JPH0521009A - カラー陰極線管の製造方法 - Google Patents
カラー陰極線管の製造方法Info
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- JPH0521009A JPH0521009A JP3146290A JP14629091A JPH0521009A JP H0521009 A JPH0521009 A JP H0521009A JP 3146290 A JP3146290 A JP 3146290A JP 14629091 A JP14629091 A JP 14629091A JP H0521009 A JPH0521009 A JP H0521009A
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- Japan
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- film
- selection electrode
- color selection
- phosphor
- index phosphor
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- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 インデックス蛍光体パターンの形成を容易に
し、オートコンバーゼンス・カラー陰極線管の量産化を
可能にする。 【構成】 色選別電極１の一面に反射膜１２を有するフ
ィルム状感光膜１３を被着し、フィルム状感光膜に対し
て色選別電極の他面から第１の露光１６を行ってビーム
透過孔より広い領域を露光する。次に反射膜を除去して
インデックス蛍光体パターンに対応するネガフィルムを
介して色選別電極の他面からフィルム状感光膜に対して
第２の露光を行う。次に、現像してレジスト層を形成し
た後、インデックス蛍光体を全面に塗布し、反転現像し
てレジスト層と共にその上のインデックス蛍光体を除去
して色選別電極の面にインデックス蛍光体パターンを形
成する。
し、オートコンバーゼンス・カラー陰極線管の量産化を
可能にする。 【構成】 色選別電極１の一面に反射膜１２を有するフ
ィルム状感光膜１３を被着し、フィルム状感光膜に対し
て色選別電極の他面から第１の露光１６を行ってビーム
透過孔より広い領域を露光する。次に反射膜を除去して
インデックス蛍光体パターンに対応するネガフィルムを
介して色選別電極の他面からフィルム状感光膜に対して
第２の露光を行う。次に、現像してレジスト層を形成し
た後、インデックス蛍光体を全面に塗布し、反転現像し
てレジスト層と共にその上のインデックス蛍光体を除去
して色選別電極の面にインデックス蛍光体パターンを形
成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、カラー陰極線管の製造
方法に関する。
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】高精細度画像を鮮明なカラーで表示でき
るオートコンバーゼンス・カラー陰極線管が提案されて
いる。オートコンバーゼンス・カラー陰極線管は、図５
に示すように、例えば多数の細いグリッド素体４を所定
ピッチをもって配列してなる色選別電極１の裏面に垂直
部分２ａと傾斜部分２ｂを有する八の字形のインデック
ス蛍光体２をマトリックス状に配列して、インデックス
蛍光体パターン３を形成し、電子ビームを走査する際
に、インデックス蛍光体２からの発光信号を利用して自
動的にコンバーゼンス調整及びリニアリティー調整を行
えるように構成されている。なお、色選別電極としてシ
ャドウマスクを用いた場合も同様のインデックス蛍光体
パターンを形成して構成される。
るオートコンバーゼンス・カラー陰極線管が提案されて
いる。オートコンバーゼンス・カラー陰極線管は、図５
に示すように、例えば多数の細いグリッド素体４を所定
ピッチをもって配列してなる色選別電極１の裏面に垂直
