JPH05186516A - 放射線硬化型塩化ビニル系樹脂の製造法 - Google Patents
放射線硬化型塩化ビニル系樹脂の製造法Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 着色が少なく、磁気特性、耐久性に優れた
磁気記録媒体の製造を可能にする放射線硬化型の塩化ビ
ニル系樹脂の製造法を提供する。 【構成】 水酸基を分子中に有する塩化ビニル系樹脂
と分子中に１個のエチレン性不飽和基と１個のイソシア
ネート基を有する化合物とグリシジル基含有化合物とを
グリシジル基が全反応性成分１トン当り１〜１０００当
量になるように共存せしめて反応させる。
磁気記録媒体の製造を可能にする放射線硬化型の塩化ビ
ニル系樹脂の製造法を提供する。 【構成】 水酸基を分子中に有する塩化ビニル系樹脂
と分子中に１個のエチレン性不飽和基と１個のイソシア
ネート基を有する化合物とグリシジル基含有化合物とを
グリシジル基が全反応性成分１トン当り１〜１０００当
量になるように共存せしめて反応させる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】磁気記録媒体用の結合剤として有
用な放射線硬化型塩化ビニル系樹脂の製造方法に関す
る。
用な放射線硬化型塩化ビニル系樹脂の製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】塩化ビニル系樹脂は強靭性等の機械的特
性に優れることから、磁気記録媒体用バインダーに使用
されている。近年、キュアリング等の処理の必要性が無
いところから放射線硬化型塩化ビニル系樹脂が検討され
てきている。放射線硬化型塩化ビニル系樹脂を製造する
方法としては、特開昭６１−５９６２１号公報におい
て、水酸基を分子中に有する塩化ビニル系樹脂と分子中
に１個以上のエチレン性不飽和基と１個のイソシアネー
ト基を有する化合物を反応させることが開示されている
が、反応時間短縮の為に６０℃以上の温度にすると、塩
化ビニル系樹脂は不安定で塩素を放出して分解し、着
色、塗膜物性の低下等が発生し問題である。
性に優れることから、磁気記録媒体用バインダーに使用
されている。近年、キュアリング等の処理の必要性が無
いところから放射線硬化型塩化ビニル系樹脂が検討され
てきている。放射線硬化型塩化ビニル系樹脂を製造する
方法としては、特開昭６１−５９６２１号公報におい
て、水酸基を分子中に有する塩化ビニル系樹脂と分子中
に１個以上のエチレン性不飽和基と１個のイソシアネー
ト基を有する化合物を反応させることが開示されている
が、反応時間短縮の為に６０℃以上の温度にすると、塩
化ビニル系樹脂は不安定で塩素を放出して分解し、着
色、塗膜物性の低下等が発生し問題である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明者等は、以上の
様な事情に鑑み、反応温度６０℃以上で着色及び物性の
低下ない製造を可能にし、機械特性及び電気特性に優れ
た磁気記録媒体を製造し得る放射線硬化型の塩化ビニル
系樹脂を得ることを目的として鋭意検討した結果、本発
明に到達した。
様な事情に鑑み、反応温度６０℃以上で着色及び物性の
低下ない製造を可能にし、機械特性及び電気特性に優れ
た磁気記録媒体を製造し得る放射線硬化型の塩化ビニル
系樹脂を得ることを目的として鋭意検討した結果、本発
明に到達した。
【０００４】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、水酸基
を分子中に有する塩化ビニル系樹脂と分子中に１個以上
のエチレン性不飽和基と１個のイソシアネート基を有す
る化合物とを分子量５００以下のグリシジル基含有化合
物を反応させるに際し、グリシジル基を全反応性成分１
トン当り１〜１０００当量になるように存在せしめて反
応させることを特徴とする放射線硬化型塩化ビニル系樹
脂の製造法である。
を分子中に有する塩化ビニル系樹脂と分子中に１個以上
のエチレン性不飽和基と１個のイソシアネート基を有す
る化合物とを分子量５００以下のグリシジル基含有化合
物を反応させるに際し、グリシジル基を全反応性成分１
トン当り１〜１０００当量になるように存在せしめて反
応させることを特徴とする放射線硬化型塩化ビニル系樹
脂の製造法である。
【０００５】本発明者等は放射線硬化型塩化ビニル系樹
脂を製造する方法として、グリシジル基含有化合物を全
反応性成分１トン当り、系中に１〜１０００当量存在さ
せることにより、塩化ビニル系樹脂を分解させる事な
く、ウレタン化反応に実用上充分な６０℃以上の温度
で、水酸基を分子中に有する塩化ビニル系樹脂と分子中
に１個以上のエチレン性不飽和基と１個のイソシアネー
ト基を有する化合物とを反応させ得ることを見いだした
のである。
