JPH05178802A - N−ベンジルグリシンおよびその誘導体の製造方法 - Google Patents
N−ベンジルグリシンおよびその誘導体の製造方法Info
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【構成】 塩基の存在下、下記一般式(I)で表わされ
るグリシン誘導体と下記一般式(II)で表わされるベ
ンズアルデヒド誘導体を反応せしめてシッフ塩基とな
し、引き続き還元することを特徴とするN−ベンジルグ
リシンおよびその誘導体の製造方法。 (RはH、C1〜C4のアルキル基、C7〜C8のアラ
ルキル基、ヒドロキシ置換アラルキル基、C1〜C3の
ヒドロキシアルキル基、該アルキル基のHがフェニル基
で置換されていてもよい。) (XはH、ハロゲン、C1〜C4のアルキル基、C1〜
C4のアルコキシ基、nは1〜5) 【効果】 容易にしかも高収率で目的とするN−ベンジ
ルグリシンおよびその誘導体を得ることができる。
るグリシン誘導体と下記一般式(II)で表わされるベ
ンズアルデヒド誘導体を反応せしめてシッフ塩基とな
し、引き続き還元することを特徴とするN−ベンジルグ
リシンおよびその誘導体の製造方法。 (RはH、C1〜C4のアルキル基、C7〜C8のアラ
ルキル基、ヒドロキシ置換アラルキル基、C1〜C3の
ヒドロキシアルキル基、該アルキル基のHがフェニル基
で置換されていてもよい。) (XはH、ハロゲン、C1〜C4のアルキル基、C1〜
C4のアルコキシ基、nは1〜5) 【効果】 容易にしかも高収率で目的とするN−ベンジ
ルグリシンおよびその誘導体を得ることができる。
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、N−ベンジルグリシン
およびその誘導体の製造方法に関する。N−ベンジルグ
リシンの誘導体には、N−ベンジルヒダントインおよび
その誘導体も含まれる。
およびその誘導体の製造方法に関する。N−ベンジルグ
リシンの誘導体には、N−ベンジルヒダントインおよび
その誘導体も含まれる。
【0002】N−ベンジルグリシンおよびその誘導体
は、医薬、写真薬等の中間体として有用な化合物であ
る。
は、医薬、写真薬等の中間体として有用な化合物であ
る。
【0003】
【従来の技術】従来、N−ベンジルグリシンおよびその
誘導体の製造方法はいくつか知られている。例えば、 (1)ベンジルアミンとクロロ酢酸を塩基の存在下に反
応させる方法(特開昭54−14931)
誘導体の製造方法はいくつか知られている。例えば、 (1)ベンジルアミンとクロロ酢酸を塩基の存在下に反
応させる方法(特開昭54−14931)
【化3】 (2)ベンジルアミンとグリオキザールを二酸化イオウ
の存在下に反応させる方法(US4684483)
の存在下に反応させる方法(US4684483)
【化4】 (3)グリシンの銅錯体とベンジルクロライドを極性溶
媒中で反応させる方法(Inorg.Chim.Act
a 133,1,1987)
媒中で反応させる方法(Inorg.Chim.Act
a 133,1,1987)
【化5】 等が知られている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、前記した公知
の方法は、高価なベンジルアミンを使用する、人体
に有害な重金属を有する排水が出る、生産効率が悪
い、などの欠点を有しており、工業的に有利な方法とは
言い難い。
の方法は、高価なベンジルアミンを使用する、人体
に有害な重金属を有する排水が出る、生産効率が悪
い、などの欠点を有しており、工業的に有利な方法とは
言い難い。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記した
状況に鑑み、簡易にかつ経済的に有利にN−ベンジルグ
リシンおよびその誘導体を製造する方法を提供すべく鋭
意検討した。
状況に鑑み、簡易にかつ経済的に有利にN−ベンジルグ
リシンおよびその誘導体を製造する方法を提供すべく鋭
意検討した。
【0006】その結果、下記反応式で示す如く、塩基の
存在下にグリシンとベンズアルデヒドを反応せしめて得
られるシッフ塩基を還元することにより、目的とするN
