JPH0519328Y2 - - Google Patents
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- JPH0519328Y2 JPH0519328Y2 JP1986086822U JP8682286U JPH0519328Y2 JP H0519328 Y2 JPH0519328 Y2 JP H0519328Y2 JP 1986086822 U JP1986086822 U JP 1986086822U JP 8682286 U JP8682286 U JP 8682286U JP H0519328 Y2 JPH0519328 Y2 JP H0519328Y2
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- evaporation
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Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この考案は、金属シートの表面に薄膜を形成す
るイオンビーム蒸着装置に関するものである。
るイオンビーム蒸着装置に関するものである。
従来より、金属シートの表面に薄膜を形成して
シート表面の改質（硬度向上、耐摩耗性向上、耐
食性向上、摩擦係数低減、色調光沢改善）を行な
つている。
シート表面の改質（硬度向上、耐摩耗性向上、耐
食性向上、摩擦係数低減、色調光沢改善）を行な
つている。
このような薄膜の形成は、第３図に示すイオン
ビーム蒸着装置により行なつている。図におい
て、４０は鋼板等の金属シートからなる被蒸着部
材であり、真空槽４２内をローラ４４により矢印
方向に水平移動する。また、真空槽４２内には、
被蒸着部材４０の下方において、被蒸着部材４０
の搬送方向に蒸発源４６、イオン源４８、蒸発源
５０が交互に並んで設けられている。蒸発源４
６，５０は、電子銃（図示せず）から電子ビーム
を照射して容器４６ａ，５０ａ内の蒸着材料（例
えばAl）５２を電子ビーム加熱することで蒸着
材料５２を蒸気化させるものである。また、イオ
ン源４８は、例えばAr等の元素のイオンを被蒸
着部材４０に向けて加速して照射するものであ
る。
ビーム蒸着装置により行なつている。図におい
て、４０は鋼板等の金属シートからなる被蒸着部
材であり、真空槽４２内をローラ４４により矢印
方向に水平移動する。また、真空槽４２内には、
被蒸着部材４０の下方において、被蒸着部材４０
の搬送方向に蒸発源４６、イオン源４８、蒸発源
５０が交互に並んで設けられている。蒸発源４
６，５０は、電子銃（図示せず）から電子ビーム
を照射して容器４６ａ，５０ａ内の蒸着材料（例
えばAl）５２を電子ビーム加熱することで蒸着
材料５２を蒸気化させるものである。また、イオ
ン源４８は、例えばAr等の元素のイオンを被蒸
着部材４０に向けて加速して照射するものであ
る。
次に、被蒸着部材４０の下面に薄膜を形成する
動作を説明する。
動作を説明する。
まず、蒸発源４６より蒸発した蒸着材料が被
蒸着部材４０の下面に蒸着し、厚さ300Å程度
の蒸着層を形成する。
蒸着部材４０の下面に蒸着し、厚さ300Å程度
の蒸着層を形成する。
次に、イオン源４８よりで形成した蒸着層
に向けて30keV程度のエネルギをもつたArイ
オンを1015個／cm2程度照射して蒸着層に注入
し、被蒸着部材４０の下面にAlと被蒸着部材
４０の構成原子とが混合したミキシング層を形
成する。
に向けて30keV程度のエネルギをもつたArイ
オンを1015個／cm2程度照射して蒸着層に注入
し、被蒸着部材４０の下面にAlと被蒸着部材
４０の構成原子とが混合したミキシング層を形
成する。
さらに、蒸発源５０より蒸着材料５２を蒸気
化して、で形成したミキシング層の上に更に
Al蒸着を行い、厚さ3μm程度の薄膜を形成す
る。
化して、で形成したミキシング層の上に更に
Al蒸着を行い、厚さ3μm程度の薄膜を形成す
る。
以上のようにして、例えば耐腐食性アルミ皮覆
鋼板が形成される。
鋼板が形成される。
しかし、このように構成されたイオンビーム蒸
着装置によると、蒸着源４６，５０およびイオン
源４８が水平に搬送される被蒸着部材４０の下方
に配設されているので、蒸発源４６，５０から蒸
