JPH05205258A

JPH05205258A - 磁気記録媒体および磁気記録装置

Info

Publication number: JPH05205258A
Application number: JP1281092A
Authority: JP
Inventors: Akira Ishikawa; 石川　　晃; Yoshihiro Shiroishi; 芳博城石; Sadao Hishiyama; 定夫菱山; Tsuguyuki Oono; 徒之大野; Shinan Yaku; 四男屋久; Yukio Kato; 幸男加藤; Tomoo Yamamoto; 朋生山本
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1992-01-28
Filing date: 1992-01-28
Publication date: 1993-08-13

Abstract

(57)【要約】【目的】媒体面内の磁気記録特性が均一で、高密度記録
が可能な磁気記録媒体及びその製造方法並びに磁気記録
装置を提供する。【構成】ディスク基板表面に円周方向と半径方向のテク
スチャを混在させて形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は磁気記録媒体および磁気
記録装置に係り，特に高密度磁気記録に好適な薄膜型記
録媒体およびこれを用いた磁気記録装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年における電子計算機の小型化・高速
化に伴い，磁気ディスク装置その他の外部記憶装置の大
容量化・高速アクセス化が強く求められるようになっ
た。特に磁気ディスク記録装置は，高密度高速記録に適
した記憶装置であり，その需要が一段と強まりつつあ
る。

【０００３】磁気ディスク装置に用いられる磁気記録媒
体としては，酸化物磁性体の粉末をディスク基板上に塗
布した塗布型の記録媒体と，金属磁性体の薄膜を基板上
に蒸着した薄膜型の記録媒体とが知られている。この薄
膜型記録媒体は，塗布型記録媒体に比較して記録膜中の
磁性体の密度が高いため，より高密度の記録に適してい
る。

【０００４】薄膜型記録媒体のディスク基板材料として
は，一般にアルミ合金あるいはガラス，有機樹脂，セラ
ミックス等が用いられる。さらにディスク基板の表面硬
度や磁気特性向上のため，例えば陽極酸化膜や，厚さ約
１５μｍ程のＮｉ−Ｐ層がメッキ法などにより形成され
る場合がある。このような基板表面に、米国特許第４７
３５８４０号，特開昭６１−２９４１８号，特開昭６２
−１４６４３４号，特開昭６３−１２１１２３号等に記
載されているような、微細な溝が略円周方向に加工形成
される場合がある。この微細な溝は一般にテクスチャと
称され，粒径１〜数μｍの砥粒を用いてディスク表面を
略円周方向に切削して形成される。このテクスチャによ
り、回転停止時の磁気ヘッド−媒体間の実効接触面積が
減少し，ヘッド−媒体間の摩擦係数が低下する。また、
このテクスチャの形状，大きさによっては、回転始動時
のヘッド粘着が抑制されるという効果が認められてい
た。また、このテクスチャを設けた場合、テクスチャの
大きさ，下地膜の膜厚，成膜条件を適正化することによ
り、磁性膜の略円周方向の磁気特性，例えば保磁力Ｈｃ
あるいは角形比Ｓ，残留磁化量Ｍｒの値が、テクスチャ
のない媒体に比べ向上し、その結果記録再生時の分解能
やＳ／Ｎが向上する効果が認められることもあった。さ
らに媒体製造時の条件、例えば加熱温度や搬送方法によ
っては媒体の略円周方向の磁気異方性が不均一となり再
生出力が変動する場合があるが、テクスチャの大きさ，
下地膜や磁性膜の組成，成膜条件等を適正化すると、テ
クスチャにより略円周方向の磁気異方性が均一化され、
その結果記録再生出力の揺らぎ（以後モジュレーション
と略記する）が抑制される効果も認められていた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上記従来の略円周方向
テクスチャは、薄膜型記録媒体の耐摺動信頼性，記録再
生特性向上に効果があるが、その効果はテクスチャ表面
の微視的な形状により大きく変化する。このため、磁気
特性が面内で均一な媒体を再現性よく形成するために
は、テクスチャの微視的な形状を媒体面内で均一に再現
性よく形成する必要がある。しかし、金属基板上のテク
スチャは通常、粒径１〜数μｍの砥粒を用いて形成され
るため、１μｍ未満の大きさの微細な表面粗さやピッチ
を均一に制御することは困難である。その結果、回転始
動時のヘッド−媒体間の摩擦係数や記録再生特性が、デ
ィスク面内や，ロット間で変動するという問題があっ
た。

