JPH05197628A - Semiconductor memory device - Google Patents

Semiconductor memory device

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JPH05197628A
JPH05197628A JP680892A JP680892A JPH05197628A JP H05197628 A JPH05197628 A JP H05197628A JP 680892 A JP680892 A JP 680892A JP 680892 A JP680892 A JP 680892A JP H05197628 A JPH05197628 A JP H05197628A
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JP
Japan
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signal
write
disable
write enable
storage element
Prior art date
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Pending
Application number
JP680892A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Makoto Ihara
誠 伊原
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Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
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Publication of JPH05197628A publication Critical patent/JPH05197628A/en
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Abstract

(57)【要約】 【構成】ワードライン11について書込み可能情報又は
書込み禁止情報を記憶する書込み可否情報記憶素子22
と、行デコーダ13により選択されたワードライン11
についての書込み可否情報記憶素子22が記憶する情報
に応じて、書込み可否信号を書込み回路29へ出力する
書込み可否判断手段18とを備え、選択されたワードラ
イン11について書込み可否情報記憶素子22が書込み
禁止情報を記憶する場合に、書込み回路29がデータ信
号を出力しない半導体記憶装置。 【効果】ROMとして使用される特定のメモリ領域(書
込み禁止領域)に対して、CPUの誤動作等を原因とし
て誤ってデータを書込みことが防止され、信頼性が向上
する。メモリ領域に於て書込み禁止領域の設定が、書込
み禁止領域に記憶すべきROMデータの量等に応じて、
少なくとも1本のワードライン11ごとに、任意の単位
で柔軟に実行される。
(57) [Summary] [Structure] A writable / unwritable information storage element 22 for storing writable information or writable information for the word line 11.
And the word line 11 selected by the row decoder 13
And a write enable / disable determining means 18 for outputting a write enable / disable signal to the write circuit 29 in accordance with the information stored in the write enable / disable information storage element 22 regarding the selected word line 11. A semiconductor memory device in which the write circuit 29 does not output a data signal when storing prohibition information. [Effect] It is possible to prevent erroneous writing of data to a specific memory area (write-protected area) used as a ROM due to a malfunction of the CPU, etc., and reliability is improved. The setting of the write-protected area in the memory area depends on the amount of ROM data to be stored in the write-protected area, etc.
It is flexibly executed in arbitrary units for each at least one word line 11.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は半導体記憶装置に関し、
特に、メモリ領域の一部を読みだし専用メモリ(以下
「ROM」とする)として使用し得る不揮発性リードラ
イトメモリ(以下「不揮発性RWM」とする)に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device,
In particular, the present invention relates to a nonvolatile read / write memory (hereinafter referred to as “nonvolatile RWM”) that can be used as a dedicated memory (hereinafter referred to as “ROM”) for reading out a part of the memory area.

【0002】[0002]

【従来の技術】不揮発性RWMは、電源を切った後も、
書き込んだデータを保持し続けることができるので、本
来ROMに記憶すべきデータ(ROMデータ)を不揮発
性RWMのメモリ領域の一部に記憶させることにより、
そのメモリ領域の一部をROMの代わりに使用すること
が可能である。この場合、ROMの代わりに使用される
メモリ領域へROMデータが記憶された後は、他のデー
タがその領域に書き込まれないようにしなければならな
い。
2. Description of the Prior Art Nonvolatile RWM is
Since the written data can be retained, by storing the data (ROM data) that should be originally stored in the ROM in a part of the memory area of the nonvolatile RWM,
It is possible to use a part of the memory area instead of the ROM. In this case, after the ROM data is stored in the memory area used instead of the ROM, it is necessary to prevent other data from being written in that area.

【0003】従来技術によれば、特定のメモリ領域に対
してデータの書込みが禁止されているか又は書込みが可
能かの判断は、プログラムに基づいたCPUによる外部
制御によって実行される。従って、そのプログラムにバ
グが存在した場合、又は制御中にノイズが発生した場合
に於て、それを原因としてCPUが暴走又は誤動作する
と、ROMの代わりに使用されているメモリ領域に対し
て、誤ってデータの書込みが行われ、ROMデータが消
去されるという問題が生じる。
According to the prior art, the determination as to whether data writing is prohibited or writable in a specific memory area is executed by external control by the CPU based on a program. Therefore, if there is a bug in the program, or if noise occurs during control and the CPU runs away or malfunctions due to it, the memory area used in place of the ROM will be erroneous. Then, the data is written and the ROM data is erased.

【0004】特開平3−129446号公報は、アドレ
スバスからの情報に応じてEEPROM領域の書込み許
可領域と書込み禁止領域とを指定する領域指定信号を発
生させる領域指定手段(書込み許可領域レジスタ)と、
その領域指定信号により指定された書込み領域とアドレ
スバスからのデータにより指定された領域とを比較して
これらの2つの領域が不一致の場合にEEPROMに対
するデータ書込みを禁止する判別手段と、を有するEE
PROM内蔵コンピュータを開示している。
Japanese Unexamined Patent Publication No. 3-129446 discloses an area designating means (write enable area register) for generating an area designating signal for designating a write-enabled area and a write-protected area of an EEPROM area in accordance with information from an address bus. ,
EE having a writing area designated by the area designation signal and an area designated by data from the address bus, and discriminating the data writing to the EEPROM when these two areas do not match.
A computer with a built-in PROM is disclosed.

【0005】また、特開平2−2435号公報は、一部
の記憶セルについて書換えを禁止するために、書換え禁
止領域に対して書換え動作に必要な高電圧を印加しない
ようにする書換え禁止回路を備えた半導体不揮発性記憶
装置を開示している。書換え禁止回路の動作は、書換え
禁止回路に接続された外部入力端子の電位により制御さ
れる。
Further, Japanese Patent Laid-Open No. 2-2435 discloses a rewrite prohibition circuit for preventing application of a high voltage required for a rewrite operation to a rewrite prohibition area in order to prohibit rewrite of some memory cells. A semiconductor nonvolatile memory device having the same is disclosed. The operation of the rewrite prohibition circuit is controlled by the potential of the external input terminal connected to the rewrite prohibition circuit.

【0006】また、特開昭62−202395号公報
は、書込み防止信号入力端子を有する半導体集積回路装
置であって、書込み防止信号入力端子から書込み防止信
号が入力されている間に行われる特定のアドレス指定に
対しては行選択信号を出力しないデコータを備えた半導
体集積回路を開示している。
Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-202395 discloses a semiconductor integrated circuit device having a write protection signal input terminal, and a specific method is performed while the write protection signal is input from the write protection signal input terminal. A semiconductor integrated circuit having a decoder that does not output a row selection signal for addressing is disclosed.

【0007】また、特開昭61−271687号公報
は、複数のメモリブロックを有する磁気バブルカセット
であって、書込みまたは書込み禁止を指定する指定信号
をメモリブロック毎に発生させる手段と、書込み命令が
与えられたさいに書込み禁止の指定信号を検出する手段
とを備え、書込み禁止の指定信号を検出した場合に書込
みを行わない磁気バブルカセットを開示している。書込
みの指定及び書込み禁止の指定は、スイッチ切替えで実
行される。
Further, Japanese Patent Laid-Open No. 61-271687 discloses a magnetic bubble cassette having a plurality of memory blocks, in which a means for generating a designation signal for designating write or write prohibit for each memory block and a write command are provided. There is disclosed a magnetic bubble cassette which is provided with means for detecting a write-prohibited designation signal when given, and which does not write when the write-prohibited designation signal is detected. The designation of writing and the designation of writing prohibition are executed by switch switching.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
従来技術によれば、次に述べる問題がある。
However, the above-mentioned conventional technique has the following problems.

【0009】特開平3−129446号公報の開示する
EEPROM内蔵コンピュータに於いては、領域指定信
号により指定された書込み領域とアドレスバスからのデ
ータにより指定された領域とを比較する手段(領域判別
回路)に対して、アドレスデコーダからのデータをデコ
ードしアドレス空間識別信号を出力する必要がある。こ
のためのアドレスデコーダが、EEPROMのアドレス
デコーダとは別に必要になるという不都合がある。
In the EEPROM built-in computer disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 3-129446, means for comparing a write area specified by an area specifying signal with an area specified by data from an address bus (area determining circuit) ), It is necessary to decode the data from the address decoder and output the address space identification signal. There is a disadvantage that an address decoder for this purpose is required separately from the EEPROM address decoder.

【0010】特開平2−2435号公報の開示する半導
体不揮発性記憶装置は、書換え禁止回路の動作が書換え
禁止回路に接続された外部入力端子の電位により制御さ
れるため、あるアドレスへの書込みを許可するか否かの
判定回路が、半導体記憶装置の外部に必要であるという
欠点がある。
In the semiconductor nonvolatile memory device disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-2435, since the operation of the rewrite inhibit circuit is controlled by the potential of the external input terminal connected to the rewrite inhibit circuit, writing to a certain address is performed. There is a drawback in that a circuit for determining whether to permit is required outside the semiconductor memory device.

