JPH05190311A

JPH05190311A - 磁石の製造方法および磁石粉末

Info

Publication number: JPH05190311A
Application number: JP4026017A
Authority: JP
Inventors: Akira Fukuno; 亮福野; Tsutomu Ishizaka; 力石坂; Tetsuto Yoneyama; 哲人米山
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 1992-01-17
Filing date: 1992-01-17
Publication date: 1993-07-30

Abstract

(57)【要約】【構成】Ｒ（Ｒは希土類元素から選択される１種以上
の元素であり、Ｓｍを必須元素として含む）、Ｎおよび
Ｔ（ＴはＦｅ、またはＦｅおよびＣｏ）を含有する磁石
を製造する方法であって、母合金を粗粉砕する粗粉砕工
程、窒化処理を施す窒化工程、窒化後に微粉砕して磁石
粒子を得る微粉砕工程、磁石粒子表面に非磁性被覆を施
す被覆工程を有し、微粉砕工程と被覆工程とが、非水系
溶媒中または非酸化雰囲気中において連続して行なわれ
ることを特徴とする。【効果】磁石粒子表面における酸化層の生成が防が
れ、かつ磁石粒子表面に非磁性被覆が形成されるため、
保磁力が高く、しかもその経時劣化の小さい磁石粒子が
得られる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、Ｓｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁石
を製造する方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】高性能希土類磁石としては、Ｓｍ−Ｃｏ
系磁石やＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系磁石が知られているが、近
年、新規な希土類磁石の開発が盛んに行なわれている。

【０００３】例えば、Ｓｍ₂ Ｆｅ₁₇とＮとの化合物であ
るＳｍ₂ Ｆｅ₁₇Ｎ_2.3 付近の組成で、４πＩs ＝１５．
４kG、Ｔc ＝４７０℃、Ｈ_A ＝１４Ｔの基本物性が得ら
れること、Ｚｎをバインダとする金属ボンディッド磁石
として１０．５MGOeの(BH)max が得られること、また、
Ｓｍ₂ Ｆｅ₁₇金属間化合物へのＮの導入により、キュリ
ー温度が大幅に向上して熱安定性が改良されたことが報
告されている（PaperNo.S1.3 at the Sixth Internatio
nal Symposium on Magnetic Anisotropy andCoercivity
in Rare Earth-Transition Metal Alloys,Pittsburgh,
PA,October 25,1990.(Proceedings Book:Carnegie Mell
on University,Mellon Institute,Pittsburgh,PA 1521
3,USA) ）。

【０００４】この報告では、Ｓｍ₂ Ｆｅ₁₇Ｎ_2.3 の粉末
をＺｎ粉末と混合してコールドプレスした場合、μ₀ Ｈ
c ＝０．２Ｔ（ iＨc ＝２kG）であるが、さらに磁場プ
レスしてＺｎの融点付近の温度で熱処理して金属ボンデ
ィッド磁石とした場合、μ₀Ｈc ＝０．６Ｔ（ iＨc ＝
６kG）が得られている。

【０００５】上記報告の金属ボンディッド磁石に用いら
れている磁石粒子は、ほぼ単結晶粒子となる程度の粒径
を有し、保磁力発生機構はニュークリエーションタイプ
である。このため、磁気特性が粒子の表面状態の影響を
受け易い。すなわち、粉砕時の機械的衝撃や粒子の酸化
等により磁石粒子表面には微小突起等の欠陥が生じ、磁
化方向と反対側に磁界が印加されたときに前記欠陥が逆
磁区発生の核となって粒内に磁壁が発生するが、ニュー
クリエーションタイプの磁石では結晶粒内に磁壁のピン
ニングサイトがないため容易に磁壁移動が起こるので、
保磁力は低い。上記報告では、金属ボンディッド磁石と
する際に、溶融した高温のバインダに磁石粒子を接触さ
せ、これにより磁石粒子の表面粗さを減少させて磁壁の
発生を抑制し、高い保磁力を得ていると考えられる。

【０００６】しかし、金属ボンディッド磁石は、樹脂バ
インダを用いた樹脂ボンディッド磁石に比べ成形性に劣
り、また、比重が大きいため、適用分野が限定されてし
まう。

【０００７】一方、樹脂ボンディッド磁石では、金属ボ
ンディッド磁石に比べ高保磁力が得られにくい。また、
本発明者らは、Ｓｍ−Ｆｅ−Ｎ系磁石粒子を用いた樹脂
ボンディッド磁石が、製造直後は比較的高い保磁力を示
すが経時的に保磁力の劣化が認められ、特に高温環境で
保存した場合に保磁力劣化が著しいことを見いだした。
この保磁力劣化の原因は以下のように考えられる。

【０００８】Ｓｍ−Ｆｅ−Ｎ系の各種磁石の製造に用い
られる磁石粒子には微量の酸素が含有される。この磁石
粒子は、通常、母合金インゴットを粗粉砕し、次いで窒
化処理を施した後、微粉砕することにより製造される。
磁石粒子中の酸素は、当初から母合金に含まれるものも
あり、各工程において混入するものもある。EP 0 41773
3 A2 には、Ｓｍ−Ｆｅ−Ｎ−Ｈ−Ｏ系磁石粒子が開示
されており、この磁石粒子には微粉砕工程において３〜
６原子％の酸素が混入する旨が記載されている。そし
て、磁石粒子中において酸素は少なくとも８０％が粒子
表面から数百オングストローム以内の領域に存在する旨
が記載されている。

【０００９】本発明者らが、微粉砕後のＳｍ−Ｆｅ−Ｎ
系磁石粒子表面をＥＰＭＡおよび電子線回折により分析
すると、表面にはＳｍおよびＦｅがアモルファス状態で
存在していることがわかった。従って、磁石粒子表面に
はＳｍおよびＦｅの数十nm程度の酸化物層がアモルファ
ス状態で存在していると考えられる。磁石粒子を２００
℃程度以上に加熱すると、たとえ不活性ガス雰囲気中で
あっても前記酸化物層は結晶化してしまう。具体的に
は、Ｓｍ₂ Ｏ₃ とα−Ｆｅとに分解していると考えられ
る。また、２００℃よりも低い温度であっても、長時間
加熱すると同様な結晶化が生じる。

【００１０】このような考察から、本発明者らは、磁石
粒子表面のアモルファス状態の酸化物層が逆磁区発生を
抑制しており、磁石粒子が加熱されると前記酸化物層が
結晶化して逆磁区発生防止作用が減少し、保磁力が劣化
するという知見に達した。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】本発明はこのような事
情からなされたものであり、Ｓｍ、ＦｅおよびＮを含有
する磁石を製造する際に、磁石粒子表面の酸化を防ぐこ
とにより、保磁力が高く、しかもその安定性が高い磁石
を提供することを目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】

