JPH05179355A - 低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法 - Google Patents

低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法

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JPH05179355A
JPH05179355A JP31992A JP31992A JPH05179355A JP H05179355 A JPH05179355 A JP H05179355A JP 31992 A JP31992 A JP 31992A JP 31992 A JP31992 A JP 31992A JP H05179355 A JPH05179355 A JP H05179355A
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steel sheet
electron beam
silicon steel
unidirectional silicon
iron loss
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Masao Iguchi
征夫 井口
Kazuhiro Suzuki
一弘 鈴木
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Kawasaki Steel Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 電子ビームの照射を利用する低鉄損一方向性
珪素鋼板の製造方法において、磁区細分化効果の安定化
のほか、特に磁歪、トランスとして使用した際の騒音及
び鋼板形状の改善を図る。 【構成】 仕上焼鈍を施した後に絶縁被膜を被成した一
方向性けい素鋼板の表面に、カソード3a とグリッド3
b の開口とを対向させてそなえる電子銃から射出した電
子ビームを、圧延方向と交わる方向へ照射するに当た
り、上記電子銃のカソード3a の大きさfに対するグリ
ッド3b の開口径dの比d/fを、1.5 〜3.5 に設定す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、電子ビームの照射を
利用する低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方法におい
て、磁区細分化効果の安定化のほか、特に磁歪、トラン
スとして使用した際の騒音(以下単に騒音と示す)及び
鋼板形状の改善を図ったもので、この一方向性けい素鋼
板は、トランスや電気機器の鉄心用材料として有利に使
用される。
【0002】一方向性けい素鋼板は製品の2次再結晶粒
をゴス方位に高度に集積させること、その鋼板表面上に
フォルステライト被膜を被成し、さらにその上に熱膨張
係数の小さい絶縁被膜を被成して鋼板に張力を付与する
こと、などにより磁気特性の向上を図るもので、厳格な
制御を必要とする複雑、多岐にわたる工程を経て製造さ
れている。このような一方向性けい素鋼板は、主として
変圧器、その他電気機器の鉄心として使用されており、
磁気特性として製品の磁束密度(B8 値で代表される)
が高く、鉄損(W17/50 値で代表される) が低いこと、
さらに表面性状が良好な絶縁被膜を被成していることな
どが要求されている。とくにエネルギー危機を境にして
電力損失の低減を至上とする要請が著しく強まり、変圧
器用鉄心材料としての鉄損のより低い一方向性けい素鋼
板の必要性はますます高まってきている。
【0003】そして、この一方向性けい素鋼板の鉄損改
善の歴史は、ゴス方位2次再結晶集合組織の改善の歴史
であったと云っても過言ではなく、2次再結晶粒を制御
する方法として、AlN ,MnS 及び MnSe 等の1次再結晶
粒成長抑制剤、いわゆるインヒビターを用いてゴス方位
2次再結晶粒を優先成長させる方法が実施されている。
【0004】
【従来の技術】一方、上記の2次再結晶集合組織を制御
する冶金的手段とは異なる鉄損改善技術も種々開発され
ている。すなわち、市山 正:鉄と鋼、69(1983), P. 8
95、特公昭57−2252号公報、特公昭57−53419 号公報、
特公昭58−26405 号公報、及び特公昭58−26406 号公報
などにはレーザーを、また特開昭62−96617 号公報、特
開昭62−151511号公報、特開昭62−151516号公報、及び
特開昭62−151517号公報などにはプラズマを、それぞれ
鋼板表面に照射することにより、鋼板に局部微小歪を導
入して磁区を細分化し、鉄損を低下させる画期的な方法
が提案開示されている。しかしながら、これらの方法は
いずれもエネルギー効率が5〜20%と低いため、鉄損の
低下にはコスト増を余儀なくされる不利があった。
