnaces (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、多室式竪型加圧雰囲気炉に関するも
のである。
のである。
（従来技術とその問題点）
従来、たとえば、フアインセラミツクス部品等
を焼成するには、一般に、両側に、装入、抽出ベ
スチブルを備えるとともに、予熱室、加熱室を中
間扉を介して設け、処理材を搬送手段により、順
次、前記各室を移動させて熱処理を行つている。
を焼成するには、一般に、両側に、装入、抽出ベ
スチブルを備えるとともに、予熱室、加熱室を中
間扉を介して設け、処理材を搬送手段により、順
次、前記各室を移動させて熱処理を行つている。
しかしながら、特に、加熱室では、2300℃にも
達するため、処理材の炉内搬送手段を高耐熱性を
有するものとしなければならず、その選択が問題
となる。
達するため、処理材の炉内搬送手段を高耐熱性を
有するものとしなければならず、その選択が問題
となる。
また、処理材を、加圧雰囲気中で焼成する場
合、中間扉を含めて耐圧構造部分が多く、設備費
がコストアツプになる。さらに、近年、多品種少
ロツト生産が多いが、多室式横型炉では、このよ
うな生産に適しない等多くの問題点を有する。
合、中間扉を含めて耐圧構造部分が多く、設備費
がコストアツプになる。さらに、近年、多品種少
ロツト生産が多いが、多室式横型炉では、このよ
うな生産に適しない等多くの問題点を有する。
本発明は、前記問題点を解決するためになされ
たもので、構成が簡単で、炉内搬送手段が高温に
さらされず、耐圧構造部分を少なくすることがで
きる多室式竪型加圧雰囲気炉を提供することを目
的とする。
たもので、構成が簡単で、炉内搬送手段が高温に
さらされず、耐圧構造部分を少なくすることがで
きる多室式竪型加圧雰囲気炉を提供することを目
的とする。
（問題点を解決するための手段）
本発明は、前記目的を達成するために、多室式
竪型加圧雰囲気炉を、移送室の天井部に、同一円
周上に等間隔で下部が開口したベスチブルおよび
少なくとも１つの耐圧構造からなる竪型処理室を
配設するとともに、前記移送室内に、昇降台と、
該昇降台上に材料支持台、炉床および仕切弁から
なる処理材積載装置を、前記ベスチブルと処理室
とが配置されているのと同一円周上で、かつ、等
間隔で配設したターンテーブルとを設ける一方、
前記各仕切弁を前記ベスチブル、処理室の下部開
口に圧着して耐圧シールを形成する耐圧シール機
構を設けて構成したものである。
竪型加圧雰囲気炉を、移送室の天井部に、同一円
周上に等間隔で下部が開口したベスチブルおよび
少なくとも１つの耐圧構造からなる竪型処理室を
配設するとともに、前記移送室内に、昇降台と、
該昇降台上に材料支持台、炉床および仕切弁から
なる処理材積載装置を、前記ベスチブルと処理室
とが配置されているのと同一円周上で、かつ、等
間隔で配設したターンテーブルとを設ける一方、
前記各仕切弁を前記ベスチブル、処理室の下部開
口に圧着して耐圧シールを形成する耐圧シール機
構を設けて構成したものである。
（実施例）
つぎに、本発明を一実施例である図面にしたが
つて説明する。
つて説明する。
図に示す多室式竪型加圧雰囲気炉Ｔは、大略、
移送室１、ベスチブル２、竪型処理室３、昇降台
６、処理材積載装置１８とからなる。
移送室１、ベスチブル２、竪型処理室３、昇降台
６、処理材積載装置１８とからなる。
そして、前記竪型処理室３は、第１処理室３ａ
および第２処理室３ｂからなり、前記ベスチブル
２および第１、第２処理室３ａ，３ｂは、前記移
送室１の天井部に同一円周上に等間隔で配置され
ている。なお、前記ベスチブル２および第１、第
２処理室３ａ，３ｂは、下部に開口５を有し、か
つ、真空排気源とN2ガス供給管（いずれも図示
せず）に連通する一方、第１、第２処理室３ａ，
３ｂにはヒータ４が設けてある。
および第２処理室３ｂからなり、前記ベスチブル
２および第１、第２処理室３ａ，３ｂは、前記移
送室１の天井部に同一円周上に等間隔で配置され
ている。なお、前記ベスチブル２および第１、第
２処理室３ａ，３ｂは、下部に開口５を有し、か
つ、真空排気源とN2ガス供給管（いずれも図示
せず）に連通する一方、第１、第２処理室３ａ，
３ｂにはヒータ４が設けてある。
前記昇降台６は、昇降用モータ７によつて回転
するスクリユシヤフト８と螺合し、かつ、ガイド
ロツド９にガイドされて昇降可能となつている。
するスクリユシヤフト８と螺合し、かつ、ガイド
ロツド９にガイドされて昇降可能となつている。
なお、１０は昇降用モータ７の回転力をスクリ
