JPH0520143B2 - - Google Patents

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JPH0520143B2
JPH0520143B2 JP16089186A JP16089186A JPH0520143B2 JP H0520143 B2 JPH0520143 B2 JP H0520143B2 JP 16089186 A JP16089186 A JP 16089186A JP 16089186 A JP16089186 A JP 16089186A JP H0520143 B2 JPH0520143 B2 JP H0520143B2
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JP
Japan
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catalyst
silica
reaction
palladium
hydrogen
Prior art date
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JP16089186A
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Japanese (ja)
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JPS6323741A (en
Inventor
Noryuki Yoneda
Toshiji Makabe
Jun Kaita
Munekazu Nakamura
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JFE Engineering Corp
Original Assignee
Nippon Kokan Ltd
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Publication date
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Priority to DE8787109942T priority patent/DE3782213T2/en
Priority to EP87109942A priority patent/EP0255877B1/en
Priority to US07/071,964 priority patent/US4956326A/en
Publication of JPS6323741A publication Critical patent/JPS6323741A/en
Publication of JPH0520143B2 publication Critical patent/JPH0520143B2/ja
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  • Catalysts (AREA)
  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

〔産業上の利用分野〕 本発明は、金属ハロゲン化物を水素の存在下で
脱ハロゲン化するための触媒に関する。更に詳細
には、ケイ素、ニオブ又はバナジウムの塩化物、
ヨウ化物、臭化物などのハロゲン化物を水素の存
在下で脱ハロゲン化するための触媒に関する。 電子工業においては、前述の元素をはじめとし
た極めて高純度の各種新金属の需要が高い。即
ち、高純度ケイ素はLSIの基盤として大量に用い
られており、高純度ニオブは超電導材料として用
いられ、また高純度モリブデン、タングステンな
どはLSIのメタルシリサイドターゲツトとして用
いられており、今後は更にこれら新金属の用途が
広がると思われる。これら高純度新金属は、通常
先ず低純度の粗原料をハロゲン化した後蒸溜し、
高純度化して、再度熱分解もしくは水素化分解し
高純度製品とする。その際、高次のハロゲン化物
はより分解しにくので収率および反応速度が低
い、高温を必要とするため、低次のハロゲン化物
を用いるのが有利である。また、低次ハロゲン化
物の分解反応の副生品として高次ハロゲン化物を
生ずる場合は再度低次ハロゲン化物へ変成し、リ
サイクル使用するのが有利である。より具体例を
示せば、高純度ケイ素の製造においてはテトラク
ロロシランよりはトリクロロシランを水素化分解
するのが、五塩化ニオブよりは四塩化ニオブ、八
三塩化ニオブを用いて水素化分解するのが、反応
速度、反応収率を高くし、かつ反応条件を温和に
するために有利である。また、腐食生のハロゲン
化物を取り扱う関係上反応温度を低下させて腐食
生を低下させることは極めて重要である。 〔従来技術とその問題点〕 先行する金属ハロゲン化物の脱ハロゲン化技術
として、銅または塩化銅を触媒として水素存在下
でテトラクロロシランをトリクロロシランに水素
化する技術(特開昭58−161915、特開昭56−
73617、特開昭59−45919など)がある。また、白
金族金属を含む触媒を用いて同様の反応を行う技
術(特公昭55−10532)がある。しかしながら、
塩化銅を触媒に用いた場合はもちろん、銅を触媒
に用いた場合においても反応過程で塩化銅が生成
し、これらの塩化銅が反応条件下で揮発生である
ためにトリクロロシランに混入して製品純度を下
げ、しかも触媒も消耗することになるので、銅ま
たは塩化銅の触媒は長期の実用に供することはで
きない。一方、白金族金属を含む触媒は、白金族
金属を活性炭アルミナ、シリカに担持した触媒と
して使用するとされているが、そこに用いる担持
は多孔質である活性炭を使用し、またアルミナと
してγ−アルミナを使用していて、シリカも通常
用いられる多孔質のシリカゲルなどを使用するも
のとみられる。ところで、この触媒の場合、白金
族金属は銅のように消耗しないが、担体が消耗
し、活性が著しく低下するので、長期の実用に耐
えない。 〔問題点を解決するための手段〕 工業生産の場合、連続的にしかも長期間一定品
質の製品を取得することは極めて重要なポイント
である。本発明者らは白金族金属を触媒とする技
術の優秀生に着目し、工業化の観点から長期使用
に耐える触媒の研究開発を永年に亘つて進めてき
たが、ケイ素、ニオブ又はバナジウムのハロゲン
化物を水素の存在下で脱ハロゲン化するための触
媒として、非多孔質のシリカ担体に白金族金属お
よび白金族金属のケイ化物からなる群より選ばれ
た少なくとも一つを担持した触媒が長寿命を有す
るなど触媒性能が著しく改良されることを見い出
し、本発明を完成した。 〔作用〕 触媒においては表面積が大きいもの程触媒活性
が大きいという関係にあるため、担体にも表面積
の大きいものを使用するのが技術常識であるとこ
ろ、本発明はこの常識に反する手段を取るもので
あるが、これは金属ハロゲン化物を水素の存在下
で脱ハロゲン化する反応の反応条件下においては
担体に高表面積のシリカを用いた場合シリカが反
応性に富み侵され易く、著しく消耗して触媒成分
の担持作用が十分でなくなり、短期間に触媒の活
性を失うことを見い出したことによるものであ
る。例えば、テトラクロロシランを水素の存在下
でトリクロロシランにするため表面積250m2/g
のパラジウム担持シリカゲルを触媒として用いる
と、反応開始後約50時間で触媒のほとんどがハロ
ゲン化物および水素と反応して消失してしまい、
触媒活性が失われる。この理由は、シリカ表面に
おいてパラジウムは微細な粒子状で均一に分散担
持されているので、その触媒による脱ハロゲン化
のさいに活性化された多量のシリカ表面が短時間
で反応するためであつて、そのような欠点をなく
し、長寿命の触媒をつくるためには担体であるシ
リカの表面積を減少させることが必要である。例
えば、シリカ担体として表面積が1〜10m2/gの
シリカレンガを用いた場合には反応後100時間で
は触媒活性の低下はほとんどないが、レンガのバ
インダーとして用いられるシリカが反応消失する
為強度が低下し、ついには粉化するので使用に耐
えない。それに対し、本発明のごとく非多孔質シ
リカ担体を用いた場合、触媒活性の低下はほとん
どなく、またシリカの反応消失も実質上無視しえ
る量になるから、担体強度の低下も実質上ほとん
どないので長期間の使用に耐えうる画期的な触媒
である。 本発明の触媒において担体に用いられる非多孔
質シリカは、担体のバルク構造に細孔構造がない
ものであつて、この「非多孔質」とは、BET表
面積測定装置によつて測定したBET表面積
(N2)が1.0m2/g以下のものをいう。 非多孔質シリカの具体例は、ガラス状の溶融シ
リカ固化体であるが、前記した表面積の条件下で
あつても、その範囲内でも活性を増しておくとい
う意味で、また触媒成分の担持を容易にするとい
う意味で許容される範囲で表面積を大きくしてお
く方がよく、そのためには好ましくはガラス状の
溶融シリカ固化体をフツ化水素酸で少くとも0.1μ
以上エツチングしたシリカ担体、ガラス状の溶融
シリカ固化体表面をシリコンカーバイドなどの研
摩材を用いて少くとも0.1μ以上研摩したシリカ担
持、又はガラス状の溶融シリカ固化体表面を高温
の水素とクロロシラン類とを接触させ処理したシ
リカ担体が用いられる。また、表面積が150〜300
m2/g、好ましくは180〜250m2/gのシリカゲル
を高温下で結晶化させたシリカ担体を用いてよ
い。 フツ化水素酸による処理の方法は、エツチング