【0011】特開昭62−202395号公報の開示す
る半導体集積回路装置は、特定のアドレスについて行選
択信号を出力しない構成を有しているため、あるサイク
ルで選択されたビットに対して書込みが禁止されている
とき、そのビットからの読み出しも不可能となるという
欠点を有している。
Since the semiconductor integrated circuit device disclosed in Japanese Unexamined Patent Publication No. 62-202395 has a configuration in which a row selection signal is not output for a specific address, writing to a bit selected in a certain cycle is not possible. When it is prohibited, it has a drawback that reading from that bit is impossible.

【0012】特開昭61−271687号公報の開示す
る磁気バブルカセットは、書込みの指定及び書込み禁止
の指定をブロック単位で行うため、より小さな単位での
書込み禁止の指定をすることができないという欠点を有
している。
In the magnetic bubble cassette disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 61-271687, since writing and writing inhibition are designated in block units, it is not possible to designate writing inhibition in smaller units. have.

【0013】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたものであり、その目的とするところは、ROMの代
わりに使用される特定のメモリ領域に対して、CPUの
誤動作等を原因として誤ってデータを書込むことが確実
に防止される信頼性の高い半導体記憶装置を提供するこ
とにある。
The present invention has been made in order to solve the above problems, and an object of the present invention is to make a mistake in a specific memory area used in place of a ROM due to a malfunction of a CPU or the like. Another object of the present invention is to provide a highly reliable semiconductor memory device in which writing of data can be surely prevented.

【0014】本発明の他の目的は、メモリ領域に於て書
込みが禁止される領域の設定が、ROMとして使用され
るメモリ領域(書込み禁止領域)に記憶すべきROMデ
ータの量等に応じて、任意の単位で柔軟に実行される半
導体記憶装置を提供することにある。
Another object of the present invention is to set the area in which writing is prohibited in the memory area in accordance with the amount of ROM data to be stored in the memory area (write-inhibiting area) used as a ROM. It is to provide a semiconductor memory device that can be flexibly executed in arbitrary units.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体記憶装置
は、行アドレス信号を受け、該行アドレス信号に応じて
行選択信号を出力する行デコーダと、該行デコーダに接
続され、該行選択信号を受け取るワードラインと、列ア
ドレス信号を受け、該列アドレス信号に応じて列選択信
号を出力する列デコーダと、該列デコーダに接続され、
該列選択信号を受け、該列選択信号に応じて開閉するス
イッチング素子と、外部入力データに応じてデータ信号
を出力する書込み回路と、該スイッチング素子を介して
該書込み回路に接続され、該書込み回路から該データ信
号を受け取るビットラインと、該ワードラインと該ビッ
トラインとに接続された記憶セルと、を備えた半導体記
憶装置であって、更に、該ワードラインについて書込み
可能情報又は書込み禁止情報を記憶する書込み可否情報
記憶素子と、該書込み可否情報記憶素子と該書込み回路
とに接続されており、該行デコーダにより選択されたワ
ードラインについての該書込み可否情報記憶素子が記憶
する情報に応じて、書込み可否信号を該書込み回路へ出
力する書込み可否判断手段と、を備え、該書込み可否情
報記憶素子が該書込み禁止情報を記憶する場合に該書込
み可否判断手段から出力される書込み可否信号を該書込
み回路が受けたとき、該書込み回路は該データ信号を出
力しないことにより、上記目的を達成する。
A semiconductor memory device of the present invention includes a row decoder which receives a row address signal and outputs a row selection signal in accordance with the row address signal, and a row decoder which is connected to the row decoder. A word line for receiving a signal, a column decoder for receiving a column address signal and outputting a column selection signal in response to the column address signal, and connected to the column decoder,
A switching element that receives the column selection signal and opens / closes according to the column selection signal, a writing circuit that outputs a data signal according to external input data, and a writing circuit that is connected to the writing circuit through the switching element. What is claimed is: 1. A semiconductor memory device comprising: a bit line for receiving the data signal from a circuit; and a memory cell connected to the word line and the bit line, further comprising writable information or write inhibit information for the word line. Is connected to the write enable / disable information storage element, the write enable / disable information storage element, and the write circuit, and stores the write enable / disable information storage element for the word line selected by the row decoder in accordance with the information stored by the write enable / disable information storage element. And a write enable / disable determining means for outputting a write enable / disable signal to the write circuit, wherein the write enable / disable information storage element has the write enable / disable information. When 該書 lump circuit a write permission signal output from the 該書 included possibility determining section receives the case of storing only prohibition information, 該書 inclusive circuit by not outputting the data signals, to achieve the above object.

【0016】前記書込み可否情報記憶素子は、導通状態
及び非導通状態の2つの状態を取り得る素子であり、前
記書込み可否判断手段は、前記行デコーダにより選択さ
れた前記ワードラインについての該書込み可否情報記憶
素子の該2つの状態に応じて、前記書込み可否信号を前
記書込み回路に出力してもよい。
The write enable / disable information storage element is an element capable of assuming two states, a conductive state and a non-conductive state, and the write enable / disable determining means is the write enable / disable for the word line selected by the row decoder. The write enable / disable signal may be output to the write circuit according to the two states of the information storage element.

【0017】前記書込み可否判断手段が、信号線と、前
記書込み可否情報記憶素子と該信号線との間に接続さ
れ、前記行デコーダにより前記ワードラインが選択され
たとき、該選択されたワードラインについての該書込み
可否情報記憶素子が記憶する前記導通状態及び前記非導
通状態の2つの状態に応じて、該信号線の電位を変化さ
せる電位変化手段と、該信号線に接続され、該信号線の
該変化した電位に応じて、前記書込み可否信号を出力す
る書込み可否信号出力手段と、を備えていてもよい。
The write enable / disable determining means is connected between the signal line, the write enable / disable information storage element and the signal line, and when the word line is selected by the row decoder, the selected word line And a potential change means for changing the potential of the signal line according to the two states of the conducting state and the non-conducting state stored in the writable information storage element, and the signal line. And a write enable / disable signal output means for outputting the write enable / disable signal in accordance with the changed potential.

【0018】前記書込み可否情報記憶素子は、前記ワー
ドラインの各々について、前記書込み可能情報又は前記
書込み禁止情報を記憶してもよい。
The write enable / disable information storage element may store the write enable information or the write disable information for each of the word lines.

【0019】前記書込み可否情報記憶素子は、前記ワー
ドラインのうち少なくとも2以上のワードラインからな
る複数のワードライン群の各々について、前記書込み可
能情報又は前記書込み禁止情報を記憶してもよい。
The writable / unwritable information storage element may store the writable information or the writable prohibition information for each of a plurality of word line groups including at least two word lines among the word lines.

【0020】本発明の他の半導体記憶装置は、行アドレ
ス信号を受け、該行アドレス信号に応じて行選択信号を
出力する行デコーダと、該行デコーダに接続され、該行
選択信号を受け取るワードラインと、列アドレス信号を
受け、該列アドレス信号に応じて列選択信号を出力する
列デコーダと、該列デコーダに接続され、該列選択信号
を受け、該列選択信号に応じて開閉するスイッチング素
子と、外部入力データに応じてデータ信号を出力する書
込み回路と、該スイッチング素子を介して該書込み回路
と接続され、該書込み回路から該データ信号を受け取る
ビットラインと、該ワードラインと該ビットラインとに
接続された記憶セルと、を備えた半導体記憶装置であっ
て、該列デコーダが、該ビットラインについて書込み可
能情報又は書込み禁止情報を記憶する書込み可否情報記
憶素子と、該列デコーダにより選択されたビットライン
についての該書込み可否情報記憶素子が記憶する情報に
応じて、該行選択信号の出力レベルを変化させる書込み
可否判断手段と、を有している。
Another semiconductor memory device of the present invention is a row decoder which receives a row address signal and outputs a row selection signal in response to the row address signal, and a word which is connected to the row decoder and receives the row selection signal. A line and a column decoder which receives a column address signal and outputs a column selection signal according to the column address signal, and a switching which is connected to the column decoder, receives the column selection signal, and opens / closes according to the column selection signal An element, a write circuit for outputting a data signal according to external input data, a bit line connected to the write circuit via the switching element and receiving the data signal from the write circuit, the word line and the bit A memory cell connected to a line, wherein the column decoder has writable information or write information for the bit line. Write enable / disable information storage element for storing stop information, and write enable / disable determination for changing the output level of the row select signal according to the information stored in the write enable / disable information storage element for the bit line selected by the column decoder. And means.

【0021】[0021]

【実施例】以下に、本発明を実施例について説明する。EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples.

