JPH05176B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は、小径円筒の外面を鏡面研磨するため
の装置に関するものである。

［従来の技術］ 各種用途に用いられる金属製の小径パイプ材
は、その用途によつては表面を鏡面研磨したいと
いう要求がある。従来、このような小径円筒の外
面の鏡面研磨を機械的に行うに際しては、どのよ
うな研磨手段を用いるにしても、１本ずつ研磨す
るのが通例であり、極めて非能率的である。ま
た、このように１本ずつ円筒の外面を研磨する場
合、円筒面とそれに対して実質的に線接触する研
磨工具を、円筒面の全周を研磨するように相対移
動させる必要があり、装置を自動化しようとして
もそれが非常に複雑化する。

［発明が解決しようとする問題点］ 本発明の目的は、多数の小径円筒を平行に、且
つ平面状に配列させて、それらの小径円筒を軸線
のまわりに回転させながら、その配列平面に対し
て平面的に接して回転する研磨板により研磨仕上
げを行い、それによつて多数の小径円筒を平面的
な研磨工具により能率的に鏡面仕上げできるよう
にした仕上げ装置を提供することにある。

［問題点を解決するための手段］ 上記目的を達成するため、本発明の小径円筒外
面の鏡面仕上げ装置は、鏡面仕上げすべき多数の
小径円筒を平行且つ平面的に配列してその軸線の
まわりに回転可能に収容するパレツトと、上記パ
レツト上に平面的に配列した多数の小径円筒に、
円板状の工具基盤の平面部分表面に取付けた粘弾
性研磨材を軽く押し付けて回転する鏡面仕上げ用
研磨板を備えた研磨ユニツトと、上記パレツトと
研磨ユニツトとをそれらの接触平面に沿つてライ
ン方向に相対移動させる移送装置と、上記パレツ
トに収容した小径円筒と摩擦接触して上記移動装
置によるパレツトの移動速度よりも速い表面速度
でそれらを軸線のまわりに回転させ摩擦回転装置
と、上記研磨板を、研磨対象の小径円筒が配列さ
れた平面内で、上記移動装置による相対移動の方
向と直交する方向に往復動させる往復銅装置とを
備えることにより構成される。

［作用］ 小径円筒の研磨仕上げに際しては、パレツト内
に鏡面仕上げすべき多数の小径円筒を平行且つ平
面的に配列して収容し、このパレツトの研磨ユニ
ツトに対して相対移動させ、しかも摩擦回転装置
により上記パレツトに収容した小径円筒をそれら
の軸線のまわりに回転させながら、鏡面仕上げ用
研磨板における粘弾性研磨材を、平面的に配列し
た上述の多数の小径円筒に軽く押し付けた状態で
回転させる。

これにより、多数の小径円筒を能率的に鏡面仕
上げ研磨することができ、その場合に、研磨板を
パレツトと研磨ユニツトの相対移動の方向と直交
する方法に往復動させるため、研磨板に保持させ
た砥粒が各小径円筒の表面全体にむらなく作用
し、高精度の研磨面を得ることができる。

［実施例］ 第１図ないし第３図は、本発明に係る小径円筒
外面の鏡面仕上げ装置の実施例を示すもので、こ
の鏡面仕上げ装置は、機枠１上のガイド２に沿つ
て移動装置（図示せず）により移送されるパレツ
ト３を備え、鏡面仕上げすべき多数の小径円筒Ｗ
をこのパレツト３内に平行且つ平面的に配列して
収容できるようにしている。

パレツト３をライン方向へ定速送りする移送装
置としては、ローラ・コンベヤや、そのパレツト
３を係合してそれを一定速度で移動させるチエー
ン等を用いたコンベヤ、ガイド２に沿つて移動可
能にしたパレツト３をその挿入端側から順次押込
むようにした移送装置、その他、任意構成の移送
装置を用いることができる。

また、上記パレツト３は、第１図からわかるよ
うな４角形状をなす小径円筒Ｗの支持枠を有し、
それらの支持枠内に設けた仕切片により、隣接す
る小径円筒Ｗが接触しない程度の間隔を置いて、
各小径円筒Ｗがその軸線のまわりにおいて回転自
在となるように収納可能としたものである。