発した蒸着材料５２がごみとしてイオン源４８内
に落下し、イオン源４８が汚れやすく、イオン源
４８の清浄に手間がかかるという問題があつた。
着装置によると、蒸着源４６，５０およびイオン
源４８が水平に搬送される被蒸着部材４０の下方
に配設されているので、蒸発源４６，５０から蒸
発した蒸着材料５２がごみとしてイオン源４８内
に落下し、イオン源４８が汚れやすく、イオン源
４８の清浄に手間がかかるという問題があつた。
この考案の目的は、イオン源に蒸発した蒸着材
料がごみとして落下せず、保守が容易に行なえる
イオンビーム蒸着装置を提供することである。
料がごみとして落下せず、保守が容易に行なえる
イオンビーム蒸着装置を提供することである。
この考案のイオンビーム蒸着装置は、真空槽
と、 この真空槽内でシート状の被蒸着部材を水平に
搬送する搬送手段と、 前記真空槽内において前記被蒸着部材の上方
に、前記被蒸着部材に蒸発面が対向した状態に設
けられ、陰極となる蒸着材料および陽極となる前
記真空槽間のアーク放電による発熱で蒸着材料を
蒸発させるとともにアークプラズマにより蒸発し
た蒸着材料をイオン化する蒸発源と、 前記真空槽と前記被蒸着部材との間にバイアス
電圧を印加し前記イオン化した蒸着材料を前記被
蒸着部材に引付けるバイアス電源と、 前記被蒸着部材の上方かつ搬送方向下手側にお
いて前記真空槽に設けられ前記被蒸着部材の表面
に蒸着したイオンを照射するイオン源とを備えた
ものである。
と、 この真空槽内でシート状の被蒸着部材を水平に
搬送する搬送手段と、 前記真空槽内において前記被蒸着部材の上方
に、前記被蒸着部材に蒸発面が対向した状態に設
けられ、陰極となる蒸着材料および陽極となる前
記真空槽間のアーク放電による発熱で蒸着材料を
蒸発させるとともにアークプラズマにより蒸発し
た蒸着材料をイオン化する蒸発源と、 前記真空槽と前記被蒸着部材との間にバイアス
電圧を印加し前記イオン化した蒸着材料を前記被
蒸着部材に引付けるバイアス電源と、 前記被蒸着部材の上方かつ搬送方向下手側にお
いて前記真空槽に設けられ前記被蒸着部材の表面
に蒸着したイオンを照射するイオン源とを備えた
ものである。
この考案の構成によれば、水平に搬送する被蒸
着部材の上方に蒸発源とイオン源とを配置したこ
とにより、蒸発した蒸着材料がごみとしてイオン
源に落下せずイオン源が汚れにくくなり、保守を
容易に行なうことができる。
着部材の上方に蒸発源とイオン源とを配置したこ
とにより、蒸発した蒸着材料がごみとしてイオン
源に落下せずイオン源が汚れにくくなり、保守を
容易に行なうことができる。
また、蒸発源の蒸発面を被蒸着部材に対向さ
せ、蒸発源において陰極となる蒸着材料および陽
極となる真空槽間のアーク放電による発熱で蒸着
材料を蒸発させるとともにアークプラズマにより
蒸発した蒸着材料をイオン化し、さらにバイアス
電源によつてイオン化した蒸着材料を被蒸着部材
に引付けるようにしたことによつて、蒸発源から
蒸発した蒸着材料を効率よく被蒸着部材に蒸着さ
せることができ、蒸発源を被蒸着部材の上方に位
置させることによる蒸着効率の低下の問題は生じ
ない。
せ、蒸発源において陰極となる蒸着材料および陽
極となる真空槽間のアーク放電による発熱で蒸着
材料を蒸発させるとともにアークプラズマにより
蒸発した蒸着材料をイオン化し、さらにバイアス
電源によつてイオン化した蒸着材料を被蒸着部材
に引付けるようにしたことによつて、蒸発源から
蒸発した蒸着材料を効率よく被蒸着部材に蒸着さ
せることができ、蒸発源を被蒸着部材の上方に位
置させることによる蒸着効率の低下の問題は生じ
ない。
このように、蒸発源を被蒸着部材の上方に位置
させた状態で蒸発源の蒸発面を被蒸着面に対向さ
せることができるのは、つまり蒸発源の蒸発面を
下向きにできるのは、蒸着材料の全体が溶融する
のではなく、蒸発面のアーク放電によつて生じる
アークスポツトの部分のごく少量のみが高温にな
つて溶融し、蒸発面を下向きにしても溶融した蒸
着材料が垂れ落ちることがないからである。
させた状態で蒸発源の蒸発面を被蒸着面に対向さ
せることができるのは、つまり蒸発源の蒸発面を
下向きにできるのは、蒸着材料の全体が溶融する
のではなく、蒸発面のアーク放電によつて生じる
アークスポツトの部分のごく少量のみが高温にな
つて溶融し、蒸発面を下向きにしても溶融した蒸