脂を製造する方法として、グリシジル基含有化合物を全
反応性成分１トン当り、系中に１〜１０００当量存在さ
せることにより、塩化ビニル系樹脂を分解させる事な
く、ウレタン化反応に実用上充分な６０℃以上の温度
で、水酸基を分子中に有する塩化ビニル系樹脂と分子中
に１個以上のエチレン性不飽和基と１個のイソシアネー
ト基を有する化合物とを反応させ得ることを見いだした
のである。
【０００６】本発明に於ける水酸基を持つ塩化ビニル系
樹脂として、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコー
ル共重合体、塩化ビニル−ビニルアルコール共重合体、
塩化ビニル−ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート
共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール
−グリシジル（メタ）アクリレート共重合体などがあ
り、水酸基の数としては１分子中に３〜６０個、好まし
くは５〜３０個である。また分子中に極性基を１種類以
上含有してもよく、極性基としては、−ＯＳＯ3 Ｍ基、
−ＳＯ3 Ｍ基、−ＯＰＯ3 Ｍ基、−ＰＯ3 Ｍ基、−ＣＯ
ＯＭ基などがある（Ｍ原子はＨ、アミン 、アルカリ金
属などを示す）。
樹脂として、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコー
ル共重合体、塩化ビニル−ビニルアルコール共重合体、
塩化ビニル−ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート
共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール
−グリシジル（メタ）アクリレート共重合体などがあ
り、水酸基の数としては１分子中に３〜６０個、好まし
くは５〜３０個である。また分子中に極性基を１種類以
上含有してもよく、極性基としては、−ＯＳＯ3 Ｍ基、
−ＳＯ3 Ｍ基、−ＯＰＯ3 Ｍ基、−ＰＯ3 Ｍ基、−ＣＯ
ＯＭ基などがある（Ｍ原子はＨ、アミン 、アルカリ金
属などを示す）。
【０００７】本発明において、エチレン性不飽和二重結
合を１個以上およびイソシアネート基１個を１分子中に
有しかつウレタン結合を分子中に持たない化合物として
は、（メタ）アクロイルイソシアネート、２−イソシア
ネートエチル（メタ）アクリレート、ポリイソシアネー
トとヒドロキシ（メタ）アクリレートとの反応物などが
ある。上記化合物の添加量としては主鎖ポリマーの２〜
２０ｗｔ％の範囲が良く、２ｗｔ％未満では硬化性が不
十分であり、２０ｗｔ％を越えて添加しても硬化性の向
上は認められず、かえって塗膜物性に悪影響が出る。
合を１個以上およびイソシアネート基１個を１分子中に
有しかつウレタン結合を分子中に持たない化合物として
は、（メタ）アクロイルイソシアネート、２−イソシア
ネートエチル（メタ）アクリレート、ポリイソシアネー
トとヒドロキシ（メタ）アクリレートとの反応物などが
ある。上記化合物の添加量としては主鎖ポリマーの２〜
２０ｗｔ％の範囲が良く、２ｗｔ％未満では硬化性が不
十分であり、２０ｗｔ％を越えて添加しても硬化性の向
上は認められず、かえって塗膜物性に悪影響が出る。
【０００８】分子量５００以下のグリシジル基含有化合
物としては、活性水素基を持たないグリシジルエステル
類及びグリシジルエーテル類がよく、特に硬化性の点か
らグリシジル（メタ）アクリレートが好ましい。添加量
としてはグリシジル基が、全反応性樹脂構成成分１トン
当り、１当量未満では効果がなく、１０００当量を越え
ると塗膜物性等に悪影響を及ぼすので好ましくない。ま
た分子量が５００を越えると、硬化膜の物性に悪影響を
与えるだけでなく、塩化ビニル系樹脂の重合時の安定効
果が低下する。
物としては、活性水素基を持たないグリシジルエステル
類及びグリシジルエーテル類がよく、特に硬化性の点か
らグリシジル（メタ）アクリレートが好ましい。添加量
としてはグリシジル基が、全反応性樹脂構成成分１トン
当り、１当量未満では効果がなく、１０００当量を越え
ると塗膜物性等に悪影響を及ぼすので好ましくない。ま
た分子量が５００を越えると、硬化膜の物性に悪影響を
与えるだけでなく、塩化ビニル系樹脂の重合時の安定効
果が低下する。
【０００９】反応条件としては、反応温度６０〜９０℃
の範囲が好ましい。溶媒としては、活性水素を持たない
ものが使用でき、例えば、トルエン、キシレン等の芳香
族炭化水素またはメチルエチルケトン、シクロヘキサノ
ン等のケトン類が挙げられる。触媒としては、通常のイ
ソシアネート反応触媒が用いられ、例えば、ジブチルチ
ンジラウリレート、ジブチルチンオキサイド等の金属化
合物またはトリエチルアミン等のアミン化合物を用いる