【０００６】また将来、より高密度な記録再生を行なう
ためには、記録トラックの幅を現在よりさらに小さくす
る必要がある。その際には、ディスク半径方向のテクス
チャ形状の不均一性は記録再生信号の変動について従来
より大きな影響を及ぼすようになる。特に、位置決め用
サーボ信号のように、ディスク半径方向の記録再生特性
の均一性が厳密に要求される場合には、従来のテクスチ
ャを採用できないという問題がある。

【０００７】一方、記録密度を向上させるためには、記
録再生時の磁気ヘッドと記録媒体との間隙（以後，スペ
ーシングと略記する）をできる限り狭くし、媒体内に急
峻な磁界分布を形成することが重要である。しかし、略
円周方向テクスチャ加工を施したディスク基板では、狭
いスペーシングで基板を回転した場合に、テクスチャの
ないディスク基板に比べて、磁気ヘッドと媒体が接触す
る頻度が多いことが見出された。これは、テクスチャ加
工によりディスク表面上に微細な突起が不可避的に形成
され、これがスペーシングを下げた際に磁気ヘッドと接
触するためであることがわかった。ヘッドと媒体の接触
頻度を低減し、磁気ディスク装置の信頼性を向上するた
めには、ディスク基板表面の突起を研磨工程により除去
するか（特開平１−１６２２２９号に記載）、あるいは
テクスチャそのものの凹凸の大きさが小さくなるように
テクスチャ形成条件を制御すればよいが、この場合には
磁気ヘッド−媒体間の接触面積が増加し、回転始動時の
ヘッド粘着が避けられない。また、特開平１−２７３２
１８号には、互いに交差する略円周方向のテクスチャを
形成することにより動摩擦係数を低減する方法が示され
ているが、この場合には磁性膜の略円周方向の磁気特性
を従来のテクスチャを形成した媒体に比べ十分に高くす
ることができず、またモジュレーションの抑制も不充分
であった。

【０００８】さらに、従来の薄膜型記録媒体では、記録
再生時の分解能，Ｓ／Ｎが未だ不十分であり，磁気ディ
スク装置の性能を現在より向上するため，より優れた特
性を有する媒体を開発することが強く求められている。

【０００９】本発明の第１の目的は、媒体面内の磁気記
録特性が均一で、高密度記録が可能な磁気記録媒体を提
供することであ。第２の目的は、このような媒体を用い
た大容量で高い信頼性を有する磁気記録装置を提供する
ことである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記目的は、ディスク基
板表面に円周方向と半径方向のテクスチャを混在させて
形成することにより達成できる。ここで、テクスチャ上
の点とディスクの中心を結んだ半径方向の直線とテクス
チャとの角度が±４５度未満のテクスチャを、半径方向
のテクスチャと定義する。また、上記半径方向の直線に
対し垂直な直線とテクスチャとの角度が±４５度以下の
テクスチャを、円周方向のテクスチャと定義する。角度
の測定は、上記直線を始線として反時計方向に測るもの
とする。

【００１１】ディスク基板表面に上記テクスチャを混在
させて形成するためには，ディスクの円周方向に研磨す
る工程と，ディスクの半径方向に研磨する工程の両方を
必要とする。また、前段の工程で形成したテクスチャを
後段のテクスチャ形成工程により消失することのないよ
うに、テクスチャ形成時の砥粒の種類，粒径，研磨圧
力，研磨時間，研磨液などの条件を最適な値に制御する
必要がある。すなわち、砥粒径，研磨圧力などを小さく
すると共に，研磨時間も短くするなど，ディスク表面を
研磨する量を小さく制御する必要がある。

【００１２】略円周方向のテクスチャは、従来と同様，
研磨剤の存在下でディスクの両側から研磨用テープやバ
フを押しつけながらディスクを高速で回転することによ
り形成することができる。この時、研磨用テープ等を、
回転周速度よりも低速でディスクの半径方向に振動させ
ると、テクスチャの方向が円周方向から半径方向に向か
って変化する。本発明の円周方向のテクスチャは、従来
の略円周方向のテクスチャとこの低速振動させて形成し
たテクスチャから成る。研磨用テープ等の移動速度が大
きくなる程、テクスチャの方向はより半径方向に向く。
また、研磨用テープ等の振動の振幅と振動数を変えるこ
とにより、テクスチャの形態を変えることができる。一
方、半径方向テクスチャは、上記研磨用テープ等の移動
速度を回転周速度よりも大きくすることにより形成する
ことができる。

