JPH05194015A - 平板瓦の支持方法および支持装置 - Google Patents
平板瓦の支持方法および支持装置Info
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- JPH05194015A JPH05194015A JP755592A JP755592A JPH05194015A JP H05194015 A JPH05194015 A JP H05194015A JP 755592 A JP755592 A JP 755592A JP 755592 A JP755592 A JP 755592A JP H05194015 A JPH05194015 A JP H05194015A
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- Japan
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- tile
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- glaze
- supporting
- flat roof
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- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 37
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 9
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 abstract description 5
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000007665 sagging Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Furnace Charging Or Discharging (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 平板瓦の釉薬の釉だれを確実に防止し、平板
瓦を迅速かつ均質に焼成可能な平板瓦の支持方法を提供
する。 【構成】 窯詰めされる瓦素地１は、棚板８上に傾斜し
て支持具１０に支持される。このため、瓦素地１の表面
の釉薬が重力により流動するとき、釉薬が相反する２方
向へ分散されるので、玉状の釉だれの発生が防止され
る。また、傾斜して配置される複数の瓦素地１の間に斜
め方向に下側から上側にガス流動が生じるため、加熱空
気流の流れによって多数の瓦素地を均一に焼成すること
ができる。
瓦を迅速かつ均質に焼成可能な平板瓦の支持方法を提供
する。 【構成】 窯詰めされる瓦素地１は、棚板８上に傾斜し
て支持具１０に支持される。このため、瓦素地１の表面
の釉薬が重力により流動するとき、釉薬が相反する２方
向へ分散されるので、玉状の釉だれの発生が防止され
る。また、傾斜して配置される複数の瓦素地１の間に斜
め方向に下側から上側にガス流動が生じるため、加熱空
気流の流れによって多数の瓦素地を均一に焼成すること
ができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、平板瓦の瓦素地を窯詰
めするときの平板瓦の支持方法および支持装置に関す
る。
めするときの平板瓦の支持方法および支持装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来より、平板瓦の瓦素地を窯詰めに使
用する支持具は、瓦素地を水平に寝かせて使われる。こ
の種の支持具は、例えば台車上に立てられる支柱の上に
水平に平行になるように複数段設けられ、例えば図４
（Ｂ）に示すように、瓦素地１の表面が水平になるよう
に瓦素地１を支持する。このような上下方向に複数段に
配置される支持具に載せられた瓦素地１を窯詰めし、そ
の瓦素地１を焼成炉内で焼成する。
用する支持具は、瓦素地を水平に寝かせて使われる。こ
の種の支持具は、例えば台車上に立てられる支柱の上に
水平に平行になるように複数段設けられ、例えば図４
（Ｂ）に示すように、瓦素地１の表面が水平になるよう
に瓦素地１を支持する。このような上下方向に複数段に
配置される支持具に載せられた瓦素地１を窯詰めし、そ
の瓦素地１を焼成炉内で焼成する。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の平板瓦の支持方法によると、例えば図３
（Ｂ）に示すように、瓦素地１の表面に塗られる釉薬２
が高温下で粘性の低下によって重力で例えば矢印ａ方向
に流動し、瓦素地１の屈曲部１ａから短脚部の端部１ｂ