【００１３】このような目的は、下記（１）〜（７）の
本発明により達成される。（１）Ｒ（ただし、Ｒは希土類元素から選択される１
種以上の元素であり、Ｓｍを必須元素として含む。）を
５〜１５原子％、Ｎを０．５〜２５原子％含有し、残部
がＴ（ただし、ＴはＦｅ、またはＦｅおよびＣｏであ
る。）である磁石を製造する方法であって、ＲおよびＴ
を含有する母合金を粗粉砕して合金粒子を得る粗粉砕工
程と、合金粒子に窒化処理を施して窒化粒子を得る窒化
工程と、前記窒化粒子を微粉砕して磁石粒子を得る微粉
砕工程と、前記磁石粒子表面に非磁性被覆を形成する被
覆工程とを有し、前記微粉砕工程と前記被覆工程とが、
非水系溶媒中において連続して行なわれることを特徴と
する磁石の製造方法。

【００１４】（２）Ｒ（ただし、Ｒは希土類元素から
選択される１種以上の元素であり、Ｓｍを必須元素とし
て含む。）を５〜１５原子％、Ｎを０．５〜２５原子％
含有し、残部がＴ（ただし、ＴはＦｅ、またはＦｅおよ
びＣｏである。）である磁石を製造する方法であって、
ＲおよびＴを含有する母合金を粗粉砕して合金粒子を得
る粗粉砕工程と、合金粒子に窒化処理を施して窒化粒子
を得る窒化工程と、前記窒化粒子を微粉砕して磁石粒子
を得る微粉砕工程と、前記磁石粒子表面に非磁性被覆を
形成する被覆工程とを有し、前記微粉砕工程および前記
被覆工程が、非酸化性雰囲気中または非水系溶媒中にお
いて行なわれ、前記微粉砕工程から前記被覆工程に移行
する際に前記磁石粒子が非酸化性雰囲気中に保持される
ことを特徴とする磁石の製造方法。

【００１５】（３）Ｒ（ただし、Ｒは希土類元素から
選択される１種以上の元素であり、Ｓｍを必須元素とし
て含む。）を５〜１５原子％、Ｎを０．５〜２５原子％
含有し、残部がＴ（ただし、ＴはＦｅ、またはＦｅおよ
びＣｏである。）である磁石を製造する方法であって、
ＲおよびＴを含有する母合金を粗粉砕して合金粒子を得
る粗粉砕工程と、合金粒子を微粉砕して合金微粒子を得
る微粉砕工程と、前記合金微粒子に窒化処理を施して磁
石粒子を得る窒化工程と、前記磁石粒子表面に非磁性被
覆を形成する被覆工程とを有し、前記微粉砕工程および
前記被覆工程が、非酸化性雰囲気中または非水系溶媒中
において行なわれ、前記微粉砕工程から前記窒化工程に
移行する際に前記合金微粒子が非酸化性雰囲気中に保持
され、かつ、前記窒化工程から前記被覆工程に移行する
際に前記磁石粒子が非酸化性雰囲気中に保持されること
を特徴とする磁石の製造方法。

【００１６】（４）前記非磁性被覆が金属、無機化合
物または有機化合物から構成される上記（１）ないし
（３）のいずれかに記載の磁石の製造方法。

【００１７】（５）非磁性被覆を形成した前記磁石粒
子を樹脂バインダ中に分散して樹脂ボンディッド磁石を
作製する工程を有する上記（１）ないし（４）のいずれ
かに記載の磁石の製造方法。

【００１８】（６）Ｒ（ただし、Ｒは希土類元素から
選択される１種以上の元素であり、Ｓｍを必須元素とし
て含む。）を５〜１５原子％、Ｎを０．５〜２５原子％
含有し、残部がＴ（ただし、ＴはＦｅ、またはＦｅおよ
びＣｏである。）であって、金属から構成される非磁性
被覆が表面に形成されており、酸素含有量が６０００pp
m 以下である磁石粒子を含むことを特徴とする磁石粉
末。

【００１９】（７）Ｒ（ただし、Ｒは希土類元素から
選択される１種以上の元素であり、Ｓｍを必須元素とし
て含む。）を５〜１５原子％、Ｎを０．５〜２５原子％
含有し、残部がＴ（ただし、ＴはＦｅ、またはＦｅおよ
びＣｏである。）であって、無機化合物または有機化合
物から構成される非磁性被覆が表面に形成されている磁
石粒子を含むことを特徴とする磁石粉末。

【００２０】

【作用】本発明では、微粉砕工程、被覆工程およびこれ
らの工程間において、粒子を非水系溶媒中または非酸化
性雰囲気中に保持するので、磁石粒子表面の酸化が防止
され、アモルファス状態の酸化物層の生成が抑えられ
る。このため、高温にさらされたときの保磁力劣化が抑
えられる。また、逆磁区発生の核となる磁石粒子表面の
欠陥は非磁性被覆により修復されるため、高い保磁力が
得られる。

【００２１】従って、非磁性被覆を有する磁石粒子を樹
脂ボンディッド磁石に適用した場合、金属ボンディッド
磁石と同等の保磁力が得られ、しかも、金属ボンディッ
ド磁石に比べ軽量となり、また、成形の自由度が向上す
る。

【００２２】本発明により製造される磁石粒子は、Ｓｍ
₂ （Ｆｅ，Ｃｏ）₁₇系の合金粒子に窒素（Ｎ）を含有さ
せたものである。この磁石粒子はＮを含有するためキュ
リー温度が高く、熱安定性に優れる。また、Ｎを含有す
ることにより高い飽和磁化が得られ、異方性エネルギー
も向上して高い保磁力が得られる。磁気特性の向上は、
Ｎが結晶格子の特定位置に侵入型の固溶をすることによ
り、Ｆｅ原子同士の距離や、Ｆｅ原子と希土類金属原子
との距離が最適化されるためであると考えられる。

【００２３】

【具体的構成】以下、本発明の具体的構成を詳細に説明
する。

【００２４】＜磁石組成＞本発明により製造される磁石
に含まれる磁石粒子は、Ｒ、ＮおよびＴを含有する。

【００２５】Ｒは、Ｓｍ単独、あるいはＳｍおよびその
他の希土類元素の１種以上である。Ｓｍ以外の希土類元
素としては、例えばＹ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｅ
ｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ
等が挙げられる。Ｓｍ以外の希土類元素が多すぎると結
晶磁気異方性が低下するため、Ｓｍ以外の希土類元素は
Ｒの７０％以下とすることが好ましい。Ｒの含有率は、
５〜１５原子％、好ましくは７〜１４原子％とする。Ｒ
の含有率が前記範囲未満であると保磁力 iＨc が低下
し、前記範囲を超えると残留磁束密度Ｂr が低下してし
まう。

【００２６】Ｎの含有率は、０．５〜２５原子％、好ま
しくは５〜２０原子％とする。本発明では、Ｎの一部に
換えてＣおよび／またはＳｉを含有する構成としてもよ
い。この場合、Ｎの含有率は０．５原子％以上であり、
Ｎ、ＣおよびＳｉの合計含有率は２５原子％以下であ
る。Ｎの含有率が前記範囲未満となると、キュリー温度
の上昇と飽和磁化の向上が不十分であり、Ｎ、Ｃおよび
Ｓｉの合計含有率が前記範囲を超えるとＢr が低下す
る。Ｎの一部に換えて含有されるＣおよび／またはＳｉ
は、飽和磁化、保磁力およびキュリー温度向上効果を示
す。ＣおよびＳｉの合計含有率の下限は特にないが、合
計含有率が０．２５原子％以上であれば、前記した効果
は十分に発揮される。