【0022】第1の実施例の半導体記憶装置は、図7
(a)に示されるように、複数のメモリブロックを有し
ている。各メモリブロックは、図7(b)に示されるよ
うに、複数の行デコーダ13、複数の列デコーダ14及
び複数の書込み回路29を有している。各書込み回路2
9は、図示されていない入出力バッファに接続されてい
る。
The semiconductor memory device of the first embodiment is shown in FIG.
As shown in (a), it has a plurality of memory blocks. As shown in FIG. 7B, each memory block has a plurality of row decoders 13, a plurality of column decoders 14, and a plurality of write circuits 29. Each writing circuit 2
Reference numeral 9 is connected to an input / output buffer (not shown).

【0023】次に、図1を参照しながら、第1の実施例
の主要部の構成の概略を説明する。本実施例の半導体記
憶装置は、行アドレス信号に応じて行選択信号を出力す
る行デコーダ13と、行デコーダ13に接続された行選
択信号線(ワードライン)11と、列アドレス信号に応
じて列選択信号を出力する列デコーダ14と、列選択信
号に応じて開閉するスイッチング素子140と、端子2
5に入力される外部入力データに応じてデータ信号を共
通データ線(I/O線)26へ出力する書込み回路29
と、スイッチング素子140を介して書込み回路29の
共通データ線26に接続されるビットライン21と、ワ
ードライン11及びビットライン21に接続されたメモ
リセル(記憶セル)15とを備えている。図1には、特
定のワードライン11及びビットライン21に接続され
た1個のメモリセル15だけが示されているが、現実に
は、複数のワードライン11と複数のビットライン21
が交差する部分の各々に、メモリセル15が形成されて
いる。
Next, referring to FIG. 1, an outline of the structure of the main part of the first embodiment will be described. The semiconductor memory device of this embodiment has a row decoder 13 that outputs a row selection signal in response to a row address signal, a row selection signal line (word line) 11 connected to the row decoder 13, and a column address signal. A column decoder 14 that outputs a column selection signal, a switching element 140 that opens and closes according to the column selection signal, and a terminal 2
A write circuit 29 that outputs a data signal to a common data line (I / O line) 26 in accordance with external input data input to 5
And a bit line 21 connected to the common data line 26 of the write circuit 29 through the switching element 140, and a word line 11 and a memory cell (memory cell) 15 connected to the bit line 21. Although only one memory cell 15 connected to a specific word line 11 and bit line 21 is shown in FIG. 1, in reality, a plurality of word lines 11 and a plurality of bit lines 21 are shown.
A memory cell 15 is formed at each of the intersecting points.

【0024】ワードライン11は行デコーダ13から行
選択信号を受け取る。すなわち、選択されたワードライ
ン11の電位は、行デコーダ13によって変化する。ビ
ットライン21は、列デコーダ14によりスイッチング
素子140が開状態(オン状態)にされたとき、書込み
回路29の共通データ線26からデータ信号を受け取
る。一般には、本実施例の列デコーダ14とスイッチン
グ素子140とを合わせて、「列デコーダ」と称するこ
ともあるが、本明細書に於いては、これらを区別して記
述する。なお、ビットライン21は、公知の半導体記憶
装置と同様に、図示されていないセンスアンプに接続さ
れている。
The word line 11 receives a row selection signal from the row decoder 13. That is, the potential of the selected word line 11 is changed by the row decoder 13. The bit line 21 receives a data signal from the common data line 26 of the write circuit 29 when the switching element 140 is opened (ON state) by the column decoder 14. In general, the column decoder 14 and the switching element 140 of this embodiment may be collectively referred to as a “column decoder”, but they are described separately in this specification. The bit line 21 is connected to a sense amplifier (not shown) as in the known semiconductor memory device.

【0025】本半導体記憶装置は、更に、各ワードライ
ン11について書込み可能情報又は書込み禁止情報を記
憶する書込み可否情報記憶素子22と、書込み可否情報
記憶素子22及び書込み回路25に接続された書込み可
否判断手段18とを備えている。
The semiconductor memory device further includes a write enable / disable information storage element 22 for storing write enable information or write disable information for each word line 11, and a write enable / disable status connected to the write enable / disable information storage element 22 and the write circuit 25. The determination means 18 is provided.

【0026】書込み可否判断手段18は、行デコーダ1
3により選択されたワードライン11についての書込み
可否情報記憶素子22が記憶している情報に応じて、書
込み可否信号を書込み可否信号線23を介して書込み回
路29へ出力する。書込み回路29は、書込み可否信号
に応じて、データ信号の出力を停止する。
The write enable / disable determining means 18 is the row decoder 1
A write enable / disable signal is output to the write circuit 29 via the write enable / disable signal line 23 in accordance with the information stored in the write enable / disable information storage element 22 for the word line 11 selected by 3. The write circuit 29 stops outputting the data signal in response to the write enable / disable signal.

【0027】本実施例の書込み可否情報記憶素子22
は、導通状態及び非導通状態の2つの状態を取り得る素
子である。本実施例では、書込みが禁止されているワー
ドライン11については、導通状態に設定され、書込み
が禁止されていないワードライン11については、非導
通状態に設定されている。書込み可否判断手段18は、
行デコーダ13により選択されたワードライン11につ
いての書込み可否情報記憶素子22の2つの状態に応じ
て、書込み可否信号を書込み回路29に出力する。
The write enable / disable information storage element 22 of this embodiment
Is an element that can be in two states, a conducting state and a non-conducting state. In the present embodiment, the word line 11 for which writing is prohibited is set to the conductive state, and the word line 11 for which writing is not prohibited is set to the non-conductive state. The writability determination means 18 is
A write enable / disable signal is output to the write circuit 29 according to two states of the write enable / disable information storage element 22 for the word line 11 selected by the row decoder 13.

【0028】より詳細には、書込み可否判断手段18
は、信号線27と、書込み可否情報記憶素子22及び信
号線27に接続された電位変化手段20と、信号線27
に接続された書込み可否信号出力手段28と、を備えて
いる。各電位変化手段20は、その電位変化手段20が
接続されているワードライン11が行デコーダ13によ
り選択されたとき、その選択されたワードライン11に
ついての書込み可否情報記憶素子11の記憶する導通状
態及び非導通状態の2つの状態に応じて、信号線27の
電位を変化させる。書込み可否信号出力手段28は、信
号線27の変化した電位に応じて、書込み可否信号を出
力する。この書込み可否信号は、書込み可否信号線23
に出力される。信号線27には、信号線27をバイアス
し、又はプリチヤージするための手段19が接続されて
いる。
More specifically, the write enable / disable determining means 18
Is the signal line 27, the write enable / disable information storage element 22 and the potential changing means 20 connected to the signal line 27, and the signal line 27.
And a write enable / disable signal output means 28 connected to the. When the word line 11 to which the potential changing means 20 is connected is selected by the row decoder 13, each potential changing means 20 is in a conductive state stored in the write enable / disable information storage element 11 for the selected word line 11. And the potential of the signal line 27 is changed according to the two states of non-conduction and non-conduction. The write enable / disable signal output means 28 outputs a write enable / disable signal according to the changed potential of the signal line 27. This write enable / disable signal is used as the write enable / disable signal line 23.
Is output to. A means 19 for biasing or precharging the signal line 27 is connected to the signal line 27.

【0029】ライトイネーブル信号線24及び書込み可
否信号線23が入力端子に接続され、出力端子が書込み
回路29に接続されたNAND回路31を、本実施例の
半導体記憶装置は更に有している。
The semiconductor memory device of this embodiment further includes a NAND circuit 31 in which the write enable signal line 24 and the write enable / disable signal line 23 are connected to the input terminal and the output terminal is connected to the write circuit 29.

【0030】次に、図2を参照しながら、第1の実施例
の回路構成を説明する。本実施例の書込み可否情報記憶
素子22は、導通状態及び非導通状態の2つの状態を取
り得るヒューズである。前述したように、本実施例で
は、書込みが禁止されているワードライン11について
のヒューズは導通状態に設定される。書込みが禁止され
ていないワードライン11についてのヒューズは非導通
状態に設定される。ヒューズを非導通状態とするために
は、そのヒューズの一部をレーザトリマー等を用いて切
断すればよい。ヒューズを有する冗長回路を備えた半導
体記憶装置を製造する場合、そのヒューズの一部を切断
する工程を行うため、その工程に於いて書込み可否情報
記憶素子22であるヒューズの一部をも切断すれば、製
造工程は特に増加しない。
Next, the circuit configuration of the first embodiment will be described with reference to FIG. The writable / unwritable information storage element 22 of this embodiment is a fuse that can be in two states, a conductive state and a non-conductive state. As described above, in this embodiment, the fuse for the word line 11 for which writing is prohibited is set to the conductive state. The fuse for the word line 11 in which writing is not prohibited is set to the non-conducting state. In order to make the fuse non-conductive, a part of the fuse may be cut using a laser trimmer or the like. When manufacturing a semiconductor memory device including a redundant circuit having a fuse, a step of cutting a part of the fuse is performed, and therefore, a part of the fuse, which is the write enable / disable information storage element 22, is also cut in the step. Therefore, the manufacturing process does not increase.