にかけて釉薬２が玉状になり、この玉状の釉薬２ａが液
滴となって重力により落下したりあるいはこの玉状の釉
薬２ａがその位置で固形化し、いびつな凸部が形成され
るので、平板瓦の品質が低下するという問題がある。
うな従来の平板瓦の支持方法によると、例えば図３
（Ｂ）に示すように、瓦素地１の表面に塗られる釉薬２
が高温下で粘性の低下によって重力で例えば矢印ａ方向
に流動し、瓦素地１の屈曲部１ａから短脚部の端部１ｂ
にかけて釉薬２が玉状になり、この玉状の釉薬２ａが液
滴となって重力により落下したりあるいはこの玉状の釉
薬２ａがその位置で固形化し、いびつな凸部が形成され
るので、平板瓦の品質が低下するという問題がある。
【０００４】また、従来の平板瓦用焼成炉内における平
板瓦の支持方法によると、例えば図４（Ｂ）に示すよう
に、上下に多段状に瓦素地を水平に寝かせた状態で保持
する構成をとるため、例えば図４（Ｂ）に示す矢印ｄの
水平方向に炉内ガスは移動しやすいが、しかし最下段の
瓦素地１の下方部の炉内ガスが瓦素地１を横切って上方
向に移動するのは困難である。このため、上下方向へ風
が流通しにくいので、瓦素地の焼成に長時間を要し、迅
速焼成がはかれないという問題がある。
板瓦の支持方法によると、例えば図４（Ｂ）に示すよう
に、上下に多段状に瓦素地を水平に寝かせた状態で保持
する構成をとるため、例えば図４（Ｂ）に示す矢印ｄの
水平方向に炉内ガスは移動しやすいが、しかし最下段の
瓦素地１の下方部の炉内ガスが瓦素地１を横切って上方
向に移動するのは困難である。このため、上下方向へ風
が流通しにくいので、瓦素地の焼成に長時間を要し、迅
速焼成がはかれないという問題がある。
【０００５】本発明が解決しようとする課題は、平板瓦
の釉薬の釉だれを確実に防止し、かつ平板瓦を迅速かつ
均質に焼成可能な平板瓦の支持方法を提供することにあ
る。
の釉薬の釉だれを確実に防止し、かつ平板瓦を迅速かつ
均質に焼成可能な平板瓦の支持方法を提供することにあ
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
の本発明による平板瓦を支持する支持方法は、縦断面形
状がＬ字状の平板瓦を焼成するときの瓦素地を支持する
支持方法において、炉内の瓦素地移動方向に瓦素地を傾
斜するように棚板上に瓦素地を支持することを特徴とす
る。
の本発明による平板瓦を支持する支持方法は、縦断面形
状がＬ字状の平板瓦を焼成するときの瓦素地を支持する
支持方法において、炉内の瓦素地移動方向に瓦素地を傾
斜するように棚板上に瓦素地を支持することを特徴とす
る。
【０００７】前記課題を解決するための本発明による平
板瓦の支持装置は、移動手段上に立てられる支柱と、こ
の支柱の頂部に載せられ、上下に貫通する穴を有する棚
板と、前記棚板上に傾斜するように前記移動手段の移動
方向にほぼ平行に並べられる複数の支持具であって、前
記瓦素地を傾斜状態で支持する斜面を有する支持具とを
備えたことを特徴とする。
板瓦の支持装置は、移動手段上に立てられる支柱と、こ
の支柱の頂部に載せられ、上下に貫通する穴を有する棚
板と、前記棚板上に傾斜するように前記移動手段の移動
方向にほぼ平行に並べられる複数の支持具であって、前
記瓦素地を傾斜状態で支持する斜面を有する支持具とを
備えたことを特徴とする。
【０００８】
【作用】本発明の平板瓦の支持方法によると、例えば図
３（Ａ）に示すように、瓦素地１が斜めに傾斜して支持
されるため、瓦素地１の表面の釉薬２が重力により流動
するとき、矢印ｂ、ｃの相反する２方向に釉薬２が分散
されるので、玉状の釉だれの発生を防止することができ
る。また、例えば図４（Ａ）に示すように、傾斜して配
置される複数の瓦素地１の間に矢印ｅ方向の斜めに下側
から上側にガス流動が生じるため、加熱空気流の流れに
よって多数の瓦素地１を均一に焼成することができる。
３（Ａ）に示すように、瓦素地１が斜めに傾斜して支持
されるため、瓦素地１の表面の釉薬２が重力により流動
するとき、矢印ｂ、ｃの相反する２方向に釉薬２が分散
されるので、玉状の釉だれの発生を防止することができ
る。また、例えば図４（Ａ）に示すように、傾斜して配
置される複数の瓦素地１の間に矢印ｅ方向の斜めに下側
から上側にガス流動が生じるため、加熱空気流の流れに
よって多数の瓦素地１を均一に焼成することができる。
【０００９】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。本発明の実施例を図１および図２に示す。焼成炉
に窯詰めされる平板瓦の瓦素地は、図１に示す台車５の
頂面５ａに支柱６が立てられ、支柱６の頂面に平板状の
棚板８が載せられる。棚板８の頂面に支持具１０が傾斜
して棚板８の長手方向に並べられる。この支持具１０の
傾斜面に平板瓦の瓦素地ｌ1 が長手方向に平行に寝かせ
られる。
