JPH05196639A - プローブ装置 - Google Patents
プローブ装置Info
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- JPH05196639A JPH05196639A JP21027992A JP21027992A JPH05196639A JP H05196639 A JPH05196639 A JP H05196639A JP 21027992 A JP21027992 A JP 21027992A JP 21027992 A JP21027992 A JP 21027992A JP H05196639 A JPH05196639 A JP H05196639A
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Links
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Landscapes
- Measuring Leads Or Probes (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】被検査体とプローブ針との衝突を確実に防止す
ることができるプローブ装置 【構成】プローブカードホルダー22に設けられた記憶
素子から読み取ったプローブ針47の高さ情報によって
プローブ針の高さを認識し、半導体ウエハを最初に第1
の距離を高速で、次に第2の距離を低速でプローブ針に
接近させるように駆動して電極パッドをプローブ針にコ
ンタクトポイントで接触させる、次に前記最初のウエハ
でのコンタクトポイントの高さを検知し、このコンタク
トポイント高さ情報にもとずいて、前記次のウエハを前
記第1の距離よりも長い第2の距離で高速でプローブ針
に接近させる。
ることができるプローブ装置 【構成】プローブカードホルダー22に設けられた記憶
素子から読み取ったプローブ針47の高さ情報によって
プローブ針の高さを認識し、半導体ウエハを最初に第1
の距離を高速で、次に第2の距離を低速でプローブ針に
接近させるように駆動して電極パッドをプローブ針にコ
ンタクトポイントで接触させる、次に前記最初のウエハ
でのコンタクトポイントの高さを検知し、このコンタク
トポイント高さ情報にもとずいて、前記次のウエハを前
記第1の距離よりも長い第2の距離で高速でプローブ針
に接近させる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体デバイスのよう
な被検査体の電気的特性を測定するプローブ装置に関す
る。
な被検査体の電気的特性を測定するプローブ装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】周知の如く、半導体デバイスは、半導体
ウエハ上に精密写真転写技術等を用いて多数形成され、
この後、各半導体デバイス毎にウエハは切断される。こ
のような半導体デバイスの製造工程では、従来からプロ
ーブ装置を用いて、半完成品の半導体デバイスの電気的
な特性の試験判定を、半導体ウエハの状態で行い、この
試験測定の結果良品と判定されたもののみをパッケージ
ング等の後工程に送り、生産性の向上を図ることが行わ
れている。
ウエハ上に精密写真転写技術等を用いて多数形成され、
この後、各半導体デバイス毎にウエハは切断される。こ
のような半導体デバイスの製造工程では、従来からプロ
ーブ装置を用いて、半完成品の半導体デバイスの電気的
な特性の試験判定を、半導体ウエハの状態で行い、この
試験測定の結果良品と判定されたもののみをパッケージ
ング等の後工程に送り、生産性の向上を図ることが行わ
れている。
【0003】上記プローブ装置は、X−Y−Z−θ方向
に移動可能に構成されたウエハ保持台を備えており、こ
のウエハ保持台上には、半導体デバイスの電極バッドに
対応した多数のプローブ針を備えたプローブカードが固
定される。そして、ウエハ保持台上に半導体ウエハを設
置し、ウエハ保持台を駆動して半導体デバイスの電極に
プローブ針を接触させ、このプローブ針を介してテスタ
により試験測定を行うよう構成されている。
に移動可能に構成されたウエハ保持台を備えており、こ
のウエハ保持台上には、半導体デバイスの電極バッドに
対応した多数のプローブ針を備えたプローブカードが固
定される。そして、ウエハ保持台上に半導体ウエハを設
置し、ウエハ保持台を駆動して半導体デバイスの電極に
プローブ針を接触させ、このプローブ針を介してテスタ
により試験測定を行うよう構成されている。
【0004】このようなプローブ装置では、プローブカ
ードによってプローブ針先端の高さが異なる。このた
め、測定開始前にウエハ保持台上の半導体ウエハを非常
に低速で上昇させ、プローブ針先端が半導体ウエハに接
触した位置(コンタクトポイント)を検出することによ
って、プローブ針先端の高さを認識することが行われて
いる。しかしながら、このようなプローブ針先端の高さ
認識工程において、ウエハ保持台をホームポジション
(最下位置)から低速で上昇させると、接触位置の検出
に非常に多くの時間を必要とする。このため、通常プロ
ーブ針先端が存在しないある高さまで半導体ウエハを高
速で上昇させ、この後、半導体ウエハを低速で上昇させ
るよう構成されている。
ードによってプローブ針先端の高さが異なる。このた
め、測定開始前にウエハ保持台上の半導体ウエハを非常
に低速で上昇させ、プローブ針先端が半導体ウエハに接
触した位置(コンタクトポイント)を検出することによ
って、プローブ針先端の高さを認識することが行われて
いる。しかしながら、このようなプローブ針先端の高さ
認識工程において、ウエハ保持台をホームポジション
(最下位置)から低速で上昇させると、接触位置の検出
に非常に多くの時間を必要とする。このため、通常プロ
ーブ針先端が存在しないある高さまで半導体ウエハを高
速で上昇させ、この後、半導体ウエハを低速で上昇させ
るよう構成されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】近年半導体デバイスは
高集積化される傾向にあり、半導体デバイスの電極パッ
ドも狭ピッチ化および多数化される傾向にある。このた
め、図1(a)に示すように、プローブ針1を斜めに配
置したプローブカード2に代って、図1(b)に示すよ
うに、プローブ針1aをほぼ垂直に配置したプローブカ
ード2aの開発が進められており、実用化されつつあ
る。ところが、このようなプローブ針1aをほぼ垂直に
配置したプローブカード2aでは、これをプローブ装置
に固定した場合、従来のプローブカード2に較べてプロ
ーブ針先端の高さが大幅に、例えば数センチ程度低い位
置にある(図中hで示す)。このため、前述したプロー
ブ針先端の高さ認識工程において、半導体ウエハ等を保
持するウエハ保持台3の上昇量を少なく設定する必要が
あるが、この設定を間違えると、プローブ針先端の高さ
を認識する際に、半導体ウエハ等の被検査体とプローブ
針とが衝突を起こし、半導体ウエハもしくはプローブカ