部分２ａと傾斜部分２ｂを有する八の字形のインデック
ス蛍光体２をマトリックス状に配列して、インデックス
蛍光体パターン３を形成し、電子ビームを走査する際
に、インデックス蛍光体２からの発光信号を利用して自
動的にコンバーゼンス調整及びリニアリティー調整を行
えるように構成されている。なお、色選別電極としてシ
ャドウマスクを用いた場合も同様のインデックス蛍光体
パターンを形成して構成される。
【０００３】従来、電子ビームの位置を検出するための
インデックス蛍光体パターン３は、所定の形状のメタル
マスクを色選別電極１上に重ね、蛍光体及びバインダー
等を含む懸濁液をスプレー塗布することによって形成し
ていた。
インデックス蛍光体パターン３は、所定の形状のメタル
マスクを色選別電極１上に重ね、蛍光体及びバインダー
等を含む懸濁液をスプレー塗布することによって形成し
ていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述のよう
な方法でインデックス蛍光体パターン３を形成する時、
必ず色選別電極１のビーム透過孔、図ではスリット部分
に蛍光体がはみ出して付着し、蛍光体パターンが陰にな
って外観で見えるという問題があった。このため、スプ
レー塗布時に裏側から吸引し乍ら塗布するなど改良が試
みられているが完全ではなく、全白を出すことが必要な
モニターとしては問題が残った。但し、キャラクター或
はグラフィック専用のディスプレーとしては、目立たな
いので不完全ながらこの方法で実用化されている。
な方法でインデックス蛍光体パターン３を形成する時、
必ず色選別電極１のビーム透過孔、図ではスリット部分
に蛍光体がはみ出して付着し、蛍光体パターンが陰にな
って外観で見えるという問題があった。このため、スプ
レー塗布時に裏側から吸引し乍ら塗布するなど改良が試
みられているが完全ではなく、全白を出すことが必要な
モニターとしては問題が残った。但し、キャラクター或
はグラフィック専用のディスプレーとしては、目立たな
いので不完全ながらこの方法で実用化されている。
【０００５】そこで、図６に示すように、さらにスプレ
ー塗布後、色選別電極１のスリット部分（シャドウマス
クの場合は透孔部分）に付着した蛍光体をブラシで削り
落す作業が必要となる。振動し易い細いグリッド素体５
を有する色選別電極１の場合には蛍光体が脱落しやすい
ので、蛍光体がバインダーによって強固に接着されてい
る。また、蛍光体パターンの陰が外観で見えなくなるま
で不要部分の蛍光体を除去するには電子ビームの入射角
に応じてグリッド素体５のかなり内側まで除去しなけれ
ばならない。これらの理由で、不要部分の蛍光体をブラ
シで削り落す作業は時間を用し、かなりの部分を人手に
依らなければならない。また、特にグリッド素体５はデ
リケートであり、作業中に破損するケースも多い。従っ
て、これまでオートコンバーゼンス・カラー陰極線管の
量産化は困難であった。
ー塗布後、色選別電極１のスリット部分（シャドウマス
クの場合は透孔部分）に付着した蛍光体をブラシで削り
落す作業が必要となる。振動し易い細いグリッド素体５
を有する色選別電極１の場合には蛍光体が脱落しやすい
ので、蛍光体がバインダーによって強固に接着されてい
る。また、蛍光体パターンの陰が外観で見えなくなるま
で不要部分の蛍光体を除去するには電子ビームの入射角
に応じてグリッド素体５のかなり内側まで除去しなけれ
ばならない。これらの理由で、不要部分の蛍光体をブラ
シで削り落す作業は時間を用し、かなりの部分を人手に
依らなければならない。また、特にグリッド素体５はデ
リケートであり、作業中に破損するケースも多い。従っ
て、これまでオートコンバーゼンス・カラー陰極線管の
量産化は困難であった。
【０００６】本発明は、上述の点に鑑み、オートコンバ
ーゼンス・カラー陰極線管におけるインデックス蛍光体
パターンの形成を容易にし量産化を可能にしたカラー陰
極線管の製造方法を提供するものである。
ーゼンス・カラー陰極線管におけるインデックス蛍光体
パターンの形成を容易にし量産化を可能にしたカラー陰
