JPH05188617A - 電子写真感光材料及び電子写真感光体 - Google Patents
電子写真感光材料及び電子写真感光体Info
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Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 電子写真感光体の電荷発生材料として有用な
三方晶セレン、およびそれを用いた高光感度で、残留電
位が小さく、また繰返し使用においても安定な電位特性
を有し、かつ高速コピーに対して十分な光感度を有する
電子写真感光体を提供する。 【構成】 三方晶セレンは、CuKα特性X線を用いた
X線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角(2θ±0.
2°)が23.5°、29.7°の位置に主要な吸収ピ
ークを有し、かつ前記ピークの半値幅が、いずれも0.
25°以上であることを特徴とする。この三方晶セレン
は、電荷発生材料として電子写真感光体の感光層中に分
散させ、それによって、優れた電子写真特性を有する電
子写真感光体が作製される。
三方晶セレン、およびそれを用いた高光感度で、残留電
位が小さく、また繰返し使用においても安定な電位特性
を有し、かつ高速コピーに対して十分な光感度を有する
電子写真感光体を提供する。 【構成】 三方晶セレンは、CuKα特性X線を用いた
X線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角(2θ±0.
2°)が23.5°、29.7°の位置に主要な吸収ピ
ークを有し、かつ前記ピークの半値幅が、いずれも0.
25°以上であることを特徴とする。この三方晶セレン
は、電荷発生材料として電子写真感光体の感光層中に分
散させ、それによって、優れた電子写真特性を有する電
子写真感光体が作製される。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電子写真感光体の電荷
発生剤として有用な三方晶セレン、およびそれを用いた
写真感光体に関するものであり、特に高光感度を示す電
子写真感光体に関するものである。
発生剤として有用な三方晶セレン、およびそれを用いた
写真感光体に関するものであり、特に高光感度を示す電
子写真感光体に関するものである。
【0002】
【従来の技術】電子写真複写機は、年々高速化し、多様
な紙サイズを複写できるものが開発されている。これに
伴い、感光体もそれに対応できるような高性能のものが
要求されている。また、近年、感光体機能を複数の部材
に分担させる機能分離型電子写真感光体が、電荷保持特
性、繰り返し安定性、光応答性、分光特性、機械的強度
などの電子写真特性の改善のために、数多く提案されて
いる。従来、電子写真感光体の感光層における電荷発生
材料としては、種々のものが使用されている。その一つ
は、セレン、酸化亜鉛、硫化カドミウム等の無機光導電
物質であり、他の一つは、有機顔料等の有機光導電物質
である。特に、後者は生産性、低コスト、安全性などの
点から広く使用されているが、有機顔料を用いた有機電
子写真感光体は、その感度、分光特性及び繰り返し安定
性に関して必ずしも満足し得るものではない。この点、
セレンは感度の点で特に優れている。セレンを電荷発生
剤として使用する場合、特に三方晶系セレンが、電荷発
生材料の機能として要求される諸特性に優れている。す
なわち、広範囲の光波長域において、光の吸収が大き
く、高効率でキャリアを生成すること、化学的安定性に
優れ、熱や光などにより劣化しにくいこと等、電子写真
感光体の電荷発生材料として優れた特性を有している。
この様な三方晶セレンを用いた電子写真感光体は、例え
ば、特開昭54−54038号公報及び特開平1−12
4862号公報に記載され公知となっている。
な紙サイズを複写できるものが開発されている。これに
伴い、感光体もそれに対応できるような高性能のものが
要求されている。また、近年、感光体機能を複数の部材
に分担させる機能分離型電子写真感光体が、電荷保持特
性、繰り返し安定性、光応答性、分光特性、機械的強度
などの電子写真特性の改善のために、数多く提案されて
いる。従来、電子写真感光体の感光層における電荷発生
材料としては、種々のものが使用されている。その一つ
は、セレン、酸化亜鉛、硫化カドミウム等の無機光導電
物質であり、他の一つは、有機顔料等の有機光導電物質
である。特に、後者は生産性、低コスト、安全性などの
点から広く使用されているが、有機顔料を用いた有機電
子写真感光体は、その感度、分光特性及び繰り返し安定
性に関して必ずしも満足し得るものではない。この点、
セレンは感度の点で特に優れている。セレンを電荷発生
剤として使用する場合、特に三方晶系セレンが、電荷発
生材料の機能として要求される諸特性に優れている。す
なわち、広範囲の光波長域において、光の吸収が大き
く、高効率でキャリアを生成すること、化学的安定性に
優れ、熱や光などにより劣化しにくいこと等、電子写真
感光体の電荷発生材料として優れた特性を有している。
この様な三方晶セレンを用いた電子写真感光体は、例え
ば、特開昭54−54038号公報及び特開平1−12