【００２７】なお、磁石粒子のキュリー温度は組成によ
って異なるが、４３０〜６５０℃程度である。

【００２８】ＴはＦｅ、またはＦｅおよびＣｏであり、
Ｔ中のＦｅの含有率は２０原子％以上、特に３０原子％
以上であることが好ましい。Ｔ中のＦｅの含有率が前記
範囲未満となるとＢr が低下する。なお、Ｔ中のＦｅ含
有率の上限は特にないが、８０原子％を超えるとＢr が
低下する傾向にある。

【００２９】磁石中には、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｚｎ等の上記以
外の元素が含有されていてもよい。これらの元素の含有
率は３重量％以下とすることが好ましい。また、Ｂ、
Ｏ、Ｐ、Ｓ等の元素が含有されていてもよいが、これら
の元素の含有率は２重量％以下とすることが好ましい。

【００３０】なお、磁石は、主としてＴｈ₂ Ｚｎ₁₇型の
菱面体晶系の結晶構造を有する。

【００３１】本発明では、後述するように磁石粒子表面
の酸化が防がれるので、磁石粒子自体の酸素含有量が極
めて少なく、６０００ppm 以下、さらには４０００ppm
以下とすることができる。酸素は微粉砕時に最も混入し
やすく、非磁性被覆形成時には余り混入しないので、非
磁性被覆が金属から構成される場合、あるいは酸素を含
有しない無機化合物や有機化合物から構成される場合に
は、非磁性被覆を除去せずに測定しても、酸素含有量は
上記範囲に収まる。なお、酸素含有量はガス分析法など
により測定できる。一方、非磁性被覆が酸素を構成元素
とする無機化合物や有機化合物から構成される場合、非
磁性被覆を除去して磁石粒子自体の酸素含有量を測定す
ればよい。

【００３２】なお、磁石粒子には、不可避的に少なくと
も５０ppm 、通常、２５０ppm 程度以上の酸素が含まれ
る。

【００３３】＜非磁性被覆＞

【００３４】本発明の磁石粉末では、このような磁石粒
子表面に非磁性被覆が形成されている。非磁性被覆は、
磁石粒子表面における逆磁区発生を抑え、高保磁力を実
現する。被覆が磁性を有すると、逆磁区発生防止効果は
著しく低くなる。

【００３５】非磁性被覆の構成材質は、磁石粒子表面に
被覆可能であり、かつ磁石粒子表面の欠陥を修復できる
ものであれば特に制限はなく、各種の金属、無機化合
物、有機化合物等から適宜選択すればよい。金属として
は、例えば、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｃｕ、Ｉｎ、Ｐｂ、Ｇａ、Ｓ
ｂ等や、これらを含む合金ないし金属間化合物、無機化
合物としては、前記金属の窒化物、炭化物等、有機化合
物としては、脂肪酸塩等が好ましく、これらのうち特
に、低融点であって、かつ低温でＦｅと非磁性化合物を
形成する元素が好ましい。

【００３６】非磁性被覆は磁石粒子全表面を被覆してい
る連続膜であることが好ましいが、上記した組成を有す
る磁石粒子は結晶磁気異方性エネルギーが大きいため、
非磁性被覆は磁石粒子表面の少なくとも一部、好ましく
は表面の７０％以上を覆っていれば十分な保磁力向上効
果が実現する。

【００３７】非磁性被覆の厚さは、保磁力向上のために
は５nm以上、特に１０nm以上であることが好ましい。ま
た、非磁性被覆の厚さの上限は特にないが、樹脂ボンデ
ィッド磁石としたときの磁石粒子の充填率を高くし、か
つ樹脂ボンディッド磁石製造時に良好な成形性を得るた
めには、通常、５μm 以下、好ましくは１００nm未満、
より好ましくは９０nm以下とする。

【００３８】また、磁石粒子と非磁性被覆の合計に対す
る非磁性被覆の比率は、非磁性被覆の厚さに依存する
が、通常、１５体積％以下であることが好ましい。非磁
性被覆の比率が前記範囲を超えると、樹脂ボンディッド
磁石に適用した場合に磁石粒子充填率を高くすることが
困難となり、成形性も低下する。

【００３９】なお、非磁性被覆中に２個以上の磁石粒子
が存在していてもよいが、異方性樹脂ボンディッド磁石
とするために磁場配向を行なう場合には、各磁石粒子が
独立して非磁性被覆を有していることが好ましい。

【００４０】＜製造方法＞本発明の製造方法は、Ｒおよ
びＴを含有する母合金を粗粉砕して合金粒子を得る粗粉
砕工程と、合金粒子に窒化処理を施して窒化粒子を得る
窒化工程と、前記窒化粒子を微粉砕して磁石粒子を得る
微粉砕工程とを有する。

【００４１】合金粒子の製造方法各原料金属や合金を混合し、次いで混合物を溶解、鋳造
することにより母合金インゴットを製造し、さらに母合
金インゴットを粗粉砕して合金粒子を製造する。母合金
インゴットの組成は、上記組成の磁石が得られるように
適宜選択すればよい。

【００４２】母合金インゴットの結晶粒径は特に限定さ
れず、後述する微粉砕により単結晶粒子が得られるよう
な寸法とすることが好ましい。

【００４３】次に、必要に応じて母合金インゴットに溶
体化処理を施す。溶体化処理は、異相を消してインゴッ
トの均質性を向上させるために施される。溶体化処理の
条件は特に限定されないが、通常、処理温度は９００〜
１２５０℃、特に１０００〜１２００℃、処理時間は
０．５〜６０時間程度とすることが好ましい。なお、溶
体化処理は種々の雰囲気中で行なうことができるが、不
活性ガス雰囲気等の非酸化性雰囲気、還元性雰囲気、真
空中等で行なうことが好ましい。

【００４４】次いで、母合金インゴットを粗粉砕して合
金粒子とする。合金粒子の平均粒子径は特に限定されな
いが、十分な耐酸化性を得るためには、合金粒子の平均
粒子径を好ましくは２μm 以上、より好ましくは１０μ
m 以上、さらに好ましくは１５μm 以上とすることがよ
く、１０００μm 程度以下、特に２００μm 以下とする
ことが好ましい。

【００４５】粉砕手段は特に限定されず、通常の各種粉
砕機を用いればよいが、非酸化性雰囲気中で粗粉砕を行
なう。

【００４６】なお、本発明において平均粒子径とは、篩
別により求められた重量平均粒子径Ｄ₅₀を意味する。重
量平均粒子径Ｄ₅₀は、径の小さな粒子から重量を加算し
ていって、その合計重量が全粒子の合計重量の５０％と
なったときの粒子径である。