【００１３】また、円周方向テクスチャの凹凸の大きさ
を、半径方向テクスチャの凹凸の大きさに比べ、実質的
に大きくなるようにテクスチャを形成すると、記録再生
特性が向上しモジュレーションが低減するので好まし
い。

【００１４】ここで、テクスチャの凹凸の大きさを表わ
す指標として、中心線平均粗さＲaおよび最大高さＲmax
を用いる。記録再生特性の変動やヘッド媒体間のスペー
シング，起動時のヘッド粘着の点で良好な結果を得るた
めには、Ｒa値の範囲として０．５ｎｍ以上１０ｎｍ未
満，Ｒmax値の範囲として５ｎｍ以上１００ｎｍ未満が
好ましい。また、高密度で記録するために、例えば０．
１５μｍ以下の極めて狭いスペーシングでヘッド，媒体
を動作させる際には、特に耐摺動信頼性の高い媒体が必
要であり、この場合には媒体のＲa値の範囲として０．
５ｎｍ以上５ｎｍ未満，Ｒmax値の範囲として５ｎｍ以
上５０ｎｍ未満であることが好ましい。なお，本明細書
における「中心線平均粗さ」，「最大高さ」の使用は，
日本工業規格（ＪＩＳ−Ｂ０６０１）に規定された定義
に準拠する。

【００１５】また、上記ディスク基板上にＣｒ，Ｍｏ，
Ｗもしくはこれらを主たる成分とする合金を含む下地層
を膜厚１０〜５００ｎｍ形成することにより磁気特性を
向上できる。さらに、ＣｏもしくはＦｅ，もしくはＮｉ
を主たる成分とする磁性層を膜厚１０〜１００ｎｍ形成
し，保護層としてカーボンを膜厚１０〜５０ｎｍ形成
し、さらに吸着性のパーフルオロアルキルポリエーテル
等の潤滑層を１〜２０ｎｍ設けることにより媒体面内に
おいて高密度記録が可能な磁気記録媒体が得られる。ま
た、下地層としてＣｒ，Ｍｏ，ＷにＴｉ，Ｔａ，Ｐｔ，
Ｐｄ，Ｓｉ，Ｆｅ，Ｖのいずれかを添加した合金を用
い、磁性層としてさらにＣｒ，Ｍｏ，Ｗ，Ｚｒ，Ｔａ，
Ｎｂ，Ａｌ，Ｓｉ，Ｐｔのいずれか少なくとも１種を添
加した合金を用いると媒体の記録再生特性および耐食性
がさらに向上するので好ましい。特に、磁性層を構成す
る磁性体がＣｏＮｉ，ＣｏＣｒ，ＣｏＦｅ，ＣｏＭｏ，
ＣｏＷ，ＣｏＰｔ，ＣｏＲｅ等の合金である場合に良好
な特性を認められる。また、特に良好な耐食性や磁気特
性を求める場合は、磁性膜を構成するための磁性体とし
てＣｏＮｉＺｒ，ＣｏＣｒＰｔ，ＣｏＣｒＴａ，ＣｏＮ
ｉＣｒを主たる成分とする合金で構成することが望まし
い。また、保護層としてＷＣ，ＷＭｏＣ等の炭化物，Ｚ
ｒＮｂＮ，Ｓｉ₃Ｎ₄等の窒化物，ＳｉＯ₂，ＺｒＯ₂等の
酸化物，あるいはＢ，Ｂ₄Ｃ，ＭｏＳ₂，Ｒｈ等を用いる
と耐摺動性，耐食性を向上できるので好ましい。ディス
ク基板は、Ａｌ−Ｍｇ合金，化学強化ガラス，または有
機樹脂を使用することができ、かつこれらの基板の上
に，ＮｉＰ，ＮｉＷＰ，ＮｉＶ等からなる非磁性メッキ
層を形成したものを使用することも可能である。さら
に、磁気記録媒体とトラック幅が１０μｍ以下の磁気ヘ
ッドを組合せることにより、大容量で高信頼性の磁気記
録装置を提供することができる。