4862号公報に記載され公知となっている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、電子写真感
光体においては、(1)高光感度であること、(2)低
い残留電位であること、(3)繰り返し用いられたとき
の光感度、残留電位、帯電電位の変動の少ないこと(安
定性)などの特性が要求されるが、三方晶セレンを用い
た電子写真感光体においては、三方晶セレンの特性がこ
れら諸特性の支配的要因になっている。しかしながら、
前記従来提案されている三方晶セレンを用いた電子写真
感光体は、上記(1)〜(3)の全てを満足するもので
はなく、その改善が求められている。例えば、三方晶セ
レンに特定の結晶構造を持たせることにより、キャリア
発生効率を高めることが提案され、高光感度を有するも
のが見出だされているが、三方晶セレンの製造条件及び
感光体の作製条件等の技術の複雑さのために、帯電性、
光感度、繰返し特性等、全般にわたって満足できるもの
は、未だ、開発されるに至っていないのが現状である。
光体においては、(1)高光感度であること、(2)低
い残留電位であること、(3)繰り返し用いられたとき
の光感度、残留電位、帯電電位の変動の少ないこと(安
定性)などの特性が要求されるが、三方晶セレンを用い
た電子写真感光体においては、三方晶セレンの特性がこ
れら諸特性の支配的要因になっている。しかしながら、
前記従来提案されている三方晶セレンを用いた電子写真
感光体は、上記(1)〜(3)の全てを満足するもので
はなく、その改善が求められている。例えば、三方晶セ
レンに特定の結晶構造を持たせることにより、キャリア
発生効率を高めることが提案され、高光感度を有するも
のが見出だされているが、三方晶セレンの製造条件及び
感光体の作製条件等の技術の複雑さのために、帯電性、
光感度、繰返し特性等、全般にわたって満足できるもの
は、未だ、開発されるに至っていないのが現状である。
【0004】したがって、本発明は、従来技術の前記の
ような現状に鑑みてなされたものである。即ち、本発明
の目的は、電子写真感光体の電荷発生材料として有用な
三方晶セレンを提供することにある。また、本発明の他
の目的は、高光感度で、残留電位が小さく、また繰返し
使用において電位特性が安定であり、かつ高速コピーに
対して十分な光感度を有する電子写真感光体を提供する
ことにある。
ような現状に鑑みてなされたものである。即ち、本発明
の目的は、電子写真感光体の電荷発生材料として有用な
三方晶セレンを提供することにある。また、本発明の他
の目的は、高光感度で、残留電位が小さく、また繰返し
使用において電位特性が安定であり、かつ高速コピーに
対して十分な光感度を有する電子写真感光体を提供する
ことにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、鋭意検討
した結果、電子写真感光体の電荷発生材料として、Cu
Kα線を用いたX線回折スペクトルにおいて、その主要
吸収ピークにおける半値幅が、ある特定幅以上である三
方晶セレンを用いることにより、上記目的を達成し得る
ことを見出し、本発明を完成するに至った。
した結果、電子写真感光体の電荷発生材料として、Cu
Kα線を用いたX線回折スペクトルにおいて、その主要
吸収ピークにおける半値幅が、ある特定幅以上である三
方晶セレンを用いることにより、上記目的を達成し得る
ことを見出し、本発明を完成するに至った。
【0006】即ち、本発明の三方晶セレンは、CuKα
特性X線を用いたX線回折スペクトルにおいて、ブラッ
グ角(2θ±0.2°)が23.5°、29.7°の位
置に主要な吸収ピークを有し、かつ前記ピークの半値幅
が、いずれも0.25°以上であることを特徴とする。
特性X線を用いたX線回折スペクトルにおいて、ブラッ
グ角(2θ±0.2°)が23.5°、29.7°の位
置に主要な吸収ピークを有し、かつ前記ピークの半値幅
が、いずれも0.25°以上であることを特徴とする。
【0007】本発明の電子写真感光体は、上記三方晶セ
レンを電荷発生材料として感光層中に分散してなること
を特徴とする。
レンを電荷発生材料として感光層中に分散してなること
を特徴とする。
【0008】以下、本発明を詳細に説明する。本発明に
おいて、X線回折スペクトルは、CuKα特性X線を用
いて下記の条件で測定されたものであり、そして、X線
回折スペクトルにおけるピークとは、ノイズとは異なっ
た明瞭な鋭角の突出部のことである。 「X線回折スペクトルの測定条件」 使用測定機:理学電機製X線回折装置 X線管球:Cu 管電圧:40KV 管電流:50mA サンプリング幅:0.010deg. スタート角度(2θ):3deg. ストップ角度(2θ):50deg. 走査速度:8.00deg./min.
おいて、X線回折スペクトルは、CuKα特性X線を用
いて下記の条件で測定されたものであり、そして、X線
回折スペクトルにおけるピークとは、ノイズとは異なっ
た明瞭な鋭角の突出部のことである。 「X線回折スペクトルの測定条件」 使用測定機:理学電機製X線回折装置 X線管球:Cu 管電圧:40KV 管電流:50mA サンプリング幅:0.010deg. スタート角度(2θ):3deg. ストップ角度(2θ):50deg. 走査速度:8.00deg./min.
