JPH05182624A - 対物絞り - Google Patents
対物絞りInfo
- Publication number
- JPH05182624A JPH05182624A JP4000701A JP70192A JPH05182624A JP H05182624 A JPH05182624 A JP H05182624A JP 4000701 A JP4000701 A JP 4000701A JP 70192 A JP70192 A JP 70192A JP H05182624 A JPH05182624 A JP H05182624A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diaphragm
- objective
- ray analysis
- objective diaphragm
- aperture
- Prior art date
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ＥＤＳによりＸ線分析を行う装置において、
コントラストが良好な像を観察できるようにすると共
に、Ｘ線分析時のバックグランドノイズを減少させる。 【構成】 対物絞り４は、円盤状あるいは短冊状の薄板
に形成された単一の軽元素材１０に電子線が通過する絞
り穴１１が開けられて構成されている。対物絞り４を構
成する軽元素材としては、アルミニウムＡｌ，炭素Ｃ，
ベリリウムＢｅ等を使用する。
コントラストが良好な像を観察できるようにすると共
に、Ｘ線分析時のバックグランドノイズを減少させる。 【構成】 対物絞り４は、円盤状あるいは短冊状の薄板
に形成された単一の軽元素材１０に電子線が通過する絞
り穴１１が開けられて構成されている。対物絞り４を構
成する軽元素材としては、アルミニウムＡｌ，炭素Ｃ，
ベリリウムＢｅ等を使用する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電子顕微鏡の対物絞り
に係り、特に、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）にエネルギ
ー分散型Ｘ線検出器（ＥＤＳ）が取り付けられてＸ線分
析が可能となされた装置に適用して好適な対物絞りに関
する。
に係り、特に、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）にエネルギ
ー分散型Ｘ線検出器（ＥＤＳ）が取り付けられてＸ線分
析が可能となされた装置に適用して好適な対物絞りに関
する。
【０００２】
【従来の技術】従来、ＴＥＭにＥＤＳを取り付け、試料
の像を観察しながら当該試料のＸ線分析を行うことがで
きる装置が知られている。図４はそのような装置の対物
レンズ（ＯＬ）とＥＤＳの配置の例を示す概略の断面図
であり、ＯＬは上極ポールピース１と下極ポールピース
２とで構成されている。なお、ＯＬのコイルは省略して
いる。この二つのポールピース１，２の間には試料ホル
ダー３が配置されている。
の像を観察しながら当該試料のＸ線分析を行うことがで
きる装置が知られている。図４はそのような装置の対物
レンズ（ＯＬ）とＥＤＳの配置の例を示す概略の断面図
であり、ＯＬは上極ポールピース１と下極ポールピース
２とで構成されている。なお、ＯＬのコイルは省略して
いる。この二つのポールピース１，２の間には試料ホル
ダー３が配置されている。
【０００３】また、ＯＬの後焦点面の位置には対物絞り
４が配置されている。この対物絞り４は電子線が試料に
照射した際に発生する散乱電子をカットし、試料の拡大
像にコントラストを付与するという非常に重要な役割り
を果たすものである。
４が配置されている。この対物絞り４は電子線が試料に
照射した際に発生する散乱電子をカットし、試料の拡大
像にコントラストを付与するという非常に重要な役割り
を果たすものである。
【０００４】更に、ＯＬ近傍の所定の位置には、電子線
が試料に照射された際に試料から発生するＸ線を検出す
るためのＥＤＳ５が配置されている。なお、図４におい
てＺは光軸を示す。
が試料に照射された際に試料から発生するＸ線を検出す
るためのＥＤＳ５が配置されている。なお、図４におい
てＺは光軸を示す。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来対物絞
り４はタンタルＴａあるいはモリブデンＭｏ等の重金属