ードを破損する可能性があった。
高集積化される傾向にあり、半導体デバイスの電極パッ
ドも狭ピッチ化および多数化される傾向にある。このた
め、図1(a)に示すように、プローブ針1を斜めに配
置したプローブカード2に代って、図1(b)に示すよ
うに、プローブ針1aをほぼ垂直に配置したプローブカ
ード2aの開発が進められており、実用化されつつあ
る。ところが、このようなプローブ針1aをほぼ垂直に
配置したプローブカード2aでは、これをプローブ装置
に固定した場合、従来のプローブカード2に較べてプロ
ーブ針先端の高さが大幅に、例えば数センチ程度低い位
置にある(図中hで示す)。このため、前述したプロー
ブ針先端の高さ認識工程において、半導体ウエハ等を保
持するウエハ保持台3の上昇量を少なく設定する必要が
あるが、この設定を間違えると、プローブ針先端の高さ
を認識する際に、半導体ウエハ等の被検査体とプローブ
針とが衝突を起こし、半導体ウエハもしくはプローブカ
ードを破損する可能性があった。
【0006】本発明の目的は、被検査体とプローブ針と
の衝突を確実に防止することができ、被検査体およびプ
ローブカード等の破損を防止することのできるプローブ
装置を提供しようとするものである。
の衝突を確実に防止することができ、被検査体およびプ
ローブカード等の破損を防止することのできるプローブ
装置を提供しようとするものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の一態様に係わる
プローブ装置は、プローブ針並びにこのプローブ針の高
さ情報を有する記憶素子とを有するプローブカード手段
と、このプローブカード手段の下方に被検査体を支持
し、この被検出体を垂直方向に移動可能な手段と、前記
プローブカード手段の記憶素子から読み取った情報によ
って前記プローブカード手段のプローブ針の高さを認識
し、前記支持手段を被検査体とプローブ針先端の距離を
制御して接近させるように駆動することにより、被検査
体とプローブ針とをコンタクトさせる手段とを具備す
る。
プローブ装置は、プローブ針並びにこのプローブ針の高
さ情報を有する記憶素子とを有するプローブカード手段
と、このプローブカード手段の下方に被検査体を支持
し、この被検出体を垂直方向に移動可能な手段と、前記
プローブカード手段の記憶素子から読み取った情報によ
って前記プローブカード手段のプローブ針の高さを認識
し、前記支持手段を被検査体とプローブ針先端の距離を
制御して接近させるように駆動することにより、被検査
体とプローブ針とをコンタクトさせる手段とを具備す
る。
【0008】本発明の他の態様に係わるプローブ装置
は、プローブ針並びにこのプローブ針の高さ情報を有す
る記憶手段とを有するプローブカード手段と、このプロ
ーブカード手段の下方に、複数の電極パッドを備えた少
くとも1つの半導体素子を有するウエハを支持し、この
ウエハを垂直方向に移動可能な手段と、前記プローブカ
ード手段の記憶素子から読み取った情報によって前記プ
ローブカード手段のプローブ針の高さを認識し、前記支
持手段をウエハの電極パッドとプローブ針先端の距離を
制御して最初に高速で、次に低速で接近させるように駆
動して電極パッドをプローブ針にコンタクトポイントで
接触させる手段とを具備する。
は、プローブ針並びにこのプローブ針の高さ情報を有す
る記憶手段とを有するプローブカード手段と、このプロ
ーブカード手段の下方に、複数の電極パッドを備えた少
くとも1つの半導体素子を有するウエハを支持し、この
ウエハを垂直方向に移動可能な手段と、前記プローブカ
ード手段の記憶素子から読み取った情報によって前記プ
ローブカード手段のプローブ針の高さを認識し、前記支
持手段をウエハの電極パッドとプローブ針先端の距離を
制御して最初に高速で、次に低速で接近させるように駆
動して電極パッドをプローブ針にコンタクトポイントで
接触させる手段とを具備する。
【0009】本発明のさらに他の態様に係わるプローブ
装置は、プローブ針並びにこのプローブ針の高さ情報を
有する第1の記憶手段とを有するプローブカード手段
と、このプローブカード手段の下方に、位置され初期位
置で複数の電極パッドを備えた少くとも1つの半導体素
子を有するウエハが載置される支持手段と、この支持手
段を初期位置と検査位置との間で垂直方向に移動させる
駆動手段と、前記プローブカード手段の記憶素子から読
み取った情報によって前記プローブカード手段のプロー
ブ針の高さを認識し、前記駆動手段を制御して支持手段
を最初に第1の距離を高速で、次に第2の距離を低速で
検査位置に接近させるように駆動して電極パッドをプロ
ーブ針にコンタクトポイントで接触させる制御手段と、
前記最初のウエハでのコンタクトポイントの高さを検知
し、このコンタクトポイント高さ情報をストアする第2
の記憶手段と、電極パットに接触したプローブ針を介し
て半導体素子を検査する手段と、前記駆動手段により半
導体素子の検査の終わったウエハを支持した支持手段が
初期位置に戻されると支持手段から検査の終わったウエ
ハを取り外すとともに、次に検査するウエハを支持手段
に載置させる手段と、を具備し、前記制御手段は前記ス
トアされたコンタクトポイント高さ情報にもとずいて、
前記制御手段を制御して、前記第1の距離よりも長い第
2の距離で前記支持手段を高速でプローブカード手段に
接近させることを特徴とする。
装置は、プローブ針並びにこのプローブ針の高さ情報を
有する第1の記憶手段とを有するプローブカード手段
と、このプローブカード手段の下方に、位置され初期位
置で複数の電極パッドを備えた少くとも1つの半導体素
子を有するウエハが載置される支持手段と、この支持手
段を初期位置と検査位置との間で垂直方向に移動させる
駆動手段と、前記プローブカード手段の記憶素子から読
み取った情報によって前記プローブカード手段のプロー
ブ針の高さを認識し、前記駆動手段を制御して支持手段
を最初に第1の距離を高速で、次に第2の距離を低速で
検査位置に接近させるように駆動して電極パッドをプロ
ーブ針にコンタクトポイントで接触させる制御手段と、
前記最初のウエハでのコンタクトポイントの高さを検知
し、このコンタクトポイント高さ情報をストアする第2
の記憶手段と、電極パットに接触したプローブ針を介し
て半導体素子を検査する手段と、前記駆動手段により半
導体素子の検査の終わったウエハを支持した支持手段が
初期位置に戻されると支持手段から検査の終わったウエ
ハを取り外すとともに、次に検査するウエハを支持手段
に載置させる手段と、を具備し、前記制御手段は前記ス
トアされたコンタクトポイント高さ情報にもとずいて、
前記制御手段を制御して、前記第1の距離よりも長い第
2の距離で前記支持手段を高速でプローブカード手段に
接近させることを特徴とする。
【0010】
【実施例】以下、本発明を半導体ウエハ上に形成された
半導体デバイスの試験測定を行うプローブ装置に適用し
た一実施例を図面を参照して説明する。まず、プローブ
装置全体の構成を図2を参照して概略的に説明する。
半導体デバイスの試験測定を行うプローブ装置に適用し