【0009】本発明の三方晶セレンは、上記のCuKα
特性X線を用いたX線回折スペクトルににおけるブラッ
グ角(2θ±0.2°)23.5°および29.7°の
位置に主要な吸収ピークが存在し、そしてそのピークの
半値幅が、いずれも0.25°以上であることが必要で
ある。ピークの半値幅が0.25°よりも少ないと、そ
れを電荷発生材料として用いた電子写真感光体の光感度
が低くなり、また残留電位も高くなる。本発明の上記吸
収ピークを有する三方晶セレンは、例えば、原料とし
て、アモルファスセレン、酸化セレンを用いて製造する
ことができる。アモルファスセレンを用いる場合につい
て説明すると、水酸化ナトリウム水溶液にアモルファス
セレンを溶解し、加熱下に攪拌した後、過酸化水素水を
添加して攪拌し、析出した沈殿物を濾取することによっ
て、上記吸収ピークを有する三方晶セレンを得ることが
できる。
特性X線を用いたX線回折スペクトルににおけるブラッ
グ角(2θ±0.2°)23.5°および29.7°の
位置に主要な吸収ピークが存在し、そしてそのピークの
半値幅が、いずれも0.25°以上であることが必要で
ある。ピークの半値幅が0.25°よりも少ないと、そ
れを電荷発生材料として用いた電子写真感光体の光感度
が低くなり、また残留電位も高くなる。本発明の上記吸
収ピークを有する三方晶セレンは、例えば、原料とし
て、アモルファスセレン、酸化セレンを用いて製造する
ことができる。アモルファスセレンを用いる場合につい
て説明すると、水酸化ナトリウム水溶液にアモルファス
セレンを溶解し、加熱下に攪拌した後、過酸化水素水を
添加して攪拌し、析出した沈殿物を濾取することによっ
て、上記吸収ピークを有する三方晶セレンを得ることが
できる。
【0010】また、酸化セレンを用いる場合は、例え
ば、3重量%〜15重量%の酸化セレン水溶液を30℃
〜60℃に恒温保持、撹拌しつつ、亜硫酸ガスを1ml
〜90ml/分の割合で導入して、5分〜10分間バブ
リングし、還元することによっても得ることができる。
ば、3重量%〜15重量%の酸化セレン水溶液を30℃
〜60℃に恒温保持、撹拌しつつ、亜硫酸ガスを1ml
〜90ml/分の割合で導入して、5分〜10分間バブ
リングし、還元することによっても得ることができる。
【0011】次に、上記の三方晶セレンを感光層におけ
る電荷発生材料として用いた電子写真感光体について説
明する。本発明の電子写真感光体の構成は、公知のもの
であればいずれの形態のものも採用できるが、積層型も
しくは分散型の機能分離型電子写真感光体とするのが望
ましい。本発明の電子写真感光体は、通常は図1から図
6のような構成となる。
る電荷発生材料として用いた電子写真感光体について説
明する。本発明の電子写真感光体の構成は、公知のもの
であればいずれの形態のものも採用できるが、積層型も
しくは分散型の機能分離型電子写真感光体とするのが望
ましい。本発明の電子写真感光体は、通常は図1から図
6のような構成となる。
【0012】即ち、図1から図6は、本発明の電子写真
感光体の層構成を説明する模式的断面図である。図1〜
4は、感光層が、電荷発生層と電荷輸送層とに機能分離
された積層構造である場合を示し、図1に示す層構成
は、導電性支持体1上に電荷発生層2を形成し、その上
に電荷輸送層3を形成して感光層4としたものであり、
図2は電荷発生層2と電荷輸送層3の積層順序を逆にし
たものである。また、図3は、図1の層構成の感光層4
と導電性支持体1の間に中間層5を設け、図4は、図2
の層構成の感光層4と導電性支持体1の間に中間層5を
設けたものである。さらに、図5の層構成は、導電性支
持体上1に、電荷発生材料6と電荷輸送材料7とを含有
する感光層4を設けたものであり、図6は、図5の感光
層4と導電性支持体1の間に中間層5を設けたものであ
る。
感光体の層構成を説明する模式的断面図である。図1〜
4は、感光層が、電荷発生層と電荷輸送層とに機能分離
された積層構造である場合を示し、図1に示す層構成
は、導電性支持体1上に電荷発生層2を形成し、その上
に電荷輸送層3を形成して感光層4としたものであり、
図2は電荷発生層2と電荷輸送層3の積層順序を逆にし
たものである。また、図3は、図1の層構成の感光層4
と導電性支持体1の間に中間層5を設け、図4は、図2
の層構成の感光層4と導電性支持体1の間に中間層5を
設けたものである。さらに、図5の層構成は、導電性支
持体上1に、電荷発生材料6と電荷輸送材料7とを含有
する感光層4を設けたものであり、図6は、図5の感光
層4と導電性支持体1の間に中間層5を設けたものであ
る。
【0013】本発明の感光層においては、電荷発生材料
として上記した三方晶セレンを単独で使用することがで
きるが、その他の電荷発生材料を併用してもよい。併用
することができる電荷発生材料としては、チタニルフタ
ロシアニン、フタロシアニン顔料、アゾ顔料、アントラ
キノン顔料、ペリレン顔料、多環キノン顔料、スクエア
リウム顔料等があげられる。
として上記した三方晶セレンを単独で使用することがで
きるが、その他の電荷発生材料を併用してもよい。併用