【００１６】

【作用】本発明者らはディスク基板の微細な表面形状と
磁気記録特性，ヘッド浮上性の関係に関し鋭意研究を重
ねた結果、上記目的はディスク基板表面に円周方向と半
径方向のテクスチャを混在させることにより達せられる
との知見を得た。

【００１７】ディスク基板表面にテクスチャを円周方向
と半径方向に混在させて形成すると、同じ凹凸の大きさ
のテクスチャを従来の略円周方向のみに形成した媒体と
比べ停止時の磁気ヘッド−媒体間の接触面積が減少し、
その結果、回転始動時のヘッド粘着が抑制される。この
ため、従来の略円周方向のみにテクスチャ形成した媒体
と比べて凹凸が極めて小さいテクスチャを用いても、ヘ
ッド粘着を抑制することが可能となる。さらに、テクス
チャの凹凸を小さくすると不可避的に発生する媒体表面
の突起やバリが小さくなるため、スペーシングを下げた
際に磁気ヘッドと媒体が接触する頻度が減り、従来より
狭いスペーシングで記録再生することが可能となる。し
たがって、信頼性を確保したままで記録再生特性を向上
できる。

【００１８】また、凹凸の小さいテクスチャを形成する
ので従来より粒径の小さい砥粒を用いることが可能とな
り，微視的な表面形状まで極めて均一に制御することが
できる。従って、ディスク面内や，ロット間で記録再生
特性が変動するという問題が解消される。

【００１９】また、Ｒa値が０．５ｎｍ以上１０ｎｍ未
満、Ｒmax値が５ｎｍ以上１００ｎｍ未満の範囲となる
ようにディスク表面の研磨条件を設定すると、スペーシ
ングを下げた際に磁気ヘッドと媒体が接触する頻度が減
り、低スペーシングで記録再生することが可能となる。
また、高い記録密度を得るための狭スペーシング稼動に
対しては、Ｒa値を０．５ｎｍ以上５ｎｍ未満，Ｒmax値
を５ｎｍ以上５０ｎｍ未満の範囲とすることで対応でき
る。

【００２０】

【実施例】以下，実施例により本発明をさらに詳細に説
明する。図１は，本発明に係る薄膜型磁気記録媒体の縦
断面構造を模式的に示したものである。同図において，
符号１１はＡｌ−Ｍｇ合金，化学強化ガラス，有機樹
脂，セラミックス等からなる磁気ディスク基板，１２お
よび１２’は基板１１の両面に形成したＮｉＰ，ＮｉＷ
Ｐ等からなる非磁性メッキ層である。Ａｌ−Ｍｇ合金を
基板として用いた場合はこのようなメッキ層を備えたも
のを磁気ディスクの基板として使用する。１３および１
３’はメッキ層１２，１２’の上に形成したクロム，モ
リブデン，タングステンまたはクロム，モリブデン，タ
ングステンのいずれかを主な成分とする合金からなる金
属下地膜、１４および１４’は当該下地膜の上に形成し
たＣｏＮｉ，ＣｏＣｒ，ＣｏＲｅ，ＣｏＰｔ，ＣｏＰ，
ＣｏＦｅ，ＣｏＮｉＺｒ，ＣｏＣｒＡｌ，ＣｏＣｒＴ
ａ，ＣｏＣｒＰｔ，ＣｏＮｉＣｒ，ＣｏＣｒＮｂ，Ｃｏ
ＮｉＰ，ＣｏＮｉＰｔ，ＣｏＣｒＳｉ等からなる金属磁
性層、１５および１５’は当該磁性膜の上に形成したカ
ーボン，ボロン，Ｂ₄Ｃ，ＳｉＣ，ＳｉＯ₂，Ｓｉ₃Ｎ₄，
ＷＣ，ＷＭｏＣ，ＷＺｒＣ等からなる非磁性保護膜をそ
れぞれ示す。

【００２１】また，図２は本実施例に係る薄膜型磁気記
録媒体のテクスチャ形成工程およびテクスチャ構造を模
式的に示したものである。同図において、符号２１はデ
ィスク基板，２２はテープポリッシングマシンにおける
研磨テープ，２３は同マシンにおけるコンタクトロー
ル，２４は研磨剤，２５はディスク基板表面の半径方向
に形成したテクスチャ，２６はディスク基板表面の円周
方向に形成したテクスチャである。