【００４７】窒化粒子の製造方法次いで、合金粒子に窒化処理を施してＮを固溶させ、窒
化粒子とする。この窒化処理は窒素雰囲気中で合金粒子
に熱処理を施すものであり、これにより合金粒子には窒
素が吸収される。上記したようにＮを固溶させるために
は、窒化処理を下記の条件にて行なうことが好ましい。
保持温度は４００〜７００℃、特に４５０〜６５０℃程
度とすることが好ましい。温度保持時間は、０．５〜２
００時間、特に２〜１００時間程度とすることが好まし
い。

【００４８】なお、母合金インゴットに水素を吸蔵させ
て粉砕ないしクラックを生じさせ、さらに合金粒子を大
気にさらすことなく窒化処理工程に供すれば、粒子表面
の酸化膜の発生を抑えることができるので、窒化処理の
際に高い反応性が得られる。

【００４９】また、合金に水素を吸蔵させることによ
り、合金中に微細なガス通路が形成され、続く窒化処理
の際に、このガス通路を通って窒素が合金の深部まで侵
入するため、Ｎを容易に固溶させることが可能となる。
また、このため、寸法の大きな合金粒子を窒化すること
が可能となり、合金粒子や窒化粒子の耐酸化性を向上さ
せることができる。例えば、表面までの距離が０．２５
mm以上、さらには５mm以上である領域が存在するような
合金粒子であっても窒化することが可能となる。ただ
し、均質に窒化するためには、表面からの距離が１５mm
を超える部分が存在しないような寸法および形状の合金
粒子を用いることが好ましい。

【００５０】水素吸蔵処理は、水素ガス雰囲気中で熱処
理することにより合金に水素を吸蔵させるものであり、
このときの熱処理温度は３５０℃以下、特に１００〜３
００℃とすることが好ましく、温度保持時間は０．５〜
２４時間、特に１〜１０時間とすることが好ましい。ま
た、水素ガスの圧力は、０．１〜１０気圧、特に０．５
〜２気圧とすることが好ましい。

【００５１】水素吸蔵の際の雰囲気は、水素ガスだけに
限らず、水素ガスと不活性ガスとの混合雰囲気であって
もよい。この場合の不活性ガスとしては、例えばＨｅま
たはＡｒ、あるいはこれらの混合ガスが好ましい。

【００５２】窒化処理の前に水素吸蔵処理を行なった場
合、窒化処理の際の保持温度を低くすることができ、３
５０〜６５０℃、特に４００〜５５０℃にて窒化が可能
である。ただし、この際の温度は水素吸蔵処理の温度よ
りも高いことが好ましい。

【００５３】なお、生産性を高くするために、水素吸蔵
処理後、合金から水素を放出させずに続いて窒化処理を
施すことが好ましい。この場合、合金中の水素は窒化処
理の際の加熱により合金から放出されるので、窒化粒子
中に水素は実質的に含まれない。

【００５４】ただし、水素吸蔵処理後、合金から水素を
放出させ、次いで窒化処理を施してもよい。この場合、
水素を吸蔵している合金に減圧雰囲気中で熱処理を施す
ことにより、合金から水素を放出させることができる。
この場合の熱処理温度は２００〜４００℃とすることが
好ましく、温度保持時間は０．５〜２時間とすることが
好ましい。また、圧力は１×１０^-2Torr以下、特に１×
１０^-3Torr以下とすることが好ましく、Ａｒガス雰囲気
中で熱処理することが好ましい。

【００５５】窒化粒子内の窒素原子分布を均一化するた
めに、Ａｒ雰囲気等の非酸化性雰囲気中で窒化粒子に熱
処理を施すことが好ましい。この熱処理の際の温度は、
合金粒子を窒化処理したときの温度よりも高くすること
が好ましい。具体的には、窒化処理時の温度よりも２０
℃以上高く、かつ分解反応が進行しないように７００℃
程度以下とすることが好ましい。また、窒素原子分布を
より均一にするためには、表面からの距離が３０μm を
超える領域の存在しない窒化粒子を用いることが好まし
い。このような条件で熱処理を施すことにより、表面の
窒素原子濃度と中心の窒素原子濃度の比率が０．８０程
度以上である窒化粒子とすることができる。なお、窒化
粒子中の窒素原子分布は、ＥＰＭＡ等により確認するこ
とができる。

【００５６】磁石粒子は窒化粒子を粉砕して製造される
ので、窒化粒子の窒素原子分布を均一化することによ
り、窒素含有量の揃った磁石粒子、すなわち、保磁力の
揃った磁石粒子が得られ、その結果、角形比の高い磁石
が実現する。

【００５７】磁石粒子の製造方法および非磁性被覆の形
成方法次に、窒化粒子を粉砕して、ほぼ単結晶の磁石粒子と
し、さらに磁石粒子に非磁性被覆を形成する。

【００５８】微粉砕により得られる磁石粒子の平均粒子
径は特に限定されず、所望の保磁力が得られるように用
途に応じて適宜決定すればよく、通常は０．５〜５０μ
m 程度とすればよい。非磁性被覆を形成すれば必ずしも
単磁区となるような粒子径まで粉砕しなくても必要な保
磁力が得られる。

【００５９】本発明では、微粉砕工程と前記被覆工程と
を、非水系溶媒中において連続して行なうか、あるい
は、これらの工程を非酸化性雰囲気中において連続して
行なう。これらのうちでは、非水系溶媒を用いる方法が
簡単であり、しかも十分な効果が得られるため好まし
い。

【００６０】まず、非水系溶媒中において連続して微粉
砕および非磁性被覆形成を行なう方法について説明す
る。

【００６１】この方法では、めっき法により金属製の非
磁性被覆を形成することができる。また、樹脂等の有機
化合物からなる非磁性被覆も形成可能である。

【００６２】めっき法を用いる場合、まず、窒化粒子を
非水系溶媒中で湿式微粉砕し、磁石粒子とする。湿式粉
砕の手段は特に限定されず、ボールミルや振動ミル等の
通常の手段を用いればよい。次いで、磁石粒子を含むス
ラリーを粉砕機から取り出してめっき浴と混合し、めっ
き法により非磁性被覆を形成する。このめっき浴には、
非水系溶媒を用いる。また、湿式微粉砕の際に用いる非
水系溶媒は、前記めっき浴に溶解可能なものを選択す
る。なお、湿式微粉砕の際の溶媒としてめっき浴組成を
用いてもよいが、この場合、通常、めっきに必要な液量
および液性状となるようにめっき浴溶液を補正する。

【００６３】湿式微粉砕の際に磁石粒子が気体と接触す
ることがある場合には、非酸化性雰囲気中で湿式粉砕を
行なうことが好ましい。この場合の非酸化性雰囲気と
は、窒素やＡｒ等の非酸化性ガス雰囲気で、かつ酸素分
圧が１０^-3Torr以下であることが好ましく、以下の記載
においても同様である。

【００６４】めっき法としては、電気めっき、無電解め
っき、置換めっき等の各種方法を用いることができる
が、均一で膜厚の揃った非磁性被覆が容易に形成できる
ことから、電気めっき法を用いることが好ましい。

【００６５】電気めっき法に用いるめっき浴は、非磁性
被覆構成元素の化合物を非水系溶媒に溶解したものであ
る。前記化合物は特に限定されず、非水系溶媒に溶解可
能な各種化合物、例えば、塩化物、硝化物、炭酸化物等
の各種化合物を用いればよい。