すればよく、かならずしも0.1μ以上エツチングし
なくてもよいが、0.1μ以上にすることが好まし
く、0.1μ以上の程度については何ら限定するもの
ではなく、例えばガラス状の溶融シリカ固化体の
シリカ担体1重量部を、50%HFの水溶液0.5重量
部〜5重量部に常温で1〜10時間浸漬することに
より行うことができる。このときシリカ担体の重
量は5〜36wt%減少し、表面に凹凸を生じ色が
白くなる。 また、研摩による処理の方法は、研摩をすれば
よく、かならずしも0.1μ以上研摩しなくてもよい
が、0.1μ以上にすることが好ましく0.1μ以上の程
度については何ら限定するものではなく、例えば
通常のくもりガラスの製造に用いられるようなカ
ーボランダムなどの研摩剤を常温で空気で吹きつ
けることにより行える。この際表面は微細な凹凸
が生じ白くなる。 更に、高温の水素とクロロシラン類とを用いる
場合は、例えば600〜800℃で水素及びテトラクロ
ロシランの混合ガスをシリカ担体に少くとも100
時間以上接触させることで表面に微細な凹凸を生
じさせることができる。また、クロロシラン類の
水素化反応を行うさいに反応器に触媒とともに熱
媒体として溶融シリカ固化体を充填する場合は、
操業の1サイクルが終了したときに溶融シリカ固
化体を取り出して使用すれば、この固化体は前記
の反応中に前述の表面処理が行われているので、
シリカ担体として効率的である。 触媒成分としては白金族金属および白金族金属
のケイ化物の少なくとも一種が用いられる。即ち
白金、パラジウム、ルテニウム、ロジウム、オス
ミウムおよびそれらのケイ化物が用いられるが、
触媒活性が高く、触媒価格が安いという点で好ま
しくはパラジウム、ルテニウムおよびそれらのケ
イ化物からなる群より選ばれる少くとも1つ、よ
り好ましくはパラジウムおよびパラジウムシリサ
イドからなる群より選ばれる少なくとも1つが用
いられる。ここで、パラジウムシリサイドとして
はPd2Siの結晶構造をもつものが好ましく用いら
れる。又、これ等触媒成分は二種以上の組合せで
用いてもよい。例えば、パラジウムとルテニウム
の組合せである。 触媒成分としてパラジウムを用いる場合、その
担持量は触媒全重量に対して約0.01〜5.0wt%、
好ましくは約0.1〜1.5wt%であることが必要であ
る。パラジウム担持量が約0.01wt%以下の場合は
触媒活性が十分発揮されず、大きな接触時間が必
要となるので好ましくなく、担持量が約5.0wt%
を越えるとコストが高くなるのみでなく、パラジ
ウムのシリカ担体との結合力が弱くなるので、反
応中に触媒成分の剥離を生ずる場合があり、好ま
しくない。更に、パラジウムの好ましい担持量は
前述したように約0.1〜0.5wt%であるが、この量
をシリカ担体に担持するときにはパラジウム粒子
の大きさ、分散の程度が適度であり、触媒活性が
十分発揮され、しかもパラジウムとシリカ面の結
合が強固となり、安定な触媒が得られる。触媒成
分としてパラジウム以外のものを使用した場合、
その担持量はその成分により多少異なるが、大体
パラジウムと同程度の量を使用すればよい。又、
二種以上の触媒成分を用いる場合には全触媒成分
として上記担持量を満足すればよい。その組合せ
及び担持量比は反応条件等で適宜選択すればよ
い。 触媒成分として、前記のパラジウム以外の白金
族金属および白金族金属のケイ化物、すなわち白
金、ルテニウム、ロジウム、オスミウム、イリジ
ウム、あるいはこれらのケイ化物やパラジウムの
ケイ化物を用いた場合においても、触媒成分とし
てパラジウムを用いた場合と同様の効果が得られ
る。 次に、本発明の触媒を製造するさいには、シリ
カ担体に触媒成分を均一に担持させるために以下
の方法によることが好ましい。即ち、所定濃度の
白金族金属の塩化物あるいは硝酸塩、またはそれ
らのアンモニア錯塩などの水溶液をシリカ担体に
含浸した後、担体表面上に保持されなかつた水溶
液を除去してそのまま乾燥し、その後還元する方
法によらなければならない。余分の水溶液の除去
は傾斜により除いてもよいが、より好ましくは減
圧濾過や遠心濾過などの方法が用いられる。 この方法を用いないで、過剰な溶液を表面に存
在させたまま触媒をドライアツプすると担持金属
などがむらになつて担持され、しかも金属などの
担体への結合力が弱い部分ができるので、反応中
にその部分が剥離し、好ましくない。触媒成分担
持量は以上のような理由から、担持に用いる金属
塩の水溶液濃度によつて決まり、所望する担持量
によつて水溶液の金属塩濃度を選択使用する。触
媒成分担持量が約5wt%を越えた場合、反応中の
触媒成分の剥離の原因となり、好ましくない。白
金族金属のケイ化物を担持した触媒は白金族金属
が担持された触媒を四塩化ケイ素などのハロゲン
化ケイ素と水素に400℃〜800℃で接触させること
により製造することができる。 本発明の触媒を用いる反応方式は触媒形状など
を適当に選択することにより、固定床などの通常
の流通反応方式で行うことが可能である。触媒粒
子の形状は特に限定されることはないが、例えば
3〜30mmの溶融シリカ、石英破砕体を用いるのが
経済的である。 本発明の触媒を用いる前記ハロゲン化物の脱ハ
ロゲン化反応の反応条件に関しては、温度200〜
1000℃、好ましくは550〜850℃、水素圧1〜
20atm、接触時間0.01〜100秒、好ましくは0.1〜
5秒であるが、接触時間は1秒以下で十分その目
的を達成することができる。また、水素/ハロゲ
ン化物のモル比は0.5〜30、好ましくは2.0〜10を
用いるとよい。 本発明の触媒を用いることにより、テトラクロ
ロシランをトリクロロシランに脱塩素化する操業
を長期間支障なく工業的に行うことができる。ま
たテトラクロロシランに限らず、他のケイ素のハ
ロゲン化物、あるいはニオブ又はバナジウムのハ
ロゲン化物の水素の存在下での脱ハロゲン化にも
適用できる。 〔実施例〕 次に、本発明の内容をより明瞭に理解しうるよ
う実施例に基づいて説明するが、本発明はこれら
の実施例によつて限定されるものではない。 なお、下記の実施例、比較例において表面積は
柴田科学器機工業(株)製「迅速表面測定装置SA−
100」で測定した。実施例1〜5及び11で用いた
担体の表面積は、上記装置で測定していずれも測
定限界以下を示した。上記装置の測定限界以下と
は0.2m2/g以下であることを意味する。 実施例 1 組成が表1に示される溶融シリカ破砕体をJIS
目開き4.76〜9.52mmメツシユの範囲となるようふ
るい分けた。塩化パラジウムを塩酸酸性下で加熱
溶解して塩化パラジウム濃度100g/の水溶液
の含浸液を調製した。この含浸液を上記のふるい
分けたシリカ担体に含浸させ、シリカ表面に保持
されない余分の含浸液はこう配をつけて除去し、
乾燥後常温の水素を通じ還元した。この時パラジ
ウムの担持量を分析で求めると0.31wt%であつ
た。 このようにして作られた触媒Aを石英反応管に
充填し、固定床流通式反応装置を構成して試験し
た。テトラクロロシランと水素とのモル比1:3
の混合ガスを反応温度800℃、接触時間0.3秒で通
じ、反応ガスをオンラインガスクロマトグラフイ
により分析した。反応開始初期におけるガス分析
値はテトラクロロシラン23.0%、トリクロロシラ
ン2.0%、塩化水素2.0%(この%は容量%であつ
て、以下同じ)で、テトラクロロシランよりトリ
クロロシランへの転化率は8%であつた。時間の
経過に伴つてトリクロロシランの収率は徐々に上
昇し、100時間後テトラクロロシラン21.87%、ト
リクロロシラン3.13%、塩化水素3.13%の分析値
が得られ転化率は12.5%となつた。その後転化率
はほとんど一定であり、4000時間連続的に触媒の
寿命試験を行つたが、触媒活性の低下は見られ
ず、一定の活性を示した。また、使用済の触媒を
抜き出したが、触媒強度の低下は実質的にみられ
なかつた。
[Industrial Field of Application] The present invention relates to a catalyst for dehalogenating metal halides in the presence of hydrogen. More specifically, silicon, niobium or vanadium chloride;
This invention relates to a catalyst for dehalogenating halides such as iodides and bromides in the presence of hydrogen. In the electronics industry, there is a high demand for various new metals with extremely high purity, including the above-mentioned elements. In other words, high-purity silicon is used in large quantities as a base for LSIs, high-purity niobium is used as a superconducting material, and high-purity molybdenum, tungsten, etc. are used as metal silicide targets for LSIs, and in the future there will be even more use of these materials. It is believed that the new metal's uses will expand. These high-purity new metals are usually produced by first halogenating low-purity raw materials and then distilling them.