た一実施例を図面を参照して説明する。まず、プローブ
装置全体の構成を図2を参照して概略的に説明する。
【0011】図2において、符号10はプローブ装置本
体を示し、ほぼ中央にはメインステージ11が設けられ
ている。このメインステージ11には、半導体ウエハ1
2の、後述する測定用載置台13が取り付けられてい
る。このメインステージ11は水平面内においてX方向
ならびにY方向に載置台13と共に移動可能になってい
る。この載置台13の上方には後述するプローブ機構1
4が設けられている。図示していないが、装置本体10
の中央手前側にはアラインメントユニットが設けられて
いる。このユニットには、アラインメント用の画像認識
装置としてのカメラが設けられている。アラインメント
のために、載置台13はこのカメラの下方にまで移動さ
れる。装置本体10の右側にはオートローダ15が、ま
た左側にはプローブカード交換機16が夫々設けられて
いる。
体を示し、ほぼ中央にはメインステージ11が設けられ
ている。このメインステージ11には、半導体ウエハ1
2の、後述する測定用載置台13が取り付けられてい
る。このメインステージ11は水平面内においてX方向
ならびにY方向に載置台13と共に移動可能になってい
る。この載置台13の上方には後述するプローブ機構1
4が設けられている。図示していないが、装置本体10
の中央手前側にはアラインメントユニットが設けられて
いる。このユニットには、アラインメント用の画像認識
装置としてのカメラが設けられている。アラインメント
のために、載置台13はこのカメラの下方にまで移動さ
れる。装置本体10の右側にはオートローダ15が、ま
た左側にはプローブカード交換機16が夫々設けられて
いる。
【0012】オートローダ15には多数の半導体ウエハ
12を互いに垂直方向に所定間隔を有して収容したウエ
ハカセット17がカセット載置台18上に交換可能に配
置されている。このウエハカセット17と前記載置台1
3との間には水平面内で移動可能なローダステージ19
と、図示しないY方向駆動機構とZ方向昇降機構とによ
り駆動可能なウエハハンドリングアーム20とが設けら
れている。半導体ウエハ12をプローブ検査するときに
は、ウエハはローダステージ19により載置台13近く
に搬送され、ハンドリングアーム20により載置台13
上に移される。検査後は、ウエハはハンドリングアーム
20によりローダステージ19上に移され、ローダステ
ージ19によりウエハカセット17に搬送される。
12を互いに垂直方向に所定間隔を有して収容したウエ
ハカセット17がカセット載置台18上に交換可能に配
置されている。このウエハカセット17と前記載置台1
3との間には水平面内で移動可能なローダステージ19
と、図示しないY方向駆動機構とZ方向昇降機構とによ
り駆動可能なウエハハンドリングアーム20とが設けら
れている。半導体ウエハ12をプローブ検査するときに
は、ウエハはローダステージ19により載置台13近く
に搬送され、ハンドリングアーム20により載置台13
上に移される。検査後は、ウエハはハンドリングアーム
20によりローダステージ19上に移され、ローダステ
ージ19によりウエハカセット17に搬送される。
【0013】プローブカード21をカードホルダー22
に装着してなる集合体 or プローブカード手段23
が収納棚24に垂直方向に所定間隔を有して複数個収容
されている。
に装着してなる集合体 or プローブカード手段23
が収納棚24に垂直方向に所定間隔を有して複数個収容
されている。
【0014】符号25は、プローブカード21並びにカ
ードホルダー22の中央に形成された開口を介して、下
方に位置するウエハ及びプローブカード21のプローブ
針の先端を監視する顕微鏡もしくはテレビカメラを示
す。上記のようなプローブ装置のプローブ自動交換動作
は例えば米国特許No.4,966,520に記載され
ているものと同じである。前記載置台13を、図3を参
照してさらに詳しく説明する。
ードホルダー22の中央に形成された開口を介して、下
方に位置するウエハ及びプローブカード21のプローブ
針の先端を監視する顕微鏡もしくはテレビカメラを示
す。上記のようなプローブ装置のプローブ自動交換動作
は例えば米国特許No.4,966,520に記載され
ているものと同じである。前記載置台13を、図3を参
照してさらに詳しく説明する。
【0015】この載置台13は、X方向に延在される2
本のレールに沿ってX方向に移動可能なXステージ31
aと、このXステージ31a上をY方向に延在される2
本のレールに沿ってY方向に移動可能なYステージ31
bとを有する。このX,Yステージ31a,31bは、
パルスモータなどを含む慣用の駆動機構によって水平面
内をX方向とY方向とに駆動される。Yステージ31b
上に搭載されたチャック32は、慣用の昇降機構によっ
て上下方向(Z方向)に駆動されると共に、その中心を
通りZ軸に平行な中心線の周りに慣用の回転機構によっ
て回転される。これら駆動機構、昇降機構並びに回転機
構は、図6で、夫々符号54,55,56で示し、後述
する制御系により、夫々の駆動が制御される。
本のレールに沿ってX方向に移動可能なXステージ31
aと、このXステージ31a上をY方向に延在される2
本のレールに沿ってY方向に移動可能なYステージ31
bとを有する。このX,Yステージ31a,31bは、
パルスモータなどを含む慣用の駆動機構によって水平面
内をX方向とY方向とに駆動される。Yステージ31b
上に搭載されたチャック32は、慣用の昇降機構によっ
て上下方向(Z方向)に駆動されると共に、その中心を
通りZ軸に平行な中心線の周りに慣用の回転機構によっ
て回転される。これら駆動機構、昇降機構並びに回転機
構は、図6で、夫々符号54,55,56で示し、後述
する制御系により、夫々の駆動が制御される。
【0016】Yステージ31bの側面には昇降機構34
が固定されている。この昇降機構34には上下方向に昇
降自在な移動カメラ33が保持されている。この移動カ
メラ33は、高倍率部33aと低倍率部33bとから構
成されている。
が固定されている。この昇降機構34には上下方向に昇
降自在な移動カメラ33が保持されている。この移動カ
メラ33は、高倍率部33aと低倍率部33bとから構
成されている。
【0017】チャック32の側面には、その径方向に水
平に突出する小片35が固定されている。この小片35
は、導電性薄膜、例えばITO(indium tin oxide)薄
膜あるいはクロムを用いて描かれた十字マークの中心に
よって定義されるターゲット35aが表面に形成された
短冊状の透明板からなる。これはカメラ33により検出
する際の基準点として機能する。また、十字状の薄膜の
周辺には、これを覆うように導電性透明薄膜、例えばI
TOの薄膜が配設される。導電性透明薄膜は、静電容量
センサによるZ方向の位置検出を可能とするために配設
されている。
平に突出する小片35が固定されている。この小片35
は、導電性薄膜、例えばITO(indium tin oxide)薄