【0005】そこで発明者らは、エネルギー効率が高い
磁区細分化の手法について、特開昭63−186826号、特開
平2−118022号及び同2−277780号各公報にて提案し
た。すなわち鋼板の表面に、高電圧及び小電流で発生し
た電子ビームを圧延方向と交わる鋼板の幅方向へ局所的
に断続照射し、被膜を地鉄に圧入する方法である。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
電子ビームを照射する方法は、磁気特性の向上について
は達成されるものの、磁歪、騒音及び鋼板形状のばらつ
きが大きく、製品としての品質をそなえる鋼板の安定生
産が難しいところに問題を残していた。上記の問題を有
利に解決し、高品質の製品を安定に製造できる方法につ
いて提案することがこの発明の目的である。
【0007】
【課題を解決するための手段】発明者らは、一方向性け
い素鋼板の上記した特性がばらつくのは、電子ビームの
鋼板表面から内部への侵入深さが、レーザー等の他の手
法と比較して、深いことに起因することを見出し、この
発明を完成するに到った。
【0008】上記の知見に立脚するこの発明は、仕上焼
鈍を施した後に絶縁被膜を被成した一方向性けい素鋼板
の表面に、カソードとグリッド開口とを対向させてそな
える電子銃から射出した電子ビームを、圧延方向と交わ
る方向へ照射するに当たり、上記電子銃のカソードの大
きさfに対するグリッド開口径dの比d/fを、1.5〜
3.5 に設定することを特徴とする低鉄損一方向性けい素
鋼板の製造方法である。
【0009】また実施に当たり、電子銃から射出する電
子ビームの、鋼板表面におけるエネルギー密度を2〜9
J/cm2 に設定することが好ましい。
【0010】、さて図1に、この発明に使用する電子ビ
ーム照射装置を模式で示す。同図における番号1は真空
ポンプ(図示せず)と連なる排気口1a,1bを具え真
空槽を形成するケーシングであり、このケーシング1内
を、好ましくは10-2Torr以下の高真空として、高圧イン
シュレータ2を介してケーシング1内に配置する電子ビ
ーム放出用の電子銃3と、この電子銃3と対向して配置
し電子銃3より放出された電子ビームを加速するアノー
ド4とで被処理材(鋼板)へ向かう電子ビーム5の射出
を行う。さらに6は上記の電子線発生部を常に高真空に
維持するためのコラム弁、7は電子ビーム5を集束する
ための集束コイル、そして8は集束コイル7にて集束さ
せた電子ビーム5の進行方向を変化させて鋼板9の所定
領域への照射を担う偏向コイルである。この電子ビーム
照射装置は、加速電圧が60kV〜500 kVの高電圧で、かつ
加速電流5mA以下の低電流で、電子ビームを細かく絞れ
るのが特徴である。
【0011】ここに上記電子銃3は、その要部を図2に
示すように、電子を放出するカソード3a と、このカソ
ード3a に近接配置になり電子を集束させるグリッド3
b とを具えるものである。このグリッド3b には電子ビ
ームを通過させる開口をそなえ、カソード3a に対向さ
せている。
【0012】この発明の方法においては、上記カソード
3a の大きさfに対するグリッド3b の開口径dの比を
1.5 〜3.5 に設定する。このような発明の基礎となった
実験結果について説明する。 C:0.068 wt%, Si:3.35wt%, Mn:0.076wt %, Mo:
0.012 wt%, sol.Al:0.023wt %, Se:0.020 wt%、及
びSb:0.023 wt%を含有するけい素鋼スラブを、1380℃
で4時間加熱後、熱間圧延して2.2 mm厚の熱延板とした
後、1050℃で2分間の中間焼鈍をはさむ2回の冷間圧延
を施して0.23mm厚の最終冷延板とした。次いで850 ℃の
湿水素中で脱炭・1次再結晶焼鈍を施した後、鋼板表面
上に MgOを主成分とする焼鈍分離剤をスラリー塗布し、
その後8℃/hで1080℃まで昇温してゴス方位2次再結晶
粒を優先成長させた後、1200℃の乾水素中で8時間の純
化焼鈍を施した。次いで鋼板表面上にりん酸塩とコロイ
ダルシリカを主成分とする絶縁被膜を被成した。この鋼
板表面に、図1に示した電子ビーム照射装置の、グリッ
ド開口とカソードの大きさとを種々変化させて、電子ビ
ーム照射処理を次の条件、真空度:5×10-4Torr、電子
ビームの加速電圧:150kV ,加速電流:0.8 mA、鋼板の
圧延方向と直交する方向に走査間隔:5mmで行った。
【0013】かくして得られた鋼板の、磁気特性、磁
歪、騒音及び鋼板形状について調べた結果を表1に示
す。なお磁歪は、励磁VA(通常VA/kgで表示する)
で評価し、騒音はdBで評価するが、このときの評価は通
常1.7 T/50Hzのときの値で示す。また鋼板の形状は照
射前後の鋼板のC方向(圧延方向に直角方向)の変形量
で、評価した。電子ビーム径はナイフエッジ法により測
定した。
【0014】