ユシヤフト８に伝達するためのチエーンである。
ユシヤフト８に伝達するためのチエーンである。
前記処理材積載装置１８は、前記昇降台６にボ
ールスプライン１２を介して、ローラ１１により
回転可能に載置されたターンテーブル１９上に設
けたもので、材料支持台２２、炉床２１および前
記開口５を閉鎖する仕切弁２０とからなり、実施
例では、前記ベスチブル２および第１、第２処理
室３ａ，３ｂが配置されているのと同一円周上
で、かつ、等間隔で、３組設けてある。
ールスプライン１２を介して、ローラ１１により
回転可能に載置されたターンテーブル１９上に設
けたもので、材料支持台２２、炉床２１および前
記開口５を閉鎖する仕切弁２０とからなり、実施
例では、前記ベスチブル２および第１、第２処理
室３ａ，３ｂが配置されているのと同一円周上
で、かつ、等間隔で、３組設けてある。
すなわち、ボールスプライン１２のボール軸受
１３の外輪１４は前記昇降台６を貫通して装着さ
れ、その内輪１５は、前記処理材積載装置１８を
設けたターンテーブル１９の中央部に位置してあ
る。
１３の外輪１４は前記昇降台６を貫通して装着さ
れ、その内輪１５は、前記処理材積載装置１８を
設けたターンテーブル１９の中央部に位置してあ
る。
したがつて、ターンテーブル１９は前記昇降台
６が昇降するとき、キー１６により一体に昇降す
るとともに、スプライン軸１７の回転により昇降
台６上を回転する。
６が昇降するとき、キー１６により一体に昇降す
るとともに、スプライン軸１７の回転により昇降
台６上を回転する。
さらに、前記ベスチブル２および竪型処理室３
の下部開口５には、クラツチリング２３が設けて
ある。
の下部開口５には、クラツチリング２３が設けて
ある。
このクラツチリング２３は、第３図に示すよう
に、ベスチブル２、第１、第２処理室３ａ，３ｂ
の下部開口５に所定角度回転可能に取り付けら
れ、前記仕切弁２０と嵌合して、処理時、前記開
口５を耐圧シールするものである。
に、ベスチブル２、第１、第２処理室３ａ，３ｂ
の下部開口５に所定角度回転可能に取り付けら
れ、前記仕切弁２０と嵌合して、処理時、前記開
口５を耐圧シールするものである。
つぎに、前記構成からなる多室式竪型加圧雰囲
気炉Ｔを用いて、セラミツクス製品を焼結処理す
る場合について説明する。
気炉Ｔを用いて、セラミツクス製品を焼結処理す
る場合について説明する。
まず、前記各炉床２１をベスチブル２、第１、
第２処理室３ａ，３ｂの下部開口５と対応する位
置とし、昇降台６を上昇させて下部開口５を炉床
２１で閉鎖するとともに、仕切弁２０とクラツチ
リング２３とにより、開口５を耐圧シールする。
第２処理室３ａ，３ｂの下部開口５と対応する位
置とし、昇降台６を上昇させて下部開口５を炉床
２１で閉鎖するとともに、仕切弁２０とクラツチ
リング２３とにより、開口５を耐圧シールする。
ついで、ベスチブル２内に位置する支持台２２
上に処理材Ｗを載置し、図示しない手段でベスチ
ブル２内を真空排気（約10-3Torr）したのち、
N2ガスを大気圧近くまで供給してベスチブル２
内を復圧する。
上に処理材Ｗを載置し、図示しない手段でベスチ
ブル２内を真空排気（約10-3Torr）したのち、
N2ガスを大気圧近くまで供給してベスチブル２
内を復圧する。
その後、仕切弁２０とクラツチリング２３との
係合を外し、スクリユシヤフト８を回転させ昇降
台６を下降することにより、処理材Ｗをあらかじ
めN2ガス雰囲気としてある移送室１内に位置さ
せるとともに、スプライン軸１７を回転させター
ンテーブル１９を１ピツチ回転し、処理材Ｗを第
１処理室３ａの下方に位置させる。
係合を外し、スクリユシヤフト８を回転させ昇降
台６を下降することにより、処理材Ｗをあらかじ
めN2ガス雰囲気としてある移送室１内に位置さ
せるとともに、スプライン軸１７を回転させター
ンテーブル１９を１ピツチ回転し、処理材Ｗを第
１処理室３ａの下方に位置させる。
そして、前記スクリユシヤフト８の回転によ
り、前述と同様、昇降台６（処理材積載装置１
８）を上昇させ、処理材Ｗを大気圧近くのN2雰
囲気となつている第１処理室３ａ内に装入すると
ともに、約600〜1000℃で加熱し、脱ワツクス処
理と予熱を行なう。一方、ベスチブル２において
は、前述と同様工程により支持台２２に新たな処
理材Ｗが載置される。
り、前述と同様、昇降台６（処理材積載装置１
８）を上昇させ、処理材Ｗを大気圧近くのN2雰
囲気となつている第１処理室３ａ内に装入すると
ともに、約600〜1000℃で加熱し、脱ワツクス処
理と予熱を行なう。一方、ベスチブル２において