【0031】本実施例の電位変化手段20は、ゲートが
ワードライン11に接続されたMOSFETである。M
OSFETのソース/ドレインの一方は、書込み可否情
報記憶素子22であるヒューズの一端に接続されてい
る。MOSFETのソース/ドレインの他方は、信号線
27に接続されている。本実施例の信号線27は、信号
線27を抵抗49を介して、Highレベル(以下、
「Hレベル」とする)の電位を供給する電源(不図示)
に接続されている。なお、ヒューズの他端は、接地され
ている。
The potential changing means 20 of this embodiment is a MOSFET whose gate is connected to the word line 11. M
One of the source / drain of the OSFET is connected to one end of a fuse which is the write enable / disable information storage element 22. The other of the source / drain of the MOSFET is connected to the signal line 27. The signal line 27 of the present embodiment is a high level (hereinafter, referred to as the signal line 27 via the resistor 49.
Power supply (not shown) that supplies "H level" potential
It is connected to the. The other end of the fuse is grounded.

【0032】行アドレス信号線10を介して伝達される
行アドレス信号に応じて行デコーダ13によりワードラ
イン11が選択されたとき(ワードライン11の電位が
Hレベルに上昇したとき)、その選択されたワードライ
ン11に接続されている電位変化手段(MOSFET)
20はオン状態となり、MOSFETのチャネルが導通
する。従って、選択されたワードライン11についての
ヒューズが導通状態にあると、抵抗49、信号線27、
電位変化手段(MOSFET)20及びヒューズを介し
て、電流が電源からグランドへ流れる。このとき、抵抗
49による電圧降下によって、信号線27の電位は、電
源の供給する電位(例えば5ボルト)よりも大きく低下
し、Lowレベル(以下、「Lレベル」とする)に変化
する。言いかえると、信号線27の電位は、Lレベルに
プルダウンされる。
When the word line 11 is selected by the row decoder 13 in response to the row address signal transmitted via the row address signal line 10 (when the potential of the word line 11 rises to H level), the selection is performed. Potential change means (MOSFET) connected to the word line 11
20 is turned on, and the channel of the MOSFET becomes conductive. Therefore, when the fuse for the selected word line 11 is conductive, the resistor 49, the signal line 27,
A current flows from the power supply to the ground through the potential changing means (MOSFET) 20 and the fuse. At this time, due to the voltage drop due to the resistor 49, the potential of the signal line 27 is significantly lower than the potential (for example, 5 V) supplied by the power source, and changes to the Low level (hereinafter referred to as “L level”). In other words, the potential of the signal line 27 is pulled down to the L level.

【0033】こうして、信号線27の電位がLレベルに
低下すると、書込み可否信号出力手段28である2段イ
ンバータによって増幅されたLレベル信号が、書込み可
否信号(書込み禁止信号)として、NAND回路31の
一端子に出力される。
In this way, when the potential of the signal line 27 is lowered to the L level, the L level signal amplified by the two-stage inverter which is the write enable / disable signal output means 28 becomes the NAND circuit 31 as the write enable / disable signal (write disable signal). It is output to one terminal.

【0034】この結果、たとえライトイネーブル信号線
24を介してHレベルのライトイネーブル信号がNAN
D回路31の他の一端子に印加されていても、Lレベル
の書込み可否信号がNAND回路31の一端子に印加さ
れている限り、外部入力データ(書込み信号)が共通デ
ータ線26を介して書込み回路29から出力されること
はない。こうして、列アドレス信号線9を介して伝達さ
れる列アドレス信号に応じて、列デコーダ14によって
選択されたビットライン21には、外部入力データが伝
達されない。従って、選択されたワードライン11と選
択されたビットライン21とに接続されたメモリセル1
5に対して、データの書込みは実行されない。
As a result, even if the write enable signal of H level passes through the write enable signal line 24, the NAN
Even if it is applied to the other terminal of the D circuit 31, as long as the L level write enable / disable signal is applied to the one terminal of the NAND circuit 31, the external input data (write signal) is transmitted through the common data line 26. It is not output from the writing circuit 29. Thus, external input data is not transmitted to the bit line 21 selected by the column decoder 14 according to the column address signal transmitted through the column address signal line 9. Therefore, the memory cell 1 connected to the selected word line 11 and the selected bit line 21
No data is written to the data of No. 5.

【0035】一方、行デコーダ13によりワードライン
11が選択されたとき(ワードライン11の電位がHレ
ベルに上昇したとき)、選択されたワードライン11に
ついてのヒューズが非導通状態にあると、電流は、ヒュ
ーズ、抵抗49、電位変化手段(MOSFET)20及
び信号線27を介して、電源からグランドへ流れない。
このとき、抵抗49による電圧降下は生じない。従っ
て、信号線27の電位は、Hレベルに維持される。
On the other hand, when the word line 11 is selected by the row decoder 13 (when the potential of the word line 11 rises to the H level), if the fuse for the selected word line 11 is in the non-conducting state, the current flows. Does not flow from the power supply to the ground through the fuse, the resistor 49, the potential changing means (MOSFET) 20 and the signal line 27.
At this time, the voltage drop due to the resistor 49 does not occur. Therefore, the potential of the signal line 27 is maintained at the H level.

【0036】こうして、信号線27の電位がHレベルに
維持されると、書込み可否信号出力手段28である2段
インバータによって増幅されたHレベル信号が、書込み
可否信号(書込み可能信号)として、NAND回路31
の一端子に出力される。その結果、ライトイネーブル信
号線24を介してHレベルのライトイネーブル信号がN
AND回路31の他の一端子に印加されると、外部入力
データが共通データ線26を介して書込み回路29から
出力される。こうして、列デコーダ14によって選択さ
れたビットライン21に外部入力データが伝達される。
従って、選択されたワードライン11と選択されたビッ
トライン21とに接続されたメモリセルに対して、デー
タの書込みは実行される。
In this way, when the potential of the signal line 27 is maintained at the H level, the H level signal amplified by the two-stage inverter which is the write enable / disable signal output means 28 becomes the write enable / disable signal (write enable signal) NAND. Circuit 31
It is output to one terminal. As a result, the H-level write enable signal is transferred to the N level via the write enable signal line 24.
When applied to the other terminal of the AND circuit 31, the external input data is output from the write circuit 29 via the common data line 26. In this way, the external input data is transmitted to the bit line 21 selected by the column decoder 14.
Therefore, the data writing is executed to the memory cells connected to the selected word line 11 and the selected bit line 21.

【0037】このように本実施例によれば、ROMの代
わりに使用される特定のメモリ領域に対して、CPUの
誤動作等を原因として誤ってデータを書込みことが防止
され、信頼性が向上する。また、メモリ領域に於て書込
みが禁止される領域の設定が、ROMとして使用される
メモリ領域(書込み禁止領域)に記憶すべきROMデー
タの量等に応じて、ワードライン1本ごとに実行され
る。
As described above, according to the present embodiment, it is possible to prevent erroneous writing of data to a specific memory area used in place of the ROM due to a malfunction of the CPU or the like, thereby improving reliability. .. In addition, the setting of the area where writing is prohibited in the memory area is executed for each word line according to the amount of ROM data to be stored in the memory area (write-inhibiting area) used as a ROM. It

【0038】なお、電源と信号線27との間に、抵抗4
9の代わりに、スイッチング素子を設けてもよい。抵抗
49の代わりにスイッチング素子を有する改良された実
施例に於いては、ワードライン11の選択が行われる前
に、スイッチング素子はオン状態にされ、信号線27に
対するプリチャージが実行される。ワードライン11の
選択が行われるときには、スイッチング素子はオフ状態
となり、信号線27の電位は、電源の電位とは独立した
値をとり得る。こうして、この改良例に於いても、上述
の実施例の動作と同様にして、信号線27の電位に応じ
て、書込み可否情報記憶素子22の記憶する状態が検出
される。
A resistor 4 is provided between the power supply and the signal line 27.
Instead of 9, a switching element may be provided. In the improved embodiment having a switching element instead of the resistor 49, the switching element is turned on and precharge to the signal line 27 is performed before the selection of the word line 11 is performed. When the word line 11 is selected, the switching element is turned off, and the potential of the signal line 27 can take a value independent of the potential of the power supply. Thus, also in this improved example, the state in which the writability information storage element 22 is stored is detected in accordance with the potential of the signal line 27 in the same manner as the operation of the above-described embodiment.

【0039】本実施例では、各メモリブロック内で、そ
のメモリブロックに属する複数のワードライン11の各
々に対応する複数の電位変化手段20が、延長された一
つの信号線27を介して一つの書込み可否判断手段18
に接続されている。信号線27及び書込み可否判断可否
手段18の数は、設計に応じて、任意の値に変更され得
る。また、本実施例の書込み回路29の数は、ひとつの
メモリブロックについて1個であるが、その数は、ひと
つのメモリブロックについて2個以上であってもよい。
In this embodiment, in each memory block, the plurality of potential changing means 20 corresponding to each of the plurality of word lines 11 belonging to the memory block are connected to each other via one extended signal line 27. Writability determination means 18
It is connected to the. The numbers of the signal lines 27 and the write enable / disable determining means 18 can be changed to arbitrary values according to the design. Further, the number of write circuits 29 in this embodiment is one for one memory block, but the number may be two or more for one memory block.