することができる電荷発生材料としては、チタニルフタ
ロシアニン、フタロシアニン顔料、アゾ顔料、アントラ
キノン顔料、ペリレン顔料、多環キノン顔料、スクエア
リウム顔料等があげられる。
【0014】また、電荷輸送材料としては、種々のもの
が使用できる。代表的なものとして、例えば、オキサゾ
ール、オキサジアゾール、チアゾール、チアジアゾー
ル、イミダゾール等に代表される含窒素複素環核及びそ
の縮合環核を有する化合物、ポリアリールアルカン系の
化合物、ピラゾリン系化合物、ヒドラゾン系化合物、ト
リアリールアミン系化合物、スチリル系化合物、スチリ
ルトリフェニルアミン系化合物、β−フェニルスチリル
トリフェニルアミン系化合物、ブタジエン系化合物、ヘ
キサトリエン系化合物、カルバゾール系化合物、エナミ
ン系化合物、縮合多環系化合物等があげられる。これら
の電荷輸送材料の具体例としては、例えば特開昭53−
27033号公報に記載の電荷輸送材料を挙げることが
できる。特に、代表的な化合物は、次に示すものであ
る。
が使用できる。代表的なものとして、例えば、オキサゾ
ール、オキサジアゾール、チアゾール、チアジアゾー
ル、イミダゾール等に代表される含窒素複素環核及びそ
の縮合環核を有する化合物、ポリアリールアルカン系の
化合物、ピラゾリン系化合物、ヒドラゾン系化合物、ト
リアリールアミン系化合物、スチリル系化合物、スチリ
ルトリフェニルアミン系化合物、β−フェニルスチリル
トリフェニルアミン系化合物、ブタジエン系化合物、ヘ
キサトリエン系化合物、カルバゾール系化合物、エナミ
ン系化合物、縮合多環系化合物等があげられる。これら
の電荷輸送材料の具体例としては、例えば特開昭53−
27033号公報に記載の電荷輸送材料を挙げることが
できる。特に、代表的な化合物は、次に示すものであ
る。
【0015】
【化1】
【0016】
【化2】
【0017】
【化3】
【0018】
【化4】
【0019】本発明において、感光層の形成は、電荷発
生材料或いは電荷輸送材料を単独で、又は結着樹脂や添
加剤とともに溶解させた溶液を塗布する方法が採用する
ことができる。また、電荷発生材料の溶解度が低い場合
には、電荷発生材料を、超音波分散機、ボールミル、サ
ンドミル、ホモミキサー等の分散装置を用いて適当な分
散媒中に微粒子分散させた、得られた分散液を塗布する
方法が有効となる。この場合、結着樹脂や添加剤は、通
常分散液中に添加して用いられる。
生材料或いは電荷輸送材料を単独で、又は結着樹脂や添
加剤とともに溶解させた溶液を塗布する方法が採用する
ことができる。また、電荷発生材料の溶解度が低い場合
には、電荷発生材料を、超音波分散機、ボールミル、サ
ンドミル、ホモミキサー等の分散装置を用いて適当な分
散媒中に微粒子分散させた、得られた分散液を塗布する
方法が有効となる。この場合、結着樹脂や添加剤は、通
常分散液中に添加して用いられる。
【0020】感光層の形成に使用される溶剤或いは分散
媒としては、広く任意のものを用いることができる。具
体的には、例えば、ブチルアミン、エチレンジアミン、
N,N−ジメチルホルムアミド、アセトン、メチルエチ
ルケトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルセルソル
ブ、エチルセルソルブ、エチレングリコール、ジメチル
エーテル、トルエン、キシレン、アセトフェノン、クロ
ロホルム、ジクロルメタン、ジクロルエタン、トリクロ
ルエタン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブ
タノール等が挙げられる。
媒としては、広く任意のものを用いることができる。具
体的には、例えば、ブチルアミン、エチレンジアミン、
N,N−ジメチルホルムアミド、アセトン、メチルエチ
ルケトン、シクロヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジ
オキサン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルセルソル
ブ、エチルセルソルブ、エチレングリコール、ジメチル
エーテル、トルエン、キシレン、アセトフェノン、クロ
ロホルム、ジクロルメタン、ジクロルエタン、トリクロ
ルエタン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブ
タノール等が挙げられる。
【0021】感光層に結着樹脂を用いる場合、結着樹脂
としては、公知のものであればいずれも採用できるが、
特に、疎水性でかつフィルム形成能を有する高分子重合
体が望ましい。このような高分子重合体としては、例え
ばポリカーボネート、ポリカーボネートZ樹脂、アクリ
ル樹脂、メタクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビ
ニリデン、ポリスチレン、スチレン−ブタジエン共重合
体、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルホルマール、ポリビニ