【００６６】めっき浴に用いる非水系溶媒は、非磁性被
覆に用いる材料に応じて、それらの化合物が溶解可能な
有機溶媒等から適宜選択すればよい。具体的には、例え
ば、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、プ
ロピレンカーボネート、アセトニトリル等から選択すれ
ばよい。

【００６７】また、微粉砕にも上記非水系溶媒を用いれ
ばよいが、さらに、これらに溶解可能なもの、例えば、
キシレン、アセトン等も用いることができる。

【００６８】電気めっきの条件は特に限定されず、電流
密度、めっき浴温度等の各種条件は、形成する非磁性被
覆に応じて適宜設定すればよい。また、電気めっき法に
用いる装置は特に限定されず、例えば、「第９回最新の
粉末冶金技術講座」（平成３年１０月２２〜２３日、東
京理科大学）のテキストの記載に従い、粉末の電気めっ
きに好適な垂直型電気めっき装置や傾斜型電気めっき装
置などを用いればよい。これらは、めっき浴中に攪拌翼
を設けてメッシュ状の陰極上に粉末の懸濁層を形成した
り、メッシュ状の陰極が回転して粉末を攪拌する構成を
有し、粉末を構成する粒子の表面に電気めっき膜を均一
に形成可能な電気めっき装置である。

【００６９】非水系溶媒中において有機化合物からなる
非磁性被覆を形成する場合、キレート樹脂を用いること
が好ましい。この場合、非水系溶媒にキレート樹脂を溶
解した溶液に磁石粒子を投入し、これをボールミル等の
湿式粉砕機により粉砕する。粉砕後、加熱乾燥すること
により、磁石粒子表面に樹脂被覆が形成される。溶液中
のキレート樹脂は、磁石粒子表面のＲやＴ等に結合する
ため、磁石粒子同士がキレート樹脂を介して結合される
ことは殆どなく、磁場配向の容易な磁石粉末が得られ
る。なお、樹脂を含まない非水系溶媒中で微粉砕して得
られた分散液を、樹脂を溶解した非水系溶媒と混合して
加熱乾燥してもよい。

【００７０】この他、エポキシ樹脂等の各種熱硬化性樹
脂により非磁性被覆を形成することもできる。この場
合、乾燥時や硬化時の磁石粒子同士の結合を避けるため
に、流動層などを利用して加熱乾燥および硬化を行なう
ことが好ましい。

【００７１】次に、微粉砕工程と被覆工程とを非酸化性
雰囲気中において連続して行なう方法について説明す
る。この場合の非酸化性雰囲気は、前述した酸素分圧の
非酸化性ガスで構成することが好ましい。この方法で
は、微粉砕工程を非酸化性雰囲気中において行なった
後、磁石粒子を酸化性雰囲気にさらすことなく非磁性被
覆を形成する。

【００７２】この場合の微粉砕手段は特に限定されず、
アトライターや、ボールミル、ジェットミルなどにより
乾式の粉砕を行なえばよい。

【００７３】この場合の非磁性被覆形成方法には、気相
成長法を好ましく用いることができる。気相成長法は、
金属や無機化合物の非磁性被覆の形成に好適である。気
相成長法としては、熱ＣＶＤ、プラズマＣＶＤ等のＣＶ
Ｄ法や、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング
等のＰＶＤ法などから適宜選択すればよい。

【００７４】スパッタリング法を用いる場合、前述した
「第９回最新の粉末冶金技術講座」（平成３年１０月２
２〜２３日、東京理科大学）のテキストに記載されてい
るような粉末スパッタリング装置を用いることが好まし
い。この装置は、内部にターゲットを設けた真空槽内に
粉末を入れ、この真空槽を回転させながらスパッタリン
グを行なうものであり、磁石粒子表面に均一な厚さで非
磁性被覆を形成することができる。

【００７５】また、ＣＶＤ法は、ステップカバレージが
高く、磁石粒子全表面にほぼ均一な厚さの非磁性被覆を
形成することができるので好ましい。熱ＣＶＤ法を用い
る場合、例えば、加熱した皿状体の上に磁石粒子を載置
し、前記皿状体を振動させたり回転させたりしながら熱
ＣＶＤを行なえばよい。

【００７６】熱ＣＶＤにより非磁性被覆を形成する場
合、原料には非磁性被覆構成元素を含む各種揮発性化合
物を用いればよい。

【００７７】上記した気相成長法の他、機械的エネルギ
ーにより非磁性被覆を形成することもできる。例えば、
非磁性被覆構成元素を含有する非磁性被覆原料粒子と磁
石粒子とを混合し、これらの粒子に機械的エネルギーを
与えて融合させる。このとき、少なくとも磁石粒子の磁
気特性が破壊されないように機械的エネルギーを与え
る。

【００７８】このように機械的エネルギーを与える方法
としては、被覆条件の制御および作業が容易で、しかも
均質かつ均一な厚さの連続膜を形成でき、膜厚の制御が
容易な点で、メカノフュージョンが好ましい。

【００７９】本明細書においてメカノフュージョンと
は、複数の異なる素材粒子間に機械的エネルギー、特に
機械的歪力を加えて、メカノケミカル的な反応を起こさ
せる技術のことである。このような機械的な歪力を印加
する装置としては、例えば、特開昭６３−４２７２８号
公報等に記載されているような粉粒体処理装置があり、
具体的には、ホソカワミクロン社製のメカノフュージョ
ンシステムや奈良機械製作所製ハイブリダイゼーション
システムなどが好適である。

【００８０】メカノフュージョン被覆装置の一例を図１
に示す。図１においてメカノフュージョン被覆装置７
は、粉体を入れたケーシング８を高速回転させて粉体層
６をその内周面８１に形成すると共に、摩擦片９１、か
き取り片９５をケーシング８と相対回転させ、ケーシン
グ８の内周面８１にて、摩擦片９１により粉体層６に圧
縮や摩擦をかけ、同時にかき取り片９５により、かき取
りや分散、攪拌を行なうものである。

【００８１】メカノフュージョンの際の各種条件は、非
磁性被覆原料粒子の組成や目的とする非磁性被覆の構成
に応じて適宜設定すればよいが、例えば上記の装置に
て、混合時間は２０〜４０分程度、ケーシング８の回転
数は８００〜２０００rpm 程度、温度は１５〜７０℃程
度とし、その他の条件は通常のものとすればよい。ま
た、非磁性被覆原料粒子の平均粒子径は、０．５〜１０
μm 程度とすることが好ましい。

【００８２】このようなメカノフュージョンにおいて各
種条件を適宜選択することにより、非磁性被覆形成と共
に混在部を形成することが可能である。

【００８３】なお、上記した各方法により非磁性被覆を
形成した場合、磁石粒子が凝集することがあるが、樹脂
ボンディッド磁石に適用する場合には必要に応じて解砕
すればよく、非磁性被覆中に複数の磁石粒子が存在して
いてもよい。