【0040】本実施例では、ヒューズの「非導通状態」
が「書込み可能情報」の記憶に対応し、ヒューズの「導
通状態」が「書込み禁止情報」の記憶に対応している
が、ヒューズの「非導通状態」が「書込み禁止情報」の
記憶に対応し、ヒューズの「導通状態」が「書込み可能
情報」の記憶に対応するよう本実施例を改良してもよ
い。このような改良は、書込み可否信号出力手段28で
あるインバータの段数を本実施例の2段から3段に置き
換えればよい。このようにして得た改良例では、例えば
信号線27の電位がLレベルに低下すると、書込み可否
信号出力手段28である3段インバータによって増幅さ
れたHレベル信号が、書込み可否信号(書込み可能信
号)として、NAND回路31の一端子に出力される。
In this embodiment, the fuse is "non-conducting".
Corresponds to the storage of "writable information", the "conduction state" of the fuse corresponds to the storage of "write-prohibited information", but the "non-conduction state" of the fuse corresponds to the storage of "write-prohibited information" However, this embodiment may be improved so that the “conduction state” of the fuse corresponds to the storage of the “writable information”. Such improvement can be achieved by replacing the number of stages of the inverter, which is the write enable / disable signal output means 28, with two stages instead of two stages of this embodiment. In the improved example thus obtained, for example, when the potential of the signal line 27 is lowered to the L level, the H level signal amplified by the three-stage inverter that is the write enable / disable signal output means 28 becomes the write enable / disable signal (write enable signal). ) Is output to one terminal of the NAND circuit 31.

【0041】図3(a)は、本発明の第2の実施例の主
要部(書込み可否情報記憶素子22)を示している。本
実施例と第1の実施例との主要な相違点は、本実施例に
於ける書込み可否情報記憶素子22が、各々異なる反転
閾値電圧を有する2つの状態を取り得るMOSFETで
あることである。本実施例では、書込みが禁止されてい
る行についてのMOSFETは反転閾値電圧が低い状態
に設定される。書込みが禁止されていない行についての
MOSFETは反転閾値電圧が高い状態に設定される。
MOSFETの反転閾値電圧の制御は、MOSFETの
チャネル領域に対して行うドーピングのレベル(不純物
濃度)を調整することにより実行される。より具体的に
は、反転閾値を高くすべきMOSFETのチャネル領域
に対しては、選択的に、反転閾値電圧を上昇させる導電
型の不純物イオンを注入する。また、このイオン注入に
際しては、反転閾値を低くすべきMOSFETのチャネ
ル領域に対して不純物イオンが注入されないように、少
なくともそのチャネル部分をイオン注入マスク(典型的
には、フォトレジストマスク)により覆う。本実施例に
よれば、通常のリソグラフィ工程及びイオン注入工程に
より、所望のMOSFETの閾電圧を制御することがで
きるので、任意のワードライン11について書込み可否
情報記憶素子22に書込み可否情報記憶をさせることが
簡単に行える。
FIG. 3A shows a main part (write enable / disable information storage element 22) of the second embodiment of the present invention. The main difference between this embodiment and the first embodiment is that the write enable / disable information storage element 22 in this embodiment is a MOSFET that can have two states having different inversion threshold voltages. .. In the present embodiment, the MOSFETs in the row in which writing is prohibited are set to have a low inversion threshold voltage. The MOSFETs in the rows where writing is not prohibited are set to a state where the inversion threshold voltage is high.
The control of the inversion threshold voltage of the MOSFET is performed by adjusting the doping level (impurity concentration) performed on the channel region of the MOSFET. More specifically, conductivity type impurity ions for increasing the inversion threshold voltage are selectively implanted into the channel region of the MOSFET in which the inversion threshold is to be increased. At the time of this ion implantation, at least the channel portion is covered with an ion implantation mask (typically, a photoresist mask) so that impurity ions are not implanted into the channel region of the MOSFET for which the inversion threshold should be lowered. According to the present embodiment, the threshold voltage of the desired MOSFET can be controlled by the ordinary lithography process and ion implantation process, so that the write enable / disable information storage element 22 stores the write enable / disable information for any word line 11. Can be done easily.

【0042】本実施例に於ける書込み可否情報記憶素子
22であるMOSFETは、電位変化手段20をも兼ね
ている。すなわち、上記MOSFETのゲートはワード
ライン11に接続され、ソース/ドレインの一方は接地
され、ソース/ドレインの他方は信号線27に接続され
ている。
The MOSFET which is the write enable / disable information storage element 22 in this embodiment also serves as the potential changing means 20. That is, the gate of the MOSFET is connected to the word line 11, one of the source / drain is grounded, and the other of the source / drain is connected to the signal line 27.

【0043】このような構成により、行デコーダ13に
よりワードライン11が選択されたとき(ワードライン
11の電位がHレベルに上昇したとき)、その選択され
たワードライン11に接続されているMOSFETの反
転閾値が低いと、MOSFETのチャネルが導通する。
従って、抵抗49、信号線27及びMOSFETを介し
て電流が電源からグランドへ流れ、信号線27の電位
は、プルダウンする。
With such a configuration, when the word line 11 is selected by the row decoder 13 (when the potential of the word line 11 rises to H level), the MOSFET connected to the selected word line 11 is selected. When the inversion threshold is low, the MOSFET channel is conducting.
Therefore, a current flows from the power supply to the ground through the resistor 49, the signal line 27 and the MOSFET, and the potential of the signal line 27 is pulled down.

【0044】一方、行デコーダ13によりワードライン
11が選択されたとき、その選択されたワードライン1
1に接続されているMOSFETの反転閾値が高いと、
MOSFETのチャネルが導通しない。従って、抵抗4
9、信号線27、及びMOSFETを介して電流が電源
からグランドへ流れず、信号線27の電位はHレベルに
維持される。言いかえると、MOSFETを非導通状態
にするためには、選択されたワードライン11の電位
(例えば、約5ボルト)にまでゲート電位が上昇して
も、そのMOSFETがオン状態にならないように、M
OSFETの反転閾値を調整する必要がある。
On the other hand, when the word line 11 is selected by the row decoder 13, the selected word line 1
If the inversion threshold of the MOSFET connected to 1 is high,
The MOSFET channel is not conducting. Therefore, resistor 4
No current flows from the power source to the ground through the signal line 27 and the MOSFET 9, and the potential of the signal line 27 is maintained at the H level. In other words, in order to make the MOSFET non-conductive, even if the gate potential rises to the potential of the selected word line 11 (for example, about 5 volts), the MOSFET is not turned on. M
It is necessary to adjust the inversion threshold of the OSFET.

【0045】本実施例によれば、半導体記憶装置の通常
の回路を構成するMOSFETを形成する工程を利用し
て、書込み可否情報記憶素子22を形成することができ
るので、第1の実施例に比較して、製造工程が簡略化さ
れる利点がある。
According to this embodiment, the writability information storage element 22 can be formed by utilizing the process of forming the MOSFET forming the normal circuit of the semiconductor memory device. In comparison, there is an advantage that the manufacturing process is simplified.

【0046】図3(b)は、本発明の第3の実施例の主
要部を示している。本実施例と第1の実施例との主要な
相違点は、本実施例に於ける書込み可否情報記憶素子2
2が、導通状態及び非導通状態の2つの状態を取り得る
フローティングゲート型EEPROM素子(FAMO
S)であることである。本実施例では、書込みが禁止さ
れている行についての素子は導通状態(反転閾値電圧が
低い状態)に設定される。書込みが禁止されていない行
についてのFAMOS素子は非導通状態(反転閾値電圧
が高い状態)に設定される。FAMOSの反転閾値電圧
の制御は、FAMOSのフローティングゲートの電位を
調整することにより実行される。FAMOSのソース端
子222を接地し、コントロールゲート端子221に所
定の高電圧を印加することにより、フローティングゲー
トに電子が注入される。一方、コントロールゲート端子
221を接地し、ソース端子222に所定の高電圧を印
加することにより、フローティングゲートから電子が放
出される。上記両操作により、FAMOSの反転閾値を
繰り返して変化させることが可能である。
FIG. 3B shows the main part of the third embodiment of the present invention. The main difference between this embodiment and the first embodiment is that the write enable / disable information storage element 2 in this embodiment is different.
2 is a floating gate type EEPROM device (FAMO which can take two states, a conducting state and a non-conducting state.
S). In the present embodiment, the elements in the row where writing is prohibited are set to the conductive state (state where the inversion threshold voltage is low). The FAMOS element for the row where writing is not prohibited is set to the non-conducting state (state where the inversion threshold voltage is high). The control of the inversion threshold voltage of the FAMOS is executed by adjusting the potential of the floating gate of the FAMOS. Electrons are injected into the floating gate by grounding the source terminal 222 of the FAMOS and applying a predetermined high voltage to the control gate terminal 221. On the other hand, by grounding the control gate terminal 221 and applying a predetermined high voltage to the source terminal 222, electrons are emitted from the floating gate. By both of the above operations, it is possible to repeatedly change the inversion threshold of FAMOS.