ルブチラール、ポリビニルアセタール、ポリビニルカル
バゾール、スチレン−アルキッド樹脂、シリコーン樹
脂、シリコーン−アルキッド樹脂、ポリエステル、フェ
ノール樹脂、ポリウレタン、エポキシ樹脂、塩化ビニリ
デン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン
酸共重合体があげられる。上記結着樹脂に対する電荷発
生材料の割合は、10〜700重量%の範囲が望まし
く、特に好ましい範囲は、50〜400重量%である。
結着樹脂に対する電荷輸送材料の割合は、10〜500
重量%の範囲とするのが望ましい。感光層が積層構造の
場合、電荷発生層の厚さは、0.01〜20μmに設定
されるが、特に好ましい範囲は、0.05〜5μmであ
る。また、電荷輸送層の厚みは、1〜100μmである
が、特に5〜30μmが好ましい。
としては、公知のものであればいずれも採用できるが、
特に、疎水性でかつフィルム形成能を有する高分子重合
体が望ましい。このような高分子重合体としては、例え
ばポリカーボネート、ポリカーボネートZ樹脂、アクリ
ル樹脂、メタクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビ
ニリデン、ポリスチレン、スチレン−ブタジエン共重合
体、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルホルマール、ポリビニ
ルブチラール、ポリビニルアセタール、ポリビニルカル
バゾール、スチレン−アルキッド樹脂、シリコーン樹
脂、シリコーン−アルキッド樹脂、ポリエステル、フェ
ノール樹脂、ポリウレタン、エポキシ樹脂、塩化ビニリ
デン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビ
ニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン
酸共重合体があげられる。上記結着樹脂に対する電荷発
生材料の割合は、10〜700重量%の範囲が望まし
く、特に好ましい範囲は、50〜400重量%である。
結着樹脂に対する電荷輸送材料の割合は、10〜500
重量%の範囲とするのが望ましい。感光層が積層構造の
場合、電荷発生層の厚さは、0.01〜20μmに設定
されるが、特に好ましい範囲は、0.05〜5μmであ
る。また、電荷輸送層の厚みは、1〜100μmである
が、特に5〜30μmが好ましい。
【0022】導電性支持体としては、金属板、金属ドラ
ムが用いられる他、導電性ポリマーや酸化インジウム等
の導電性化合物、又はアルミニウム、パラジウム等の金
属の薄層を塗布、蒸着、ラミネート等の手段により紙や
プラスチックフィルム等の基体の上に設けてなるものを
用いることができる。
ムが用いられる他、導電性ポリマーや酸化インジウム等
の導電性化合物、又はアルミニウム、パラジウム等の金
属の薄層を塗布、蒸着、ラミネート等の手段により紙や
プラスチックフィルム等の基体の上に設けてなるものを
用いることができる。
【0023】導電性支持体上には、所望に応じて中間層
を設けてもよい。中間層形成材料としては、有機ジルコ
ニウム化合物等の有機金属化合物、ポリビニルブチラー
ル、シランカップリング剤、ポリビニルピリジン、ポリ
ビニルピロリドン、フェノール樹脂、ポリビニルアルコ
ール、ポリ−N−ビニルイミダゾール、ポリエチレンオ
キシド、エチルセルロース、メチルセルロース、エチレ
ン−アクリル酸エステル共重合体、カゼイン、ポリアミ
ド、にかわ、ゼラチン等、公知のものが使用できる。そ
れらは、それぞれに適した溶剤に溶解されて導電性支持
体上に塗布される。中間層の膜厚は、通常0.2〜2μ
mに設定される。
を設けてもよい。中間層形成材料としては、有機ジルコ
ニウム化合物等の有機金属化合物、ポリビニルブチラー
ル、シランカップリング剤、ポリビニルピリジン、ポリ
ビニルピロリドン、フェノール樹脂、ポリビニルアルコ
ール、ポリ−N−ビニルイミダゾール、ポリエチレンオ
キシド、エチルセルロース、メチルセルロース、エチレ
ン−アクリル酸エステル共重合体、カゼイン、ポリアミ
ド、にかわ、ゼラチン等、公知のものが使用できる。そ
れらは、それぞれに適した溶剤に溶解されて導電性支持
体上に塗布される。中間層の膜厚は、通常0.2〜2μ
mに設定される。
【0024】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。
る。
【0025】実施例1 50重量%の水酸化ナトリウム水溶液200gにアモル
ファスセレン24gを添加し、溶解した。得られた溶液
を、100℃において4時間攪拌し、脱イオン水を10
0g加え攪拌した後、16時間放置し、冷却した。冷却
後、この溶液を撹拌しながら脱イオン水170g中に投
入した。さらに、得られた溶液を60℃に恒温保持しつ
つ、この溶液中に30重量%の過酸化水素水14gを1
0ml/分の割合で滴下した。過酸化水素水の添加終了
後、さらに溶液を30分間攪拌した。攪拌中に溶液から
三方晶セレンが析出し、沈殿を始め、粒子状三方晶セレ