【００８４】以上に挙げた方法のように磁石粒子に直接
非磁性被覆を形成する方法の他、非磁性金属のバインダ
中に磁石粒子が分散されている金属ボンディッド磁石を
粉砕する方法を用いても、非磁性被覆を有する磁石粒子
を製造することができる。この場合、バインダが非磁性
被覆となる。

【００８５】粉砕される金属ボンディッド磁石の製造方
法に特に制限はない。例えば、磁石粒子からなる磁石粉
末とバインダ粒子からなるバインダの粉末とを混合して
成形した後、熱処理すれば、磁石粒子をバインダにより
結合することができ、金属ボンディッド磁石が得られ
る。

【００８６】この方法を用いる場合、５５０℃以下、好
ましくは５００℃以下で磁石粒子を結合可能なバインダ
を用いる。また、バインダの粉末の平均粒子径は特に限
定されないが、磁石粉末と均一に混合するためには、
０．５〜３０μm 程度とすることが好ましい。混合手段
にも特に制限はなく、例えば、ライカイ機などを用いれ
ばよい。

【００８７】磁石粉末とバインダの粉末との混合物中に
おけるバインダの粉末の含有率は特に限定されないが、
バインダの粉末の含有率が低過ぎると成形性が悪くなっ
て粉砕したときに均一な非磁性被覆が得られにくくな
り、含有率が高すぎると粉砕したときに非磁性被覆が厚
くなりすぎるので、通常、２〜２５体積％とすることが
好ましい。成形手段は特に限定されないが、通常、コン
プレッション成形を行なう。成形時の圧力に特に制限は
ないが、通常、０．２〜１６t/cm² 程度である。

【００８８】なお、このような場合、金属ボンディッド
磁石を粉砕して用いるため、金属ボンディッド磁石に異
方性を付与する必要はないが、非磁性被覆中に複数の磁
石粒子を含む粉砕粉が得られる場合は、これら複数の磁
石粒子の磁化容易軸方向が配向していることが好まし
い。このように配向させるには、上記した成形を磁場中
で行なえばよい。

【００８９】バインダにより磁石粒子を結合するための
熱処理温度は、５５０℃以下、好ましくは５００℃以下
とする。熱処理温度が５５０℃を超えると磁石粉末が分
解してＮが放出される速度が速くなり、磁気特性が低下
する。熱処理温度は５５０℃以下であれば特に制限はな
く、必要な粘度が得られるようにバインダの融点に応じ
て適宜選択すればよいが、１５０℃未満で溶融するバイ
ンダを用いた場合、実用的に十分な熱安定性が得られな
い。また、熱処理の際の温度保持時間は、１０分〜５時
間程度することが好ましい。熱処理手段は特に限定され
ないが、加圧しながら加熱する手段が好ましく、例え
ば、ホットプレスやプラズマ活性化焼結（ＰＡＳ）等が
好ましい。

【００９０】なお、バインダにより磁石粒子を結合する
際にホットプレス等の加圧加熱手段を用いる場合、熱処
理温度がバインダの融点以下であっても、すなわちバイ
ンダが溶融状態になっていなくても、金属ボンディッド
磁石を形成することが可能である。

【００９１】熱処理後、冷却する。なお、磁場中で冷却
すれば、上記した磁場中成形による異方性化を良好に保
つことができる。

【００９２】金属ボンディッド磁石を製造する際には、
鋳造法により成形を行なってもよい。鋳造法を用いる場
合、溶湯状のバインダ中に磁石粉末が分散された流動体
を鋳造により成形する。前記流動体を作製する方法に特
に制限はない。例えば、バインダを溶融して溶湯状と
し、この中に磁石粉末を投入して攪拌混合する方法を用
いてもよく、あるいは、バインダの粉末と磁石粉末とを
混合した後、加熱してバインダを溶融する方法を用いて
もよい。

【００９３】磁石粉末を溶湯状バインダ中に投入する方
法を用いる場合、磁石粉末とバインダとを攪拌混合する
手段に特に制限はなく、例えば、バインダと反応しない
材質（ステンレス等）のインペラにより攪拌する方法な
どを用いることができる。

【００９４】流動体中のバインダの含有率は特に限定さ
れないが、バインダの含有率が低過ぎると成形性が悪く
なって粉砕したときに均一な非磁性被覆が得られにくく
なり、含有率が高すぎると粉砕したときに非磁性被覆が
厚くなりすぎるので、通常、バインダの含有率を１０〜
４０体積％とすることが好ましい。

【００９５】また、上記流動体を作製後、必要に応じて
バインダの一部を除去してもよい。磁石粉末をバインダ
中に均一に分散するためには一定量以上のバインダが必
要とされるが、板状などの比較的単純な形状の金属ボン
ディッド磁石を製造する場合、成形時に高い流動性は必
要とされないため、バインダ量は少なくてもよい。樹脂
ボンディッド磁石製造に用いる場合には、金属ボンディ
ッド磁石の形状は単純な塊状や板状であってよいため、
十分な量のバインダを用いて分散した後、バインダの一
部を除去しても成形可能であり、これにより非磁性被覆
の厚さを薄くできる。非磁性被覆の厚さを薄くできれ
ば、樹脂ボンディッド磁石を形成する際に磁石粒子の充
填率を高くすることができ、しかも成形性は低下しな
い。バインダの一部を除去する方法としては、例えば濾
過や遠心分離などが好ましく、また、減圧下で加熱して
バインダを蒸発させる方法を用いてもよい。

【００９６】溶湯状バインダと磁石粉末からなる流動体
は、鋳型中において冷却されて凝固するが、バインダの
凝固する温度が磁石粉末のキュリー温度以下である場
合、磁場中で凝固させれば磁石粒子の磁化容易軸を配向
させることができ、異方性金属ボンディッド磁石を得る
ことができるので、上記したように非磁性被覆中に複数
の磁石粒子が含有される場合に磁気特性の向上が可能で
ある。

【００９７】分散および鋳造する際の流動体の温度は、
５５０℃以下、好ましくは５００℃以下とする。この限
定の理由は、上記したようにＮの放出を抑えるためであ
る。流動体の温度は５５０℃以下であれば特に制限はな
く、鋳造に必要とされる粘度が得られるようにバインダ
の融点に応じて適宜選択すればよいが、１５０℃未満で
溶融するバインダを用いた場合、実用的に十分な熱安定
性が得られない。

【００９８】これらの方法により製造された金属ボンデ
ィッド磁石を粉砕する方法に特に制限はなく、例えば、
ディスクミルやアトライター等により粉砕すればよい。
粉砕により、非磁性金属のバインダを非磁性被覆として
有する磁石粒子が得られる。なお、非磁性被覆中に１個
の磁石粒子が含まれるように粉砕することが好ましい
が、前述したように複数の磁石粒子が含まれていてもよ
い。

【００９９】本発明では、非磁性被覆形成後、必要に応
じて非磁性被覆の一部を除去してもよい。非磁性被覆は
磁石粒子の酸化を防止し、また、磁石粒子の表面欠陥を
修復する作用をもてばよいので、これらに必要とされる
厚さを超える領域の非磁性被覆を除去すれば、保磁力向
上効果を維持したままでさらに磁気特性を向上させるこ
とが可能となる。特に、上記した非磁性被覆形成方法の
うち、金属ボンディッド磁石を粉砕する方法を用いる場
合、非磁性被覆が厚くなり易いので、この方法は有効で
ある。