−ベンジルグリシンおよびその誘導体が高収率で得られ
ることを見い出し、請求項1〜6に記載の発明に至っ
た。
存在下にグリシンとベンズアルデヒドを反応せしめて得
られるシッフ塩基を還元することにより、目的とするN
−ベンジルグリシンおよびその誘導体が高収率で得られ
ることを見い出し、請求項1〜6に記載の発明に至っ
た。
【化6】
【0007】また、さらに、上記反応式で得られるN−
ベンジルグリシンおよびその誘導体を含む反応液に、下
記反応式に示すようにシアン酸アルカリ金属と鉱酸を反
応させると、容易にN−ベンジルヒダントインおよびそ
の誘導体が得られることを見い出し、請求項2〜8に記
載の発明に至った。
ベンジルグリシンおよびその誘導体を含む反応液に、下
記反応式に示すようにシアン酸アルカリ金属と鉱酸を反
応させると、容易にN−ベンジルヒダントインおよびそ
の誘導体が得られることを見い出し、請求項2〜8に記
載の発明に至った。
【化7】
【0008】すなわち、請求項1〜6に記載の発明の要
旨は、塩基の存在下、グリシン誘導体とベンズアルデヒ
ド誘導体を反応せしめてシッフ塩基となし、引き続き還
元することを特徴とするN−ベンジルグリシンおよびそ
の誘導体の製造方法である。
旨は、塩基の存在下、グリシン誘導体とベンズアルデヒ
ド誘導体を反応せしめてシッフ塩基となし、引き続き還
元することを特徴とするN−ベンジルグリシンおよびそ
の誘導体の製造方法である。
【0009】本発明によるN−ベンジルグリシンおよび
その誘導体の製造方法は、新規な方法であり、その特徴
は、工業的に容易にかつ安価に入手することができるグ
リシン誘導体とベンズアルデヒド誘導体から、N−ベン
ジルグリシンおよびその誘導体が高収率で得られる点に
ある。
その誘導体の製造方法は、新規な方法であり、その特徴
は、工業的に容易にかつ安価に入手することができるグ
リシン誘導体とベンズアルデヒド誘導体から、N−ベン
ジルグリシンおよびその誘導体が高収率で得られる点に
ある。
【0010】グリシン誘導体としては、グリシン、アラ
ニン、フェニルアラニン、イソロイシン、ロイシン、セ
リン、トレオニン、チロシン、バリン、フェニルセリン
等が挙げられる。
ニン、フェニルアラニン、イソロイシン、ロイシン、セ
リン、トレオニン、チロシン、バリン、フェニルセリン
等が挙げられる。
【0011】ベンズアルデヒド誘導体としては、ベンズ
アルデヒド、o−,m−,p−クロルベンズアルデヒ
ド、o−,m−,p−ブロムベンズアルデヒド、3,5
−ジクロルベンズアルデヒド、3,5−ジブロムベンズ
アルデヒド、o−,m−,p−トルアルデヒド、o−,
m−,p−エチルベンズアルデヒド、o−,m−,p−
プロピルベンズアルデヒド、m−,p−n−ブチルベン
ズアルデヒド、m−,p−t−ブチルベンズアルデヒ
ド、o−,m−,p−メトキシベンズアルデヒド、o
−,m−,p−エトキシベンズアルデヒド、o−,m
−,p−プロポキシベンズアルデヒド等が挙げられる。
アルデヒド、o−,m−,p−クロルベンズアルデヒ
ド、o−,m−,p−ブロムベンズアルデヒド、3,5
−ジクロルベンズアルデヒド、3,5−ジブロムベンズ
アルデヒド、o−,m−,p−トルアルデヒド、o−,
m−,p−エチルベンズアルデヒド、o−,m−,p−
プロピルベンズアルデヒド、m−,p−n−ブチルベン
ズアルデヒド、m−,p−t−ブチルベンズアルデヒ
ド、o−,m−,p−メトキシベンズアルデヒド、o
−,m−,p−エトキシベンズアルデヒド、o−,m
−,p−プロポキシベンズアルデヒド等が挙げられる。
【0012】これらのグリシン誘導体とベンズアルデヒ
ド誘導体を反応せしめてシッフ塩基とする際には、通
常、塩基が用いられる。この塩基としては、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム等の水酸化アルカリ金属や、ナ
トリウムメチラート、ナトリウムエチラート等のアルカ
リ金属アルコラート等を挙げることができるが、通常は
安価な水酸化ナトリウムが好ましく用いられる。塩基の
使用量としては、グリシン誘導体に対し、通常0.3〜
1.5倍モルの範囲で用いられ、好ましくは0.5〜