着材料が垂れ落ちることがないからである。
この考案の一実施例を第１図および第２図に基
づいて説明する。このイオンビーム蒸着装置は、
第１図に示すように、真空槽１０内にシート状の
被蒸着部材１４を搬送手段１２により水平に搬送
し、真空槽１０内で被蒸着部材１４の上方に蒸発
源１６，１６′を設け、蒸発源１６の被蒸着部材
１４の搬送方向下手側において真空槽１０内にイ
オン源１８を設けたものである。
づいて説明する。このイオンビーム蒸着装置は、
第１図に示すように、真空槽１０内にシート状の
被蒸着部材１４を搬送手段１２により水平に搬送
し、真空槽１０内で被蒸着部材１４の上方に蒸発
源１６，１６′を設け、蒸発源１６の被蒸着部材
１４の搬送方向下手側において真空槽１０内にイ
オン源１８を設けたものである。
蒸発源１６，１６′は、被蒸着部材１４の上方
に位置した陰極２４，２４′となる蒸着材料およ
び陽極となる真空槽１０間のアーク放電による発
熱で蒸着材料からなる陰極２４，２４′を蒸発さ
せるとともにアークプラズマにより蒸発した蒸着
材料をイオン化するものである。イオン化した蒸
着材料は、バイアス電源３４によつて真空槽１０
と被蒸着部材１４との間に印加したバイアス電圧
により被蒸着部材１４に引付けられる。
に位置した陰極２４，２４′となる蒸着材料およ
び陽極となる真空槽１０間のアーク放電による発
熱で蒸着材料からなる陰極２４，２４′を蒸発さ
せるとともにアークプラズマにより蒸発した蒸着
材料をイオン化するものである。イオン化した蒸
着材料は、バイアス電源３４によつて真空槽１０
と被蒸着部材１４との間に印加したバイアス電圧
により被蒸着部材１４に引付けられる。
また、イオン源１８は、被蒸着部材１４の表面
に蒸着した蒸着層にイオンを照射するものであ
る。
に蒸着した蒸着層にイオンを照射するものであ
る。
真空層１０は金属等の導電性材料からなり、左
右に補助真空槽２０，２２が形成されており、真
空槽１０内を所定の真空度に維持している。被蒸
着部材１４は金属シート等からなり、真空槽１０
に設けたローラからなる搬送手段１２によつて、
真空槽１０内を右から左へ水平に搬送される。
右に補助真空槽２０，２２が形成されており、真
空槽１０内を所定の真空度に維持している。被蒸
着部材１４は金属シート等からなり、真空槽１０
に設けたローラからなる搬送手段１２によつて、
真空槽１０内を右から左へ水平に搬送される。
蒸発源１６，１６′とイオン源１８は、真空槽
１０内において被蒸着部材１４の上方に並んで設
けられており、被蒸着部材１４の上面に薄膜を形
成する。各蒸着源１６，１６′は、真空槽１０に
固定されAl等の蒸着材料でできた陰極２４，２
４′と、陰極２４，２４′の中央部に設けたトリガ
電極２６，２６′と、陰極２４，２４′に負極を接
続し正極を陽極である真空槽１０およびトリガ電
極２６，２６′に接続したアーク電源２８，２
８′と、このアーク電源２８，２８′とトリガ電極
２６，２６′との間に設けた抵抗３０，３０′と、
陰極２４，２４′を接地電位にある真空槽１０よ
り絶縁するための絶縁物３１，３１′とから構成
されている。また、イオン源１８は、例えばAr
イオンをマルチアパーチヤ３２から引き出して加
速し被蒸着部材１４に照射するものである。な
お、バイアス電源３４は、負極を被蒸着部材１４
に接し正極を真空槽１０に接続した直流の電源か
らなる。また、第２図は、イオンビーム蒸着装置
の要部斜視図を示している。
１０内において被蒸着部材１４の上方に並んで設
けられており、被蒸着部材１４の上面に薄膜を形
成する。各蒸着源１６，１６′は、真空槽１０に
固定されAl等の蒸着材料でできた陰極２４，２
４′と、陰極２４，２４′の中央部に設けたトリガ
電極２６，２６′と、陰極２４，２４′に負極を接
続し正極を陽極である真空槽１０およびトリガ電
極２６，２６′に接続したアーク電源２８，２
８′と、このアーク電源２８，２８′とトリガ電極
２６，２６′との間に設けた抵抗３０，３０′と、
陰極２４，２４′を接地電位にある真空槽１０よ
り絶縁するための絶縁物３１，３１′とから構成
されている。また、イオン源１８は、例えばAr
イオンをマルチアパーチヤ３２から引き出して加
速し被蒸着部材１４に照射するものである。な
お、バイアス電源３４は、負極を被蒸着部材１４