【０１００】非磁性被覆の一部を除去する方法は特に限
定されないが、非磁性被覆を有する磁石粒子をアルカリ
性溶液や酸性溶液により洗浄する方法が好ましい。

【０１０１】なお、微粉砕工程および被覆工程のいずれ
か一方を非酸化性雰囲気中において他方を非水系溶媒中
において行なってもよい。この場合、微粉砕工程から被
覆工程に移行する際に磁石粒子を非酸化性雰囲気中に保
持し、磁石粒子表面の酸化を防止する。また、微粉砕工
程を非水系溶媒中で行ない、被覆工程に移行するまでの
間、磁石粒子を非酸化性雰囲気中に保持し、次いで、非
水系溶媒中で被覆工程を行なってもよい。

【０１０２】以上では粗粉砕工程→窒化工程→微粉砕工
程→被覆工程の順で行なう場合について説明したが、微
粉砕工程と被覆工程とを非水系溶媒中で連続して行なう
場合以外には、粗粉砕工程→微粉砕工程→窒化工程→被
覆工程の順で行なってもよい。この場合、粗粉砕工程に
より得た合金粒子を微粉砕工程により合金微粒子とし、
この合金微粒子を窒化工程により窒化し、磁石粒子を製
造する。そして、微粉砕工程と被覆工程とは、非酸化性
雰囲気中または非水系溶媒中で行なう。各工程をこのよ
うな順序で行なう場合、微粉砕工程から窒化工程に移行
する際に合金微粒子を非酸化性雰囲気中に保持し、か
つ、窒化工程から被覆工程に移行する際に磁石粒子を非
酸化性雰囲気中に保持する。

【０１０３】樹脂ボンディッド磁石の製造方法上記のようにして製造された非磁性被覆を有する磁石粒
子は、通常、樹脂バインダ中に分散されて樹脂ボンディ
ッド磁石とされる。

【０１０４】樹脂ボンディッド磁石の製造は、通常の方
法に従って行なえばよい。すなわち、非磁性被覆を有す
る磁石粒子と樹脂バインダとを混合後、成形し、必要に
応じて熱処理を施す。

【０１０５】成形方法に特に制限はなく、コンプレッシ
ョン成形を用いるコンプレッションボンディッド磁石お
よびインジェクション成形を用いるインジェクションボ
ンディッド磁石のいずれであってもよい。

【０１０６】用いるバインダに特に制限はなく、公知の
樹脂ボンディッド磁石に利用される各種樹脂を用いれば
よい。例えば、コンプレッションボンディッド磁石の場
合は各種硬化剤を用いたエポキシ樹脂等の各種熱硬化性
樹脂を、また、インジェクションボンディッド磁石の場
合はポリアミド樹脂等の各種熱可塑性樹脂を用いればよ
い。なお、混合時のバインダの状態には特に制限はな
い。

【０１０７】磁石粒子とバインダとの混合方法に特に制
限はなく、水平回転円筒型混合機、正立方体型混合機、
縦形二重円錐型混合機、Ｖ型混合機、鋤板混合機、らせ
ん混合機、リボン混合機、衝撃回転混合機等のいずれを
用いてもよい。コンプレッション成形あるいはインジェ
クション成形の条件に特に制限はなく、公知の条件から
適当に選択すればよい。

【０１０８】なお、樹脂ボンディッド磁石には、上記し
た磁石粒子およびバインダに加え、必要に応じて潤滑
剤、カップリング剤、可塑剤、酸化防止剤等が含有され
ていてもよい。

【０１０９】

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を挙げる。

【０１１０】［実施例１］＜合金粒子の製造＞まず、高周波誘導加熱により、原子
比組成が１０．９Ｓｍ−８９．１Ｆｅである母合金イン
ゴットを作製した。この母合金インゴットはＴｈ₂ Ｚｎ
₁₇型の菱面体晶構造の結晶粒を有し、平均結晶粒径は約
３００μm であった。なお、結晶構造はＸ線回折法によ
り確認した。

【０１１１】次に、母合金インゴットに溶体化処理を施
した。溶体化処理は、Ａｒガス雰囲気中にて１１５０℃
で１６時間行なった。

【０１１２】溶体化処理後、母合金インゴットを平均粒
子径２０μm まで粉砕し、合金粒子とした。

【０１１３】＜窒化粒子の製造＞次に、合金粒子に窒化
処理を施し、窒化粒子を製造した。窒化粒子の窒素含有
量は１４原子％であった。窒化処理は、Ｎ₂ ガス雰囲気
中にて４５０℃で１０時間熱処理することにより行なっ
た。

【０１１４】＜磁石粒子の製造＞次に、以下に示す各方
法により、窒化粒子を微粉砕して磁石粒子とし、さらに
磁石粒子表面に非磁性被覆を形成した。

【０１１５】非水系溶媒中における微粉砕および非磁性
被覆形成まず、窒化粒子をキシレンおよびジメチルホルムアミド
と混合して分散液を調製し、この分散液をボールミルに
入れ、平均粒子径４μm まで粉砕した。ボールミルの容
器中には窒素ガスを充填し、容器を密閉した。容器中の
酸素分圧は１０^-4Torr以下とした。次いで、分散液をボ
ールミルから取り出してめっき浴と混合し、前述した傾
斜型電気めっき装置を用いて電気めっき法により非磁性
被覆を形成した。めっき浴には、ＣｕＣｌ₂ のジメチル
ホルムアミド溶液を用いた。上記分散液混合後のＣｕＣ
ｌ₂ の濃度は、０．１５mol/l であった。めっき浴温度
は３０℃、電流密度は０．５ A/dm²とした。

【０１１６】このようにして形成されたＣｕ被覆は平均
厚さ２０nmであり、磁石粒子の全表面を覆っていた。こ
の磁石粒子からなる粉末をサンプルNo. １とした。

【０１１７】また、めっき浴にＣｒＣｌ₃ のアセトニト
リル溶液（混合後の濃度は０．１mol/l ）を用い、その
他は上記と同様にして、磁石粒子表面に平均厚さ２０nm
のＣｒ被覆を形成した。この磁石粒子からなる磁石粉末
をサンプルNo. ２とした。

【０１１８】非酸化性雰囲気中における微粉砕および非
磁性被覆形成上記窒化粒子を酸素分圧１０^-5Torr以下の窒素ガス雰囲
気中で、ジェットミルにより平均粒子径３μm まで微粉
砕して磁石粒子とした。そして、前記雰囲気を保持した
まま、内部にスパッタターゲットを設けた真空槽内に磁
石粒子を入れ、真空槽内を１０^-9Torr以下まで排気し
た。次いで、Ａｒガスを導入して真空槽内を１０^-2Torr
とし、真空槽を回転させながらスパッタを行なった。タ
ーゲットにはＩｎを用いた。このようにして形成された
Ｉｎ被覆は平均厚さ１０nmであり、磁石粒子の全表面を
覆っていた。この磁石粒子からなる粉末をサンプルNo.
３とした。