極線管の製造方法を提供するものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、色選別電極１
の一面１ａに反射膜１２を有するフィルム状感光膜１３
を被着し、フィルム状感光膜１３に対して色選別電極１
の他面１ｂから第１の露光１６を行ってビーム透過孔４
より広い領域を露光し、次に、反射膜１２を除去してフ
ィルム状感光膜１３に対して色選別電極１の一面１ａか
ら所定パターンのマスク１７を介して第２の露光１８を
行い、現像後、現像で除去された部分にインデックス用
蛍光体２０を形成するようになす。
の一面１ａに反射膜１２を有するフィルム状感光膜１３
を被着し、フィルム状感光膜１３に対して色選別電極１
の他面１ｂから第１の露光１６を行ってビーム透過孔４
より広い領域を露光し、次に、反射膜１２を除去してフ
ィルム状感光膜１３に対して色選別電極１の一面１ａか
ら所定パターンのマスク１７を介して第２の露光１８を
行い、現像後、現像で除去された部分にインデックス用
蛍光体２０を形成するようになす。
【０００８】
【作用】本発明においては、色選別電極１の他面１ｂか
ら第１の露光１６を行った時にその光が反射膜１２で反
射し、フィルム状感光膜１３に対しビーム透過孔より広
い領域が露光される。次いで所定パターンのマスク即ち
インデックス蛍光体パターンのネガマスク１７を介して
色選別電極１の一面１ａから第２の露光１８を行った
後、現像することにより、色選別電極１上には、ビーム
透過孔４を除いて且つビーム透過孔縁部より内方に位置
した未露光部即ちインデックス蛍光体パターンに対応す
る部分を除いて、他部全面にレジスト膜１９が形成され
る。
ら第１の露光１６を行った時にその光が反射膜１２で反
射し、フィルム状感光膜１３に対しビーム透過孔より広
い領域が露光される。次いで所定パターンのマスク即ち
インデックス蛍光体パターンのネガマスク１７を介して
色選別電極１の一面１ａから第２の露光１８を行った
後、現像することにより、色選別電極１上には、ビーム
透過孔４を除いて且つビーム透過孔縁部より内方に位置
した未露光部即ちインデックス蛍光体パターンに対応す
る部分を除いて、他部全面にレジスト膜１９が形成され
る。
【０００９】そして、現像後、インデックス用蛍光体２
０を形成することにより、即ち、全面にインデックス用
蛍光体２０を塗布し、反転現像してレジスト膜１９及び
その上の蛍光体２０を除去することにより、色選別電極
１の面１ａにビーム透過孔４から所定距離後退した状態
で所望のインデックス蛍光体パターン３が形成される。
従って、従来のようなビーム透過孔の部分及びビーム透
過孔の縁部から内方部分の蛍光体を除去する作業が不要
となる。
０を形成することにより、即ち、全面にインデックス用
蛍光体２０を塗布し、反転現像してレジスト膜１９及び
その上の蛍光体２０を除去することにより、色選別電極
１の面１ａにビーム透過孔４から所定距離後退した状態
で所望のインデックス蛍光体パターン３が形成される。
従って、従来のようなビーム透過孔の部分及びビーム透
過孔の縁部から内方部分の蛍光体を除去する作業が不要
となる。
【００１０】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を説明
する。
する。
【００１１】本例においては、先ず、図１Ａに示すよう
に、多数の細い帯状のグリッド素体５を所定ピッチをも
って配列し、各グリッド素体５間にビーム透過孔となる
スリット４を形成してなる色選別電極１を用意する。ま
た、ベースフィルム１１の一面にＡｌ反射膜１２が蒸着
され、さらにＡｌ反射膜１２上にフィルム状感光膜１３
が形成され、さらに保護フィルム１４が形成されてなる
ドライフィルム（例えば日立化成株式会社製，商品名
Ｐｈｏｔｅｃ（ＰＨＴ−１４５Ｆ−２５））１５を用意
する。
に、多数の細い帯状のグリッド素体５を所定ピッチをも
って配列し、各グリッド素体５間にビーム透過孔となる
スリット４を形成してなる色選別電極１を用意する。ま
た、ベースフィルム１１の一面にＡｌ反射膜１２が蒸着
され、さらにＡｌ反射膜１２上にフィルム状感光膜１３