1.1倍モルである。0.3倍モル未満だと目的とする
シッフ塩基の収率が低下し、1.5倍モルを超えると副
反応のため収率が低下する。
ド誘導体を反応せしめてシッフ塩基とする際には、通
常、塩基が用いられる。この塩基としては、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム等の水酸化アルカリ金属や、ナ
トリウムメチラート、ナトリウムエチラート等のアルカ
リ金属アルコラート等を挙げることができるが、通常は
安価な水酸化ナトリウムが好ましく用いられる。塩基の
使用量としては、グリシン誘導体に対し、通常0.3〜
1.5倍モルの範囲で用いられ、好ましくは0.5〜
1.1倍モルである。0.3倍モル未満だと目的とする
シッフ塩基の収率が低下し、1.5倍モルを超えると副
反応のため収率が低下する。
【0013】ベンズアルデヒド誘導体の使用量は、グリ
シン誘導体に対し、通常0.6〜1.5倍モルの範囲で
用いられ、好ましくは0.9〜1.2倍モルである。
0.6倍モル未満だと目的とするシッフ塩基の収率が低
下し、1.5倍モルを超えて用いてもそれに見合う効果
が得られず、経済的に不利である。
シン誘導体に対し、通常0.6〜1.5倍モルの範囲で
用いられ、好ましくは0.9〜1.2倍モルである。
0.6倍モル未満だと目的とするシッフ塩基の収率が低
下し、1.5倍モルを超えて用いてもそれに見合う効果
が得られず、経済的に不利である。
【0014】反応溶媒は特に限定されるものではなく、
水;メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノー
ル、エチレングリコール等のアルコール類;テトラヒド
ロフラン、ジオキサン等のエーテル類;N,N−ジメチ
ルホルムアミド、N−メチル−2−ピロリドン等の極性
溶媒等;またはこれらの混合物を用いることができる
が、経済的な理由から水が好ましく用いられる。
水;メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノー
ル、エチレングリコール等のアルコール類;テトラヒド
ロフラン、ジオキサン等のエーテル類;N,N−ジメチ
ルホルムアミド、N−メチル−2−ピロリドン等の極性
溶媒等;またはこれらの混合物を用いることができる
が、経済的な理由から水が好ましく用いられる。
【0015】反応温度は、通常0〜80℃の範囲、好ま
しくは10〜40℃の範囲である。反応温度が80℃を
超えると、副反応のためシッフ塩基の収率が低下し、他
方、反応温度が0℃未満では、実用上、反応速度が遅す
ぎるからである。
しくは10〜40℃の範囲である。反応温度が80℃を
超えると、副反応のためシッフ塩基の収率が低下し、他
方、反応温度が0℃未満では、実用上、反応速度が遅す
ぎるからである。
【0016】このようにして得られるシッフ塩基を含む
反応液を、引き続き還元することにより、目的とするN
−ベンジルグリシンおよびその誘導体を容易に製造する
ことができる。還元方法としては、水素添加接触還元ま
たは水素化ホウ素ナトリウム、リチウムアルミニウムハ
イドライド等の水素化金属化合物による還元方法を挙げ
ることができる。なかでも、工業的見地からは水素添加
接触還元による方法が好ましい。水素添加接触還元に用
いる触媒としては、通常用いられる触媒が挙げられ、そ
の例としては、パラジウム、白金、ロジウム、ルテニウ
ム、レニウム等の貴金属あるいはそれらの酸化物を、そ
のまま、あるいはアルミナ、炭素等の担体に担持させた
ものを挙げることができる。特に、水を溶媒に用いた場
合、パラジウム−炭素を用いると好結果が得られる。
反応液を、引き続き還元することにより、目的とするN
−ベンジルグリシンおよびその誘導体を容易に製造する
ことができる。還元方法としては、水素添加接触還元ま
たは水素化ホウ素ナトリウム、リチウムアルミニウムハ
イドライド等の水素化金属化合物による還元方法を挙げ
ることができる。なかでも、工業的見地からは水素添加
接触還元による方法が好ましい。水素添加接触還元に用
いる触媒としては、通常用いられる触媒が挙げられ、そ
の例としては、パラジウム、白金、ロジウム、ルテニウ
ム、レニウム等の貴金属あるいはそれらの酸化物を、そ