ンが生成した。この三方晶セレンの沈澱物を完全に沈降
させた後、上澄みをデカントし、且つその操作を数回繰
返して脱イオン水で置換した。次に、三方晶セレンを濾
別し、沈殿物を取り出した後、60℃オーブン中におい
て18時間乾燥した。得られた三方晶セレンのX線回折
図を図7に示す。
ファスセレン24gを添加し、溶解した。得られた溶液
を、100℃において4時間攪拌し、脱イオン水を10
0g加え攪拌した後、16時間放置し、冷却した。冷却
後、この溶液を撹拌しながら脱イオン水170g中に投
入した。さらに、得られた溶液を60℃に恒温保持しつ
つ、この溶液中に30重量%の過酸化水素水14gを1
0ml/分の割合で滴下した。過酸化水素水の添加終了
後、さらに溶液を30分間攪拌した。攪拌中に溶液から
三方晶セレンが析出し、沈殿を始め、粒子状三方晶セレ
ンが生成した。この三方晶セレンの沈澱物を完全に沈降
させた後、上澄みをデカントし、且つその操作を数回繰
返して脱イオン水で置換した。次に、三方晶セレンを濾
別し、沈殿物を取り出した後、60℃オーブン中におい
て18時間乾燥した。得られた三方晶セレンのX線回折
図を図7に示す。
【0026】実施例2 500mlの8重量%酸化セレン(SeO2 )水溶液を
用意し、40℃に恒温保持した。この溶液を攪拌しつ
つ、その中に亜硫酸ガスを69ml/分の割合で導入し
て、16分間バブリングさせ、酸化セレンを還元した。
バブリング終了後、さらに溶液を30分間攪拌すると、
溶液から三方晶セレンが析出し沈殿を始め、適当な大き
さの粒子状三方晶セレンが生成し沈澱した。沈澱した三
方晶セレンの洗浄・乾燥は実施例1と同様に行った。得
られた三方晶セレンのX線回折図を図8に示す。
用意し、40℃に恒温保持した。この溶液を攪拌しつ
つ、その中に亜硫酸ガスを69ml/分の割合で導入し
て、16分間バブリングさせ、酸化セレンを還元した。
バブリング終了後、さらに溶液を30分間攪拌すると、
溶液から三方晶セレンが析出し沈殿を始め、適当な大き
さの粒子状三方晶セレンが生成し沈澱した。沈澱した三
方晶セレンの洗浄・乾燥は実施例1と同様に行った。得
られた三方晶セレンのX線回折図を図8に示す。
【0027】実施例3 500mlの10重量%酸化セレン(SeO2 )水溶液
を用意し、45℃に恒温保持した。この溶液を攪拌しつ
つ、その中に亜硫酸ガスを120ml/分の割合で導入
して、20分間バブリングさせ、酸化セレンを還元し
た。バブリング終了後、さらに溶液を30分間攪拌する
と、溶液から三方晶セレンが析出し沈殿を始め、適当な
大きさの粒子状三方晶セレンが生成し沈澱した。沈澱し
た三方晶セレンの洗浄・乾燥を実施例1と同様に行い表
1に示す半値幅を持つ三方晶セレンを得た。
を用意し、45℃に恒温保持した。この溶液を攪拌しつ
つ、その中に亜硫酸ガスを120ml/分の割合で導入
して、20分間バブリングさせ、酸化セレンを還元し
た。バブリング終了後、さらに溶液を30分間攪拌する
と、溶液から三方晶セレンが析出し沈殿を始め、適当な
大きさの粒子状三方晶セレンが生成し沈澱した。沈澱し
た三方晶セレンの洗浄・乾燥を実施例1と同様に行い表
1に示す半値幅を持つ三方晶セレンを得た。
【0028】比較例1 500mlの10重量%酸化セレン(SeO2 )水溶液
を用意し、60℃に恒温保持した。この溶液を攪拌しつ
つ、その中に亜硫酸ガスを30ml/分の割合で導入し
て、11分間バブリングさせ、酸化セレンを還元した。
バブリング終了後、さらに溶液を30分間攪拌すると、
溶液から三方晶セレンが析出し沈殿を始め、適当な大き
さの粒子状三方晶セレンが生成し沈澱した。沈澱した三
方晶セレンの洗浄・乾燥を実施例1と同様に行った。得
られた三方晶セレンのX線回折図を図9に示す。
を用意し、60℃に恒温保持した。この溶液を攪拌しつ
つ、その中に亜硫酸ガスを30ml/分の割合で導入し
て、11分間バブリングさせ、酸化セレンを還元した。
バブリング終了後、さらに溶液を30分間攪拌すると、
溶液から三方晶セレンが析出し沈殿を始め、適当な大き
さの粒子状三方晶セレンが生成し沈澱した。沈澱した三
方晶セレンの洗浄・乾燥を実施例1と同様に行った。得
られた三方晶セレンのX線回折図を図9に示す。
【0029】比較例2 500mlの40重量%酸化セレン(SeO2 )水溶液
を用意し、70℃に恒温保持した。この溶液を攪拌しつ
つ、その中に亜硫酸ガスを15ml/分の割合で導入し
て、16分間バブリングさせ、酸化セレンを還元した。
バブリング終了後、さらに溶液を30分間攪拌すると、
溶液から三方晶セレンが析出し沈殿を始め、適当な大き
さの粒子状三方晶セレンが生成し沈澱した。沈澱した三
方晶セレンの洗浄・乾燥を実施例1と同様に行い表1に
示す半値幅を持つ三方晶セレンを得た。
を用意し、70℃に恒温保持した。この溶液を攪拌しつ
つ、その中に亜硫酸ガスを15ml/分の割合で導入し
て、16分間バブリングさせ、酸化セレンを還元した。
バブリング終了後、さらに溶液を30分間攪拌すると、
溶液から三方晶セレンが析出し沈殿を始め、適当な大き
さの粒子状三方晶セレンが生成し沈澱した。沈澱した三