It is highly purified and then thermally cracked or hydrogenolyzed again to produce a high-purity product. In this case, it is advantageous to use lower-order halides, since higher-order halides are more difficult to decompose, resulting in lower yields and reaction rates, and require higher temperatures. Further, when higher halides are produced as a by-product of the decomposition reaction of lower halides, it is advantageous to convert them into lower halides again and recycle them. To give a more specific example, in the production of high-purity silicon, it is better to hydrogenolyze trichlorosilane than tetrachlorosilane, and it is better to hydrogenolyze trichlorosilane using niobium tetrachloride or niobium octatrichloride than niobium pentachloride. It is advantageous to increase the reaction rate and reaction yield, and to make the reaction conditions mild. Furthermore, since corrosive halides are handled, it is extremely important to lower the reaction temperature to reduce corrosion. [Prior art and its problems] As a prior art for dehalogenating metal halides, there is a technology for hydrogenating tetrachlorosilane to trichlorosilane in the presence of hydrogen using copper or copper chloride as a catalyst (Japanese Unexamined Patent Publication No. 58-161915, 1977-
73617, JP-A-59-45919, etc.). There is also a technique (Japanese Patent Publication No. 10532/1983) in which a similar reaction is carried out using a catalyst containing a platinum group metal. however,
Not only when copper chloride is used as a catalyst, but also when copper is used as a catalyst, copper chloride is generated during the reaction process, and since these copper chlorides are volatile under the reaction conditions, they may be mixed into trichlorosilane. Copper or copper chloride catalysts cannot be used for long-term practical use because they reduce product purity and also consume the catalyst. On the other hand, catalysts containing platinum group metals are said to be used as catalysts in which platinum group metals are supported on activated carbon alumina or silica. It appears that the silica used is porous silica gel, which is commonly used. By the way, in the case of this catalyst, although the platinum group metal is not consumed like copper, the carrier is consumed and the activity is significantly reduced, so that it cannot be used for a long period of time. [Means for solving the problem] In the case of industrial production, it is extremely important to continuously obtain products of constant quality over a long period of time. The present inventors have focused on the excellent technology of using platinum group metals as catalysts, and have been conducting research and development for many years on catalysts that can withstand long-term use from the viewpoint of industrialization. As a catalyst for dehalogenation in the presence of hydrogen, a catalyst in which at least one selected from the group consisting of platinum group metals and platinum group metal silicides is supported on a non-porous silica carrier has a long life. The present invention has been completed based on the discovery that the catalyst performance is significantly improved. [Function] Since the larger the surface area of a catalyst, the higher the catalytic activity, it is common general technical knowledge to use a carrier with a large surface area, but the present invention takes measures that go against this common sense. However, under the reaction conditions of the dehalogenation reaction of metal halides in the presence of hydrogen, when silica with a high surface area is used as a support, the silica is highly reactive and easily corroded, resulting in significant depletion. This is due to the discovery that the supporting effect of catalyst components becomes insufficient and the catalyst loses its activity in a short period of time. For example, to convert tetrachlorosilane to trichlorosilane in the presence of hydrogen, the surface area is 250 m 2 /g.