【表1】
【0015】表1において、番号,はカソードとし
てヘアピンフィラメントを用い、〜は同じくリボン
フィラメントを使用した。同表から、磁気特性、磁歪、
騒音及び鋼板形状の全てにおいて良好な結果が得られた
のは、番号〜であることが注目される。すなわちカ
ソードの大きさfに対するグリッド開口径dの比d/f
が3.8 以上の場合は磁気特性が良好といえども励磁VA、
騒音及びC反り量が悪い。これは電子ビーム径が0.15mm
φ以下と小さいために鋼板の局所歪が大きくなって、劣
化するものと推測される。一方、d/fが1.4 以下の場
合は磁気特性が悪くなる。これは電子ビーム径が0.58mm
φ以上と大きいために鋼板上に局所歪を効率的に導入す
ることが不可能となって結果として磁区細分化すること
ができないためと推測される。
【0016】以上の結果から明らかなように、電子ビー
ムを用いて磁区細分化するに際し、d/fを制御するこ
とにより、鋼板上の被膜を破壊することなく、かつ磁気
特性は勿論のこと、磁歪、騒音及び鋼板形状を改善する
ことが可能になるのである。
【0017】
【作用】上記の電子ビーム照射装置を用いて磁区の細分
化をはかるには、電子ビーム照射により、鋼板上のセラ
ミック被膜下の地鉄に有効に微少歪みを付加することが
不可欠であり、このとき上記のd/fを1.5 〜3.5 に調
節することによって、適切な電子ビーム径が得られ、電
子ビームの強くかつ安定した照射が実現し、磁気特性は
勿論、磁歪、騒音及び鋼板形状を改善することができ
る。ここにd/fが1.5 に満たないと電子ビーム径が大
きくなって鋼板上に局所歪を効率的に導入することが不
可能となって結果として磁区細分化することができず、
またd/fが3.5 を超えると電子ビーム径が小さくなっ
て鋼板の局所歪が大きくなって、励磁VA、騒音及びC反
り量が劣化する。
【0018】ここに電子銃のカソードとしては、図3
(a) 〜(e) に示す形状のものが有利に適合する。図3
(a) はヘアピンフィラメントであり、同図(b) はリボン
フィラメント、同図(c) は棒状フィラメントであり、ま
た同図(d) はリボンフィラメントの先端部をより小さく
もの、同図(e) は棒状フィラメントの先端部をより小さ
くものである。かかるこの発明に適合するカソードの大
きさfは通常1.0 〜3.0 mm程度である。またグリッド開
口径dは通常、 30 〜 90 mm程度である。
【0019】なお被膜は具体的には 0.01 〜5μm の深
さまで圧入することが好ましく、このための電子ビーム
の発生条件は、加速電圧を60kVから500kV 、加速電流を
5mA以下とすることが好適であり、さらに照射径が0.2
〜 0.5mmφの電子ビームをスポット中心間隔:50〜500
μm 及び走査間隔:1〜20mmで照射することが好まし
い。
【0020】また電子銃から射出する電子ビームの、鋼
板表面におけるエネルギー密度を2〜9J/cm2 に設定
することが好ましい。その理由は次のとおりである。発
明者らは、電子ビームのエネルギー密度に関する実験を
行った。すなわち表1に結果を示した実験と同様にして
得た絶縁被膜付きの鋼板に、図1に示した装置を用い
て、電子ビーム(電圧:150 kV,電流:0.3 〜1.5mA ,
ビーム径:0.2 〜0.3 mmφ)を鋼板の圧延方向と直交す
る方向に走査間隔:6mmで照射する処理を、カソードの
大きさfに対するグリッド開口径dの比d/f:2.0 〜
3.3 の下に、エネルギー密度を0.5 〜50J/cm2 に変化
させて行った。また比較のため、磁区細分化処理を施さ
ない試料も作製した。かくして得られた鋼板の、磁気特
性、磁歪、騒音及び鋼板形状について調べた結果を表2
に示す。これらの特性評価は、上記と同様である。
【0021】
【表2】
【0022】表2から明らかなように、エネルギー密度
を2.0 〜20J/cm2 の範囲で磁気特性は向上するが、磁
歪、騒音及び鋼板形状は9.0 J/cm2 をこえると劣化し
た。従ってエネルギー密度を2.0 〜9.0 J/cm2 の範囲
とすることによって、磁気特性、磁歪、騒音及び鋼板形
状の全てをより改善することができる。この理由は必ず
しも明らかではないが、電子ビームの鋼板への照射強度
に最適値が存在すると考えられる。
【0023】またこの発明の方法の適用に関し一方向性
けい素鋼板の成分組成については、従来公知の成分組成
のものいずれもが適合するが、代表組成をあげると以下
のとおりである。 C:0.01〜0.10wt% 熱間圧延、冷間圧延中の組織の均一微細化のみならず、
ゴス方位の発達に有用な成分であり、少なくとも 0.01
wt%以上の添加が好ましい。しかしながら0.10wt%を超
えて含有するとかえってゴス方位に乱れが生じるので上
限は0.10wt%が好ましい。 Si : 2.0〜4.5 wt% 鋼板の比抵抗を高め鉄損の低減に有効に寄与するが、2.