膜あるいはクロムを用いて描かれた十字マークの中心に
よって定義されるターゲット35aが表面に形成された
短冊状の透明板からなる。これはカメラ33により検出
する際の基準点として機能する。また、十字状の薄膜の
周辺には、これを覆うように導電性透明薄膜、例えばI
TOの薄膜が配設される。導電性透明薄膜は、静電容量
センサによるZ方向の位置検出を可能とするために配設
されている。
【0018】ターゲット35aが形成された小片35
は、チャック32の回転により移動カメラ33の高倍率
部の光軸上に移動しかつここから退避できるようになっ
ている。小片35はまた、チャック32に着脱自在に取
付けるように構成することも可能である。
は、チャック32の回転により移動カメラ33の高倍率
部の光軸上に移動しかつここから退避できるようになっ
ている。小片35はまた、チャック32に着脱自在に取
付けるように構成することも可能である。
【0019】上記構成の載置台13によるウエハの位置
合わせ操作は、特願昭3−216068号並びに3−2
16067号に詳しく記載されているのでここでは省略
する。プローブカードーカードホルダー集合体23を、
図4並びに図5を参照して詳細に説明する。
合わせ操作は、特願昭3−216068号並びに3−2
16067号に詳しく記載されているのでここでは省略
する。プローブカードーカードホルダー集合体23を、
図4並びに図5を参照して詳細に説明する。
【0020】図4中、符号40は装置本体10(図2参
照)の上部に装着されたインサートリングを示し、この
中央開口の周側面の段部にはコンタクトリング41が載
置されている。コンタクトリング41はこれら両者4
0,41に径方向に離間して設けられた2つの位置決め
ピンにより、その装着位置が規定されている。このコン
タクトリング41の上面には、これらの間に配置された
コンタクトにより電気的に接続された状態でテストヘッ
ド42が設けられている。このテストヘッド42は、公
知のテスタ43に、また前記インサートリング40のプ
リント基板40aは、後述する制御系44に、これらに
出力信号を供給するようにそれぞれ電気的に接続されて
いる。装置本体10には、また上下方向に移動可能に支
持リング45が、設けられており、この支持リング45
の上方位置で、カードホルダー22の周辺部がインサー
トリング40との間で挟持され、集合体23はコンタク
トリング41の下側に交換可能に装着される。この集合
体23は、これら3者40,22,45間に配置された
2つの位置決めピンにより所定の位置で装着される。
照)の上部に装着されたインサートリングを示し、この
中央開口の周側面の段部にはコンタクトリング41が載
置されている。コンタクトリング41はこれら両者4
0,41に径方向に離間して設けられた2つの位置決め
ピンにより、その装着位置が規定されている。このコン
タクトリング41の上面には、これらの間に配置された
コンタクトにより電気的に接続された状態でテストヘッ
ド42が設けられている。このテストヘッド42は、公
知のテスタ43に、また前記インサートリング40のプ
リント基板40aは、後述する制御系44に、これらに
出力信号を供給するようにそれぞれ電気的に接続されて
いる。装置本体10には、また上下方向に移動可能に支
持リング45が、設けられており、この支持リング45
の上方位置で、カードホルダー22の周辺部がインサー
トリング40との間で挟持され、集合体23はコンタク
トリング41の下側に交換可能に装着される。この集合
体23は、これら3者40,22,45間に配置された
2つの位置決めピンにより所定の位置で装着される。
【0021】前記プローブカード21には、例えばプリ
ント基板等からなる基板46が上面に設けられており、
この基板46の中央部分には、下方に向かってほぼ垂直
に配置されるよう多数のプローブ針47が、半導体ウエ
ハ12上の半導体デバイスの電極パッドに対応して設け
られている。この場合、プローブ針47は、1つの半導
体デバイスの電極パットに対応して配設されていても、
また複数の半導体デバイスの電極パットに対応して配設
されていても良い。前記プローブ針47はカードホルダ
ー22の中央開口を通って垂直に下方に延びており、カ
ードホルダー22の下面より突設された円筒形のブロッ
クの下面より少し先端が突出している。このプローブカ
ード21の上面のプリント基板は、集合体23が装置本
体10に装填されたときにコンタクトリング41の下面
に突設されたコンタクトと電気的に接続され、この結
果、プリント基板、かくしてプローブ針47は前述した
テスタ43にテストヘッド42を介して電気的に接続さ
れる。
ント基板等からなる基板46が上面に設けられており、
この基板46の中央部分には、下方に向かってほぼ垂直
に配置されるよう多数のプローブ針47が、半導体ウエ
ハ12上の半導体デバイスの電極パッドに対応して設け
られている。この場合、プローブ針47は、1つの半導
体デバイスの電極パットに対応して配設されていても、
また複数の半導体デバイスの電極パットに対応して配設
されていても良い。前記プローブ針47はカードホルダ
ー22の中央開口を通って垂直に下方に延びており、カ
ードホルダー22の下面より突設された円筒形のブロッ
クの下面より少し先端が突出している。このプローブカ
ード21の上面のプリント基板は、集合体23が装置本
体10に装填されたときにコンタクトリング41の下面
に突設されたコンタクトと電気的に接続され、この結
果、プリント基板、かくしてプローブ針47は前述した
テスタ43にテストヘッド42を介して電気的に接続さ
れる。
【0022】前記プローブカードーカードホルダーー集
合体23の上面には、メモリー手段48(第1の記憶手
段)並びに電気的接続手段49が、図5に示すように設
けられている。これらメモリー手段48並びに電気的接
続手段49は、この実施例ではカードホルダー22に設
けられているがプローブカード21の上面に設けられて
いても良い。メモリー手段48は、2つのメモリー素子
48aにより構成されており、好ましくは2つのEEP
ROMが使用される。一方のROM48aには試験の前
に設定したプローブカード21に関する各種情報が、ま
た他方のROM48aには試験によって書替えられるプ
ローブカード21に関する各種上方がそれぞれストアさ
れる。これら情報としては、載置台13のZ方向の移動
を制御するZ方向移動データの他、例えば、コンタクト
回数(トータル及びトリップ)、針の相対位置、プロー
ブカードのシリアルナンバー、プローブカードの種類、
ピン数、マルチ数、マルチロケーション、針研実行タイ
ミング・コンタクト回数、オーバードライブ許容値、コ
ンタクト後のスライド実施、針研実施、プローブカード
不良品の場合のアラーム及びリジェクトの実施等であ
る。Z方向移動データは、半導体ウエハ12を上に装填
したチャック32を上方に高速で移動させる距離or高
さHh並びにチャック32が所定の距離、即ち、高さH
上方に移動したときに駆動を静止させるための高さリミ
ットなどである。ここで、半導体デバイス、即ち素子の