ことが出来る。また、反応中でのエチレン性不飽和二重
結合の安定化のため重合禁止剤等を用いてもよい。
の範囲が好ましい。溶媒としては、活性水素を持たない
ものが使用でき、例えば、トルエン、キシレン等の芳香
族炭化水素またはメチルエチルケトン、シクロヘキサノ
ン等のケトン類が挙げられる。触媒としては、通常のイ
ソシアネート反応触媒が用いられ、例えば、ジブチルチ
ンジラウリレート、ジブチルチンオキサイド等の金属化
合物またはトリエチルアミン等のアミン化合物を用いる
ことが出来る。また、反応中でのエチレン性不飽和二重
結合の安定化のため重合禁止剤等を用いてもよい。
【００１０】電子線照射機としては、スキャニング方
式、あるいはカーテンビーム方式が採用でき、吸収線量
は１〜２０Ｍｒａｄ、好ましくは２〜１５Ｍｒａｄが良
い。吸収線量は１Ｍｒａｄ未満では硬化反応が不充分で
あり、２０Ｍｒａｄを越えると、硬化に使用されるエネ
ルギー効率が低下したり、過度の架橋が進行したりする
ため、好ましくない。
式、あるいはカーテンビーム方式が採用でき、吸収線量
は１〜２０Ｍｒａｄ、好ましくは２〜１５Ｍｒａｄが良
い。吸収線量は１Ｍｒａｄ未満では硬化反応が不充分で
あり、２０Ｍｒａｄを越えると、硬化に使用されるエネ
ルギー効率が低下したり、過度の架橋が進行したりする
ため、好ましくない。
【００１１】
【実施例】以下、本発明を実施例によって具体的に説明
する。 実施例１ 温度計、撹拌機、還流式冷却器を具備した反応容器中
に、水酸基を含有する塩化ビニル系樹脂であるＶＡＧＨ
（ユニオンカーバイド社製）１００部とメチルエチルケ
トン２５０部を仕込み、溶解後、２−メタクロイルオキ
シエチルイソシアネート１０部、グリシジルメタクリレ
ート０．１部、ジブチルチンジラウレート０．０２部及
びハイドロキノン０．００３部を仕込み、７０〜８０℃
で６時間反応させて放射線硬化型塩化ビニル系樹脂Ａを
得た。同様に表１に示す組成で放射線硬化型塩化ビニル
系樹脂Ｂ及びＣを得た。
する。 実施例１ 温度計、撹拌機、還流式冷却器を具備した反応容器中
に、水酸基を含有する塩化ビニル系樹脂であるＶＡＧＨ
（ユニオンカーバイド社製）１００部とメチルエチルケ
トン２５０部を仕込み、溶解後、２−メタクロイルオキ
シエチルイソシアネート１０部、グリシジルメタクリレ
ート０．１部、ジブチルチンジラウレート０．０２部及
びハイドロキノン０．００３部を仕込み、７０〜８０℃
で６時間反応させて放射線硬化型塩化ビニル系樹脂Ａを
得た。同様に表１に示す組成で放射線硬化型塩化ビニル
系樹脂Ｂ及びＣを得た。
【００１２】比較例１ 温度計、撹拌機、還流式冷却器を具備した反応容器中に
前出のＶＡＧＨ１００部とメチルエチルケトン２５０部
を仕込み、溶解後、２−メタクロイルオキシエチルイソ
シアネート１０部、ジブチルチンジラウレート０．０２
部及びハイドロキノン０．００３部を仕込み、７０〜８
０℃で６時間反応させて放射線硬化型塩化ビニル系樹脂
Ｄを得た。同様に放射線硬化型塩化ビニル系樹脂Ｅ及び
Ｆを得た。その結果を表１に示す。
前出のＶＡＧＨ１００部とメチルエチルケトン２５０部
を仕込み、溶解後、２−メタクロイルオキシエチルイソ
シアネート１０部、ジブチルチンジラウレート０．０２
部及びハイドロキノン０．００３部を仕込み、７０〜８
０℃で６時間反応させて放射線硬化型塩化ビニル系樹脂
Ｄを得た。同様に放射線硬化型塩化ビニル系樹脂Ｅ及び
Ｆを得た。その結果を表１に示す。
【００１３】 磁性塗料の製造方法 磁性粉末（コバルト被覆γ−酸化鉄） ６０部 ポリウレタンアクリレート樹脂（ＢＫ４１０２：東洋紡績社製） （固形分濃度３５ｗｔ％） １５部 放射線硬化型塩化ビニル系樹脂溶液Ａ（固形分濃度３０．６ｗｔ％）１５部 トルエン ２５部 メチルイソブチルケトン ２５部
【００１４】上記組成物をボールミルで２４時間混合し
た後、この磁性塗料を２５μｍのポリエチレンテレフタ
レートフィルム上に乾燥後の厚みが６μｍとなるように
塗布した。次いで０．０５秒間、２５００ガウスの直流
磁場により、フィルムの長さ方向に磁場配向処理を行
い、１００℃で１分間熱風乾燥した後、カレンダー処理
を行い、５Ｍｒａｄの放射線処理を行なった。次いでこ
のフイルムを幅１．５cmに切断して磁気テープを作成し
た。
た後、この磁性塗料を２５μｍのポリエチレンテレフタ
レートフィルム上に乾燥後の厚みが６μｍとなるように
塗布した。次いで０．０５秒間、２５００ガウスの直流
磁場により、フィルムの長さ方向に磁場配向処理を行
い、１００℃で１分間熱風乾燥した後、カレンダー処理
を行い、５Ｍｒａｄの放射線処理を行なった。次いでこ
のフイルムを幅１．５cmに切断して磁気テープを作成し
た。
【００１５】表１に示した放射線硬化型塩化ビニル系樹
脂Ｂ〜Ｆを用いて、同様の方法によりポリエチレンテレ
フタレートフィルム上に磁化可能層を形成させ、幅１．