0 wt%に満たないと比抵抗が低下するだけでなく、2次
再結晶・純化のために行なわれる最終高温焼鈍中にα−
γ変態によって結晶方位のランダム化を生じ、十分な鉄
損改善効果が得られず、また 4.5wt%を超えると冷延性
が損なわれる。したがって、下限を 2.0wt%、上限を
4.5wt%とすることが好ましい。 Mn : 0.02 〜0.12wt% 熱間脆化を防止するため少なくとも0.02wt%を必要とす
るが、あまり多すぎると磁気特性を劣化させるので、上
限は0.12wt%が好ましい。
【0024】インヒビターとしては、大別して MnS, Mn
Se系と AlN系とがある。MnS, MnSe系の場合は、S: 0.
005〜0.06wt%及びSe : 0.005〜0.06wt%のうちから選
ばれる少なくとも1種 S,Seはいずれも方向性けい素鋼板の2次再結晶を制御
するインヒビターとして有力な成分である。ともに抑制
力確保の観点からは、少なくとも 0.005wt%程度を必要
とするが、0.06wt%を超えるとその効果が損なわれるの
で、その下限を0.005 wt%、上限を 0.06 wt%とするこ
とが好ましい。AlN 系の場合は、 Al:0.005 〜0.10wt%及びN:0.004〜0.015 wt% Al及びNの範囲についても、上述した MnS系、MnSe系の
場合と同様の理由により上記の範囲とすることが好まし
い。
【0025】インヒビター成分としては上記したS,S
e, Alの他に、Cr, Mo, Cu, Sn, Ge,Sb, Te, Bi及びPな
どについても有利に適合するもので、それぞれ少量併せ
て含有させることもよい。ここに上記成分の好適添加範
囲はそれぞれ、Cr, Cu, Sn :0.01wt%以上、0.50wt%以
下、Mo, Ge, Sb, Te, Bi : 0.005wt%以上、0.1 wt%以
下、P:0.01wt%以上、0.2 wt%以下であり、これら各
インヒビター成分についても単独使用及び複合使用いず
れの場合もが適合する。
【0026】上記のように成分調整された溶鋼は、連続
鋳造または造塊−分塊圧延によりスラブとされた後、12
50℃以下の温度で加熱される。この加熱は鋼中のインヒ
ビターを解離、固溶するのに不可欠なものである。加熱
処理されたスラブは次に熱間圧延が施されて厚み1.5 〜
3.5 mmの熱延板とされる。その後均一化焼鈍を行い、途
中で中間焼鈍を挟む1回以上の冷間圧延を施して厚み0.