のまま、あるいはアルミナ、炭素等の担体に担持させた
ものを挙げることができる。特に、水を溶媒に用いた場
合、パラジウム−炭素を用いると好結果が得られる。
【0017】触媒の使用量は、用いる触媒の種類により
異なるため、一概には言えないが、グリシン誘導体に対
して、貴金属またはその酸化物の純分換算で0.005
〜0.5重量%の範囲で用いると、好結果が得られる。
異なるため、一概には言えないが、グリシン誘導体に対
して、貴金属またはその酸化物の純分換算で0.005
〜0.5重量%の範囲で用いると、好結果が得られる。
【0018】反応温度は、通常0〜80℃の範囲、好ま
しくは10〜40℃の範囲である。反応温度が80℃を
超えると、副反応のためN−ベンジルグリシンおよびそ
の誘導体の収率が低下し、他方、反応温度が0℃未満で
は、実用上、反応速度が遅すぎるからである。
しくは10〜40℃の範囲である。反応温度が80℃を
超えると、副反応のためN−ベンジルグリシンおよびそ
の誘導体の収率が低下し、他方、反応温度が0℃未満で
は、実用上、反応速度が遅すぎるからである。
【0019】本還元反応は、常圧すなわち1kg/cm
2(以下、圧力の単位は絶対圧で表示する)でも進行す
るが、その場合、反応完了には10〜50時間を要す
る。また、本反応は加圧下で行なうことも可能であり、
加圧下で反応する際、圧力範囲としては、通常20kg
/cm2以下であり、好ましくは2〜10kg/cm2
である。このように本反応を加圧下で行ない、反応温度
を上げたり使用触媒量を増加した場合には、反応時間を
短縮することができる。従って、本反応は、後述の実施
例で記載されているように、前記の範囲で反応圧力や使
用触媒量等を選択することにより、任意の反応時間で反
応を完結することができる。
2(以下、圧力の単位は絶対圧で表示する)でも進行す
るが、その場合、反応完了には10〜50時間を要す
る。また、本反応は加圧下で行なうことも可能であり、
加圧下で反応する際、圧力範囲としては、通常20kg
/cm2以下であり、好ましくは2〜10kg/cm2
である。このように本反応を加圧下で行ない、反応温度
を上げたり使用触媒量を増加した場合には、反応時間を
短縮することができる。従って、本反応は、後述の実施
例で記載されているように、前記の範囲で反応圧力や使
用触媒量等を選択することにより、任意の反応時間で反
応を完結することができる。
【0020】以上のようにして得られるN−ベンジルグ
リシンおよびその誘導体は、触媒を濾別した後に反応液
を中性または酸性にして、例えば濾過などの公知の手段
を適宜使用することによって取得(単離)することがで
きる。
リシンおよびその誘導体は、触媒を濾別した後に反応液
を中性または酸性にして、例えば濾過などの公知の手段
を適宜使用することによって取得(単離)することがで
きる。
【0021】次に、請求項2〜8に記載の発明の要旨
は、前記した方法により得られたN−ベンジルグリシン
およびその誘導体にシアン酸アルカリ金属と鉱酸を反応
せしめることにより、N−ベンジルヒダントインおよび
その誘導体を容易に製造する方法である。
は、前記した方法により得られたN−ベンジルグリシン
およびその誘導体にシアン酸アルカリ金属と鉱酸を反応
せしめることにより、N−ベンジルヒダントインおよび
その誘導体を容易に製造する方法である。
【0022】この際、N−ベンジルグリシンおよびその
誘導体は特に単離したものを用いる必要はなく、上記で
述べたN−ベンジルグリシンおよびその誘導体を含む反
応液をそのまま用いることができる。
誘導体は特に単離したものを用いる必要はなく、上記で
述べたN−ベンジルグリシンおよびその誘導体を含む反
応液をそのまま用いることができる。
【0023】シアン酸アルカリ金属としては、シアン酸
ナトリウム、シアン酸カリウム等が挙げられる。シアン
酸アルカリ金属の使用量は、生成したN−ベンジルグリ
シンおよびその誘導体に対し0.9〜2.0倍モルの範
囲であり、好ましくは1.0〜1.5倍モルの範囲であ
る。0.9倍モル未満だと、N−ベンジルヒダントイン
およびその誘導体の収率が低下し、2.0倍モルを超え
て用いても、それに見合う効果が得られないため、経済