【００２２】〈実施例１〉外径１３０ｍｍ，内径４０ｍ
ｍ，厚さ１.９ｍｍの，Ａｌ−４Ｍｇ（原子記号の前に
付した数字は当該素材の含有量を示す。この場合は重量
％）からなるディスク基板の両面にＮｉ−１２Ｐ（重量
％）からなる膜厚１３μｍのメッキ層を形成した。この
非磁性基板の表面に、ラッピングマシンを用いて中心線
平均粗さＲａが５ｎｍ以下になるまで平滑に研磨し，洗
浄，乾燥した。

【００２３】その後、図２に示すようにテープポリッシ
ングマシンを用い、基板２１を回転させながら、研磨テ
ープ２２をコンタクトロール２３を通してディスク面の
両側に押しつけ、研磨剤２４の存在下で研磨テープをデ
ィスクの半径方向に振動させ，基板表面上に半径方向の
テクスチャ２５を形成した。次いでディスク基板を回転
させながら研磨剤存在下で研磨テープをコンタクトロー
ルを通してディスク面の両側に押しつけ、ディスク基板
上に円周方向のテクスチャ２６を形成した。その際，半
径方向のテクスチャが消失しないようにした。最後に、
基板に付着した研磨剤等の汚れを洗浄除去し乾燥した。
こうして得られた基板の表面粗さを、触針式表面粗さ計
または走査トンネル顕微鏡，電子線三次元粗さ測定装置
などにより求めた。さらに、基板表面の微細テクスチャ
構造を走査電子顕微鏡や走査トンネル顕微鏡，電子線三
次元粗さ測定装置などにより観察した結果，円周方向と
半径方向の両方のテクスチャが混在していることが確認
された。

【００２４】また、比較例として略円周方向のみのテク
スチャを有するディスク基板を作製した。この時の表面
粗さは本実施例と同等とした。このようなディスク基板
をマグネトロンスパッタリング装置に装填して、２００
℃の温度に保持し、５ｍＴｏｒｒのアルゴン圧の条件の
もとで膜厚５０ｎｍのクロム下地膜を形成した。この下
地膜の上にＣｏ−１２Ｃｒ−４Ｔａ（原子％）からなる
膜厚４０ｎｍの金属磁性膜を積層した。その後、磁性膜
上に膜厚２０ｎｍのカーボン保護膜を形成し、最後に当
該保護膜上に吸着性のパーフルオロアルキルポリエーテ
ル等の潤滑層を形成した。

【００２５】こうして形成された本実施例及び比較例の
媒体の記録再生特性を相対速度１２ｍ／ｓ，浮上スペー
シング０.１μｍにおいて，実効ギャップ長０.４μｍ，
トラック幅１０μｍの薄膜磁気ヘッドを用いて測定し、
モジュレーション（Ｍd），出力半減記録密度
（Ｄ₅₀），媒体Ｓ／Ｎの値を求めた。ここでモジュレー
ションＭdはディスク面内における最大出力Ｈ，最低出
力ＬとによりＭd ＝（Ｈ−Ｌ）／（Ｈ＋Ｌ）の式により定義した。また、動摩擦係数の最大値（μ
ｆ）を、磁気ヘッド材料Ａｌ₂Ｏ₃・ＴｉＣ，加重１０ｇ
ｆ，相対速度０．５ｍ／ｓｅｃにて測定した。さらに、
作製直後およびコンタクト・スタート・アンド・ストッ
プ（以後ＣＳＳと略記する）５万回後のディスク記録面
当たりの記録再生エラービット数を測定し、ＣＳＳ前後
でのエラー数の増加を測定した。

【００２６】表１に、本実施例及び比較例の媒体のそれ
ぞれに対し、Ｒa，Ｒmaxを等しく変化させてテクスチャ
を形成した場合の動摩擦係数の最大値（μｆ），ＣＳＳ
前後でのエラー数の増加，モジュレーション（Ｍd）の
測定値を示す。