を円盤状薄板あるいは短冊状薄板に形成し、それに一つ
あるいは２以上の所定の径の絞り穴を開けることによっ
て構成されている。そしてタンタルやモリブデンの特性
Ｘ線のスペクトルはＥＤＳ５の感度の範囲内にあるため
に、図４に示す装置でＸ線分析を行う場合には、試料か
ら発生するＸ線の外に対物絞り４からもＸ線が発生し、
それがＥＤＳ５に入射して大きなバックグランドノイズ
が発生するという問題がある。これは、特に近年、ＴＥ
Ｍの分解能が向上し、それに伴って電子線の加速電圧が
高くなり、試料と対物絞り４との距離が短くなり、その
結果対物絞り４からは従来に増して多くのＸ線が発生す
るので、この種の装置においては大きな問題となってい
る。
り４はタンタルＴａあるいはモリブデンＭｏ等の重金属
を円盤状薄板あるいは短冊状薄板に形成し、それに一つ
あるいは２以上の所定の径の絞り穴を開けることによっ
て構成されている。そしてタンタルやモリブデンの特性
Ｘ線のスペクトルはＥＤＳ５の感度の範囲内にあるため
に、図４に示す装置でＸ線分析を行う場合には、試料か
ら発生するＸ線の外に対物絞り４からもＸ線が発生し、
それがＥＤＳ５に入射して大きなバックグランドノイズ
が発生するという問題がある。これは、特に近年、ＴＥ
Ｍの分解能が向上し、それに伴って電子線の加速電圧が
高くなり、試料と対物絞り４との距離が短くなり、その
結果対物絞り４からは従来に増して多くのＸ線が発生す
るので、この種の装置においては大きな問題となってい
る。
【０００６】Ｘ線分析時に対物絞り４を光軸Ｚから外す
ようにすれば対物絞り４からＸ線が発生することはない
ので、タンタルやモリブデンの特性Ｘ線に基づくバック
グランドノイズを除去することはできるが、この場合に
は試料から発生した散乱電子や二次電子が下極ポールピ
ース２に衝突し、下極ポールピース２から多量のＸ線が
発生し、大きなバックグランドノイズが発生するという
問題がある。即ち、ＯＬのポールピースは鉄コバルト合
金で構成されるのが通常であり、Ｆｅ，Ｃｏの特性Ｘ線
のスペクトルはＥＤＳ５の感度の範囲内にあるので、大
きなバックグランドノイズが発生することになるのであ
る。
ようにすれば対物絞り４からＸ線が発生することはない
ので、タンタルやモリブデンの特性Ｘ線に基づくバック
グランドノイズを除去することはできるが、この場合に
は試料から発生した散乱電子や二次電子が下極ポールピ
ース２に衝突し、下極ポールピース２から多量のＸ線が
発生し、大きなバックグランドノイズが発生するという
問題がある。即ち、ＯＬのポールピースは鉄コバルト合
金で構成されるのが通常であり、Ｆｅ，Ｃｏの特性Ｘ線
のスペクトルはＥＤＳ５の感度の範囲内にあるので、大
きなバックグランドノイズが発生することになるのであ
る。
【０００７】また、この場合には対物絞り４が使用され
ないので像のコントラストが著しく悪化し、そのために
拡大像を観察しながらＸ線分析を行う箇所を探す操作が
行えないという問題も生じる。
ないので像のコントラストが著しく悪化し、そのために
拡大像を観察しながらＸ線分析を行う箇所を探す操作が
行えないという問題も生じる。
【０００８】これに対して、図５に示すように、下極ポ
ールピース２に光軸Ｚに直交する方向に貫通孔６を形成
し、その貫通孔６に絞り７を挿入可能にしたものが知ら
れている。この構成によれば、Ｘ線分析を行わず、試料
の拡大像あるいは回折像を観察する場合には、絞り７は
光軸から外して対物絞り４のみを使用し、またＸ線分析
を行う場合には、対物絞り４を光軸Ｚから外して絞り７
を光軸Ｚに挿入して使用することができる。そしてこれ
によれば、Ｘ線分析を行わない場合にはコントラストの
良好な像を観察することができる。また、Ｘ線分析を行
う場合には、絞り７は後焦点面から外れた位置に配置さ
れるので、その効果は対物絞り４よりは多少劣るが、絞
り７により比較的良好なコントラストを有する拡大像を
観察することができるので、試料の拡大像を観察しなが
らＸ線分析を行うべき位置を設定することができる。ま
たこの場合には、絞り７をタンタルやモリブデンで構成
しても当該絞り７は下極ポールピース２の内部に配置さ
れるので、絞り７からＸ線が発生したとしてもＥＤＳ５
に検出されることはないものである。
ールピース２に光軸Ｚに直交する方向に貫通孔６を形成
し、その貫通孔６に絞り７を挿入可能にしたものが知ら
れている。この構成によれば、Ｘ線分析を行わず、試料
の拡大像あるいは回折像を観察する場合には、絞り７は