する。本発明の実施例を図１および図２に示す。焼成炉
に窯詰めされる平板瓦の瓦素地は、図１に示す台車５の
頂面５ａに支柱６が立てられ、支柱６の頂面に平板状の
棚板８が載せられる。棚板８の頂面に支持具１０が傾斜
して棚板８の長手方向に並べられる。この支持具１０の
傾斜面に平板瓦の瓦素地ｌ1 が長手方向に平行に寝かせ
られる。
【００１０】棚板８の中央部には、図２に示すように、
幅広の長穴８ａが形成される。この長穴８ａは、従来の
長穴に比べ、幅ｌが大きくとってある。これは、棚板８
の下方にあるガスをこの長穴８ａを通して上側に流し、
さらに瓦素地１の表面を傾斜して上方へ吹き抜けるよう
にガス流動を積極的に導くためである。図４（Ａ）に示
すように瓦素地１の間隔ｌ2 は、炉内ガスが矢印ｅ方向
に流れるのを許容する程度の間隔に設定されている。こ
れは、ガスの矢印方向への移動を促し、高温ガスによ理
瓦素地１を迅速に焼成するためである。
幅広の長穴８ａが形成される。この長穴８ａは、従来の
長穴に比べ、幅ｌが大きくとってある。これは、棚板８
の下方にあるガスをこの長穴８ａを通して上側に流し、
さらに瓦素地１の表面を傾斜して上方へ吹き抜けるよう
にガス流動を積極的に導くためである。図４（Ａ）に示
すように瓦素地１の間隔ｌ2 は、炉内ガスが矢印ｅ方向
に流れるのを許容する程度の間隔に設定されている。こ
れは、ガスの矢印方向への移動を促し、高温ガスによ理
瓦素地１を迅速に焼成するためである。
【００１１】いま、炉の長手方向距離を例えば８０ｍと
すると、炉の中央部で約０．５ｍｍＡｑの正圧となり、
炉出口で約−２．５ｍｍＡｑの負圧になったとすると、
仮に図４（Ｂ）に示すように、瓦素地１を従来のように
長手方向に水平に置いた場合、瓦素地１の長手方向に約
０．０３５ｍｍＡｑの差圧がわずかに形成されるにすぎ
ないから、このわずかな差圧によっては加熱空気を水平
方向に流すことは難しい。
すると、炉の中央部で約０．５ｍｍＡｑの正圧となり、
炉出口で約−２．５ｍｍＡｑの負圧になったとすると、
仮に図４（Ｂ）に示すように、瓦素地１を従来のように
長手方向に水平に置いた場合、瓦素地１の長手方向に約
０．０３５ｍｍＡｑの差圧がわずかに形成されるにすぎ
ないから、このわずかな差圧によっては加熱空気を水平
方向に流すことは難しい。
【００１２】しかし、この実施例によると、図４（Ａ）
に示すように瓦素地１を傾斜して配置することにより図
示矢印ｅ方向に下側から上側へ抜ける斜め方向のガス流
動が積極的に形成されるから、瓦素地の焼成が速められ
る。前記実施例の場合、図３（Ａ）に示すように、瓦素
地１の表面の釉薬２が矢印ｂと矢印ｃの両方向に重力で
流れようとするから、釉薬２の流動方向が２方向に分散
されるので釉薬の後だれの発生率が低減される。これに
対し、従来例のものでは、図３（Ｂ）に示すように、玉
状の釉薬２ａの後だれが発生し、平板瓦の品質が低下す
る。
に示すように瓦素地１を傾斜して配置することにより図
示矢印ｅ方向に下側から上側へ抜ける斜め方向のガス流
動が積極的に形成されるから、瓦素地の焼成が速められ
る。前記実施例の場合、図３（Ａ）に示すように、瓦素
地１の表面の釉薬２が矢印ｂと矢印ｃの両方向に重力で
流れようとするから、釉薬２の流動方向が２方向に分散
されるので釉薬の後だれの発生率が低減される。これに
対し、従来例のものでは、図３（Ｂ）に示すように、玉
状の釉薬２ａの後だれが発生し、平板瓦の品質が低下す
る。
【００１３】また前記実施例の場合、図４（Ａ）に示す
ように、瓦素地１を台車の進行方向つまり炉長方向に傾
斜して配置されるから、瓦素地の配置スペースを節約す
ることができ、一時に焼成できる瓦の枚数を増大するこ
とができる。さらには、このように傾斜して配置される
瓦素地１の表面に矢印ｅ方向にガスが下側から上側に流
れるから、ガスの流れにより迅速焼成される。これに対
し、従来のものでは図４（Ｂ）に示すように、前述した
ように炉長方向の圧力差圧が少ないことから矢印方向の
ガス流動は起こりにくい状態であるから、瓦素地の焼成
が長時間となる。
ように、瓦素地１を台車の進行方向つまり炉長方向に傾
斜して配置されるから、瓦素地の配置スペースを節約す
ることができ、一時に焼成できる瓦の枚数を増大するこ
とができる。さらには、このように傾斜して配置される
瓦素地１の表面に矢印ｅ方向にガスが下側から上側に流
れるから、ガスの流れにより迅速焼成される。これに対
し、従来のものでは図４（Ｂ）に示すように、前述した
ように炉長方向の圧力差圧が少ないことから矢印方向の
ガス流動は起こりにくい状態であるから、瓦素地の焼成
が長時間となる。
【００１４】前記実施例においては瓦素地の傾斜角度θ
をほぼ４５°としたが、この傾斜角度θは例えば３０°
から６０°の範囲が望ましいと考えられる。また、瓦素
地１を配置する間隔ｌ2 は、例えば９０〜１００ｍｍの
範囲が望ましい。瓦素地１の下側の圧力Ｐ1 、瓦素地１