【００２７】

【表１】

【００２８】表１から、本実施例の媒体は、比較例に比
べ、同じ表面粗さでも動摩擦係数，ＣＳＳ前後のエラー
数の増加，記録再生時のモジュレーションが小さいこと
がわかる。特に、表面粗さの値が極めて小さい形成条件
において、本実施例の媒体は、比較例に比べ顕著に動摩
擦係数（μf），ＣＳＳ前後のエラー数の増加，モジュ
レーションが小さいことがわかる。また、本実施例の媒
体は、比較例に比べ記録再生時の出力半減記録密度（Ｄ
₅₀），媒体Ｓ／Ｎの値が高いことが確認された。

【００２９】上記結果より、信頼性の高い媒体の表面粗
さは、Ｒa値の範囲として０．５ｎｍ以上９．８ｎｍ以
下，Ｒmax値の範囲として５ｎｍ以上９３ｎｍ以下が好
ましいことがわかる。また、特に高い信頼性を必要とす
る場合においては、Ｒa値が０．５ｎｍ以上４．９ｎｍ
以下，Ｒmax値が５ｎｍ以上４９ｎｍ以下の範囲にある
ことが好ましいことがわかる。

【００３０】〈実施例２〉実施例１のテクスチャ形成工
程において、研磨テープの振動数，ディスク基板回転速
度を種々の値に設定し、図２に示される円周方向テクス
チャの方向角（Ａ）および半径方向テクスチャ方向の方
向角（Ｂ）を変化させたディスク基板を形成した。この
時、表面粗さがＲa＝１ｎｍ，Ｒmax＝９ｎｍとなるよう
制御した。また各テクスチャの方向角Ａ，Ｂの値は走査
電子顕微鏡や走査トンネル顕微鏡，電子線三次元粗さ測
定装置などにより観察し，それぞれの平均値として求め
た。

【００３１】また、比較例として略円周方向のみのテク
スチャを有するディスク基板を作製した。この時の表面
粗さは本実施例と等しくなるよう制御した。次に、本実
施例及び比較例のディスク基板を、実施例１と同様の方
法によりマグネトロンスパッタリング装置に装填し、Ｃ
ｒ−１０Ｔｉ（原子％）下地膜，Ｃｏ−１３Ｃｒ−４Ｐ
ｔ（原子％）からなる金属磁性膜，およびカーボン保護
膜を順次積層し、最後にパーフルオロアルキルポリエー
テル等の潤滑層を形成した。

【００３２】こうして形成された本実施例及び比較例の
媒体の記録再生特性を実施例１と同様の方法により測定
し、モジュレーション（Ｍd），媒体Ｓ／Ｎ，出力半減
記録密度（Ｄ₅₀）の値を測定した。また、動摩擦係数
（μf），ＣＳＳ前後でのエラー数の増加を実施例１と
同様の方法により測定した。

【００３３】表２に、方向角Ａ，Ｂを変化させた際の、
動摩擦係数（μf），モジュレーション（Ｍd），媒体Ｓ
／Ｎの値を示した。

【００３４】

【表２】

【００３５】表２から、本実施例の媒体は、方向角Ａの
値を１９度以下の範囲で変化させた場合、比較例に比べ
動摩擦係数，モジュレーションが小さく，媒体Ｓ／Ｎが
大きいことがわかる。また、方向角Ｂの値を４４度以下
の範囲で変化させた場合、比較例に比べ動摩擦係数，モ
ジュレーションが小さく、媒体Ｓ／Ｎが大きいことがわ
かる。また、ＣＳＳ前後でのエラー数の増加は比較例に
比べ小さく、記録再生時の出力半減記録密度（Ｄ₅₀）が
高いことが確認された。また上記結果は、Ｒa値が０．
５ｎｍ以上１０ｎｍ未満，Ｒmax値が５ｎｍ以上１００
ｎｍ未満の範囲で同様に認められた。また、特に信頼性
を高めるためにはＲa値が０．５ｎｍ以上５ｎｍ未満，
Ｒmax値が５ｎｍ以上５０ｎｍ以下の範囲が好ましいこ
とが確認された。