に接し正極を真空槽１０に接続した直流の電源か
らなる。また、第２図は、イオンビーム蒸着装置
の要部斜視図を示している。
次に、被蒸着部材１４の上面に薄膜を形成する
動作について説明する。
動作について説明する。
まず、図示しない駆動源につながれた一つま
たは複数個の搬送手段１２を駆動して被蒸着部
材１４を右から左へ搬送する。
たは複数個の搬送手段１２を駆動して被蒸着部
材１４を右から左へ搬送する。
蒸発源１６より蒸着材料を蒸気化して被蒸着
部材１４の上面に蒸着し、厚さ300Å程度の蒸
着層を形成する。蒸着材料の蒸着は、次のよう
にして行なう。まず、トリガ電極２６と陰極２
４との間にアーク放電が起きて蒸着材料が蒸発
し、さらにこの蒸発した蒸着材料を介して蒸着
材料からなる陰極２４と陽極である真空槽１０
との間にアーク放電が発生して蒸着材料が蒸発
してイオン化する。蒸発してイオン化した蒸着
材料は、バイアス電源３４によるバイアス電圧
によつて、被蒸着部材１４の表面に引付けられ
被蒸着部材１４の上面に蒸着して、Alの蒸着
層を形成する。
部材１４の上面に蒸着し、厚さ300Å程度の蒸
着層を形成する。蒸着材料の蒸着は、次のよう
にして行なう。まず、トリガ電極２６と陰極２
４との間にアーク放電が起きて蒸着材料が蒸発
し、さらにこの蒸発した蒸着材料を介して蒸着
材料からなる陰極２４と陽極である真空槽１０
との間にアーク放電が発生して蒸着材料が蒸発
してイオン化する。蒸発してイオン化した蒸着
材料は、バイアス電源３４によるバイアス電圧
によつて、被蒸着部材１４の表面に引付けられ
被蒸着部材１４の上面に蒸着して、Alの蒸着
層を形成する。
イオン源１８よりで形成した蒸着層に向け
て例えば30keVのエネルギをもつたArイオン
を1015個／cm2程度照射して蒸着層に注入し、被
蒸着部材１４の表面にAlと被蒸着部材１４の
構成原子とが混合したミキシング層を形成す
る。
て例えば30keVのエネルギをもつたArイオン
を1015個／cm2程度照射して蒸着層に注入し、被
蒸着部材１４の表面にAlと被蒸着部材１４の
構成原子とが混合したミキシング層を形成す
る。
次に、蒸発源１６′より蒸着材料を蒸気化し
てで形成したミキシング層に蒸着し、厚さ
3μm程度の薄膜を形成する。ミキシング層は
Alと被蒸着部材１４の構成原子とが混合した
ものであり、Alイオンはミキシング層に強固
に蒸着する。
てで形成したミキシング層に蒸着し、厚さ
3μm程度の薄膜を形成する。ミキシング層は
Alと被蒸着部材１４の構成原子とが混合した
ものであり、Alイオンはミキシング層に強固
に蒸着する。
以上のようにして、被蒸着部材１４の上面に
Alの耐腐食性薄膜を形成する。
Alの耐腐食性薄膜を形成する。
このように構成されたイオンビーム蒸着装置に
よると、水平に搬送する被蒸着部材１４の上方に
蒸発源１６，１６′およびイオン源１８を配置し
たので、蒸発した蒸着材料がイオン源１８に落下
しない。また、被蒸着部材１４の上方に蒸発源１
６，１６′ならびにイオン源１８を配設し、被蒸
着部材１４の上面に薄膜を形成するようにしたの
で、被蒸着部材１４の下面に適宜搬送手段１２を
設けて被蒸着部材１４を受けることができる。し
たがつて、被蒸着部材１４の上面においては、蒸
発源１６，１６′の前後における搬送手段１２の
間隔を大きく取ることができる。したがつて、蒸
発源１６，１６′から蒸発した蒸着材料が搬送手
段１２に付着し難くなる。このように、蒸発した
蒸着材料がごみとしてイオン源１８に落下せずイ
オン源１８が汚れにくく、かつ搬送手段１２にも
付着しにくくなり、清浄等の保守が容易に行なえ
る。
よると、水平に搬送する被蒸着部材１４の上方に
蒸発源１６，１６′およびイオン源１８を配置し
たので、蒸発した蒸着材料がイオン源１８に落下
しない。また、被蒸着部材１４の上方に蒸発源１
６，１６′ならびにイオン源１８を配設し、被蒸
着部材１４の上面に薄膜を形成するようにしたの
で、被蒸着部材１４の下面に適宜搬送手段１２を
設けて被蒸着部材１４を受けることができる。し
たがつて、被蒸着部材１４の上面においては、蒸
発源１６，１６′の前後における搬送手段１２の
間隔を大きく取ることができる。したがつて、蒸
発源１６，１６′から蒸発した蒸着材料が搬送手
段１２に付着し難くなる。このように、蒸発した
蒸着材料がごみとしてイオン源１８に落下せずイ