光軸から外して対物絞り４のみを使用し、またＸ線分析
を行う場合には、対物絞り４を光軸Ｚから外して絞り７
を光軸Ｚに挿入して使用することができる。そしてこれ
によれば、Ｘ線分析を行わない場合にはコントラストの
良好な像を観察することができる。また、Ｘ線分析を行
う場合には、絞り７は後焦点面から外れた位置に配置さ
れるので、その効果は対物絞り４よりは多少劣るが、絞
り７により比較的良好なコントラストを有する拡大像を
観察することができるので、試料の拡大像を観察しなが
らＸ線分析を行うべき位置を設定することができる。ま
たこの場合には、絞り７をタンタルやモリブデンで構成
しても当該絞り７は下極ポールピース２の内部に配置さ
れるので、絞り７からＸ線が発生したとしてもＥＤＳ５
に検出されることはないものである。
【０００９】しかしながら、図５に示す構成において
も、下極ポールピース２からＸ線が発生するのを防止で
きないという問題は依然として解消されていないことは
明らかである。
も、下極ポールピース２からＸ線が発生するのを防止で
きないという問題は依然として解消されていないことは
明らかである。
【００１０】本発明は、上記の課題を解決するものであ
って、ＥＤＳによりＸ線分析を行う装置において、コン
トラストが良好な像を観察できると共に、Ｘ線分析時の
バックグランドノイズを大幅に減少することができる対
物絞りを提供することを目的とするものである。
って、ＥＤＳによりＸ線分析を行う装置において、コン
トラストが良好な像を観察できると共に、Ｘ線分析時の
バックグランドノイズを大幅に減少することができる対
物絞りを提供することを目的とするものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の対物絞りは、電子線が通過する絞り穴が
少なくとも一つ設けられてなる対物絞りであって、前記
絞り穴が設けられる部分の一部または全部が軽元素材で
構成されてなることを特徴とする。
めに、本発明の対物絞りは、電子線が通過する絞り穴が
少なくとも一つ設けられてなる対物絞りであって、前記
絞り穴が設けられる部分の一部または全部が軽元素材で
構成されてなることを特徴とする。
【００１２】
【作用】対物絞りの少なくとも一部は軽元素材で構成さ
れている。軽元素の特性Ｘ線のスペクトルはＥＤＳの感
度の範囲外にあるので、当該対物絞りからＸ線が発生し
たとしてもＥＤＳで検出されることはなく、従ってこの
対物絞りをＸ線分析時に使用した場合には、良好なコン
トラストの像が観察できるばかりでなく、Ｘ線分析時の
バックグランドノイズを大幅に減少させることができる
ものである。
れている。軽元素の特性Ｘ線のスペクトルはＥＤＳの感
度の範囲外にあるので、当該対物絞りからＸ線が発生し
たとしてもＥＤＳで検出されることはなく、従ってこの
対物絞りをＸ線分析時に使用した場合には、良好なコン
トラストの像が観察できるばかりでなく、Ｘ線分析時の
バックグランドノイズを大幅に減少させることができる
ものである。
【００１３】
【実施例】以下、図面を参照しつつ実施例を説明する。
なお、以下、図４と同じ構成要素に対しては同一の符号
を付す。
なお、以下、図４と同じ構成要素に対しては同一の符号
を付す。
【００１４】図１は本発明に係る対物絞りの第１の実施
例の構成を示す断面図であり、対物絞り４は、円盤状あ
るいは短冊状の薄板に形成された単一の軽元素材１０に
電子線が通過する絞り穴１１が開けられて構成されてい
る。一つの対物絞り４にいくつの絞り穴１１を形成する
かは任意であり、図１Ａは絞り穴１１が一つの場合の構
成例を示し、図１Ｂは互いに径の異なる３個の絞り穴１
１1 ，１１2 ，１１3が形成された場合の構成例を示し
ている。
例の構成を示す断面図であり、対物絞り４は、円盤状あ
るいは短冊状の薄板に形成された単一の軽元素材１０に
電子線が通過する絞り穴１１が開けられて構成されてい
る。一つの対物絞り４にいくつの絞り穴１１を形成する
かは任意であり、図１Ａは絞り穴１１が一つの場合の構
成例を示し、図１Ｂは互いに径の異なる３個の絞り穴１
１1 ，１１2 ，１１3が形成された場合の構成例を示し
ている。
【００１５】絞り穴１１の径は任意であり、どのような
径の絞り穴を使用するかは目的に応じて定めればよいこ
とはいうまでもない。
径の絞り穴を使用するかは目的に応じて定めればよいこ
とはいうまでもない。
【００１６】対物絞り４を構成する軽元素材としては、