テスト時には、チャック32の上方の移動は、従来技術
で記載したように、プローブカード21近く間で所定の
高さHhまで高速で行われ、その後低速で行われて、プ
ローブ針47と半導体素子の端子とが接触する高さHl
(コンタクトポイント)を検出したときに停止される。
なお、実際には、プローブ針47と半導体素子の電気パ
ッドとの電気的接触をより確実にするために、コンタク
トポイントよりも僅か上方で停止される(オーバドライ
ブ)。前記リミット距離Hは、H=高速距離Hh+低速
距離Hl+許容距離ΔHである。即ち、半導体ウエハが
所定距離H移動されても、コンタクトポイントが検知で
きないということは、半導体ウエハ12か、集合体23
のどちらかに異常が生じたということであり、測定を停
止させる必要があるということである。この高速距離H
hは、集合体23によって異なり、できるだけ半導体ウ
エハ12の上面とプローブ針47の下端との間の距離に
近く設定するのが操作時間の短縮の面で好ましいが、あ
まり近くすると、高速のまま両者が接触して破損する恐
れがあるので、半導体ウエハ12と集合体23の製造誤
差等を考慮して余裕を有して設定されている。この好ま
しい実施例では、Hhは約20mm、Hlは3〜4mm
に設定されている。
合体23の上面には、メモリー手段48(第1の記憶手
段)並びに電気的接続手段49が、図5に示すように設
けられている。これらメモリー手段48並びに電気的接
続手段49は、この実施例ではカードホルダー22に設
けられているがプローブカード21の上面に設けられて
いても良い。メモリー手段48は、2つのメモリー素子
48aにより構成されており、好ましくは2つのEEP
ROMが使用される。一方のROM48aには試験の前
に設定したプローブカード21に関する各種情報が、ま
た他方のROM48aには試験によって書替えられるプ
ローブカード21に関する各種上方がそれぞれストアさ
れる。これら情報としては、載置台13のZ方向の移動
を制御するZ方向移動データの他、例えば、コンタクト
回数(トータル及びトリップ)、針の相対位置、プロー
ブカードのシリアルナンバー、プローブカードの種類、
ピン数、マルチ数、マルチロケーション、針研実行タイ
ミング・コンタクト回数、オーバードライブ許容値、コ
ンタクト後のスライド実施、針研実施、プローブカード
不良品の場合のアラーム及びリジェクトの実施等であ
る。Z方向移動データは、半導体ウエハ12を上に装填
したチャック32を上方に高速で移動させる距離or高
さHh並びにチャック32が所定の距離、即ち、高さH
上方に移動したときに駆動を静止させるための高さリミ
ットなどである。ここで、半導体デバイス、即ち素子の
テスト時には、チャック32の上方の移動は、従来技術
で記載したように、プローブカード21近く間で所定の
高さHhまで高速で行われ、その後低速で行われて、プ
ローブ針47と半導体素子の端子とが接触する高さHl
(コンタクトポイント)を検出したときに停止される。
なお、実際には、プローブ針47と半導体素子の電気パ
ッドとの電気的接触をより確実にするために、コンタク
トポイントよりも僅か上方で停止される(オーバドライ
ブ)。前記リミット距離Hは、H=高速距離Hh+低速
距離Hl+許容距離ΔHである。即ち、半導体ウエハが
所定距離H移動されても、コンタクトポイントが検知で
きないということは、半導体ウエハ12か、集合体23
のどちらかに異常が生じたということであり、測定を停
止させる必要があるということである。この高速距離H
hは、集合体23によって異なり、できるだけ半導体ウ
エハ12の上面とプローブ針47の下端との間の距離に
近く設定するのが操作時間の短縮の面で好ましいが、あ
まり近くすると、高速のまま両者が接触して破損する恐
れがあるので、半導体ウエハ12と集合体23の製造誤
差等を考慮して余裕を有して設定されている。この好ま
しい実施例では、Hhは約20mm、Hlは3〜4mm
に設定されている。
【0023】前記電気的接続手段49は、複数のコンタ
クトホールよりなり、メモリー手段48に電気的に接続
していると共に、前記インサートリング40のプリント
基板40aに電気的に接続され、インサートリング40
の下面より突設したコンタクトピンが、集合体23の装
着時に挿入されて、これらと電気的に接触する。この結
果、集合体23が装置本体10に装着されると同時に、
メモリー手段48は、前記制御系44に電気的に接続さ
れる。
クトホールよりなり、メモリー手段48に電気的に接続
していると共に、前記インサートリング40のプリント
基板40aに電気的に接続され、インサートリング40
の下面より突設したコンタクトピンが、集合体23の装
着時に挿入されて、これらと電気的に接触する。この結
果、集合体23が装置本体10に装着されると同時に、
メモリー手段48は、前記制御系44に電気的に接続さ
れる。
【0024】前記制御系44は、図6に示すようにメモ
リーを備えたCPU50を有する。このCPUには、Z
方向移動制御回路51と、X−Y方向移動制御回路52
と、θ方向移動制御回路53が、夫々接続されている。
これら制御回路は、図3に示す載置台13の移動を果た
す昇降機構54、駆動機構55並びに回転機構56に夫
々接続されている。この結果、このCPU50により、
前記メモリー手段48と、Z方向移動制御回路51と,
X−Y方向移動制御回路52と,θ方向移動制御回路5
3との間の後述する制御が果たされる。
リーを備えたCPU50を有する。このCPUには、Z
方向移動制御回路51と、X−Y方向移動制御回路52
と、θ方向移動制御回路53が、夫々接続されている。
これら制御回路は、図3に示す載置台13の移動を果た
す昇降機構54、駆動機構55並びに回転機構56に夫
々接続されている。この結果、このCPU50により、
前記メモリー手段48と、Z方向移動制御回路51と,
X−Y方向移動制御回路52と,θ方向移動制御回路5
3との間の後述する制御が果たされる。
【0025】次に、図8を参照して前記制御系44にる
載置台13の主の駆動制御を説明する。プローブカード
交換機16から集合体23を図示しない搬送機構により
インサートリング40の下方に搬送され、次に支持リン
グ45が上昇し、集合体23がインサートリング40と
支持リング45との間に挟持される。かくしてプローブ
カード21は.装置本体10に装填される(S1)。こ
のときに、集合体23のメモリー手段48はインサート
リング40のプリント基板40aを介して制御系44
に、また、プローブ針47はコンタクトリング41並び
にテストヘッド42を介してテスタ43に夫々接続され
る。この結果、メモリー手段48にストアされている高
速高さデータ(約20mm)はCPU50に入力される
(S2)。この次に、もしくはこれより前にオートロー
ダ15より最初の半導体ウエハ12がチャック32上に
搬送され、XYθのアラインメントが行われて、コンタ
クトリング41の直下に精度良く最初に検査される1つ
もしくは複数の半導体素子が位置付けられる。前記ステ
ップS2の読取り情報にもとずいて、CPU50からの