オン源１８が汚れにくく、かつ搬送手段１２にも
付着しにくくなり、清浄等の保守が容易に行なえ
る。
また、蒸発源１６，１６′の蒸発面を被蒸着部
材１４に対向させ、蒸発源１６，１６′において
陰極２４，２４′となる蒸着材料および陽極とな
る真空槽１０間のアーク放電による発熱で蒸着材
料を蒸発させるとともにアークプラズマにより蒸
発した蒸着材料をイオン化し、さらにバイアス電
源３４によつてイオン化した蒸着材料を被蒸着部
材１４に引付けるようにしたことによつて、蒸発
源１６，１６′から蒸発した蒸着材料を効率よく
被蒸着部材１４に蒸着させることができ、蒸発源
１６，１６′を被蒸着部材１４の上方に位置させ
ることによる蒸着効率の低下の問題が生じない。
材１４に対向させ、蒸発源１６，１６′において
陰極２４，２４′となる蒸着材料および陽極とな
る真空槽１０間のアーク放電による発熱で蒸着材
料を蒸発させるとともにアークプラズマにより蒸
発した蒸着材料をイオン化し、さらにバイアス電
源３４によつてイオン化した蒸着材料を被蒸着部
材１４に引付けるようにしたことによつて、蒸発
源１６，１６′から蒸発した蒸着材料を効率よく
被蒸着部材１４に蒸着させることができ、蒸発源
１６，１６′を被蒸着部材１４の上方に位置させ
ることによる蒸着効率の低下の問題が生じない。
しかも、蒸着材料の溶融は、アーク放電によつ
て行なうので、蒸着材料は放電した部分しか溶融
しない。したがつて、蒸発源１６，１６′を被蒸
着部材１４の上方に下向きに配置しても蒸着材料
がこぼれたりしない。
て行なうので、蒸着材料は放電した部分しか溶融
しない。したがつて、蒸発源１６，１６′を被蒸
着部材１４の上方に下向きに配置しても蒸着材料
がこぼれたりしない。
また、ミキシング層形成に必要なイオン源１８
のイオンビーム量（約1015個／cm2）は、普通の
TiN膜等の形成に必要なイオンビーム量に比べ
て非常に少なく、ミキシング層形成における所要
時間が少なくて済む。
のイオンビーム量（約1015個／cm2）は、普通の
TiN膜等の形成に必要なイオンビーム量に比べ
て非常に少なく、ミキシング層形成における所要
時間が少なくて済む。
さらに、蒸発源１６とイオン源１８によつて被
蒸着部材１４にミキシング層を形成した後、さら
に蒸発源１６′によつてAl蒸着を行なうので、密
着性にすぐれた薄膜を形成することができる。
蒸着部材１４にミキシング層を形成した後、さら
に蒸発源１６′によつてAl蒸着を行なうので、密
着性にすぐれた薄膜を形成することができる。
なお、蒸発源１６とイオン源１８のみを設けた
イオンビーム蒸着装置であつてもよく、また蒸発
源による蒸着作業の前に、イオン源による被蒸着
部材１４の表面のクリーニングと活性化を行なつ
てもよい。さらに、本実施例では被蒸着部材１４
の表面にAlの薄膜を形成したが、蒸発源からTi
を蒸発させイオン源でＮイオンを照射してTiN
の金属窒化物の薄膜の形成したり、あるいは蒸発
源からTiを蒸発させイオン源でＣイオンを照射
してTiCの金属炭化物の薄膜を形成できることは
勿論である。
イオンビーム蒸着装置であつてもよく、また蒸発
源による蒸着作業の前に、イオン源による被蒸着
部材１４の表面のクリーニングと活性化を行なつ
てもよい。さらに、本実施例では被蒸着部材１４
の表面にAlの薄膜を形成したが、蒸発源からTi
を蒸発させイオン源でＮイオンを照射してTiN
の金属窒化物の薄膜の形成したり、あるいは蒸発
源からTiを蒸発させイオン源でＣイオンを照射
してTiCの金属炭化物の薄膜を形成できることは
勿論である。
〔考案の効果〕
この考案のイオンビーム蒸着装置によれば、水
平に搬送する被蒸着部材の上方に蒸発源とイオン
源を配置したので蒸発した蒸着材料がごみとして
イオン源に落下せず、保守が容易に行なえるとい
う効果がある。
平に搬送する被蒸着部材の上方に蒸発源とイオン
源を配置したので蒸発した蒸着材料がごみとして
イオン源に落下せず、保守が容易に行なえるとい
う効果がある。
また、蒸発源の蒸発面を被蒸着部材に対向さ
せ、蒸発源において陰極となる蒸着材料および陽
極となる真空槽間のアーク放電による発熱で蒸着
材料を蒸発させるとともにアークプラズマにより
蒸発した蒸着材料をイオン化し、さらにバイアス
電源によつてイオン化した蒸着材料を被蒸着部材