アルミニウムＡｌ，炭素Ｃ，ベリリウムＢｅ等を使用す
ることができる。
アルミニウムＡｌ，炭素Ｃ，ベリリウムＢｅ等を使用す
ることができる。
【００１７】図２は本発明の第２の実施例の構成を示す
断面図であり、対物絞り４は、円盤状あるいは短冊状の
薄板に形成された第１の軽元素材１２に第２の軽元素材
１３を形成し、それに絞り穴１１が開けられて構成され
ている。
断面図であり、対物絞り４は、円盤状あるいは短冊状の
薄板に形成された第１の軽元素材１２に第２の軽元素材
１３を形成し、それに絞り穴１１が開けられて構成され
ている。
【００１８】具体的には、第１の軽元素材１２としてア
ルミニウム板やベリリウム板を用い、それに第２の軽元
素材１３として炭素を蒸着して対物絞り４を構成するこ
とができる。また、第１の軽元素材１２としてのアルミ
ニウム板と第２の軽元素材１３としてのベリリウム板１
３を貼り合わせることによって構成することも可能であ
り、要するに２種類の軽元素材を蒸着あるいは貼り合わ
せ等の手段により組み合わせればよいものである。
ルミニウム板やベリリウム板を用い、それに第２の軽元
素材１３として炭素を蒸着して対物絞り４を構成するこ
とができる。また、第１の軽元素材１２としてのアルミ
ニウム板と第２の軽元素材１３としてのベリリウム板１
３を貼り合わせることによって構成することも可能であ
り、要するに２種類の軽元素材を蒸着あるいは貼り合わ
せ等の手段により組み合わせればよいものである。
【００１９】なお、図２Ａは絞り穴１１が一つの場合の
構成例を示し、図２Ｂは互いに径の異なる３個の絞り穴
１１1 ，１１2 ，１１3 が形成された場合の構成例を示
している。
構成例を示し、図２Ｂは互いに径の異なる３個の絞り穴
１１1 ，１１2 ，１１3 が形成された場合の構成例を示
している。
【００２０】図３は本発明の第３の実施例の構成を示す
図であり、対物絞り４は、従来用いられている対物絞り
と同様にタンタルＴａやモリブデンＭｏ等の重金属から
なる部分Ａと、軽元素材からなる部分Ｂとが接合されて
構成されている。図３においては部分Ａには４個の絞り
穴１１1 ，１１2 ，１１3 ，１１4 が形成され、部分Ｂ
には一つの絞り穴１１5 が形成されているが、部分Ａ，
Ｂにそれぞれどのような径の絞り穴を形成するか、何個
の絞り穴を形成するかは任意である。
図であり、対物絞り４は、従来用いられている対物絞り
と同様にタンタルＴａやモリブデンＭｏ等の重金属から
なる部分Ａと、軽元素材からなる部分Ｂとが接合されて
構成されている。図３においては部分Ａには４個の絞り
穴１１1 ，１１2 ，１１3 ，１１4 が形成され、部分Ｂ
には一つの絞り穴１１5 が形成されているが、部分Ａ，
Ｂにそれぞれどのような径の絞り穴を形成するか、何個
の絞り穴を形成するかは任意である。
【００２１】この構成の対物絞り４によれば、Ｘ線分析
を行わず、試料の像を観察する場合には部分Ａの絞り穴
を使用し、Ｘ線分析を行う場合には部分Ｂの絞り穴を使
用するようにすれば、Ｘ線分析時に対物絞り４から大き
なバックグランドノイズとなるＸ線が発生することを防
止することができる。また、この構成によれば、像を観
察する場合とＸ線分析を行う場合とで絞り板の入れ替え
が不要となるので操作性が良好である。
を行わず、試料の像を観察する場合には部分Ａの絞り穴
を使用し、Ｘ線分析を行う場合には部分Ｂの絞り穴を使
用するようにすれば、Ｘ線分析時に対物絞り４から大き
なバックグランドノイズとなるＸ線が発生することを防
止することができる。また、この構成によれば、像を観
察する場合とＸ線分析を行う場合とで絞り板の入れ替え
が不要となるので操作性が良好である。
【００２２】以上、本発明の実施例について説明した
が、本発明は上記実施例に限定されるものではなく種々
の変形が可能であることは当業者に明らかであろう。
が、本発明は上記実施例に限定されるものではなく種々
の変形が可能であることは当業者に明らかであろう。
【００２３】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、対物絞りを軽元素材で構成するという簡単な
構成だけでＸ線分析時のバックグランドノイズを従来に
比較して大幅に減少させることができるのでｐ／ｂ比を
改善することができ、以てＸ線分析の精度を向上させる
ことができる。
によれば、対物絞りを軽元素材で構成するという簡単な
構成だけでＸ線分析時のバックグランドノイズを従来に