When using palladium-supported silica gel as a catalyst, most of the catalyst reacts with halides and hydrogen and disappears approximately 50 hours after the start of the reaction.
Catalytic activity is lost. The reason for this is that since palladium is uniformly dispersed and supported in the form of fine particles on the silica surface, a large amount of the silica surface activated during dehalogenation by the catalyst reacts in a short time. In order to eliminate such drawbacks and create a long-life catalyst, it is necessary to reduce the surface area of the silica support. For example, when a silica brick with a surface area of 1 to 10 m 2 /g is used as a silica carrier, there is almost no decrease in catalytic activity 100 hours after the reaction, but the strength decreases because the silica used as a binder for the brick disappears in the reaction. It deteriorates and eventually turns into powder, making it unusable. On the other hand, when a non-porous silica support is used as in the present invention, there is almost no decrease in catalytic activity, and the loss of silica in the reaction is a virtually negligible amount, so there is virtually no decrease in support strength. This makes it an innovative catalyst that can withstand long-term use. The non-porous silica used as a support in the catalyst of the present invention has no pore structure in the bulk structure of the support. (N 2 ) is 1.0 m 2 /g or less. A specific example of non-porous silica is a solidified glass-like fused silica, but it also increases activity even under the above-mentioned surface area conditions and within that range, and also supports catalyst components. It is better to increase the surface area to the extent permitted for ease of use, and for this purpose preferably the glassy fused silica solidified body is treated with hydrofluoric acid at least 0.1 μm.
A silica support that has been etched as described above, a silica support that has the surface of a glass-like solidified fused silica polished by at least 0.1μ using an abrasive such as silicon carbide, or a silica support that has the surface of a glass-like solidified fused silica polished with high-temperature hydrogen and chlorosilane. A silica carrier treated by contacting with is used. Also, the surface area is 150-300
A silica support obtained by crystallizing silica gel of m 2 /g, preferably 180 to 250 m 2 /g at high temperature may be used. The method of treatment with hydrofluoric acid may be etching, and it is not necessarily necessary to etch more than 0.1μ, but it is preferable to etching more than 0.1μ, and there is no limitation on the degree of etching of more than 0.1μ. For example, this can be carried out by immersing 1 part by weight of a silica carrier, which is a glassy solidified fused silica, in 0.5 parts by weight to 5 parts by weight of an aqueous solution of 50% HF for 1 to 10 hours at room temperature. At this time, the weight of the silica carrier decreases by 5 to 36 wt%, the surface becomes uneven and the color becomes white. In addition, as for the method of polishing, it is sufficient to perform polishing, and it is not necessarily necessary to polish more than 0.1μ, but it is preferable to polish more than 0.1μ, and there is no limitation on the degree of polishing, such as This can be done by blowing an abrasive such as carborundum, which is used in the production of normal frosted glass, with air at room temperature. At this time, the surface becomes white due to minute irregularities. Furthermore, when using high temperature hydrogen and chlorosilanes, for example, at 600 to 800°C, a mixed gas of hydrogen and tetrachlorosilane is applied to a silica carrier at least 100%
By contacting for more than a period of time, fine irregularities can be generated on the surface. In addition, when filling a reactor with a catalyst and solidified fused silica as a heat medium when performing a hydrogenation reaction of chlorosilanes,
If the fused silica solidified body is taken out and used when one cycle of operation is completed, this solidified body has been subjected to the above-mentioned surface treatment during the above reaction.
Efficient as a silica carrier. As the catalyst component, at least one of a platinum group metal and a platinum group metal silicide is used. That is, platinum, palladium, ruthenium, rhodium, osmium and their silicides are used,
At least one selected from the group consisting of palladium, ruthenium, and silicides thereof is preferably used, and more preferably at least one selected from the group consisting of palladium and palladium silicide is used in terms of high catalytic activity and low catalyst cost. It will be done. Here, palladium silicide having a crystal structure of Pd 2 Si is preferably used. Further, two or more of these catalyst components may be used in combination. For example, a combination of palladium and ruthenium. When palladium is used as a catalyst component, its supported amount is approximately 0.01 to 5.0 wt% based on the total weight of the catalyst.
It is preferably about 0.1 to 1.5 wt%. If the supported amount of palladium is less than about 0.01 wt%, the catalyst activity will not be sufficiently exhibited and a long contact time will be required, which is not preferable, and the supported amount will be about 5.0 wt%.