これらのパレツト３の下方には、パレツトに収
容した小径円筒Ｗと摩擦接触してそれらを軸線の
まわりに回転させる無端ベルト６を備えた摩擦回
転装置５を設けている。この無端ベルト６は、図
示しない駆動装置により、パレツト３の移動速度
よりも速い速度で、パレツト３の移送方向または
その逆方向に駆動され、小径円筒Ｗに回転力を与
えるものである。

パレツト３内における小径円筒Ｗの配列方向
は、図示したようなパレツト３の移送方向と直交
する方向に限るものではなく、パレツト３の移送
方向に配向させることもでき、この場合には摩擦
回転装置５における無端ベルト６は、必然的に図
示した方向と直交する方向に移動するように配設
し、必要に応じてそれをパレツト３と共に移送装
置で移動させることになる。

一方、上記機枠１には、ハンドル８の回転によ
り駆動されるねじ送り装置９により昇降可能にし
た昇降枠１０を設け、その昇降枠１０上に摺動可
能に設置した取付け台１１に、パレツト３に対応
して支持させた多数の研磨ユニツト１２を取付け
ている。

この研磨ユニツト１２は、モータ等の回転駆動
機１３及び必要に応じて設けられる減速装置を介
して回転駆動される鏡面仕上げ用研磨板１４を備
え、小径円筒Ｗに対する研磨板１４の押付け力を
調整するため、取付け台１１に対して上記回転駆
動機１３を昇降自在に取付け、ばね１５により取
付け台１１に吊下している。

上記研磨板１４は、回転駆動機１３の出力軸に
取付けた円板状の工具基盤１４ａの平面部分表面
に、粘弾性研磨材１４ｂを取付けることにより構
成している。この粘弾性研磨材１４ｂとしては、
発泡ポリウレタンその他の合成樹脂発泡体等のス
ポンジ状部材、あるいはナイロン不織布のような
粘弾性体が用いられる。これらは仕上げ面粗さに
応じて選択され、例えば小径円筒を形成する材料
がステンレル鋼程度のかたさを有する場合、ナイ
ロン不織布は仕上げ面粗さが0.1μｍRmaxのオー
ダーの場合に適し、発泡ポリウレタンはそれ以下
の仕上げ面粗さの場合に適している。

また、必要に応じて、上記粘弾性研磨材１４ｂ
の表面または内部全体には砥粒を分散保持させて
おくことができる。この場合には、アルミナ等の
砥粒を混合した合成樹脂ボンドにより、ナイロン
不織布等に砥粒を接着状態に保持させ、あるいは
そのような砥粒の固定を行うことなく、遊離状態
の砥粒を不織布の網目に支持させるようにするこ
ともできる。

上記砥粒は、それを粘弾性研磨材１４ｂのよう
な柔い材料によつて支持するので、５〜10μｍ程
度の比較的粗いものを用いることができる。これ
は、仕上げ面粗さに比べて比較的粗いものであ
り、一般的には２桁程度大きいものである。ま
た、粒径が相当巾の大きい分布をもつものでも差
支えない。

かかる構成の研磨ユニツト１２は、その必要数
をパレツト３の送り方向と直行する方向に配列さ
せ、且つパレツト３の送り方向に多重に配列させ
て取付けている。研磨が荒加工工程を含む場合に
は、粘弾性研磨材１４ｂに保持させる研磨材を、
粗い方から順にライン方向に配置することによ
り、能率的に粗さを改善することができるが、こ
こでは形状精度について格別配慮せず、小径円筒
表面を鏡面研磨することを主眼として構成され
る。

なお、上記研磨ユニツト１２による研磨は湿式
によつて行うが、粘弾性研磨材１４ｂに水等の研
磨用液体を供給する供給管は、研磨ユニツト１２
内または他の適当な位置に設ければよい。また、
研磨作用部分に対して小量の電解液を供給しなが
ら、工具基盤１４ａと小径円筒Ｗとの間に低電流
密度の電解電流を流し、電解砥粒複合研磨を行う
こともできる。これらの場合においては、前記粘
弾性研磨材１４ｂに砥粒を保持させる代りに、あ
るいはそれに加えて、上記研磨用液体あるいは電
解液中に遊離砥流を混入させることができる。