５cmの磁気テープを作成した。各々の磁化可能層の特性
測定結果を表２に示した。
脂Ｂ〜Ｆを用いて、同様の方法によりポリエチレンテレ
フタレートフィルム上に磁化可能層を形成させ、幅１．
５cmの磁気テープを作成した。各々の磁化可能層の特性
測定結果を表２に示した。
【００１６】
【表１】
【００１７】
【表２】
【００１８】
【発明の効果】表１及び２から明らかなように、本発明
より製造された放射線硬化型塩化ビニル系樹脂は着色が
少なく、この樹脂を用いて得られた磁気記録媒体は磁気
特性及び耐久性に優れる。
より製造された放射線硬化型塩化ビニル系樹脂は着色が
少なく、この樹脂を用いて得られた磁気記録媒体は磁気
特性及び耐久性に優れる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ１１Ｂ 5/702 7215−5Ｄ
Claims (1)
- 【請求項１】 水酸基を分子中に有する塩化ビニル系樹
脂と分子中に１個以上のエチレン性不飽和基と１個のイ
ソシアネート基を有する化合物とを反応させるに際し、
分子量５００以下のグリシジル基含有化合物を全反応性
成分１トン当りグリシジル基が１〜１０００当量になる
ように存在せしめて反応させることを特徴とする放射線
硬化型塩化ビニル系樹脂の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04022102A JP3125948B2 (ja) | 1992-01-09 | 1992-01-09 | 放射線硬化型塩化ビニル系樹脂の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04022102A JP3125948B2 (ja) | 1992-01-09 | 1992-01-09 | 放射線硬化型塩化ビニル系樹脂の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05186516A true JPH05186516A (ja) | 1993-07-27 |
| JP3125948B2 JP3125948B2 (ja) | 2001-01-22 |
Family
ID=12073527
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04022102A Expired - Fee Related JP3125948B2 (ja) | 1992-01-09 | 1992-01-09 | 放射線硬化型塩化ビニル系樹脂の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3125948B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011102372A (ja) * | 2009-11-12 | 2011-05-26 | Fujifilm Corp | 放射線硬化性塩化ビニル系共重合体、磁気記録媒体用結合剤、放射線硬化性組成物およびその硬化物、ならびに磁気記録媒体 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5752096A (en) | 1991-02-14 | 1998-05-12 | Canon Kabushiki Kaisha | Camera featuring a single drive source and a plurality of selectable drive transmission mechanisms |
-
1992
- 1992-01-09 JP JP04022102A patent/JP3125948B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011102372A (ja) * | 2009-11-12 | 2011-05-26 | Fujifilm Corp | 放射線硬化性塩化ビニル系共重合体、磁気記録媒体用結合剤、放射線硬化性組成物およびその硬化物、ならびに磁気記録媒体 |
| US8632896B2 (en) | 2009-11-12 | 2014-01-21 | Fujifilm Corporation | Radiation-curable vinyl chloride copolymer, radiation-curable composition, and magnetic recording medium |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3125948B2 (ja) | 2001-01-22 |
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