Exceeding this value not only increases cost, but also weakens the binding force of palladium with the silica carrier, which may cause peeling of the catalyst component during the reaction, which is not preferable. Furthermore, as mentioned above, the preferred supported amount of palladium is approximately 0.1 to 0.5 wt%, but when this amount is supported on a silica carrier, the size and degree of dispersion of the palladium particles are appropriate, and the catalytic activity is sufficiently exerted. Moreover, the bond between the palladium and silica surfaces becomes strong, resulting in a stable catalyst. When using something other than palladium as a catalyst component,
Although the amount supported varies somewhat depending on its components, it is sufficient to use approximately the same amount as palladium. or,
When two or more types of catalyst components are used, the above supported amount may be satisfied for all catalyst components. The combination and the supported amount ratio may be appropriately selected depending on the reaction conditions and the like. Even when platinum group metals other than palladium and silicides of platinum group metals, such as platinum, ruthenium, rhodium, osmium, iridium, or silicides of these or palladium, are used as catalyst components, the catalyst component Effects similar to those obtained when palladium is used as a material can be obtained. Next, when producing the catalyst of the present invention, it is preferable to use the following method in order to uniformly support the catalyst components on the silica carrier. That is, after a silica carrier is impregnated with an aqueous solution of a platinum group metal chloride or nitrate or their ammonia complex salt at a predetermined concentration, the aqueous solution that is not retained on the carrier surface is removed, dried as it is, and then reduced. It must be done in a certain way. Although the excess aqueous solution may be removed by declination, methods such as vacuum filtration and centrifugal filtration are more preferably used. If you do not use this method and dry up the catalyst with an excess solution present on the surface, the supported metal will be unevenly supported, and there will be areas where the bonding strength of the metal to the support is weak, which may cause problems during the reaction. That part peels off, which is not desirable. For the reasons mentioned above, the amount of the catalyst component supported is determined by the concentration of the aqueous solution of the metal salt used for the support, and the metal salt concentration of the aqueous solution is selected and used depending on the desired amount of support. If the supported amount of the catalyst component exceeds about 5 wt%, this is undesirable because it causes the catalyst component to peel off during the reaction. A catalyst carrying a silicide of a platinum group metal can be produced by contacting a catalyst carrying a platinum group metal with a silicon halide such as silicon tetrachloride and hydrogen at 400°C to 800°C. The reaction system using the catalyst of the present invention can be carried out in a conventional flow reaction system such as a fixed bed by appropriately selecting the shape of the catalyst. Although the shape of the catalyst particles is not particularly limited, it is economical to use, for example, 3 to 30 mm fused silica or crushed quartz. Regarding the reaction conditions for the dehalogenation reaction of halides using the catalyst of the present invention, the temperature is 200-200°C.
1000℃, preferably 550~850℃, hydrogen pressure 1~
20atm, contact time 0.01~100 seconds, preferably 0.1~
Although the contact time is 5 seconds, a contact time of 1 second or less can sufficiently achieve the purpose. Further, the molar ratio of hydrogen/halide is preferably 0.5 to 30, preferably 2.0 to 10. By using the catalyst of the present invention, operations for dechlorinating tetrachlorosilane to trichlorosilane can be carried out industrially for a long period of time without any problems. Moreover, it is applicable not only to tetrachlorosilane but also to dehalogenation of other silicon halides, or niobium or vanadium halides in the presence of hydrogen. [Examples] Next, the present invention will be explained based on examples so that the content of the present invention can be more clearly understood, but the present invention is not limited to these examples. In addition, in the following examples and comparative examples, the surface area is measured using "Rapid Surface Measurement Device SA-" manufactured by Shibata Scientific Instruments Co., Ltd.
100". The surface areas of the carriers used in Examples 1 to 5 and 11 were measured with the above-mentioned apparatus and all showed below the measurement limit. Below the measurement limit of the above device means below 0.2 m 2 /g. Example 1 A crushed fused silica body whose composition is shown in Table 1 was
It was sieved so that the mesh size ranged from 4.76 to 9.52 mm. Palladium chloride was heated and dissolved under acidic conditions with hydrochloric acid to prepare an impregnating solution of an aqueous solution having a concentration of palladium chloride of 100 g. This impregnating liquid is impregnated into the sieved silica carrier, and the excess impregnating liquid that is not retained on the silica surface is removed by applying a gradient.
After drying, it was reduced by passing hydrogen at room temperature. At this time, the amount of palladium supported was determined by analysis to be 0.31 wt%. Catalyst A thus produced was packed into a quartz reaction tube to construct a fixed bed flow reactor and tested. Molar ratio of tetrachlorosilane and hydrogen 1:3