的に不利である。
ナトリウム、シアン酸カリウム等が挙げられる。シアン
酸アルカリ金属の使用量は、生成したN−ベンジルグリ
シンおよびその誘導体に対し0.9〜2.0倍モルの範
囲であり、好ましくは1.0〜1.5倍モルの範囲であ
る。0.9倍モル未満だと、N−ベンジルヒダントイン
およびその誘導体の収率が低下し、2.0倍モルを超え
て用いても、それに見合う効果が得られないため、経済
的に不利である。
【0024】なお、N−ベンジルグリシンおよびその誘
導体とシアン酸アルカリ金属との反応に用いる溶媒とし
ては、N−ベンジルグリシンおよびその誘導体を得るた
めに用いた溶媒と同じ溶媒を使用することができる。
導体とシアン酸アルカリ金属との反応に用いる溶媒とし
ては、N−ベンジルグリシンおよびその誘導体を得るた
めに用いた溶媒と同じ溶媒を使用することができる。
【0025】本発明で用いる鉱酸としては、塩酸、硫
酸、リン酸等が挙げられる。鉱酸の使用量は、生成した
N−ベンジルグリシンおよびその誘導体に対し0.9〜
5.0倍モルの範囲であり、好ましくは1.0〜3.0
倍モルの範囲である。0.9倍モル未満だと、N−ベン
ジルヒダントインおよびその誘導体の収率が低下し、
5.0倍モルを超えて用いても、それに見合う効果が得
られないため、経済的に不利である。
酸、リン酸等が挙げられる。鉱酸の使用量は、生成した
N−ベンジルグリシンおよびその誘導体に対し0.9〜
5.0倍モルの範囲であり、好ましくは1.0〜3.0
倍モルの範囲である。0.9倍モル未満だと、N−ベン
ジルヒダントインおよびその誘導体の収率が低下し、
5.0倍モルを超えて用いても、それに見合う効果が得
られないため、経済的に不利である。
【0026】N−ベンジルグリシンおよびその誘導体に
シアン酸アルカリ金属と鉱酸を反応せしめる反応温度
は、通常20〜100℃、好ましくは30〜100℃の
範囲である。20℃未満だと、反応速度と収率が低下す
るためである。反応時間は、通常0.5〜6時間の範囲
である。
シアン酸アルカリ金属と鉱酸を反応せしめる反応温度
は、通常20〜100℃、好ましくは30〜100℃の
範囲である。20℃未満だと、反応速度と収率が低下す
るためである。反応時間は、通常0.5〜6時間の範囲
である。
【0027】このようにして得られたN−ベンジルヒダ
ントインおよびその誘導体は、通常、冷却・晶析・濾過
により、容易に単離することができる。
ントインおよびその誘導体は、通常、冷却・晶析・濾過
により、容易に単離することができる。
【0028】
【発明の効果】本発明によれば、塩基の存在下でグリシ
ン誘導体とベンズアルデヒド誘導体を反応させて得られ
るシッフ塩基を還元することにより、容易にしかも高収
率で目的とするN−ベンジルグリシンおよびその誘導体
を得ることができる。
ン誘導体とベンズアルデヒド誘導体を反応させて得られ
るシッフ塩基を還元することにより、容易にしかも高収
率で目的とするN−ベンジルグリシンおよびその誘導体
を得ることができる。
【0029】さらに、上記で得られたN−ベンジルグリ
シンおよびその誘導体にシアン酸アルカリ金属と鉱酸を
反応させることにより、容易にN−ベンジルヒダントイ
ンおよびその誘導体に導くことができる。
シンおよびその誘導体にシアン酸アルカリ金属と鉱酸を
反応させることにより、容易にN−ベンジルヒダントイ
ンおよびその誘導体に導くことができる。
【0030】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳しく説明
するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定される
ものではない。
するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定される
ものではない。
【0031】実施例1 撹拌機、温度計を備えた1リットルオートクレーブに、
グリシン75.3g(1.00モル)、水酸化ナトリウ
ム36g(0.90モル)、水350gを仕込み、室温
で撹拌し溶解させた後、ベンズアルデヒド111.7g
(1.05モル)を注入した。さらに、5%パラジウム
−炭素0.47gを添加して、オートクレーブ内を窒素