方晶セレンの洗浄・乾燥を実施例1と同様に行い表1に
示す半値幅を持つ三方晶セレンを得た。
【0030】実施例4 トリブトキシジルコニウムアセチルアセトネートの トルエン溶液(ZC540:松本交商社製) 〔トリブトキシジルコニウムアセチルアセトネート /トルエン=1/1(重量比)〕 100部 γ−アミノプロピルトリメトキシシラン H2 NC3 H6 Si(OCH3 )3 (A1110、日本ユニカー社製) 11部 エチルアルコール 600部 n−ブチルアルコール 150部 上記成分をスターラーで攪拌し、下引層形成用塗布液を
調製した。この塗布液をアルミニウムパイプ上に浸漬塗
布法で塗布し、100℃で5分間加熱乾燥して、膜厚
0.2μmの下引層を形成した。次に、実施例1で得ら
れた粒状三方晶セレン87重量部と、塩化ビニル−酢酸
ビニル共重合体(商品名:ソルーション・ビニル・VM
CH、ユニオンカーバイト社製)13重量部を、酢酸n
−ブチル200重量部に溶解した溶液を、アトライター
で24時間分散処理した。次いで、得られた分散液30
重量部に対して、酢酸n−ブチル57重量部を加えて稀
釈し、浸漬塗布液を得た。この浸漬塗布液を入れた浸漬
塗布槽中に、下引層が形成されたアルミニウムパイプを
浸漬し、100mm/分の速度で引上げ、100℃にお
いて5分間加熱乾燥し、アルミニウムパイプ上の下引層
の上に膜厚約0.1μmの電荷発生層を積層した。次
に、N,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3−メチ
ルフェニル)−〔1,1′−ビフェニル〕−4,4′−
ジアミン10重量部、ポリカーボネートZ樹脂10重量
部をモノクロルベンゼン80重量部に溶解し、電荷輸送
層形成用塗布液を調製した。この塗布液を、前記電荷発
生層の上に塗布し、100℃で60分間熱風乾燥して、
膜厚25μmの電荷輸送層を形成した。このようにして
製造された電子写真感光体を複写機(VIVACE 5
00型機:富士ゼロックス社製)に装着し、暗部電位V
D が−800Vになるように調製した後、2erg/c
m2 の露光を与えたときの明部電位VL を測定した。そ
の後、100、000枚コピーの耐久試験を行い、暗部
電位VD と明部電位VLの変化を測定した。その結果を
表1に示す。
調製した。この塗布液をアルミニウムパイプ上に浸漬塗
布法で塗布し、100℃で5分間加熱乾燥して、膜厚
0.2μmの下引層を形成した。次に、実施例1で得ら
れた粒状三方晶セレン87重量部と、塩化ビニル−酢酸
ビニル共重合体(商品名:ソルーション・ビニル・VM
CH、ユニオンカーバイト社製)13重量部を、酢酸n
−ブチル200重量部に溶解した溶液を、アトライター
で24時間分散処理した。次いで、得られた分散液30
重量部に対して、酢酸n−ブチル57重量部を加えて稀
釈し、浸漬塗布液を得た。この浸漬塗布液を入れた浸漬
塗布槽中に、下引層が形成されたアルミニウムパイプを
浸漬し、100mm/分の速度で引上げ、100℃にお
いて5分間加熱乾燥し、アルミニウムパイプ上の下引層
の上に膜厚約0.1μmの電荷発生層を積層した。次
に、N,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3−メチ
ルフェニル)−〔1,1′−ビフェニル〕−4,4′−
ジアミン10重量部、ポリカーボネートZ樹脂10重量
部をモノクロルベンゼン80重量部に溶解し、電荷輸送
層形成用塗布液を調製した。この塗布液を、前記電荷発
生層の上に塗布し、100℃で60分間熱風乾燥して、
膜厚25μmの電荷輸送層を形成した。このようにして
製造された電子写真感光体を複写機(VIVACE 5
00型機:富士ゼロックス社製)に装着し、暗部電位V
D が−800Vになるように調製した後、2erg/c
m2 の露光を与えたときの明部電位VL を測定した。そ
の後、100、000枚コピーの耐久試験を行い、暗部
電位VD と明部電位VLの変化を測定した。その結果を
表1に示す。
【0031】実施例5 粒状三方晶セレンを実施例2で得られたものに代えた以
外は、実施例4と同様にして電子写真感光体を作製し、
同様にして評価した。その結果を表1に示す。
外は、実施例4と同様にして電子写真感光体を作製し、
同様にして評価した。その結果を表1に示す。
【0032】実施例6 粒状三方晶セレンを実施例3で得られたものに代えた以
外は、実施例4と同様にして電子写真感光体を作製し、
同様にして評価した。その結果を表1に示す。
外は、実施例4と同様にして電子写真感光体を作製し、
同様にして評価した。その結果を表1に示す。
【0033】比較例3 粒状三方晶セレンを比較例1で得られたものに代えた以
外は、実施例4と同様にして電子写真感光体を作製し、
同様にして評価した。その結果を表1に示す。
外は、実施例4と同様にして電子写真感光体を作製し、
同様にして評価した。その結果を表1に示す。
【0034】比較例4 粒状三方晶セレンを比較例2で得られたものに代えた以
外は、実施例4と同様にして電子写真感光体を作製し、