A mixed gas was passed through the reaction mixture at a reaction temperature of 800°C and a contact time of 0.3 seconds, and the reaction gas was analyzed by online gas chromatography. Gas analysis values at the beginning of the reaction were 23.0% tetrachlorosilane, 2.0% trichlorosilane, and 2.0% hydrogen chloride (this percentage is volume %, the same applies hereinafter), and the conversion rate from tetrachlorosilane to trichlorosilane was 8%. It was hot. The yield of trichlorosilane gradually increased with the passage of time, and after 100 hours, analytical values of 21.87% tetrachlorosilane, 3.13% trichlorosilane, and 3.13% hydrogen chloride were obtained, and the conversion rate was 12.5%. After that, the conversion rate remained almost constant, and a life test of the catalyst was conducted continuously for 4,000 hours, but no decrease in catalyst activity was observed, indicating a constant activity. In addition, when the used catalyst was extracted, there was virtually no decrease in catalyst strength.

【表】 実施例 2 組成が表1に示される溶融シリカ破砕体をJIS
目開き4.76〜9.52mmメツシユの範囲となるようふ
るい分けた。このふるい分けた溶融シリカ破砕体
1重量部を常温で50%フツ化水素酸水溶液2重量
部に4時間浸漬してエツチングを行つた。この際
エツチングによる重量減は23%であつた。エツチ
ング終了後シリカ担体は多量の水で洗浄の後、乾
燥した。次に塩化パラジウムを塩酸酸性下で加熱
溶解して塩化パラジウム100g/の水溶液の含
浸液を調製した。この含浸液はこう配をつけて除
去し、乾燥後常温の水素を通じ還元した。この時
パラジウムの担持量を分析で求めると、0.42wt%
であつた。 このようにして作られた触媒Bを石英反応管に
充填し、固定床流通式反応装置を用いて試験し
た。テトラクロロシランと水素とのモル比1:3
の混合ガスを反応温度800℃、接触時間0.45秒で
通じ、反応ガスをオンラインガスクロマトグラフ
イーにより分析した。反応開始初期におけるガス
分析値は、テトラクロロシラン22.5%、トリクロ
ロシラン2.5%、塩化水素2.5%でテトラクロロシ
ランよりトリクロロシランへの転化率は10%であ
つた。時間経過に伴つてトリクロロシラン収率は
除去に上昇し、100時間後にはテトラクロロシラ
ン21.2%、トリクロロシラン3.8%、塩化水素3.8
%の分析値が得られ、転化率は15%となつた。そ
の後転化率はほとんど一定であり、4000時間連続
的に触媒の寿命試験を行つたが、触媒活性の低下
を見られず、一定の活性を示した。また、使用済
の触媒を抜き出したが、触媒強度の低下は実質的
にみられなかつた。 また、上記のシリカ担体を100g用い、塩化パラ
ジウム濃度100g/の含浸液の120c.c.を含浸し、
加熱ドライアツプすることにより6%パラジウム
が担持されている触媒を調製した。この触媒を用
いて上と同じ条件で反応テフトを行つた。テトラ
クロロシランのトリクロロシランへの転化率は15
%であつたが、反応時間5時間後に使用後の触媒
を抜き出してみると、触媒に担持したパラジウム
の90%は剥離したので、この加熱ドライアツプの
手段は触媒の製造にはあまり適しない。 実施例 3 実施例2と全く同一の触媒Bを用いて反応試験
を行つた。ただし、反応に先立つてトリクロロシ
ランと水素との混合ガスを700℃で通じて、触媒
に担持されているパラジウムを予めパラジウムシ
リサイドに転換した後、実施例2と全く同一条件
で反応を行つたところ反応開始初期よりテトラク
ロロシランのトリクロロシランへの転化率は15%
であり、4000時間触媒は一定活性を維持した。使
用済触媒はX線回析により分析したところ、Pd2
Siの結晶構造をもつパラジウムシリサイドに相当
するピークが得られた。 実施例 4 4.76〜9.52mmの溶融シリカ破砕体をカーボラダ
ムを空気で吹きつけることにより研摩してシリカ
担体を調製した。次に含浸液して塩化パラジウム
濃度65g/の塩酸酸性水溶液を調製した。この
含浸液を上記のシリカ担体に含浸され、シリカ表
面に保持されない余分の含浸液を容器を傾けるこ
とによつて除去し、乾燥後常温の水素を通じ還元
した。この時パラジウムの担持量を分析で求める
と0.33wt%であつた。 このようにして得た触媒Cを実施例2と同一試
験装置を用いてテストした。テトラクロロシラン
と水素のモル比1:5の混合ガスを反応温度700
℃、接触時間0.2秒で通じた。定常活性となつた
後の反応ガスはテトラクロロシラン14.7%、トリ
クロロシラン2.3%、塩化水素2.3%であり、転化
率は13.8%であり、4000時間まで活性低下するこ
となく連続運転が可能であつた。 実施例 5 4.76〜9.52mmの溶融シリカ破砕体に800℃でテ
トラクロロシラン及び水素の混合ガスを連続的に
300時間通じて表面処理してシリカ担体を調製し
た。塩化パラジウム濃度100g/の塩酸酸性含
浸溶液をこのシリカ担体に含浸し、表面に保持さ
れない余剰液を除去し、乾燥常温の水素を通じ還
元し、触媒Dを調製した。パラジウム担持量は
1.0wt%であつた。この触媒Dを実施例2と同じ
試験装置を用いてテストした。テトラクロロシラ
ンと水素とのモル比1:7、反応温度600℃、接
触時間0.5秒で反応を行つたところ、定常活性と
なつた後の反応ガスの組成はテトラクロロシラン
11.1%、トリクロロシラン1.4%、Hcl1.4%であ
り、転化率は11.2%であつた。触媒Dを使用した
場合も活性低下することなく4000時間の連続運転
が行えた。 比較例 1 表2に示す物性をもつ石英レンガの4.76〜9.52
mmの破砕体を担体に用いて塩化パラジウム濃度50
g/の含浸液を用いて、1%パラジウム担持石
英レンガ触媒(触媒E)を調製した。実施例2と
同じ条件で反応テストを行つた。テトラクロロシ
ランのトリクロロシランへの転化率は、初期には
15%であつたが、反応経過に従つて徐々に低下
し、50時間後に13%、100時間後には12%まで低
下した。100時間経過後の触媒強度は完全に失わ
れており、触媒をとり出そうとする際に粉化して
しまつた。
[Table] Example 2 The fused silica crushed body whose composition is shown in Table 1 was
It was sieved so that the mesh size ranged from 4.76 to 9.52 mm. Etching was performed by immersing 1 part by weight of the sieved crushed fused silica in 2 parts by weight of a 50% hydrofluoric acid aqueous solution at room temperature for 4 hours. At this time, the weight reduction due to etching was 23%. After etching, the silica carrier was washed with a large amount of water and then dried. Next, palladium chloride was heated and dissolved under acidic conditions with hydrochloric acid to prepare an impregnating solution containing 100 g of palladium chloride/aqueous solution. This impregnating solution was removed with a gradient, and after drying, it was reduced by passing hydrogen at room temperature. At this time, the amount of palladium supported was determined by analysis to be 0.42wt%.
It was hot. Catalyst B thus prepared was packed into a quartz reaction tube and tested using a fixed bed flow reactor. Molar ratio of tetrachlorosilane and hydrogen 1:3
A mixed gas was passed through the reactor at a reaction temperature of 800°C for a contact time of 0.45 seconds, and the reaction gas was analyzed by online gas chromatography. Gas analysis values at the beginning of the reaction showed that tetrachlorosilane was 22.5%, trichlorosilane was 2.5%, and hydrogen chloride was 2.5%, and the conversion rate from tetrachlorosilane to trichlorosilane was 10%. As time progresses, the trichlorosilane yield increases with removal, and after 100 hours, the yield is 21.2% for tetrachlorosilane, 3.8% for trichlorosilane, and 3.8% for hydrogen chloride.
% analysis was obtained, and the conversion rate was 15%. After that, the conversion rate remained almost constant, and a life test of the catalyst was conducted continuously for 4000 hours, but no decrease in catalyst activity was observed, and the catalyst showed a constant activity. Furthermore, when the used catalyst was extracted, there was virtually no decrease in catalyst strength. In addition, using 100 g of the above silica carrier, impregnating it with 120 c.c. of an impregnating solution with a palladium chloride concentration of 100 g/
A catalyst supporting 6% palladium was prepared by heating and dry-up. Using this catalyst, a Teft reaction was carried out under the same conditions as above. The conversion rate of tetrachlorosilane to trichlorosilane is 15
%, but when the used catalyst was taken out after 5 hours of reaction time, 90% of the palladium supported on the catalyst had peeled off, so this heated dry-up method is not very suitable for catalyst production. Example 3 A reaction test was conducted using Catalyst B, which was exactly the same as in Example 2. However, prior to the reaction, a mixed gas of trichlorosilane and hydrogen was passed at 700°C to convert the palladium supported on the catalyst into palladium silicide, and then the reaction was carried out under exactly the same conditions as in Example 2. From the beginning of the reaction, the conversion rate of tetrachlorosilane to trichlorosilane was 15%.