指令により、Z方向移動制御回路51を介して昇降機構
54は駆動され、チャック32、即ち半導体ウエハ12
は、高速距離Hh(約20mm)だけ高速で(10mm
/分〜20mm/分)上昇されプローブカード21のプ
ローブ針47の下端に接近される(S3)。続いて、チ
ャック32は低速で(500μm/秒)さらに上昇され
(S4)、約3〜4mm上昇した時点で、正常の時には
コンタクトポイントを検出する(S5)。このコンタク
トポイントの高さ情報はCPU50のメモリ(第2の記
憶手段)にストアされる(S6)。即ち、現在使用して
いるこのプローブカード21の高さ情報が制御系44側
にストアされる。この時のコンタクトポイントの検出
は、従来技術と同様に、半導体素子の電極パッドとプロ
ーブ針47との電気的接触により、これらの間に電流が
流れるのを検出することにより行われ得る。もし、この
チャック32の上昇がメモリー手段48にストアされて
いるリミット距離になると、制御系44は異常信号をZ
方向移動制御回路51に送り、昇降機構54の駆動を停
止させる(S7)。コンタクトポイントを検出すると、
チャック32は、さらに、低速で約50μm上昇され、
電極パッドとプローブ針47との電気的接触がより確実
にされる(S8)。この状態で、電極パットからの電気
的情報がプローブ針47等を介してテスタ43に出力さ
れ、この半導体素子の電気的特性の検査が行われる。検
査が終了すると、チャック32は低速で少し(約500
μm)下降され、プローブ針47はコンタクトポイント
から離される(S9)。そして、メモリー手段48にス
トアされている情報、もしくは予めCPU50にストア
されている情報にもとずき、半導体ウエハ12はX−Y
方向移動制御回路52並びに駆動機構55を介して載置
台13により次に試験される半導体素子がプローブ針4
7の真下にくるようにXY方向に移動される(S1
0)。そして、前記とほぼ同じ低速でチャック32は上
昇され(S11)、コンタクトポイントの検出が行われ
る(S12)。そして、この半導体素子の試験が実施さ
れる。このようなステップ(S8〜S12)が繰り返さ
れ、1枚の半導体ウエハ12に形成された全ての半導体
素子の試験が終了すると(S13)、コンタクト回数等
必要なデータがCPU50を介してメモリー手段48に
ストアされる。この後、この試験された半導体ウエハ1
2はオートローダ15に搬送され、代わりに2枚目の半
導体ウエハ12がチャック32上に搬送され前記ステッ
プと同様にXYθのアラインメントが行われる(S1
5)。前記ステップS6でストアされたコンタクトポイ
ント情報にもとずきCPU50で、高速高さHhの補正
が行われ、コンタクトポイントの少し下(約500μ
m)の位置まで高速高さHhが高く設定される。例え
ば、1枚目の半導体ウエハ12で、高速距離Hhが20
mmで、ここからコンタクトポイントまでの低速距離が
3mmであったとすると高速高さHhは20mm+(3
mm−500μm)に再設定される。この再設定値にも
とずいて、チャック32はコンタクトポイントの500
μm下まで、前記と同じ高速で上昇され(S16)、こ
の後は、コンタクトポイントの検出を行わせるために、
前記と同じ低速上昇される(S17)。この後は、前記
ステップS5〜S14と同様の工程を経て2枚目の半導
体ウエハ12の検査が行われる。この2枚目以後の半導
体ウエハ12の検査の場合には、1枚目の半導体ウエハ
12で得られたコンタクトポイントの高さ情報を使用す
るようにして、この情報の書込みは行わないようにして
も、また順次書き直すようにしても良い。
載置台13の主の駆動制御を説明する。プローブカード
交換機16から集合体23を図示しない搬送機構により
インサートリング40の下方に搬送され、次に支持リン
グ45が上昇し、集合体23がインサートリング40と
支持リング45との間に挟持される。かくしてプローブ
カード21は.装置本体10に装填される(S1)。こ
のときに、集合体23のメモリー手段48はインサート
リング40のプリント基板40aを介して制御系44
に、また、プローブ針47はコンタクトリング41並び
にテストヘッド42を介してテスタ43に夫々接続され
る。この結果、メモリー手段48にストアされている高
速高さデータ(約20mm)はCPU50に入力される
(S2)。この次に、もしくはこれより前にオートロー
ダ15より最初の半導体ウエハ12がチャック32上に
搬送され、XYθのアラインメントが行われて、コンタ
クトリング41の直下に精度良く最初に検査される1つ
もしくは複数の半導体素子が位置付けられる。前記ステ
ップS2の読取り情報にもとずいて、CPU50からの
指令により、Z方向移動制御回路51を介して昇降機構
54は駆動され、チャック32、即ち半導体ウエハ12
は、高速距離Hh(約20mm)だけ高速で(10mm
/分〜20mm/分)上昇されプローブカード21のプ
ローブ針47の下端に接近される(S3)。続いて、チ
ャック32は低速で(500μm/秒)さらに上昇され
(S4)、約3〜4mm上昇した時点で、正常の時には
コンタクトポイントを検出する(S5)。このコンタク
トポイントの高さ情報はCPU50のメモリ(第2の記
憶手段)にストアされる(S6)。即ち、現在使用して
いるこのプローブカード21の高さ情報が制御系44側
にストアされる。この時のコンタクトポイントの検出
は、従来技術と同様に、半導体素子の電極パッドとプロ
ーブ針47との電気的接触により、これらの間に電流が
流れるのを検出することにより行われ得る。もし、この
チャック32の上昇がメモリー手段48にストアされて
いるリミット距離になると、制御系44は異常信号をZ
方向移動制御回路51に送り、昇降機構54の駆動を停
止させる(S7)。コンタクトポイントを検出すると、
チャック32は、さらに、低速で約50μm上昇され、
電極パッドとプローブ針47との電気的接触がより確実
にされる(S8)。この状態で、電極パットからの電気
的情報がプローブ針47等を介してテスタ43に出力さ
れ、この半導体素子の電気的特性の検査が行われる。検
査が終了すると、チャック32は低速で少し(約500
μm)下降され、プローブ針47はコンタクトポイント
から離される(S9)。そして、メモリー手段48にス
トアされている情報、もしくは予めCPU50にストア
されている情報にもとずき、半導体ウエハ12はX−Y
方向移動制御回路52並びに駆動機構55を介して載置
台13により次に試験される半導体素子がプローブ針4
7の真下にくるようにXY方向に移動される(S1
0)。そして、前記とほぼ同じ低速でチャック32は上
昇され(S11)、コンタクトポイントの検出が行われ
る(S12)。そして、この半導体素子の試験が実施さ
れる。このようなステップ(S8〜S12)が繰り返さ
れ、1枚の半導体ウエハ12に形成された全ての半導体
素子の試験が終了すると(S13)、コンタクト回数等
必要なデータがCPU50を介してメモリー手段48に
ストアされる。この後、この試験された半導体ウエハ1
2はオートローダ15に搬送され、代わりに2枚目の半