15〜0.35mmの最終冷延板とされる。その後鋼板表面を脱
脂し、750 〜850 ℃の温度範囲で湿水素中で脱炭を兼ね
る1次再結晶焼鈍が施され、次いでこの鋼板表面にMgO
を主成分とする焼鈍分離剤がスラリー塗布される。その
後ゴス方位に高度に集積した2次再結晶粒を発達させる
ために2次再結晶焼鈍が830 ℃以上の高温において施さ
れる。この2次再結晶焼鈍には、一定の温度で30〜50時
間の長時間保定あるいは徐熱焼鈍が採用される。その後
鋼板を純化するために1150℃で3〜10時間乾H2中で焼鈍
された後、鋼板表面上にりん酸塩とコロイダルシリカを
主成分とする張力絶縁被膜が施される。
【0027】次にこのような鋼板表面上に磁区細分化を
行うために電子ビーム照射が施される。電子ビーム照射
の条件については既に述べたとおりである。またこのよ
うな電子ビーム照射は、通常エアートゥーエアー(air t
o air)方式の連続ラインを用いて行われるが、バッチ式
のものも好適であり、そのときの真空度は5×10-6〜5
×10-2torr程度が用いられる。
【0028】
【実施例】
(A) C:0.045 wt%, Si:3.48wt%, Mn:0.069 wt%,
Mo:0.013 wt%, Se:0.020 wt%及びSb:0.025 wt% (B) C:0.065 wt%, Si:3.38wt%, Mn:0.076 wt%,
Mo:0.013 wt%, Se:0.020 wt%, Cu:0.15 wt %,S
n:0.008wt %及びAl:0.026 wt% をそれぞれ含有するけい素鋼スラブを、1350℃で4時間
加熱後、熱間圧延して2.3 mm厚の熱延板とした後、1050
℃で2分間の中間焼鈍をはさむ2回の冷間圧延を施して
0.23mm厚の最終冷延板とした。ついで 835℃の湿水素中
で脱炭・1次再結晶焼鈍を施した後、鋼板表面上に MgO
を主成分とする焼鈍分離剤をスラリー塗布し、その後10
℃/hで昇温して 850℃で50時間の2次再結晶焼鈍を行っ
てゴス方位2次再結晶粒を優先成長させた後、1220℃の
乾水素中で5時間の純化焼鈍を施した。次いで鋼板表面
上にりん酸塩とコロイダルシリカを主成分とする絶縁被
膜を被成した。その後図1に示した装置を用いて、電子
ビーム〔電圧:150 kV,電流:0.8 mA、ビーム径:0.25
〜0.45mmφ(ナイフエッジ法による), 真空度:5×10
-4Torr〕を鋼板の圧延方向と直交する方向に照射幅:0.
5 mm、走査間隔:6mmでジグザグ状に照射する処理を、
カソードの大きさf:1.4 mm、グリッド開口径d:45m
m、エネルギー密度を4〜6J/cm2 で行った。かくし
て得られた製品の磁気特性、磁歪、騒音及び鋼板形状に
ついて調べた結果を表3に示す。
【0029】
【表3】
【0030】
【発明の効果】この発明によれば、電子ビームを、圧延
方向と交わる方向へ照射する一方向性けい素鋼板の製造
方法において、電子銃のカソードの大きさfに対するグ
リッド開口径dの比d/fを、1.5 〜3.5 に設定するこ
とにより、磁気特性の良好な、特に鉄損の低い一方向性
けい素鋼板を、磁歪、騒音及び鋼板形状の劣化をまねく
ことなしに製造することができ、優れた製品を安定して
提供し得る。また得られた鋼板の被膜は電子ビーム照射
によって破壊されていないため、再コーティングは不要
である。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の方法に使用する電子ビーム照射装置
を示す模式図である。
【図2】電子ビーム照射装置の電子銃の要部を示す模式
図である。
【図3】電子銃のカソード形状の例を示す模式図であ
る。
【符号の説明】
1 ケーシング 1a 排気口 1b 排気口 2 高圧インシュレータ 3 電子銃 3a カソード 3b グリッド 4 アノード 5 電子ビーム 6 コラム弁 7 集束コイル 8 偏向コイル 9 鋼板

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 仕上焼鈍を施した後に絶縁被膜を被成し
    た一方向性けい素鋼板の表面に、カソードとグリッド開
    口とを対向させてそなえる電子銃から射出した電子ビー
    ムを、圧延方向と交わる方向へ照射するに当たり、 上記電子銃のカソードの大きさfに対するグリッド開口
    径dの比d/fを、 1.5 〜3.5 に設定することを特徴とする低鉄損一方向性
    けい素鋼板の製造方法。
  2. 【請求項2】 電子銃から射出する電子ビームの、鋼板
    表面におけるエネルギー密度を2〜9J/cm2 に設定す
    る請求項1記載の低鉄損一方向性けい素鋼板の製造方
    法。
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