The catalyst maintained constant activity for 4000 hours. When the spent catalyst was analyzed by X-ray diffraction, it was found that Pd 2
A peak corresponding to palladium silicide with a Si crystal structure was obtained. Example 4 A silica carrier was prepared by polishing a fused silica crushed body of 4.76 to 9.52 mm by blowing air with carboladam. Next, an acidic aqueous solution of hydrochloric acid having a palladium chloride concentration of 65 g was prepared as an impregnating solution. The above silica carrier was impregnated with this impregnating liquid, and the excess impregnating liquid not retained on the silica surface was removed by tilting the container, and after drying, it was reduced by passing hydrogen at room temperature. At this time, the amount of palladium supported was determined by analysis to be 0.33 wt%. Catalyst C thus obtained was tested using the same test equipment as in Example 2. A mixed gas of tetrachlorosilane and hydrogen with a molar ratio of 1:5 was reacted at a reaction temperature of 700°C.
℃, contact time was 0.2 seconds. After reaching steady activity, the reaction gases were 14.7% tetrachlorosilane, 2.3% trichlorosilane, and 2.3% hydrogen chloride, the conversion rate was 13.8%, and continuous operation was possible for up to 4000 hours without a decrease in activity. . Example 5 A mixed gas of tetrachlorosilane and hydrogen was continuously applied to a fused silica crushed body of 4.76 to 9.52 mm at 800°C.
A silica support was prepared by surface treatment for 300 hours. Catalyst D was prepared by impregnating this silica support with an acidic impregnating solution of hydrochloric acid having a palladium chloride concentration of 100 g/min, removing the excess liquid not retained on the surface, and reducing the carrier with dry hydrogen at room temperature. The amount of palladium supported is
It was 1.0wt%. This catalyst D was tested using the same test equipment as in Example 2. When the reaction was carried out at a molar ratio of tetrachlorosilane and hydrogen of 1:7, a reaction temperature of 600°C, and a contact time of 0.5 seconds, the composition of the reaction gas after reaching steady-state activity was tetrachlorosilane.
11.1%, trichlorosilane 1.4%, Hcl 1.4%, and the conversion rate was 11.2%. Even when Catalyst D was used, continuous operation for 4000 hours was possible without any decrease in activity. Comparative example 1 4.76 to 9.52 of quartz brick with physical properties shown in Table 2
Palladium chloride concentration is 50 using crushed body of mm as a carrier.
A 1% palladium-supported quartz brick catalyst (catalyst E) was prepared using an impregnating solution of 1% palladium (catalyst E). A reaction test was conducted under the same conditions as in Example 2. The conversion rate of tetrachlorosilane to trichlorosilane is initially
It was 15%, but gradually decreased as the reaction progressed, dropping to 13% after 50 hours and 12% after 100 hours. After 100 hours, the catalyst had completely lost its strength, and when trying to remove the catalyst, it turned into powder.

【表】 比較例 2 表3に示すシリカゲルにパラジウムを1%担持
した触媒Fを用いて実施例2と同じ条件で反応テ
ストを行つた。テトラクロロシランのトリクロロ
シランへの転化率は初期には15%であつたが、反
応経過に従つて低下し、30時間後には8%、50時
間後には6.5%、100時間後には4%まで低下し
た。100時間後触媒をとり出したところ、触媒は
形状をとどめずほとんど粉化しており、また触媒
重量の93.8wt%が減少消失していた。
[Table] Comparative Example 2 A reaction test was conducted under the same conditions as in Example 2 using Catalyst F in which 1% palladium was supported on silica gel shown in Table 3. The conversion rate of tetrachlorosilane to trichlorosilane was initially 15%, but decreased as the reaction progressed, dropping to 8% after 30 hours, 6.5% after 50 hours, and 4% after 100 hours. did. When the catalyst was taken out after 100 hours, it was found that the catalyst did not retain its shape and was almost powdered, and 93.8 wt% of the catalyst weight had decreased and disappeared.

【表】 実施例 6 表4に示すシリカゲルを950℃で3時間加熱処
理したところ表5に示す結晶化シリカゲルが得ら
れた。X線回析法で分析すると、アモルフアスの
シリカがクリスバライトとトリジマイトの混合物
になつたことが確認された。この結晶化シリカゲ
ルにパラジウムを1%担持した触媒Gを用いてテ
トラクロロシランの脱塩素水素化テストを実施例
2と同じ装置を用いて行つた。H2/テトラクロ
ロシランのモル比=7.0、反応温度800℃、接触時
間0.5秒行つたところ、テトラクロロシランのト
リクロロシランへの転化率は20%であり、1000時
間連続テストを行つたが活性の低下は全く見られ
なかつた。
[Table] Example 6 When the silica gel shown in Table 4 was heat-treated at 950°C for 3 hours, the crystallized silica gel shown in Table 5 was obtained. Analysis by X-ray diffraction confirmed that the amorphous silica had become a mixture of crisbalite and tridymite. Using Catalyst G in which 1% palladium was supported on this crystallized silica gel, a dechlorination hydrogenation test of tetrachlorosilane was conducted using the same apparatus as in Example 2. When the molar ratio of H 2 /tetrachlorosilane = 7.0, the reaction temperature was 800°C, and the contact time was 0.5 seconds, the conversion rate of tetrachlorosilane to trichlorosilane was 20%, and the activity decreased even after 1000 hours of continuous testing. could not be seen at all.

【表】【table】

【表】 比較例 3 表6に示すシリカゲルを用いて950℃で3時間
熱処理したところ結晶化は起らなかつた。表7に
示すシリカゲルを用いて950℃で3時間熱処理し
たところ結晶化は起らなかつた。
[Table] Comparative Example 3 When the silica gel shown in Table 6 was heat-treated at 950°C for 3 hours, no crystallization occurred. When the silica gel shown in Table 7 was heat-treated at 950°C for 3 hours, no crystallization occurred.