導体ウエハ12がチャック32上に搬送され前記ステッ
プと同様にXYθのアラインメントが行われる(S1
5)。前記ステップS6でストアされたコンタクトポイ
ント情報にもとずきCPU50で、高速高さHhの補正
が行われ、コンタクトポイントの少し下(約500μ
m)の位置まで高速高さHhが高く設定される。例え
ば、1枚目の半導体ウエハ12で、高速距離Hhが20
mmで、ここからコンタクトポイントまでの低速距離が
3mmであったとすると高速高さHhは20mm+(3
mm−500μm)に再設定される。この再設定値にも
とずいて、チャック32はコンタクトポイントの500
μm下まで、前記と同じ高速で上昇され(S16)、こ
の後は、コンタクトポイントの検出を行わせるために、
前記と同じ低速上昇される(S17)。この後は、前記
ステップS5〜S14と同様の工程を経て2枚目の半導
体ウエハ12の検査が行われる。この2枚目以後の半導
体ウエハ12の検査の場合には、1枚目の半導体ウエハ
12で得られたコンタクトポイントの高さ情報を使用す
るようにして、この情報の書込みは行わないようにして
も、また順次書き直すようにしても良い。
【0026】上記のようなメモリー手段48が付加され
た集合体23と制御系44との組み合わせにより、半導
体ウエハ12とプローブ針47との接触を確実に防止で
きる範囲で最初の半導体ウエハ12のコンタクトポイン
トの測定にもとずいて、2枚目以後の半導体ウエハ12
の高速移動距離を長くすることができる。
た集合体23と制御系44との組み合わせにより、半導
体ウエハ12とプローブ針47との接触を確実に防止で
きる範囲で最初の半導体ウエハ12のコンタクトポイン
トの測定にもとずいて、2枚目以後の半導体ウエハ12
の高速移動距離を長くすることができる。
【0027】図8は、他の実施例のプローブ装置の構成
を概略的に示すもので、前述の実施例と同一部分には同
一符号が付してある。この実施例では、集合体23に識
別標識の表示手段として、例えばバーコード60が設け
られている。一方、プローブ装置には、このバーコード
60を読み取って、識別標識を認識する手段としてバー
コードリーダ61が設けられており、さらに、バーコー
ド60から読み取った識別標識のプローブカードに関す
る情報を記憶するための記憶装置50bがCPU50a
とは別に設けられている。この記憶装置50bには、各
識別標識によって特定されるプローブカードに関する情
報として、少なくともプローブ針の高さに関する情報が
収容されている。
を概略的に示すもので、前述の実施例と同一部分には同
一符号が付してある。この実施例では、集合体23に識
別標識の表示手段として、例えばバーコード60が設け
られている。一方、プローブ装置には、このバーコード
60を読み取って、識別標識を認識する手段としてバー
コードリーダ61が設けられており、さらに、バーコー
ド60から読み取った識別標識のプローブカードに関す
る情報を記憶するための記憶装置50bがCPU50a
とは別に設けられている。この記憶装置50bには、各
識別標識によって特定されるプローブカードに関する情
報として、少なくともプローブ針の高さに関する情報が
収容されている。
【0028】そして、プローブ装置は、集合体23のバ
ーコード60をバーコードリーダ61によって読み取
り、CPU50bがプローブカードを同定し、対応する
プローブ針の高さに関する情報を記憶装置50bから読
み出して、プローブ針先端のおおよその位置を認識し、
前述した実施例と同様にチャック32の上下方向の動作
を制御するように構成されている。このように構成され
た実施例においても、前述した実施例と同様な効果を得
ることができる。なお、識別標識の表示手段としては、
バーコード60と同様にアスキーコード等を、バーコー
ドリーダ31に換えて文字認識機構等を用いることがで
きる。
ーコード60をバーコードリーダ61によって読み取
り、CPU50bがプローブカードを同定し、対応する
プローブ針の高さに関する情報を記憶装置50bから読
み出して、プローブ針先端のおおよその位置を認識し、
前述した実施例と同様にチャック32の上下方向の動作
を制御するように構成されている。このように構成され
た実施例においても、前述した実施例と同様な効果を得
ることができる。なお、識別標識の表示手段としては、
バーコード60と同様にアスキーコード等を、バーコー
ドリーダ31に換えて文字認識機構等を用いることがで
きる。
【0029】図9は、プローブカードに識別標識の表示
手段として、ジャンパー線70を設けた実施例を示すも
のである。すなわち、集合体23には複数のジャンパー
線70が設けられており、これらのジャンパー線70の
オープン、ショートの組み合わせによって識別標識を表
示するよう構成されている。また、プローブ装置には、
これらのジャンパー線70の状態を検出する検出機構7
1が設けられている。そして、CPU50aは、これら
のジャンパー線70の状態から前述した実施例と同様
に、対応するプローブ針の高さに関する情報を記憶装置
50bから読み出して、プローブ針の先端のおおよその
位置を認識し、前述した実施例と同様にチャック32の
上下方向の動作を制御するように構成されている。この
実施例でも、前述した実施例と同様な効果を得ることが
できる。
手段として、ジャンパー線70を設けた実施例を示すも
のである。すなわち、集合体23には複数のジャンパー
線70が設けられており、これらのジャンパー線70の
オープン、ショートの組み合わせによって識別標識を表
示するよう構成されている。また、プローブ装置には、
これらのジャンパー線70の状態を検出する検出機構7
1が設けられている。そして、CPU50aは、これら
のジャンパー線70の状態から前述した実施例と同様
に、対応するプローブ針の高さに関する情報を記憶装置
50bから読み出して、プローブ針の先端のおおよその
位置を認識し、前述した実施例と同様にチャック32の
上下方向の動作を制御するように構成されている。この
実施例でも、前述した実施例と同様な効果を得ることが
できる。
【0030】なお、プローブカード手段23に設ける識
別標識の装置手段としては、上記の他に例えば所定領域
毎の透過光、反射光の組み合わせ、あるいは文字、数
字、記号等の組み合わせ等、固体を識別することができ
るものであればあらゆるものを使用することができる。
また、記憶装置50bには、プローブカードのプローブ
針の高さに関する情報の他に、前述したプローブカード
に関する各種の情報を収納しておき、これに従って各種
制御を行うことができる。
別標識の装置手段としては、上記の他に例えば所定領域
毎の透過光、反射光の組み合わせ、あるいは文字、数
字、記号等の組み合わせ等、固体を識別することができ
るものであればあらゆるものを使用することができる。
また、記憶装置50bには、プローブカードのプローブ
針の高さに関する情報の他に、前述したプローブカード
に関する各種の情報を収納しておき、これに従って各種
制御を行うことができる。