比較して大幅に減少させることができるのでｐ／ｂ比を
改善することができ、以てＸ線分析の精度を向上させる
ことができる。
【図１】 本発明の第１の実施例の構成を示す図であ
る。
る。
【図２】 本発明の第２の実施例の構成を示す図であ
る。
る。
【図３】 本発明の第３の実施例の構成を示す図であ
る。
る。
【図４】 従来の構成例を示す図である。
【図５】 従来の他の構成例を示す図である。
１…上極ポールピース、２…下極ポールピース、３…試
料ホルダー、４…対物絞り、５…ＥＤＳ。
料ホルダー、４…対物絞り、５…ＥＤＳ。
Claims (1)
- 【請求項１】 電子線が通過する絞り穴が少なくとも一
つ設けられてなる対物絞りであって、前記絞り穴が設け
られる部分の一部または全部が軽元素材で構成されてな
ることを特徴とする対物絞り。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4000701A JPH05182624A (ja) | 1992-01-07 | 1992-01-07 | 対物絞り |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4000701A JPH05182624A (ja) | 1992-01-07 | 1992-01-07 | 対物絞り |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05182624A true JPH05182624A (ja) | 1993-07-23 |
Family
ID=11481076
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4000701A Withdrawn JPH05182624A (ja) | 1992-01-07 | 1992-01-07 | 対物絞り |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05182624A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007207536A (ja) * | 2006-02-01 | 2007-08-16 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置の試料台 |
| EP2073250A3 (en) * | 2007-12-21 | 2011-09-14 | JEOL Ltd. | Transmission electron microscope |
| CN106711003A (zh) * | 2017-02-15 | 2017-05-24 | 聚束科技（北京）有限公司 | 一种电子源产生装置及电子束控制方法 |
| CN110676147A (zh) * | 2019-11-14 | 2020-01-10 | 河南河大科技发展有限公司 | 一种透射电子显微镜可动光阑的光阑片装置 |
-
1992
- 1992-01-07 JP JP4000701A patent/JPH05182624A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007207536A (ja) * | 2006-02-01 | 2007-08-16 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子線装置の試料台 |
| EP2073250A3 (en) * | 2007-12-21 | 2011-09-14 | JEOL Ltd. | Transmission electron microscope |
| CN106711003A (zh) * | 2017-02-15 | 2017-05-24 | 聚束科技（北京）有限公司 | 一种电子源产生装置及电子束控制方法 |
| CN106711003B (zh) * | 2017-02-15 | 2019-03-19 | 聚束科技（北京）有限公司 | 一种电子源产生装置及电子束控制方法 |
| CN110676147A (zh) * | 2019-11-14 | 2020-01-10 | 河南河大科技发展有限公司 | 一种透射电子显微镜可动光阑的光阑片装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990408 |