置換した後、約30分間撹拌した。オートクレーブの内
部温度が30℃以下であることを確認した後、オートク
レーブ内を水素で置換し、水素圧力約5kg/cm2、
内部温度30℃で約5時間撹拌した。水素吸収が停止し
たことを確認した後、オートクレーブ内の水素を排気
し、反応液を取り出し、触媒を濾別した。反応液を高速
液体クロマトグラフィーで定量したところ、156.8
gのN−ベンジルグリシンが生成していた。反応生成率
は原料グリシンに対して90.4%であった。この反応
液に35%塩酸を滴下して、反応液のpHを1以下まで
酸性化し、析出した結晶を濾取して、N−ベンジルグリ
シン塩酸塩の結晶126gを得た。
グリシン75.3g(1.00モル)、水酸化ナトリウ
ム36g(0.90モル)、水350gを仕込み、室温
で撹拌し溶解させた後、ベンズアルデヒド111.7g
(1.05モル)を注入した。さらに、5%パラジウム
−炭素0.47gを添加して、オートクレーブ内を窒素
置換した後、約30分間撹拌した。オートクレーブの内
部温度が30℃以下であることを確認した後、オートク
レーブ内を水素で置換し、水素圧力約5kg/cm2、
内部温度30℃で約5時間撹拌した。水素吸収が停止し
たことを確認した後、オートクレーブ内の水素を排気
し、反応液を取り出し、触媒を濾別した。反応液を高速
液体クロマトグラフィーで定量したところ、156.8
gのN−ベンジルグリシンが生成していた。反応生成率
は原料グリシンに対して90.4%であった。この反応
液に35%塩酸を滴下して、反応液のpHを1以下まで
酸性化し、析出した結晶を濾取して、N−ベンジルグリ
シン塩酸塩の結晶126gを得た。
【0032】実施例2〜5 表1に示す反応圧力(水素圧)、触媒量及び反応時間で
反応を行なうこと以外はすべて実施例1と同様にして、
N−ベンジルグリシンを得た。結果を表1に示す。
反応を行なうこと以外はすべて実施例1と同様にして、
N−ベンジルグリシンを得た。結果を表1に示す。
【0033】
【表1】
【0034】実施例6〜12 表2に示す原料を使用し、パラジウム純分換算による触
媒使用量を表2に示す値とする以外はすべて実施例1と
同様にして、N−ベンジルグリシン誘導体を得た。結果
を表2に示す。
媒使用量を表2に示す値とする以外はすべて実施例1と
同様にして、N−ベンジルグリシン誘導体を得た。結果
を表2に示す。
【0035】
【表2】
【0036】実施例13 撹拌機、温度計、冷却器を備えた1リットル四つ口フラ
スコに、実施例1と同様にして得られたN−ベンジルグ
リシンを含む反応溶液を仕込み、引き続きシアン酸ナト
リウム68g(0.949モル)を加え、40℃まで加
熱した。この反応液を40〜45℃に保ちながら、35
%塩酸94g(0.904モル)を滴下した。滴下終了
後、反応液を75℃まで加熱し、約1時間その温度を保
った。さらに、35%塩酸149g(1.424モル)
を滴下した後、95℃まで加熱した。約1時間ほど加熱
を続け、反応を終了した。反応液を室温まで冷却し、濾
過、水洗、乾燥し、白色粉末のN−ベンジルヒダントイ
ン168g(0.885モル)を得た。N−ベンジルグ
リシンに対する収率は97.8%であった。
スコに、実施例1と同様にして得られたN−ベンジルグ
リシンを含む反応溶液を仕込み、引き続きシアン酸ナト
リウム68g(0.949モル)を加え、40℃まで加
熱した。この反応液を40〜45℃に保ちながら、35
%塩酸94g(0.904モル)を滴下した。滴下終了
後、反応液を75℃まで加熱し、約1時間その温度を保
った。さらに、35%塩酸149g(1.424モル)
を滴下した後、95℃まで加熱した。約1時間ほど加熱
を続け、反応を終了した。反応液を室温まで冷却し、濾
過、水洗、乾燥し、白色粉末のN−ベンジルヒダントイ
ン168g(0.885モル)を得た。N−ベンジルグ
リシンに対する収率は97.8%であった。
【0037】実施例14 シアン酸ナトリウムのかわりにシアン酸カリウムを使用
した以外は実施例9と同様に反応を行ない、N−ベンジ
ルヒダントイン167gを得た。N−ベンジルグリシン
に対する収率は97.2%であった。
した以外は実施例9と同様に反応を行ない、N−ベンジ