は、前述と同様工程により支持台２２に新たな処
理材Ｗが載置される。
前記のようにして、処理材Ｗの予熱が終了する
と、再び、各処理材Ｗは移送室１に降下するとと
もにターンテーブル１９が１ピツチ回転し、再度
上昇し、処理材Ｗは第１、第２処理室３ａ，３ｂ
内に装入される。第２処理室３ｂにおいては、処
理材Ｗは1300℃〜1400℃までN2雰囲気中で加熱
され、引き続きN2ガスを供給して9.5Kg／cm2の加
圧N2雰囲気中で1850℃に加熱され、焼結が完了
すると、第２処理室３ｂ内を約1000℃まで炉冷
し、その後、第２処理室３ｂ内の圧力を大気圧近
くまで降下させる。その間、ベスチブル２には次
の処理材Ｗが装入され、一方、第１処理室３ａで
は前記同様、処理材Ｗが予熱される。
と、再び、各処理材Ｗは移送室１に降下するとと
もにターンテーブル１９が１ピツチ回転し、再度
上昇し、処理材Ｗは第１、第２処理室３ａ，３ｂ
内に装入される。第２処理室３ｂにおいては、処
理材Ｗは1300℃〜1400℃までN2雰囲気中で加熱
され、引き続きN2ガスを供給して9.5Kg／cm2の加
圧N2雰囲気中で1850℃に加熱され、焼結が完了
すると、第２処理室３ｂ内を約1000℃まで炉冷
し、その後、第２処理室３ｂ内の圧力を大気圧近
くまで降下させる。その間、ベスチブル２には次
の処理材Ｗが装入され、一方、第１処理室３ａで
は前記同様、処理材Ｗが予熱される。
その後、処理材積載装置１８は、下降−１ピツ
チ回転−上昇を行ない順次、処理材Ｗは熱処理さ
れるが、第２処理室３ｂからの処理材Ｗは、ベス
チブル２に装入され、約150℃以下に冷却されて、
ここから炉外に抽出するとともに、新しい処理材
Ｗがベスチブル２に装入され、以後、前記工程を
繰り返すことになる。
チ回転−上昇を行ない順次、処理材Ｗは熱処理さ
れるが、第２処理室３ｂからの処理材Ｗは、ベス
チブル２に装入され、約150℃以下に冷却されて、
ここから炉外に抽出するとともに、新しい処理材
Ｗがベスチブル２に装入され、以後、前記工程を
繰り返すことになる。
前記実施例では処理室３を２つ設けたものを示
したが、３つ以上でもよく、また、下部開口５の
耐圧シールは、クラツチリング方式に限らないで
よいことは勿論である。
したが、３つ以上でもよく、また、下部開口５の
耐圧シールは、クラツチリング方式に限らないで
よいことは勿論である。
（発明の効果）
以上の説明から明らかなように、本発明の多室
式竪型加圧雰囲気炉によれば、移送室の天井部
に、同一円周上に等間隔で下部が開口したベスチ
ブルおよび少なくとも１つの耐圧構造からなる竪
型処理室を配設するとともに、前記移送室内に、
昇降台と、該昇降台上に材料支持台、炉床および
仕切弁からなる処理材積載装置を、前記ベスチブ
ルと処理室とが配置されているのと同一円周上
で、かつ、等間隔で配設したターンテーブルとを
設ける一方、前記各仕切弁を前記ベスチブル、処
理室の下部開口に圧着して耐圧シールを形成する
耐圧シール機構を設けてある。
式竪型加圧雰囲気炉によれば、移送室の天井部
に、同一円周上に等間隔で下部が開口したベスチ
ブルおよび少なくとも１つの耐圧構造からなる竪
型処理室を配設するとともに、前記移送室内に、
昇降台と、該昇降台上に材料支持台、炉床および
仕切弁からなる処理材積載装置を、前記ベスチブ
ルと処理室とが配置されているのと同一円周上
で、かつ、等間隔で配設したターンテーブルとを
設ける一方、前記各仕切弁を前記ベスチブル、処
理室の下部開口に圧着して耐圧シールを形成する
耐圧シール機構を設けてある。
そして、処理室内での処理材加熱中には、処理
室の下部開口は耐圧シール機構でシールされてい
るため、処理室内の高温雰囲気が移送室に流入し
ない。それ故、搬送手段は、高耐熱性を考慮する
必要がなく、それだけ安価となるばかりか、加圧
状態を容易に維持することができる。
室の下部開口は耐圧シール機構でシールされてい
るため、処理室内の高温雰囲気が移送室に流入し
ない。それ故、搬送手段は、高耐熱性を考慮する
必要がなく、それだけ安価となるばかりか、加圧
状態を容易に維持することができる。
また、耐圧構造は、移送室の天井部に設けた処
理室だけでよいため安価であり、かつ、各処理室
において任意の温度、圧力パターンが選択でき、
多品種少量の生産を効率よく行なうことができ
る。
理室だけでよいため安価であり、かつ、各処理室
において任意の温度、圧力パターンが選択でき、
多品種少量の生産を効率よく行なうことができ
る。
さらに、搬送手段は、各処理室毎に設けること