【表】【table】

【表】 実施例 7 実施例2と同様にフツ化水素酸処理をしたシリ
カ担体を用いて0.4ルテニウムを担持した触媒H
を調製した。触媒Hを実施例2と全く同一条件で
テストしたところテトラクロロシランのトリクロ
ロシランへの転化率は10%であり、1000時間連続
テストを行つたが、活性の低下は見られなかつ
た。 実施例 8 実施例2と同様にフツ化水素酸処理をしたシリ
カ担体を用いて0.4%白金を担持した触媒Iを調
製した。触媒Iを実施例2と全く同一条件でテス
トしたところ、テトラクロロシランのトリクロロ
シランへの転化率は4%であり、1000時間連続テ
ストを行つたが、活性の低下は見られなかつた。 実施例 9 実施例2と同じ触媒Bを用いて反応温度350℃
のおいて五塩化ニオブと水素とのモル比1:1の
混合ガスを触媒時間0.5秒で通したところ、五塩
化ニオブより四塩化ニオブへの転化率34.1%であ
り、1000時間連続テストを行つたが、活性の低下
は見られなかつた。 実施例 10 実施例2と同じ触媒Bを用いて反応温度500℃
において三臭化バナジウムと水素とのモル比1:
3の混合ガスを接触時間0.4秒で通したところ、
三臭化バナジウムの二臭化バナジウムへの転化率
は18%であり、1000時間連続テストを行つたが、
活性の低下はみられなかつた。 実施例 11 4.76〜9.52mmの溶融シリカ破砕体に塩化パラジ
ウム100g/及び塩化ルテニウム100g/の
1:1混合含浸溶液を用いて含浸し、シリカ表面
に保持されない余分の含浸液を除去したのち乾燥
し、水素還元することにより0.3wt%パラジウム
−0.3wt%ルテニウムの担持触媒Jを調製した。
この触媒を用いてテトラクロロシランと水素のモ
ル比1:5の混合ガスを反応温度750℃、接触時
間0.25秒で通じた。定常活性となつた後の反応ガ
スはテトラクロロシラン14.1%、トリクロロシラ
ン2.6%、塩化水素2.6%となり、転化率15.6%で
あり、1000時間連続テストを行つたが、活性の低
下は見られなかつた。
[Table] Example 7 Catalyst H supporting 0.4 ruthenium using a silica carrier treated with hydrofluoric acid in the same manner as Example 2
was prepared. When Catalyst H was tested under exactly the same conditions as in Example 2, the conversion rate of tetrachlorosilane to trichlorosilane was 10%, and no decrease in activity was observed after 1000 hours of continuous testing. Example 8 Catalyst I carrying 0.4% platinum was prepared using a silica carrier treated with hydrofluoric acid in the same manner as in Example 2. When Catalyst I was tested under exactly the same conditions as in Example 2, the conversion rate of tetrachlorosilane to trichlorosilane was 4%, and no decrease in activity was observed even after 1000 hours of continuous testing. Example 9 Using the same catalyst B as in Example 2, the reaction temperature was 350°C.
When a mixed gas of niobium pentachloride and hydrogen at a molar ratio of 1:1 was passed through the catalyst for a catalyst time of 0.5 seconds, the conversion rate of niobium pentachloride to niobium tetrachloride was 34.1%, and the test was conducted continuously for 1000 hours. However, no decrease in activity was observed. Example 10 Using the same catalyst B as in Example 2, the reaction temperature was 500°C.
The molar ratio of vanadium tribromide to hydrogen is 1:
When the mixed gas of 3 was passed through for a contact time of 0.4 seconds,
The conversion rate of vanadium tribromide to vanadium dibromide was 18%, and a continuous test was conducted for 1000 hours.
No decrease in activity was observed. Example 11 A fused silica crushed body of 4.76 to 9.52 mm was impregnated with a 1:1 mixed impregnating solution of 100 g of palladium chloride and 100 g of ruthenium chloride, and after removing the excess impregnating liquid that was not retained on the silica surface, it was dried. , 0.3 wt% palladium-0.3 wt% ruthenium supported catalyst J was prepared by hydrogen reduction.
Using this catalyst, a mixed gas of tetrachlorosilane and hydrogen at a molar ratio of 1:5 was passed at a reaction temperature of 750°C and a contact time of 0.25 seconds. After reaching steady activity, the reaction gas was 14.1% tetrachlorosilane, 2.6% trichlorosilane, and 2.6% hydrogen chloride, with a conversion rate of 15.6%, and no decrease in activity was observed after 1000 hours of continuous testing. .

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 ケイ素、ニオブ又はバナジウムのハロゲン化
物を水素の存在下で脱ハロゲン化するための触媒
であつて、非多孔質シリカに白金族金属および白
金族金属のケイ化物からなる群から選ばれた少な
くとも1つを担持することを特徴とする触媒。 2 白金族金属および白金族金属のケイ化物がパ
ラジウムおよびパラジウムシリサイドである特許
請求の範囲第1項記載の触媒。 3 非多孔質シリカがガラス状の溶融シリカ固化
体の無定形シリカである特許請求の範囲第1項記
載の触媒。 4 非多孔質シリカがガラス状の溶融シリカ固化
体の表面をフツ化水素酸を用いてエツチングした
無定形シリカである特許請求の範囲第3項記載の
触媒。 5 非多孔質シリカがガラス状の溶融シリカ固化
体の表面を研磨材を用いて研磨した無定形シリカ
である特許請求の範囲第3項記載の触媒。 6 非多孔質シリカがガラス状の溶融シリカ固化
体の表面を高温の水素とクロルシランとを接触さ
せて処理した無定形シリカである特許請求の範囲
第3項記載の触媒。 7 非多孔質シリカが表面積150〜300m2/gのシ
リカゲルを高温下で結晶化させた結晶化シリカで
ある特許請求の範囲第1項記載の触媒。
[Scope of Claims] 1. A catalyst for dehalogenating silicon, niobium or vanadium halides in the presence of hydrogen, which comprises a group consisting of a platinum group metal and a platinum group metal silicide in non-porous silica. A catalyst characterized by supporting at least one selected from the following. 2. The catalyst according to claim 1, wherein the platinum group metal and the silicide of the platinum group metal are palladium and palladium silicide. 3. The catalyst according to claim 1, wherein the non-porous silica is amorphous silica in the form of a glassy solidified fused silica. 4. The catalyst according to claim 3, wherein the non-porous silica is amorphous silica obtained by etching the surface of a glassy solidified fused silica using hydrofluoric acid. 5. The catalyst according to claim 3, wherein the non-porous silica is amorphous silica obtained by polishing the surface of a glass-like solidified fused silica using an abrasive. 6. The catalyst according to claim 3, wherein the non-porous silica is amorphous silica obtained by treating the surface of a glass-like solidified fused silica by contacting it with high-temperature hydrogen and chlorosilane. 7. The catalyst according to claim 1, wherein the non-porous silica is crystallized silica obtained by crystallizing silica gel having a surface area of 150 to 300 m 2 /g at high temperature.
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JPS6323741A (en) 1988-02-01

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