の上側の圧力Ｐ2 とすると、Ｐ1 −Ｐ2 ＞３（ｍｍＡ
ｑ）となることから、大量の加熱空気を瓦素地１と瓦素
地１の間に流すため、瓦素地１の伝熱面積を広くとるこ
とで均一加熱が可能となり、瓦素地の迅速かつ均一な焼
成が確保される。
をほぼ４５°としたが、この傾斜角度θは例えば３０°
から６０°の範囲が望ましいと考えられる。また、瓦素
地１を配置する間隔ｌ2 は、例えば９０〜１００ｍｍの
範囲が望ましい。瓦素地１の下側の圧力Ｐ1 、瓦素地１
の上側の圧力Ｐ2 とすると、Ｐ1 −Ｐ2 ＞３（ｍｍＡ
ｑ）となることから、大量の加熱空気を瓦素地１と瓦素
地１の間に流すため、瓦素地１の伝熱面積を広くとるこ
とで均一加熱が可能となり、瓦素地の迅速かつ均一な焼
成が確保される。
【００１５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の平板瓦の
支持方法によると、瓦素地の釉薬だれ不良を低減し、品
質の良好な平板瓦を作製できるとともに、この平板瓦の
焼成時間を大幅に短縮することができるという効果があ
る。
支持方法によると、瓦素地の釉薬だれ不良を低減し、品
質の良好な平板瓦を作製できるとともに、この平板瓦の
焼成時間を大幅に短縮することができるという効果があ
る。
【図１】本発明の実施例による瓦素地の支持状態を示す
側面図である。
側面図である。
【図２】図１に示す矢印Ａ方向から見た瓦素地の支持状
態を示す側面図である。
態を示す側面図である。
【図３】本発明の実施例による瓦素地の支持状態と従来
の瓦素地の支持状態の作用を対比する説明図である。
の瓦素地の支持状態の作用を対比する説明図である。
【図４】本発明の実施例による瓦素地の支持状態におけ
るガス流動状態と従来の瓦素地の支持状態におけるガス
流動状態を対比する説明図である。
るガス流動状態と従来の瓦素地の支持状態におけるガス
流動状態を対比する説明図である。
１ 瓦素地 ５ 台車（移動手段） ６ 支柱 ８ 棚板 ８ａ 長穴（穴） １０ 支持具
Claims (2)
- 【請求項１】 縦断面形状がＬ字状の平板瓦を焼成する
ときの瓦素地を支持する支持方法において、 炉内の瓦素地移動方向に瓦素地を傾斜するように棚板上
に瓦素地を支持することを特徴とする平板瓦の支持方
法。 - 【請求項２】 平板瓦の瓦素地を支持する支持装置であ
って、 移動手段上に立てられる支柱と、 この支柱の頂部に載せられ、上下に貫通する穴を有する
棚板と、 前記棚板上に傾斜するように前記移動手段の移動方向に
ほぼ平行に並べられる複数の支持具であって、前記瓦素
地を傾斜状態で支持する斜面を有する支持具とを備えた
ことを特徴とする平板瓦の支持装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP755592A JPH05194015A (ja) | 1992-01-20 | 1992-01-20 | 平板瓦の支持方法および支持装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP755592A JPH05194015A (ja) | 1992-01-20 | 1992-01-20 | 平板瓦の支持方法および支持装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05194015A true JPH05194015A (ja) | 1993-08-03 |
Family
ID=11669049
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP755592A Pending JPH05194015A (ja) | 1992-01-20 | 1992-01-20 | 平板瓦の支持方法および支持装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05194015A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0781738A (ja) * | 1993-09-20 | 1995-03-28 | Takahama Kogyo Kk | 匣鉢を利用した平板瓦の搬送方法およびその装置 |
-
1992
- 1992-01-20 JP JP755592A patent/JPH05194015A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0781738A (ja) * | 1993-09-20 | 1995-03-28 | Takahama Kogyo Kk | 匣鉢を利用した平板瓦の搬送方法およびその装置 |
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