が形成され、さらに保護フィルム１４が形成されてなる
ドライフィルム（例えば日立化成株式会社製，商品名
Ｐｈｏｔｅｃ（ＰＨＴ−１４５Ｆ−２５））１５を用意
する。
【００１２】次に、図１Ｂに示すように、色選別電極１
の一面、即ち電子銃と対向する面１ａに、保護フィルム
１４を剥離したドライフィルム１５をそのフィルム状感
光膜１３が面１ａに接するようにして重ね合せる。そし
て電気炉内で８０〜１００℃、５〜１０分間の加熱処理
を行ってドライフィルム１５を色選別電極１の面１ａに
ラミネートする。
の一面、即ち電子銃と対向する面１ａに、保護フィルム
１４を剥離したドライフィルム１５をそのフィルム状感
光膜１３が面１ａに接するようにして重ね合せる。そし
て電気炉内で８０〜１００℃、５〜１０分間の加熱処理
を行ってドライフィルム１５を色選別電極１の面１ａに
ラミネートする。
【００１３】次に、図１Ｃに示すように、色選別電極１
の他面１ｂよりフィルム状感光膜３に対して第１の露光
１６を行う。このとき、光がＡｌ膜１２により反射され
てフィルム状感光膜１３はスリット幅ｄ1 より広い幅ｄ
2に露光される。
の他面１ｂよりフィルム状感光膜３に対して第１の露光
１６を行う。このとき、光がＡｌ膜１２により反射され
てフィルム状感光膜１３はスリット幅ｄ1 より広い幅ｄ
2に露光される。
【００１４】次に、図２Ｄに示すように、Ａｌ反射膜１
２と共にベースフィルム１１を剥した後、所望の画像パ
ターン即ちインデックス蛍光体パターンのネガマスク１
７をフィルム状感光膜１３に重ね、ネガマスク１７側か
ら第２の露光１８を行う。
２と共にベースフィルム１１を剥した後、所望の画像パ
ターン即ちインデックス蛍光体パターンのネガマスク１
７をフィルム状感光膜１３に重ね、ネガマスク１７側か
ら第２の露光１８を行う。
【００１５】次いで、現像処理して図２Ｅに示すよう
に、色選別電極１のスリット４の部分と所望のインデッ
クス蛍光体パターン以外の部分とが隠蔽されたレジスト
層１９を形成する。このとき、レジスト層１９はグリッ
ド素体５の縁部より内側に一部跨って形成される。従っ
て、レジスト層１９が形成されないインデックス蛍光体
パターンに対応する部分ではグリッド素体５上のパター
ン幅ｄ3はグリッド素体５の幅ｄ4 より狭くなってい
る。現像は、例えばトリクロルエタンに浸漬し振動し、
水シャワーでトリクロルエタンを洗い落すようにして行
う。これによって未露光部が除去される。
に、色選別電極１のスリット４の部分と所望のインデッ
クス蛍光体パターン以外の部分とが隠蔽されたレジスト
層１９を形成する。このとき、レジスト層１９はグリッ
ド素体５の縁部より内側に一部跨って形成される。従っ
て、レジスト層１９が形成されないインデックス蛍光体
パターンに対応する部分ではグリッド素体５上のパター
ン幅ｄ3はグリッド素体５の幅ｄ4 より狭くなってい
る。現像は、例えばトリクロルエタンに浸漬し振動し、
水シャワーでトリクロルエタンを洗い落すようにして行
う。これによって未露光部が除去される。
【００１６】次に、図２Ｆに示すように、全面にインデ
ックス用蛍光体２０を例えばスプレー、はけ塗り等によ
り塗布する。
ックス用蛍光体２０を例えばスプレー、はけ塗り等によ
り塗布する。
【００１７】スプレー塗布の場合の蛍光体塗布液の組成
を次に示す。 組 成 蛍光体（Ｐ−４６） ８０ｇ Ｉｎ2 Ｏ3 ２０ｇ リン酸アルミ ５ｍｌ （米山化学工業社製商品名：モノフィックスＡ） 水 ９５ｍｌ オロタン（界面活性剤） ０．２５ｍｌ
を次に示す。 組 成 蛍光体（Ｐ−４６） ８０ｇ Ｉｎ2 Ｏ3 ２０ｇ リン酸アルミ ５ｍｌ （米山化学工業社製商品名：モノフィックスＡ） 水 ９５ｍｌ オロタン（界面活性剤） ０．２５ｍｌ
【００１８】はけ（スポンジ）塗りの場合の蛍光体塗布
液の組成を次に示す。 蛍光体（Ｐ−４６） ４ｇ Ｉｎ2 Ｏ3 １ｇ リン酸アルミ １．５ｍｌ （米山化学工業社製商品名：モノフィックスＡ） 水 １．５ｍｌ
液の組成を次に示す。 蛍光体（Ｐ−４６） ４ｇ Ｉｎ2 Ｏ3 １ｇ リン酸アルミ １．５ｍｌ （米山化学工業社製商品名：モノフィックスＡ） 水 １．５ｍｌ