【0031】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のプローブ
装置によれば、被検査体とプローブ針との衝突を確実に
防止することができ、被検査体およびプローブカード等
の破損を防止することができる。
装置によれば、被検査体とプローブ針との衝突を確実に
防止することができ、被検査体およびプローブカード等
の破損を防止することができる。
【図1】従来のプローブ針の配置の相違による針先端の
高さ相違を説明するための図。
高さ相違を説明するための図。
【図2】本発明の一実施例のプローブ装置の全体この構
成を示す図。
成を示す図。
【図3】図2に示す測定用載置台の構成を示す斜視図。
【図4】図2に示すプローブ機構を示す図。
【図5】プローブ機構の一部を示す斜視図。
【図6】測定用載置台の制御系を示すブロック図。
【図7】図6に示す制御系の制御のもとでのウエハの検
査を説明するフローチャート。
査を説明するフローチャート。
【図8】他の実施例に係わるプローブ装置を説明するた
めの概略図。
めの概略図。
【図9】さらに他の実施例に係わるプローブ装置を説明
するための概略図。
するための概略図。
10…プローブ装置、12…半導体ウエハ、13…測定
用載置台、14…プローブ機構、21…プローブカー
ド、22…カードホルダー22、23…プローブカード
ーカードホルダー集合体、43…テスタ、44…制御
系、47…プローブ針、48…メモリー手段、50…C
PU
用載置台、14…プローブ機構、21…プローブカー
ド、22…カードホルダー22、23…プローブカード
ーカードホルダー集合体、43…テスタ、44…制御
系、47…プローブ針、48…メモリー手段、50…C
PU
Claims (3)
- 【請求項1】 プローブ針と、このプローブ針の高さ情
報を有する記憶素子とを有するプローブカード手段と、 このプローブカード手段の下方に被検査体を支持し、こ
の被検出体を垂直方向に移動可能な手段と、 前記プローブカード手段の記憶素子から読み取った情報
によって前記プローブカード手段のプローブ針の高さを
認識し、前記支持手段を被検査体とプローブ針先端の距
離を制御して接近させるように駆動することにより、被
検査体とプローブ針とをコンタクトさせる手段とを具備
するプローブ装置。 - 【請求項2】 プローブ針と、このプローブ針の高さ情
報を有する記憶手段とを有するプローブカード手段と、 このプローブカード手段の下方に、複数の電極パッドを
備えた少くとも1つの半導体素子を有するウエハを支持
し、このウエハを垂直方向に移動可能な手段と、 前記プローブカード手段の記憶素子から読み取った情報
によって前記プローブカード手段のプローブ針の高さを
認識し、前記支持手段をウエハの電極パッドとプローブ
針先端の距離を制御して最初に高速で、次に低速で接近
させるように駆動して電極パッドをプローブ針にコンタ
クトポイントで接触させる手段とを具備するプローブ装
置。 - 【請求項3】 プローブ針と、このプローブ針の高さ情
報を有する第1の記憶手段とを有するプローブカード手
段と、 このプローブカード手段の下方に、位置され初期位置で
複数の電極パッドを備えた少くとも1つの半導体素子を
有するウエハが載置される支持手段と、 この支持手段を初期位置と検査位置との間で垂直方向に
移動させる駆動手段と、 前記プローブカード手段の記憶素子から読み取った情報
によって前記プローブカード手段のプローブ針の高さを
認識し、前記駆動手段を制御して支持手段を最初に第1
の距離を高速で、次に第2の距離を低速で検査位置に接
近させるように駆動して電極パッドをプローブ針にコン
タクトポイントで接触させる制御手段と、 前記最初のウエハでのコンタクトポイントの高さを検知
し、このコンタクトポイント高さ情報をストアする第2
の記憶手段と、 電極パットに接触したプローブ針を介して半導体素子を
検査する手段と、前記駆動手段により半導体素子の検査
の終わったウエハを支持した支持手段が初期位置に戻さ
れると支持手段から検査の終わったウエハを取り外すと
ともに、次に検査するウエハを支持手段に載置させる手
段と、を具備し、 前記制御手段は前記ストアされたコンタクトポイント高
さ情報にもとずいて、前記制御手段を制御して、前記第
1の距離よりも長い第2の距離で前記支持手段を高速で
プローブカード手段に接近させることを特徴とするプロ
ーブ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21027992A JPH05196639A (ja) | 1991-08-08 | 1992-08-06 | プローブ装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19950891 | 1991-08-08 | ||
| JP3-199508 | 1991-08-08 | ||
| JP21027992A JPH05196639A (ja) | 1991-08-08 | 1992-08-06 | プローブ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05196639A true JPH05196639A (ja) | 1993-08-06 |
Family
ID=26511577
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21027992A Pending JPH05196639A (ja) | 1991-08-08 | 1992-08-06 | プローブ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05196639A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007095753A (ja) * | 2005-09-27 | 2007-04-12 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | プローバ、プローブ接触方法及びそのためのプログラム |
| JP2016217919A (ja) * | 2015-05-21 | 2016-12-22 | 株式会社ミウラ | プローブ |
-
1992
- 1992-08-06 JP JP21027992A patent/JPH05196639A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007095753A (ja) * | 2005-09-27 | 2007-04-12 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | プローバ、プローブ接触方法及びそのためのプログラム |
| JP2016217919A (ja) * | 2015-05-21 | 2016-12-22 | 株式会社ミウラ | プローブ |
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