【０１１９】比較のために、上記窒化粒子を、酸素分圧
１０^-2Torrの窒素ガス雰囲気中で平均粒子径３μm まで
粉砕して、磁石粒子を製造した。この磁石粒子からなる
磁石粉末をサンプルNo. ４とした。このサンプルNo. ４
を、オージェ分光分析したところ、磁石粒子表面から１
０〜２０nmの深さまでの酸素強度が磁石粒子中央付近の
酸素強度の１０倍以上高かった。

【０１２０】これらのサンプルの保磁力 iＨc および飽
和磁化４πＩs をＶＳＭにより測定した。また、これら
のサンプルの酸素含有量をガス分析により測定した。こ
れらは、サンプル製造直後と、２００℃の空気中に１時
間放置した後に測定した。結果を下記表１に示す。

【０１２１】

【表１】

【０１２２】表１に示される結果から、本発明の効果が
明らかである。

【０１２３】［実施例２］＜樹脂ボンディッド磁石の製造＞実施例１で製造した各
磁石粉末サンプルを用いて樹脂ボンディッド磁石を作製
した。

【０１２４】まず、エポキシ樹脂の粉末を有機溶剤に溶
解し、さらに磁石粒子を前記有機溶剤中に投入して攪拌
し、スラリーとした。このスラリーを、スプレードライ
ヤーにより乾燥させ、磁石粒子をエポキシ樹脂で被覆し
た。具体的には、８kgf/cm²の圧力で噴射されている窒
素ガス中に前記スラリーを吐出し、前記スラリー１kgに
対し５０m³/10minの流量の窒素ガスで乾燥させた。

【０１２５】次いで、磁石粒子をコンプレッション成形
し、さらに熱硬化を行なって、樹脂ボンディッド磁石を
得た。

【０１２６】これらの樹脂ボンディッド磁石について保
磁力の測定を行なったところ、用いた磁石粒子に応じた
保磁力を示した。

【０１２７】

【発明の効果】本発明では、磁石粒子表面における酸化
層の生成を防ぎ、かつ磁石粒子表面に非磁性被覆を形成
するため、保磁力が高く、しかもその経時劣化の小さい
磁石粒子が実現する。

【図面の簡単な説明】

【図１】磁石粒子表面に非磁性被覆を形成する際に用い
るメカノフュージョンによる被覆装置の１例を示す断面
図である。

【符号の説明】

６粉体層７メカノフュージョン被覆装置８ケーシング９１摩擦片９５かき取り片

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｈ０１Ｆ 41/02 Ｇ 8019−5Ｅ // Ｃ２３Ｃ 8/26 7516−4Ｋ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】Ｒ（ただし、Ｒは希土類元素から選択さ
れる１種以上の元素であり、Ｓｍを必須元素として含
む。）を５〜１５原子％、Ｎを０．５〜２５原子％含有
し、残部がＴ（ただし、ＴはＦｅ、またはＦｅおよびＣ
ｏである。）である磁石を製造する方法であって、ＲおよびＴを含有する母合金を粗粉砕して合金粒子を得
る粗粉砕工程と、合金粒子に窒化処理を施して窒化粒子
を得る窒化工程と、前記窒化粒子を微粉砕して磁石粒子
を得る微粉砕工程と、前記磁石粒子表面に非磁性被覆を
形成する被覆工程とを有し、前記微粉砕工程と前記被覆工程とが、非水系溶媒中にお
いて連続して行なわれることを特徴とする磁石の製造方
法。
【請求項２】Ｒ（ただし、Ｒは希土類元素から選択さ
れる１種以上の元素であり、Ｓｍを必須元素として含
む。）を５〜１５原子％、Ｎを０．５〜２５原子％含有
し、残部がＴ（ただし、ＴはＦｅ、またはＦｅおよびＣ
ｏである。）である磁石を製造する方法であって、ＲおよびＴを含有する母合金を粗粉砕して合金粒子を得
る粗粉砕工程と、合金粒子に窒化処理を施して窒化粒子
を得る窒化工程と、前記窒化粒子を微粉砕して磁石粒子
を得る微粉砕工程と、前記磁石粒子表面に非磁性被覆を
形成する被覆工程とを有し、前記微粉砕工程および前記被覆工程が、非酸化性雰囲気
中または非水系溶媒中において行なわれ、前記微粉砕工
程から前記被覆工程に移行する際に前記磁石粒子が非酸
化性雰囲気中に保持されることを特徴とする磁石の製造
方法。
【請求項３】Ｒ（ただし、Ｒは希土類元素から選択さ
れる１種以上の元素であり、Ｓｍを必須元素として含
む。）を５〜１５原子％、Ｎを０．５〜２５原子％含有
し、残部がＴ（ただし、ＴはＦｅ、またはＦｅおよびＣ
ｏである。）である磁石を製造する方法であって、ＲおよびＴを含有する母合金を粗粉砕して合金粒子を得
る粗粉砕工程と、合金粒子を微粉砕して合金微粒子を得
る微粉砕工程と、前記合金微粒子に窒化処理を施して磁
石粒子を得る窒化工程と、前記磁石粒子表面に非磁性被
覆を形成する被覆工程とを有し、前記微粉砕工程および前記被覆工程が、非酸化性雰囲気
中または非水系溶媒中において行なわれ、前記微粉砕工
程から前記窒化工程に移行する際に前記合金微粒子が非
酸化性雰囲気中に保持され、かつ、前記窒化工程から前
記被覆工程に移行する際に前記磁石粒子が非酸化性雰囲
気中に保持されることを特徴とする磁石の製造方法。
【請求項４】前記非磁性被覆が金属、無機化合物また
は有機化合物から構成される請求項１ないし３のいずれ
かに記載の磁石の製造方法。
【請求項５】非磁性被覆を形成した前記磁石粒子を樹
脂バインダ中に分散して樹脂ボンディッド磁石を作製す
る工程を有する請求項１ないし４のいずれかに記載の磁
石の製造方法。
【請求項６】Ｒ（ただし、Ｒは希土類元素から選択さ
れる１種以上の元素であり、Ｓｍを必須元素として含
む。）を５〜１５原子％、Ｎを０．５〜２５原子％含有
し、残部がＴ（ただし、ＴはＦｅ、またはＦｅおよびＣ
ｏである。）であって、金属から構成される非磁性被覆
が表面に形成されており、酸素含有量が６０００ppm 以
下である磁石粒子を含むことを特徴とする磁石粉末。
【請求項７】Ｒ（ただし、Ｒは希土類元素から選択さ
れる１種以上の元素であり、Ｓｍを必須元素として含
む。）を５〜１５原子％、Ｎを０．５〜２５原子％含有
し、残部がＴ（ただし、ＴはＦｅ、またはＦｅおよびＣ
ｏである。）であって、無機化合物または有機化合物か
ら構成される非磁性被覆が表面に形成されている磁石粒
子を含むことを特徴とする磁石粉末。