同様にして評価した。その結果を表1に示す。
外は、実施例4と同様にして電子写真感光体を作製し、
同様にして評価した。その結果を表1に示す。
【0035】
【表1】
【0036】
【発明の効果】本発明の三方晶セレンは、電子写真感光
体の電荷発生材料として有用なものであり、この三方晶
セレンを用いて作製された本発明の電子写真感光体は、
高光感度で、残留電位が小さく、また繰返し使用におい
ても安定な電位特性を有し、かつ高速コピーに対して十
分な光感度を有している。
体の電荷発生材料として有用なものであり、この三方晶
セレンを用いて作製された本発明の電子写真感光体は、
高光感度で、残留電位が小さく、また繰返し使用におい
ても安定な電位特性を有し、かつ高速コピーに対して十
分な光感度を有している。
【図1】 本発明の電子写真感光体の一例の模式的断面
図である。
図である。
【図2】 本発明の電子写真感光体の他の一例の模式的
断面図である。
断面図である。
【図3】 本発明の電子写真感光体の他の一例の模式的
断面図である。
断面図である。
【図4】 本発明の電子写真感光体の他の一例の模式的
断面図である。
断面図である。
【図5】 本発明の電子写真感光体の他の一例の模式的
断面図である。
断面図である。
【図6】 本発明の電子写真感光体の他の一例の模式的
断面図である。
断面図である。
【図7】 実施例1により得られた三方晶セレンのX線
回折図である。
回折図である。
【図8】 実施例2により得られた三方晶セレンのX線
回折図である。
回折図である。
【図9】 比較例1の三方晶セレンのX線回折図であ
る。
る。
1…導電性支持体、2…電荷発生層、3…電荷輸送層、
4…感光層、5…中間層、6…電荷発生材料、7…電荷
輸送材料。
4…感光層、5…中間層、6…電荷発生材料、7…電荷
輸送材料。
Claims (2)
- 【請求項1】 CuKα特性X線を用いたX線回折スペ
クトルにおいて、ブラッグ角(2θ±0.2°)が2
3.5°、29.7°の位置に主要な吸収ピークを有
し、かつ前記ピークの半値幅が、いずれも0.25°以
上であることを特徴とする三方晶セレン。 - 【請求項2】 請求項1の三方晶セレンを電荷発生材料
として感光層中に分散してなることを特徴とする電子写
真感光体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1940492A JPH05188617A (ja) | 1992-01-09 | 1992-01-09 | 電子写真感光材料及び電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1940492A JPH05188617A (ja) | 1992-01-09 | 1992-01-09 | 電子写真感光材料及び電子写真感光体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05188617A true JPH05188617A (ja) | 1993-07-30 |
Family
ID=11998329
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1940492A Pending JPH05188617A (ja) | 1992-01-09 | 1992-01-09 | 電子写真感光材料及び電子写真感光体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05188617A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7255040B2 (en) | 2003-12-11 | 2007-08-14 | Pergo (Europe) Ab | Process for the manufacturing of panels having a decorative surface |
| JP2009263212A (ja) * | 2008-03-29 | 2009-11-12 | Mitsubishi Materials Corp | 結晶質セレンとその結晶化方法および粉末化方法 |
-
1992
- 1992-01-09 JP JP1940492A patent/JPH05188617A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7255040B2 (en) | 2003-12-11 | 2007-08-14 | Pergo (Europe) Ab | Process for the manufacturing of panels having a decorative surface |
| JP2009263212A (ja) * | 2008-03-29 | 2009-11-12 | Mitsubishi Materials Corp | 結晶質セレンとその結晶化方法および粉末化方法 |
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