【００３６】〈実施例３〉実施例１又は２の磁気ディス
ク４枚を記録媒体として使用し、ＣｏＴａＺｒ合金を記
録用磁極材とし、再生部に磁気抵抗効果型系を有する複
合型薄膜磁気ヘッドを７個組み合わせた磁気記録装置を
試作した。本装置は、図３に示すように磁気記録媒体３
１，磁気記録媒体駆動部３２，磁気ヘッド３３，磁気ヘ
ッド駆動部３４，記録再生信号処理系３５などの部品か
ら構成される。この磁気記録装置を使用し、スペーシン
グ０．０８μｍにおいてエラーが発生するまでの平均時
間を求めたところ、比較例の記録媒体を用いた磁気記録
装置と比較して５倍以上の寿命があり、信頼性が極めて
高いことを実証することができた。また、本実施例で試
作した磁気記録装置はスペーシングが小さいため、信号
の記録再生における位相マージンが広くなり、面記録密
度を比較例に対し２倍に高めることができ、小形の磁気
記録装置を提供できた。

【００３７】本実施例では、ＣｏＴａＺｒ合金を磁極材
とする薄膜磁気ヘッドを用いた場合について説明した
が、ＮｉＦｅ，ＣｏＦｅ合金等を記録用磁極材とする録
再分離型薄膜磁気ヘッド、ＣｏＴａＺｒ，ＦｅＡｌＳｉ
合金等をギャップ部に設けたメタル・イン・ギャップ型
(ＭＩＧ)録再分離複合磁気ヘッド、誘導型薄膜ヘッドま
たはＭＩＧヘッドを用いた場合にも同様の効果が得られ
ることを確認した。

【００３８】

【発明の効果】本発明によれば、高密度記録が可能な磁
気記録媒体、およびこれを用いた小形で大容量の磁気記
録装置を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例の薄膜型磁気記録媒体の断面
構造図である。

【図２】本発明に係る薄膜型磁気記録媒体のテクスチャ
形成工程およびテクスチャ構造の模式図である。

【図３】本発明の一実施例の磁気記録装置の縦断面構造
図である。

【符号の説明】

１１…磁気ディスク基板，１２，１２’…非磁性メッキ
層，１３，１３’…金属下地膜，１４，１４’…金属磁
性膜，１５，１５’…非磁性保護膜，２１…ディスク基
板，２２…コンタクトロール，２３…研磨テープ，２４
…研磨剤，２５…半径方向テクスチャ，２６…円周方向
テクスチャ，３１…磁気記録媒体，３２…磁気記録媒体
駆動部，３３…磁気ヘッド，３４…磁気ヘッド駆動部，
２３…記録再生信号処理系。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者大野徒之東京都国分寺市東恋ケ窪１丁目280番地株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者屋久四男東京都国分寺市東恋ケ窪１丁目280番地株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者加藤幸男東京都国分寺市東恋ケ窪１丁目280番地株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者山本朋生東京都国分寺市東恋ケ窪１丁目280番地株式会社日立製作所中央研究所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】非磁性ディスク基板と、該非磁性ディスク
基板表面上に形成された磁性膜を有する磁気記録媒体に
おいて，上記非磁性ディスク基板表面に円周方向テクス
チャおよび半径方向テクスチャの各々が少なくとも１方
向形成されていることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】上記非磁性ディスク基板はＡｌ−Ｍｇ合
金，化学強化ガラス，有機樹脂，セラミックス等からな
る基板上にＮｉＰ，ＮｉＷＰ等からなる非磁性メッキ層
が形成されたものである請求項１記載の磁気記録媒体。
【請求項３】上記非磁性ディスク基板表面のＲa値の範
囲は０．５ｎｍ以上１０ｎｍ未満，Ｒmax値の範囲は５
ｎｍ以上１００ｎｍ未満である請求項１又は２に記載の
磁気記録媒体。
【請求項４】上記非磁性ディスク基板表面のＲa値の範
囲は０．５ｎｍ以上５ｎｍ未満，Ｒmax値の範囲は５ｎ
ｍ以上５０ｎｍ未満である請求項３記載の磁気記録媒
体。
【請求項５】上記非磁性ディスク基板と上記磁性膜との
間に下地膜が形成されている請求項１乃至４のいずれか
一項に記載の磁気記録媒体。
【請求項６】上記磁性膜上に保護膜が形成されている請
求項５記載の磁気記録媒体。
【請求項７】磁気記録媒体と，磁気記録媒体回転駆動部
と，磁気ヘッドと，磁気ヘッド駆動部と，記録再生信号
処理系とを具備して成る磁気記録装置であって，上記磁
気記録媒体は請求項１乃至６のいずれか一項に記載の磁
気記録媒体であることを特徴とする磁気記録装置。