に引付けるようにしたことによつて、蒸発源から
蒸発した蒸着材料を効率よく被蒸着部材に蒸着さ
せることができ、蒸発源を被蒸着部材の上方に位
置させることによる蒸着効率の低下の問題は生じ
ない。
せ、蒸発源において陰極となる蒸着材料および陽
極となる真空槽間のアーク放電による発熱で蒸着
材料を蒸発させるとともにアークプラズマにより
蒸発した蒸着材料をイオン化し、さらにバイアス
電源によつてイオン化した蒸着材料を被蒸着部材
に引付けるようにしたことによつて、蒸発源から
蒸発した蒸着材料を効率よく被蒸着部材に蒸着さ
せることができ、蒸発源を被蒸着部材の上方に位
置させることによる蒸着効率の低下の問題は生じ
ない。
第１図はこの考案の一実施例の概略図、第２図
はその要部斜視図、第３図は従来例の斜視図であ
る。 １０……真空槽、１２……搬送手段、１４……
被蒸着部材、１６，１６′……蒸発源、１８……
イオン源、３４……バイアス電源。
はその要部斜視図、第３図は従来例の斜視図であ
る。 １０……真空槽、１２……搬送手段、１４……
被蒸着部材、１６，１６′……蒸発源、１８……
イオン源、３４……バイアス電源。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 真空槽と、 この真空槽内でシート状の被蒸着部材を水平に
搬送する搬送手段と、 前記真空槽内において前記被蒸着部材の上方
に、前記被蒸着部材に蒸発面が対向した状態に設
けられ、陰極となる蒸着材料および陽極となる前
記真空槽間のアーク放電による発熱で蒸着材料を
蒸発させるとともにアークプラズマにより蒸発し
た蒸着材料をイオン化する蒸発源と、 前記真空槽と前記被蒸着部材との間にバイアス
電圧を印加し前記イオン化した蒸着材料を前記被
蒸着部材に引付けるバイアス電源と、 前記被蒸着部材の上方かつ搬送方向下手側にお
いて前記真空槽に設けられ前記被蒸着部材の表面
に蒸着したイオンを照射するイオン源とを備えた
イオンビーム蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986086822U JPH0519328Y2 (ja) | 1986-06-06 | 1986-06-06 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986086822U JPH0519328Y2 (ja) | 1986-06-06 | 1986-06-06 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62198268U JPS62198268U (ja) | 1987-12-17 |
| JPH0519328Y2 true JPH0519328Y2 (ja) | 1993-05-21 |
Family
ID=30943480
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1986086822U Expired - Lifetime JPH0519328Y2 (ja) | 1986-06-06 | 1986-06-06 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0519328Y2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58100675A (ja) * | 1981-12-11 | 1983-06-15 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 連続蒸着方法及びその装置 |
| JPS6134173A (ja) * | 1984-07-24 | 1986-02-18 | Agency Of Ind Science & Technol | 高硬度窒化ホウ素膜の製造方法 |
-
1986
- 1986-06-06 JP JP1986086822U patent/JPH0519328Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62198268U (ja) | 1987-12-17 |
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