【0047】このように、本実施例によれば、書込み可
否情報記憶素子22の記憶する導通状態及び非導通状態
の2つの状態を、必要に応じて変更することが可能であ
る。従って、書込み禁止領域の設定及びその変更は、R
OMとして使用されるメモリ領域(書込み禁止領域)に
記憶すべきROMデータの量等に応じて、柔軟に実行さ
れる。
As described above, according to this embodiment, it is possible to change the two states of the writable / non-writable information storage element 22, which are the conducting state and the non-conducting state, as necessary. Therefore, to set or change the write-protected area,
This is flexibly executed according to the amount of ROM data to be stored in the memory area (write-protected area) used as the OM.

【0048】図4は、第4の実施例を示している。本実
施例と第1の実施例との主要な差異は、一つの書込み可
否情報記憶素子22が、2本のワードライン11につい
ての書込み可否情報を記憶する点にある。すなわち、図
示される書込み可否情報記憶素子22が書込み禁止情報
を記憶している場合に於て、行アドレス信号線10を介
して伝達される行アドレス信号に応じて、行デコーダ1
3により図示される2本のワードライン11の何れかが
選択されたとき(ノード101の電位がHレベルとなっ
たとき)、第1の実施例の動作と同様にして、書込み回
路(図4に於て不図示)はデータ信号を発生せず、選択
されたワードライン11に接続されたメモリセル(図4
に於て不図示)へのデータの書込みは行われない。
FIG. 4 shows a fourth embodiment. The main difference between this embodiment and the first embodiment is that one write enable / disable information storage element 22 stores write enable / disable information for two word lines 11. That is, when the write enable / disable information storage element 22 shown in the figure stores the write inhibit information, the row decoder 1 receives the row address signal transmitted through the row address signal line 10.
When any one of the two word lines 11 shown by 3 is selected (when the potential of the node 101 becomes H level), the write circuit (FIG. 4) is performed similarly to the operation of the first embodiment. Memory cells connected to the selected word line 11 (see FIG. 4) do not generate a data signal.
No data is written to (not shown).

【0049】本実施例によれば、チップ上に於いて書込
み可否情報記憶素子22の占有面積が縮小されるという
利点がある。なお、本実施例の一つの書込み可否情報記
憶素子22は、2本のワードライン11についての書込
み可否情報を記憶しているが、3本以上の任意の数のワ
ードライン11についての書込み可否情報を記憶しても
よい。従って、メモリ領域に於て書込みが禁止される領
域の設定が、ROMとして使用されるメモリ領域(書込
み禁止領域)に記憶すべきROMデータの量等に応じ
て、少なくともワードライン2本ごとに、任意の単位で
柔軟に実行される。
According to this embodiment, there is an advantage that the area occupied by the write enable / disable information storage element 22 on the chip is reduced. Although one writable / unwritable information storage element 22 of this embodiment stores writable / unwritable information about two word lines 11, writable / unwritable information about an arbitrary number of three or more word lines 11 is stored. May be stored. Therefore, the setting of the area where writing is prohibited in the memory area depends on the amount of ROM data to be stored in the memory area (write-inhibiting area) used as a ROM, at least every two word lines, Flexible execution in arbitrary units.

【0050】図5は、第5の実施例の主要部を示してい
る。本実施例の半導体記憶装置は、上述のすべての実施
例とは異なり、ビットライン21について書込み可能情
報又は書込み禁止情報を記憶する書込み可否情報記憶素
子22と、列デコーダ14により選択されたビットライ
ン21についての書込み可否情報記憶素子22が記憶す
る情報に応じて、列選択信号の出力レベルを変化させる
書込み可否判断手段180と、を列デコーダ14内に備
えている。参考のために、従来の半導体記憶装置の対応
する部分を図6に示す。図6に示されるように、従来の
半導体記憶装置に於いては、列アドレス信号線9に接続
された各列デコーダ14(図6に於いては、1個の列デ
コーダだけが示されている)は、列アドレス信号に応じ
て、列選択信号線37に列選択信号を出力する。列選択
信号線37は、データ共通線26とビットライン21と
の間に設けられているスイッチング素子140のゲート
に接続されている。この従来の半導体記憶装置と本実施
例との主要な差異は、本実施例の列デコーダ14内に、
上述の可否情報記憶素子22と書込み可否判断手段18
とが設けられていることにある。以下、図5を参照しな
がら、本実施例を説明する。
FIG. 5 shows the main part of the fifth embodiment. The semiconductor memory device of this embodiment is different from all the above-described embodiments in that the write enable / disable information storage element 22 for storing the write enable information or write disable information for the bit line 21 and the bit line selected by the column decoder 14 are used. The column decoder 14 is provided with a write enable / disable determining unit 180 that changes the output level of the column select signal according to the information stored in the write enable / disable information storage element 22 for the column 21. For reference, a corresponding portion of the conventional semiconductor memory device is shown in FIG. As shown in FIG. 6, in the conventional semiconductor memory device, each column decoder 14 connected to the column address signal line 9 (only one column decoder is shown in FIG. 6). ) Outputs a column selection signal to the column selection signal line 37 in response to the column address signal. The column selection signal line 37 is connected to the gate of the switching element 140 provided between the data common line 26 and the bit line 21. The main difference between this conventional semiconductor memory device and this embodiment is that the column decoder 14 of this embodiment is
The permission / prohibition information storage element 22 and the write permission / prohibition determination means 18 described above
And are provided. This embodiment will be described below with reference to FIG.

【0051】本実施例の半導体記憶装置は、アドレス信
号に応じて行選択信号を出力する行デコーダ13と、行
デコーダ13に接続されたワードライン11と、列アド
レス信号に応じて列選択信号を列選択信号線37に出力
する列デコーダ14と、列選択信号線37に接続された
スイッチング素子140と、外部入力データに応じてデ
ータ信号を伝送する共通データ線(I/O線)26と、
スイッチング素子140を介して共通データ線26に接
続されたビットライン21と、ワードライン11及びビ
ットライン21に接続された記憶セル15と、を備えて
いる。
In the semiconductor memory device of this embodiment, a row decoder 13 that outputs a row selection signal according to an address signal, a word line 11 connected to the row decoder 13, and a column selection signal according to a column address signal. A column decoder 14 for outputting to the column selection signal line 37, a switching element 140 connected to the column selection signal line 37, a common data line (I / O line) 26 for transmitting a data signal according to external input data,
The bit line 21 is connected to the common data line 26 via the switching element 140, and the memory cell 15 is connected to the word line 11 and the bit line 21.

【0052】本実施例の列デコーダ14は、4組のビッ
トラインペアについて書込み可能情報又は書込み禁止情
報を記憶する書込み可否情報記憶素子22と、列デコー
ダ14により選択されたビットライン21についての書
込み可否情報記憶素子22が記憶する情報に応じて、行
選択信号の出力レベルを変化させる書込み可否判断手段
180と、を有している。
The column decoder 14 of this embodiment has a write enable / disable information storage element 22 for storing write enable information or write disable information for four bit line pairs and a write operation for the bit line 21 selected by the column decoder 14. The write enable / disable determining unit 180 that changes the output level of the row selection signal according to the information stored in the enable / disable information storage element 22.

【0053】より詳細には、本実施例の書込み可否情報
記憶素子22は、第1の実施例の書込み可否情報記憶素
子22と同様に、ヒューズである。書込み可否情報記憶
素子22としては、前述のように、ヒューズ、MOSF
ET及びEEPROMの何れを用いてもよい。
More specifically, the writability information storage element 22 of this embodiment is a fuse, like the writability information storage element 22 of the first embodiment. As the writability information storage element 22, as described above, the fuse, the MOSF
Either ET or EEPROM may be used.

【0054】ライトイネーブル信号線24は、書込み可
否判断手段180内のMOSFETのゲートに接続され
ている。MOSFETのソース/ドレインの一方はヒュ
ーズ(書込み可否情報記憶素子22)及び抵抗190を
介して電源に接続されている。ソース/ドレインの他方
は、列デコーダ14内のノード29に接続されている。
抵抗190とヒューズとの間に入力が接続されたインバ
ータ280の出力と、ノード29とは、ともに、NOR
回路290の入力に接続されている。このNOR回路2
90の出力は、列選択信号線37に接続されている。
The write enable signal line 24 is connected to the gate of the MOSFET in the write enable / disable determining means 180. One of the source / drain of the MOSFET is connected to a power supply via a fuse (write enable / disable information storage element 22) and a resistor 190. The other of the source / drain is connected to the node 29 in the column decoder 14.
The output of the inverter 280, whose input is connected between the resistor 190 and the fuse, and the node 29 are both NOR
It is connected to the input of circuit 290. This NOR circuit 2
The output of 90 is connected to the column selection signal line 37.