【００１９】但し、Ｉｎ2 Ｏ3 は蛍光体に導電性に付与
するために混入する。即ち陰極線管の動作時にインデッ
クス蛍光体パターンに電子ビームが当るとインデックス
蛍光体パターンが帯電し電子ビーム軌道がずれる懼れが
ある。これを防ぐために蛍光体に導電性を与えて帯電を
防止する。
するために混入する。即ち陰極線管の動作時にインデッ
クス蛍光体パターンに電子ビームが当るとインデックス
蛍光体パターンが帯電し電子ビーム軌道がずれる懼れが
ある。これを防ぐために蛍光体に導電性を与えて帯電を
防止する。
【００２０】次に、電気炉において１２０℃，３０分の
乾燥処理を行った後、反転現像する。即ち塩化メチレン
に浸漬し、レジスト層を細かいフレーク状に分解してレ
ジスト層１８と共にその上の蛍光体１９を除去する。こ
の反転現像により、図２Ｇに示すように色選別電極１の
面上に前述の図５及び図６で示す八の字型のインデック
ス蛍光体２がマトリックス状に形成されたインデックス
蛍光体パターン３を得る。しかる後、メチルアルコール
溶液によりリンス処理し、エアブローで乾燥させて完了
する。
乾燥処理を行った後、反転現像する。即ち塩化メチレン
に浸漬し、レジスト層を細かいフレーク状に分解してレ
ジスト層１８と共にその上の蛍光体１９を除去する。こ
の反転現像により、図２Ｇに示すように色選別電極１の
面上に前述の図５及び図６で示す八の字型のインデック
ス蛍光体２がマトリックス状に形成されたインデックス
蛍光体パターン３を得る。しかる後、メチルアルコール
溶液によりリンス処理し、エアブローで乾燥させて完了
する。
【００２１】尚、ドライフィルムの他の例としては、図
３に示すようにベースフィルム２１にフィルム状感光膜
１３を形成したドライフィルム２２を色選別電極１の面
１ａに重ね合せ（図３Ａ参照）、次にベースフィルム２
１を剥離した後、Ａｌ反射膜１２を蒸着したベースフィ
ルム１１をフィルム状感光膜１３に重ね合せるようにし
てもよい（図３Ｂ参照）。これ以後の工程は前述の図１
Ｃ以後と同様である。
３に示すようにベースフィルム２１にフィルム状感光膜
１３を形成したドライフィルム２２を色選別電極１の面
１ａに重ね合せ（図３Ａ参照）、次にベースフィルム２
１を剥離した後、Ａｌ反射膜１２を蒸着したベースフィ
ルム１１をフィルム状感光膜１３に重ね合せるようにし
てもよい（図３Ｂ参照）。これ以後の工程は前述の図１
Ｃ以後と同様である。
【００２２】上述の実施例によれば、ドライフィルム１
５を利用したレジスト層１９によって色選別電極１に対
するマスキングを行うことにより、不要部分（スリット
部分等）への蛍光体の付着が避けられる。特に２回の露
光を行い、第１の露光１６でＡｌ反射膜１２を利用して
スリット幅ｄ1 より広い幅ｄ2 に露光するので、レジス
ト層１９がグリッド素体５の縁部より内側に一部跨るよ
うに形成され、インデックス蛍光体２０のグリッド素体
５の縁部の付着が避けられる。
５を利用したレジスト層１９によって色選別電極１に対
するマスキングを行うことにより、不要部分（スリット
部分等）への蛍光体の付着が避けられる。特に２回の露
光を行い、第１の露光１６でＡｌ反射膜１２を利用して
スリット幅ｄ1 より広い幅ｄ2 に露光するので、レジス
ト層１９がグリッド素体５の縁部より内側に一部跨るよ
うに形成され、インデックス蛍光体２０のグリッド素体
５の縁部の付着が避けられる。
【００２３】従って、従来のように大部分手作業で行っ
ていた不要部分（スリット部、グリッド素体の縁部等）
に付着したインデックス蛍光体の削り落しが不用にな
る。また、グリッド素体５の破損も回避される。従っ
て、高精細度画像を表示するオートコンバーゼンス・カ
ラー陰極線管の量産化を可能にするものである。
ていた不要部分（スリット部、グリッド素体の縁部等）
に付着したインデックス蛍光体の削り落しが不用にな
る。また、グリッド素体５の破損も回避される。従っ
て、高精細度画像を表示するオートコンバーゼンス・カ
ラー陰極線管の量産化を可能にするものである。