ルヒダントイン167gを得た。N−ベンジルグリシン
に対する収率は97.2%であった。
Claims (8)
- 【請求項1】 塩基の存在下、下記一般式(I)で表わ
されるグリシン誘導体と下記一般式(II)で表わされ
るベンズアルデヒド誘導体を反応せしめてシッフ塩基と
なし、引き続き還元することを特徴とするN−ベンジル
グリシンおよびその誘導体の製造方法。 【化1】 - 【請求項2】 塩基の存在下、下記一般式(I)で表わ
されるグリシン誘導体と下記一般式(II)で表わされ
るベンズアルデヒド誘導体を反応せしめてシッフ塩基と
なし、引き続き還元して得られたN−ベンジルグリシン
およびその誘導体に、シアン酸アルカリ金属と鉱酸を反
応させることを特徴とするN−ベンジルヒダントインお
よびその誘導体の製造方法。 【化2】 - 【請求項3】 塩基が水酸化ナトリウムである請求項1
または2記載の方法。 - 【請求項4】 還元が水素添加接触還元である請求項1
〜3のいずれか1項に記載の方法。 - 【請求項5】 接触還元の触媒がパラジウムまたはパラ
ジウムを担体に担持させたものである請求項4記載の方
法。 - 【請求項6】 接触還元を20kg/cm2以下の加圧
下で行なう請求項4または5記載の方法。 - 【請求項7】 シアン酸アルカリ金属がシアン酸ナトリ
ウムまたはシアン酸カリウムである請求項2〜6のいず
れか1項に記載の方法。 - 【請求項8】 鉱酸が塩酸である請求項2〜7のいずれ
か1項に記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3345894A JPH05178802A (ja) | 1991-12-27 | 1991-12-27 | N−ベンジルグリシンおよびその誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3345894A JPH05178802A (ja) | 1991-12-27 | 1991-12-27 | N−ベンジルグリシンおよびその誘導体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05178802A true JPH05178802A (ja) | 1993-07-20 |
Family
ID=18379715
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3345894A Pending JPH05178802A (ja) | 1991-12-27 | 1991-12-27 | N−ベンジルグリシンおよびその誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05178802A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5817685A (en) * | 1995-08-10 | 1998-10-06 | Arzneimittelwerk Dresden Gmbh | Anticonvulsive imidazoline-2,4-diones and process for making |
| WO2001085761A1 (en) * | 2000-05-10 | 2001-11-15 | Ajinomoto Co., Inc. | Process for producing aspartyl dipeptide ester derivatives |
-
1991
- 1991-12-27 JP JP3345894A patent/JPH05178802A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5817685A (en) * | 1995-08-10 | 1998-10-06 | Arzneimittelwerk Dresden Gmbh | Anticonvulsive imidazoline-2,4-diones and process for making |
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