【0055】以下に、本実施例の動作を説明する。書込
みサイクル時に於いて、図示されている4組のビットラ
インペアを選択するために、図示されている列テコーダ
14に接続されている3本の列アドレス信号線9を介し
て伝送される列アドレス信号の全てがHレベルになった
とき、列デコーダ14内のノード29がLレベルとな
る。このとき、ヒューズ(書込み可否情報記憶素子2
2)が非導通状態にあると、インバータ280の入力
は、電源によりHレベルに維持されるため、NOR回路
290の2つの入力には、共に、Lレベルの信号が印加
される。この印加は、ライトイネーブル信号線24を介
して伝送されるライトイネーブル信号がHレベル及びL
レベルの何れであっても、影響を受けない。従って、列
デコーダ14が列選択信号線37に出力する列選択信号
はHレベルとなる。すなわち、Hレベルのライトイネー
ブル信号が書込み回路(図5に於いて不図示)に入力さ
れているとき、選択されたビットライン21についての
列デコーダ14は列選択信号線37にHレベル信号を出
力し、スイッチング素子140をオン状態にする。この
ため、選択されるべき4組のビットラインペアに接続さ
れたメモリセル15に対して、データの書込みが実行さ
れる。
The operation of this embodiment will be described below. During the write cycle, the column address transmitted via the three column address signal lines 9 connected to the illustrated column coder 14 to select the four bit line pairs shown. When all of the signals go to H level, the node 29 in the column decoder 14 goes to L level. At this time, the fuse (writability information storage element 2
When 2) is in the non-conducting state, the input of the inverter 280 is maintained at the H level by the power supply, so that the L level signal is applied to both inputs of the NOR circuit 290. This application applies when the write enable signal transmitted via the write enable signal line 24 is at H level and L level.
Not affected by any of the levels. Therefore, the column selection signal output from the column decoder 14 to the column selection signal line 37 becomes H level. That is, when the H level write enable signal is input to the write circuit (not shown in FIG. 5), the column decoder 14 for the selected bit line 21 outputs the H level signal to the column selection signal line 37. Then, the switching element 140 is turned on. Therefore, data writing is executed to the memory cells 15 connected to the four bit line pairs to be selected.

【0056】一方、ヒューズ(書込み可否情報記憶素子
22)が導通状態にあると、ライトイネーブル信号線2
4を介して伝送されるライトイネーブル信号がLレベル
のとき、インバータ280の入力は電源によりHレベル
に維持されるため、NOR回路290の2つの入力に
は、共に、Lレベルの信号が印加される。この結果、列
デコーダ14が列選択信号線37に出力する列選択信号
はHレベルとなる。
On the other hand, when the fuse (write enable / disable information storage element 22) is conductive, the write enable signal line 2
When the write enable signal transmitted via signal No. 4 is at the L level, the input of the inverter 280 is maintained at the H level by the power supply, so that the L level signal is applied to both of the two inputs of the NOR circuit 290. It As a result, the column selection signal output from the column decoder 14 to the column selection signal line 37 becomes H level.

【0057】ライトイネーブル信号がHレベルのとき
は、書込み可否判断手段180内のMOSFETが導通
するため、インバータ280の入力はノード29の電位
(Lレベル)にプルダウンされる。インバータ280の
入力の電位がLレベルになると、そのインバータ280
の出力はHレベルになる。この結果、列デコーダ14が
出力ノード37に出力する列選択信号はLレベルとな
る。すなわち、Hレベルのライトイネーブル信号が書込
み回路(図5に於いて不図示)に入力されているとき、
選択されるべきビットライン21についての列デコーダ
14は、列選択信号線37にLレベル信号を出力し、ス
イッチング素子140をオフ状態にする。このため、選
択されるべき8本のビットライン21に接続されるメモ
リセル15に対して、データの書込みは実行されない。
When the write enable signal is at the H level, the MOSFET in the write enable / disable determining means 180 is rendered conductive, so that the input of the inverter 280 is pulled down to the potential (L level) of the node 29. When the input potential of the inverter 280 becomes L level, the inverter 280
Output becomes H level. As a result, the column selection signal output from the column decoder 14 to the output node 37 becomes L level. That is, when the H level write enable signal is input to the write circuit (not shown in FIG. 5),
The column decoder 14 for the bit line 21 to be selected outputs an L level signal to the column selection signal line 37 to turn off the switching element 140. Therefore, no data is written to the memory cell 15 connected to the eight bit lines 21 to be selected.

【0058】本実施例によれば、列アドレス信号に応じ
て選択されるべき4組のビットラインペアについて、そ
のビットライン21の書込み可否情報記憶素子22が書
込み禁止情報を記憶するとき、列デコーダ14から列選
択信号が出力されない。このため、書込み回路(図5に
於いて不図示)の共通データ線26を介して伝達される
データ信号は、選択されるべき4組のビットラインペア
に伝達されない。
According to this embodiment, when the write enable / disable information storage element 22 of the four bit line pairs to be selected according to the column address signal stores the write inhibit information, the column decoder No column selection signal is output from 14. Therefore, the data signal transmitted via the common data line 26 of the write circuit (not shown in FIG. 5) is not transmitted to the four bit line pairs to be selected.

【0059】本実施例の書込み可否情報記憶素子22
は、各列デコーダ14に接続された1本の列選択信号線
37ごとに設けられているが、複数の列選択信号線37
について1個の書込み可否情報記憶素子22が設けられ
ていてもよい。また、本実施例の半導体記憶装置は、1
個の列デコーダ14が、複数本(8本)のビットライン
21を共通データ線26に接続し得る構成を有している
が、1個の列デコーダ14に接続されるビットライン2
1の数は任意である。
The write enable / disable information storage element 22 of this embodiment.
Is provided for each column selection signal line 37 connected to each column decoder 14, but a plurality of column selection signal lines 37 are provided.
One writability information storage element 22 may be provided. In addition, the semiconductor memory device of the present embodiment is 1
The column decoder 14 has a configuration capable of connecting a plurality of (8) bit lines 21 to the common data line 26. However, the bit line 2 connected to one column decoder 14
The number of 1 is arbitrary.

【0060】本実施例によれば、ROMの代わりに使用
される特定のメモリ領域に対して、CPUの誤動作等を
原因として誤ってデータを書込みことが防止され、信頼
性が向上する。また、メモリ領域に於て書込みが禁止さ
れる領域の設定が、ROMとして使用されるメモリ領域
(書込み禁止領域)に記憶すべきROMデータの量等に
応じて、少なくともビットライン1本ごとに、任意の単
位で柔軟に実行される。
According to the present embodiment, it is possible to prevent data from being erroneously written in a specific memory area used in place of the ROM due to a malfunction of the CPU, so that the reliability is improved. In addition, the setting of the area in which writing is prohibited in the memory area depends on the amount of ROM data to be stored in the memory area (write-inhibiting area) used as a ROM, at least for each bit line, Flexible execution in arbitrary units.

【0061】なお、本実施例の書込み可否情報記憶素子
22は、列デコーダ14が列選択信号を出力するノード
37ごとに設けられているが、複数のノード37からな
る群ごとに設けられていてもよい。
Although the write enable / disable information storage element 22 of this embodiment is provided for each node 37 from which the column decoder 14 outputs a column selection signal, it is provided for each group of a plurality of nodes 37. Good.

【0062】[0062]

【発明の効果】このように本発明によれば、ROMの代
わりに使用される特定のメモリ領域に対して、CPUの
誤動作等を原因として誤ってデータを書込みことが防止
され、信頼性が向上する。また、メモリ領域に於て書込
みが禁止される領域の設定が、ROMとして使用される
メモリ領域(書込み禁止領域)に記憶すべきROMデー
タの量等に応じて、少なくともワードライン1本ごとに
又は少なくともビットライン1本ごとに、任意の単位で
柔軟に実行される。
As described above, according to the present invention, it is possible to prevent erroneous writing of data to a specific memory area used in place of a ROM due to a malfunction of a CPU, etc., and improve reliability. To do. In addition, the setting of the area where writing is prohibited in the memory area depends on the amount of ROM data to be stored in the memory area (write-inhibiting area) used as a ROM, at least for each word line or Flexible execution is performed in arbitrary units at least for each bit line.

【0063】また、比較的簡単な構成により、RAMと
ROMとが1チップ内に混在した半導体記憶装置が提供
されるので、コンピュータボードの実装面積を縮小する
ことが可能となる。
Further, since the semiconductor memory device in which the RAM and the ROM are mixed in one chip is provided by the relatively simple structure, the mounting area of the computer board can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施例の構成の概略を示す図で
ある。
FIG. 1 is a diagram showing an outline of a configuration of a first exemplary embodiment of the present invention.

【図2】図1に示される第1の実施例の回路図である。FIG. 2 is a circuit diagram of the first embodiment shown in FIG.