上記研磨ユニツト１２を取付けた取付け台１１
は、研磨ユニツト１２における研磨板１４を研磨
対象の小径円筒Ｗが配列された平面内でパレツト
３の送りと直交する方向に往復移動させるため、
連杆１７によつて往復動装置１８に連結してい
る。この往復動装置１８は、モータ１９により回
転駆動されるねじ軸２０上に、そのねじ軸２０の
回転により軸線方向に摺動する移動子２１を備
え、この移動子２１を連杆１７により取付け台１
１と連結したものである。この往復動装置１８に
よる取付け台１１の往復動の速度も、上記パレツ
ト３の送り速度よりも充分に速い速度で、例えば
１桁程度速い速度で往復運動させるように設定さ
れる。

上記構成を有する鏡面仕上げ装置においては、
小径円筒Ｗの研磨仕上げに際し、パレツト３内に
鏡面仕上げすべき多数の小径円筒Ｗを平行且つ平
面的に配列し、このパレツト３を移送装置により
移動させ、しかも摩擦回転装置５のベルト６によ
り上記パレツト３に収容した小径円筒Ｗをそれら
の軸線のまわりに回転させながら、回転駆動機１
３により鏡面仕上げ用研磨板１４を平面的に配列
した多数の小径円筒Ｗに軽く押し付けた状態で回
転させる。

これにより、多数の小径円筒Ｗが全体としては
平面的に配列され、それらを研磨板１４における
粘弾性研磨材１４ｂにより研磨するので、極めて
能率的に小径円筒の鏡面仕上げ研磨をすることが
でき、また、その場合に、上記研磨板１４をパレ
ツト３の移送方向と直交する方向に往復動させる
ため、研磨板１４に保持させた砥粒が小径円筒Ｗ
の表面全体に均一に作用し、高精度の研磨面を得
ることができる。

一般に、超仕上げの場合、仕上面の粗さは0.1μ
ｍRmaxが限界とされているが、特に本発明にお
いて遊離砥粒を用いた場合には、0.01μｍRmax
まで高精度に研磨できることを確認している。

なお、本発明は、図示した実施例のようにパレ
ツト３を一定の方向にライン送りするような構成
に限るものではなく、固定的に配置したパレツト
３に対して研磨ユニツト１２を相対移動させるよ
うな構成とすることもできる。さらに、上述した
ライン送りに代えてパレツト３または研磨ユニツ
ト１２を往復動させるような構成とすることもで
きる。

［発明の効果］ 以上に詳述した本発明の鏡面仕上げ装置によれ
ば、多数の小径円筒を平行に、且つ平面状に配列
させて、それらの小径円筒を軸線のまわりに回転
させながら、その配列平面に対して平面的に接し
て回転する研磨板により研磨仕上げを行うように
しているので、多数の小径円筒を平面的な研磨工
具により能率的に鏡面仕上げすることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る小径円筒外面の鏡面仕上
げ装置の平面図、第２図は同要部側面図、第３図
は同断面図である。 Ｗ……小径円筒、３……パレツト、５……摩擦
回転装置、１２……研磨ユニツト、１４……研磨
板、１４ｂ……粘弾性研磨材、１８……往復動装
置。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 鏡面仕上げすべき多数の小径円筒を平行且つ
   平面的に配列してその軸線のまわりに回転可能に
   収容するパレツトと、 上記パレツト上に平面的に配列した多数の小径
   円筒に、円板状の工具基盤の平面部分表面に取付
   けた粘弾性研磨材を軽く付けて回転する鏡面仕上
   げ用研磨板を備えた研磨ユニツトと、 上記パレツトと研磨ユニツトとをそれらの接触
   平面に沿つてライン方向に相対移動させる移送装
   置と、 上記パレツトに収容した小径円筒と摩擦接触し
   て上記移送装置によるパレツトの移動速度よりも
   速い表面速度でそれらを軸線のまわりに回転させ
   る摩擦回転装置と、 上記研磨板を、研磨対象の小径円筒が配列され
   た平面内で、上記移送装置による相対移動の方向
   と直交する方向に往復動させる往復動装置と、を
   備えたことを特徴とする小径円筒外面の鏡面仕上
   げ装置。