なく１つのターンテーブルで行なうため、機構の
簡素化および搬送の確実化を図ることができる等
の効果を奏する。
なく１つのターンテーブルで行なうため、機構の
簡素化および搬送の確実化を図ることができる等
の効果を奏する。
第１図は本発明にかかる多室式竪型加圧雰囲気
炉の概略断面正面図、第２図は第１図の−線
断面図で、第３図は耐圧シール機構の部分断面図
である。 １〜移送室、２〜ベスチブル、３（３ａ，３
ｂ）〜処理室、５〜下部開口、６〜昇降台、８〜
スクリユシヤフト、９〜ガイドロツド、１２〜ボ
ールスプライン、１３〜ボール軸受、１７〜スプ
ライン軸、１８〜処理材積載装置、１９〜ターン
テーブル、２０〜仕切弁、２１〜炉床、２２〜支
持台、２３〜クラツチリング、Ｗ〜処理材。
炉の概略断面正面図、第２図は第１図の−線
断面図で、第３図は耐圧シール機構の部分断面図
である。 １〜移送室、２〜ベスチブル、３（３ａ，３
ｂ）〜処理室、５〜下部開口、６〜昇降台、８〜
スクリユシヤフト、９〜ガイドロツド、１２〜ボ
ールスプライン、１３〜ボール軸受、１７〜スプ
ライン軸、１８〜処理材積載装置、１９〜ターン
テーブル、２０〜仕切弁、２１〜炉床、２２〜支
持台、２３〜クラツチリング、Ｗ〜処理材。
Claims (1)
- １ 移送室の天井部に、同一円周上に等間隔で下
部が開口したベスチブルおよび少なくとも１つの
耐圧構造からなる竪型処理室を配設するととも
に、前記移送室内に、昇降台と、該昇降台上に材
料支持台、炉床および仕切弁からなる処理材積載
装置を、前記ベスチブルと処理室とが配置されて
いるのと同一円周上で、かつ、等間隔で配設した
ターンテーブルとを設ける一方、前記各仕切弁を
前記ベスチブル、処理室の下部開口に圧着して耐
圧シールを形成する耐圧シール機構を設けたこと
を特徴とする多室式竪型加圧雰囲気炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13060986A JPS62288489A (ja) | 1986-06-04 | 1986-06-04 | 多室式竪型加圧雰囲気炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13060986A JPS62288489A (ja) | 1986-06-04 | 1986-06-04 | 多室式竪型加圧雰囲気炉 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62288489A JPS62288489A (ja) | 1987-12-15 |
| JPH0517476B2 true JPH0517476B2 (ja) | 1993-03-09 |
Family
ID=15038308
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13060986A Granted JPS62288489A (ja) | 1986-06-04 | 1986-06-04 | 多室式竪型加圧雰囲気炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62288489A (ja) |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS536085A (en) * | 1976-07-06 | 1978-01-20 | Mitsubishi Electric Corp | Digital temperature display device |
| US4756815A (en) * | 1979-12-21 | 1988-07-12 | Varian Associates, Inc. | Wafer coating system |
| JPS5812983A (ja) * | 1981-07-15 | 1983-01-25 | 株式会社ヤマザキ電機 | 連続加熱炉 |
| JPS6176876A (ja) * | 1984-09-19 | 1986-04-19 | 株式会社神戸製鋼所 | ロ−タリ式連続熱間静水圧加圧設備 |
-
1986
- 1986-06-04 JP JP13060986A patent/JPS62288489A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62288489A (ja) | 1987-12-15 |
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