【図3】(a)は、本発明の第2の実施例が有する書込
み可否情報記憶素子を示す図であり、(b)は、本発明
の第3の実施例が有する書込み可否情報記憶素子を示す
図である。
FIG. 3A is a diagram showing a write enable / disable information storage element included in the second embodiment of the present invention, and FIG. 3B is a write enable / disable information storage element included in the third embodiment of the present invention. FIG.

【図4】本発明の第4の実施例の構成の概略を示す図で
ある。
FIG. 4 is a diagram showing an outline of a configuration of a fourth exemplary embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第5の実施例の構成の概略を示す図で
ある。
FIG. 5 is a diagram showing a schematic configuration of a fifth embodiment of the present invention.

【図6】従来の半導体記憶装置において、図5に示され
る構成に対応する部分の概略を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing an outline of a portion corresponding to the configuration shown in FIG. 5 in a conventional semiconductor memory device.

【図7】(a)は、本発明の第1の実施例が有するメモ
リブロックを示す図、(b)は、そのメモリブロックの
平面レイアウトの概略を示す図である。
FIG. 7A is a diagram showing a memory block included in the first embodiment of the present invention, and FIG. 7B is a diagram showing a schematic plan layout of the memory block.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

9 列アドレス信号線 10 行アドレス信号線 11 ワードライン(行選択信号線) 13 行デコーダ 14 列デコーダ 15 メモリセル 18 書込み可否判断手段 20 電位変化手段 21 ビットライン 22 書込み可否情報記憶素子 23 書込み可否信号線 24 ライトイネーブル信号線 25 端子 26 共通データ線(I/O線) 27 信号線 28 書込み信号出力手段 29 書込み回路 31 NAND回路 37 列選択信号線 49 抵抗 140 スイッチング素子 190 抵抗 280 インバータ 290 NOR回路 9 column address signal line 10 row address signal line 11 word line (row selection signal line) 13 row decoder 14 column decoder 15 memory cell 18 write enable / disable determining means 20 potential changing means 21 bit line 22 write enable / disable information storage element 23 write enable / disable signal Line 24 Write enable signal line 25 Terminal 26 Common data line (I / O line) 27 Signal line 28 Write signal output means 29 Write circuit 31 NAND circuit 37 Column selection signal line 49 Resistor 140 Switching element 190 Resistor 280 Inverter 290 NOR circuit

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】行アドレス信号を受け、該行アドレス信号
に応じて行選択信号を出力する行デコーダと、 該行デコーダに接続され、該行選択信号を受け取るワー
ドラインと、 列アドレス信号を受け、該列アドレス信号に応じて列選
択信号を出力する列デコーダと、 該列デコーダに接続され、該列選択信号を受け、該列選
択信号に応じて開閉するスイッチング素子と、 外部入力データに応じてデータ信号を出力する書込み回
路と、 該スイッチング素子を介して該書込み回路に接続され、
該書込み回路から該データ信号を受け取るビットライン
と、 該ワードラインと該ビットラインとに接続された記憶セ
ルと、を備えた半導体記憶装置であって、 更に、 該ワードラインについて書込み可能情報又は書込み禁止
情報を記憶する書込み可否情報記憶素子と、 該書込み可否情報記憶素子と該書込み回路とに接続され
ており、該行デコーダにより選択されたワードラインに
ついての該書込み可否情報記憶素子が記憶する情報に応
じて、書込み可否信号を該書込み回路へ出力する書込み
可否判断手段と、 を備え、該書込み可否情報記憶素子が該書込み禁止情報
を記憶する場合に該書込み可否判断手段から出力される
書込み可否信号を該書込み回路が受けたとき、該書込み
回路は該データ信号を出力しない、 半導体記憶装置。
1. A row decoder for receiving a row address signal and outputting a row selection signal in response to the row address signal, a word line connected to the row decoder for receiving the row selection signal, and a column address signal. A column decoder that outputs a column selection signal according to the column address signal, a switching element that is connected to the column decoder, receives a column selection signal, and opens / closes in accordance with the column selection signal, and receives external input data. And a write circuit that outputs a data signal, and is connected to the write circuit via the switching element,
What is claimed is: 1. A semiconductor memory device comprising: a bit line that receives the data signal from the write circuit; and a memory cell connected to the word line and the bit line. Writable / unwritable information storage element for storing prohibition information, information writable / unwritable information storage element for the word line selected by the row decoder and connected to the writable / unwritable information storage element and the write circuit A write enable / disable determining unit that outputs a write enable / disable signal to the write circuit according to the above, and the write enable / disable output from the write enable / disable determining unit when the write enable / disable information storage element stores the write disable information. A semiconductor memory device, wherein the write circuit does not output the data signal when the write circuit receives the signal.
【請求項2】前記書込み可否情報記憶素子は、導通状態
及び非導通状態の2つの状態を取り得る素子であり、 前記書込み可否判断手段は、前記行デコーダにより選択
された前記ワードラインについての該書込み可否情報記
憶素子の該2つの状態に応じて、前記書込み可否信号を
前記書込み回路に出力する、 請求項1の半導体記憶装置。
2. The write enable / disable information storage element is an element capable of assuming two states of a conductive state and a non-conductive state, and the write enable / disable determining means is a device for the word line selected by the row decoder. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the write enable / disable signal is output to the write circuit according to the two states of the write enable / disable information storage element.
【請求項3】前記書込み可否判断手段が、 信号線と、 前記書込み可否情報記憶素子と該信号線との間に接続さ
れ、前記行デコーダにより前記ワードラインが選択され
たとき、該選択されたワードラインについての該書込み
可否情報記憶素子が記憶する前記導通状態及び前記非導
通状態の2つの状態に応じて、該信号線の電位を変化さ
せる電位変化手段と、 該信号線に接続され、該信号線の該変化した電位に応じ
て、前記書込み可否信号を出力する書込み可否信号出力
手段と、を備えた、 請求項2に記載の半導体記憶装置。
3. The write enable / disable determining means is connected between a signal line, the write enable / disable information storage element and the signal line, and is selected when the word line is selected by the row decoder. Potential changing means for changing the potential of the signal line in accordance with the two states of the conductive state and the non-conductive state stored in the write enable / disable information storage element for the word line; 3. The semiconductor memory device according to claim 2, further comprising a write enable / disable signal output unit that outputs the write enable / disable signal according to the changed potential of the signal line.
【請求項4】前記書込み可否情報記憶素子は、前記ワー
ドラインの各々について、前記書込み可能情報又は前記
書込み禁止情報を記憶する請求項1に記載の半導体記憶
装置。
4. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the write enable / disable information storage element stores the write enable information or the write disable information for each of the word lines.
【請求項5】前記書込み可否情報記憶素子は、前記ワー
ドラインのうち少なくとも2以上のワードラインからな
る複数のワードライン群の各々について、前記書込み可
能情報又は前記書込み禁止情報を記憶する請求項1に記
載の半導体記憶装置。
5. The writability information storage element stores the writable information or the writable prohibition information for each of a plurality of word line groups consisting of at least two word lines among the word lines. The semiconductor storage device according to 1.
【請求項6】行アドレス信号を受け、該行アドレス信号
に応じて行選択信号を出力する行デコーダと、 該行デコーダに接続され、該行選択信号を受け取るワー
ドラインと、 列アドレス信号を受け、該列アドレス信号に応じて列選
択信号を出力する列デコーダと、 該列デコーダに接続され、該列選択信号を受け、該列選
択信号に応じて開閉するスイッチング素子と、 外部入力データに応じてデータ信号を出力する書込み回
路と、 該スイッチング素子を介して該書込み回路と接続され、
該書込み回路から該データ信号を受け取るビットライン
と、 該ワードラインと該ビットラインとに接続された記憶セ
ルと、を備えた半導体記憶装置であって、 該列デコーダが、該ビットラインについて書込み可能情
報又は書込み禁止情報を記憶する書込み可否情報記憶素
子と、該列デコーダにより選択されたビットラインにつ
いての該書込み可否情報記憶素子が記憶する情報に応じ
て、該列選択信号の出力レベルを変化させる書込み可否
判断手段と、を有する半導体記憶装置。
6. A row decoder which receives a row address signal and outputs a row selection signal in response to the row address signal, a word line which is connected to the row decoder and receives the row selection signal, and a column address signal. A column decoder that outputs a column selection signal according to the column address signal, a switching element that is connected to the column decoder, receives a column selection signal, and opens / closes in accordance with the column selection signal, and receives external input data. And a write circuit that outputs a data signal, and is connected to the write circuit via the switching element,
A semiconductor memory device comprising: a bit line receiving the data signal from the write circuit; and a memory cell connected to the word line and the bit line, wherein the column decoder can write to the bit line. The output level of the column select signal is changed in accordance with the write enable / disable information storage element for storing information or write inhibit information and the information stored in the write enable / disable information storage element for the bit line selected by the column decoder. A writable / unwritable determination means, and a semiconductor memory device.
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