【００２４】尚、上例は細いグリッド素体５を所定ピッ
チで配列してなる色選別電極にインデックス蛍光体パタ
ーン３を形成した場合であるが、シャドウマスク等の色
選別電極にインデックス蛍光体パターン３を形成する場
合も同様である。
チで配列してなる色選別電極にインデックス蛍光体パタ
ーン３を形成した場合であるが、シャドウマスク等の色
選別電極にインデックス蛍光体パターン３を形成する場
合も同様である。
【００２５】一方、図４に示すように、シャドウマスク
２５においては、ドーミング（熱膨張）を防止するため
にシャドウマスク２５の裏面に低融点のフリットガラス
膜２６を形成することが提案されている。このフリット
ガラス膜２６は電子ビームに影響を与えないようにビー
ム透過孔２７の縁部より内側に形成される。上述の本発
明の技術は、このシャドウマスク２５の裏面にフリット
ガラス膜２６を形成する場合にも適用できる。即ち、シ
ャドウマスク２５の一面２５ａに前述のＡｌ反射膜１２
及びフィルム状感光膜１３を有するドライフィルム１１
を重ね合せてラミネートし、他面２５ｂ側より露光１６
を行う。この露光１６で光はＡｌ反射膜１２により反射
してビーム透過孔２７の幅より広い幅に露光される。次
に現像してビーム透過孔及び之より一部マスク側に跨る
レジスト層を形成し、フリットガラスを全面に塗布し、
反転現像し、熱処理することによってシャドウマスク２
５の内面に図４に示すようにフリットガラス膜２６を形
成することができる。
２５においては、ドーミング（熱膨張）を防止するため
にシャドウマスク２５の裏面に低融点のフリットガラス
膜２６を形成することが提案されている。このフリット
ガラス膜２６は電子ビームに影響を与えないようにビー
ム透過孔２７の縁部より内側に形成される。上述の本発
明の技術は、このシャドウマスク２５の裏面にフリット
ガラス膜２６を形成する場合にも適用できる。即ち、シ
ャドウマスク２５の一面２５ａに前述のＡｌ反射膜１２
及びフィルム状感光膜１３を有するドライフィルム１１
を重ね合せてラミネートし、他面２５ｂ側より露光１６
を行う。この露光１６で光はＡｌ反射膜１２により反射
してビーム透過孔２７の幅より広い幅に露光される。次
に現像してビーム透過孔及び之より一部マスク側に跨る
レジスト層を形成し、フリットガラスを全面に塗布し、
反転現像し、熱処理することによってシャドウマスク２
５の内面に図４に示すようにフリットガラス膜２６を形
成することができる。
【００２６】
【発明の効果】本発明によれば、色選別電極にインデッ
クス蛍光体パターンを形成する際に、従来のような人手
による不用部分の蛍光体除去作業がなくなり、また、色
選別電極の破損も回避される。従って、オートコンバー
ゼンス・カラー陰極線管の量産化を容易にするものであ
る。
クス蛍光体パターンを形成する際に、従来のような人手
による不用部分の蛍光体除去作業がなくなり、また、色
選別電極の破損も回避される。従って、オートコンバー
ゼンス・カラー陰極線管の量産化を容易にするものであ
る。
【図１】本発明に係るカラー陰極線管のインデックス蛍
光体パターンの形成方法を示す工程図（その１）であ
る。
光体パターンの形成方法を示す工程図（その１）であ
る。
【図２】本発明に係るカラー陰極線管のインデックス蛍
光体パターンの形成方法を示す工程図（その２）であ
る。
光体パターンの形成方法を示す工程図（その２）であ
る。
【図３】本発明に係るカラー陰極線管のインデックス蛍
光体パターンの形成方法の他の例を示す工程図である。
光体パターンの形成方法の他の例を示す工程図である。
【図４】本発明が適用されるシャドウマスクの例を示す
要部の断面図である。
要部の断面図である。
【図５】オートコンバーゼンス・カラー陰極線管の色選
別電極の例を示す平面図である。
別電極の例を示す平面図である。
【図６】図５の要部の拡大平面図である。
１ 色選別電極 ２ インデックス蛍光体 ３ インデックス蛍光体パターン ４ スリット ５ グリッド素体 １１ ベースフィルム １２ Ａｌ反射膜 １３ フィルム状感光膜 １４ 保護フィルム １５ ドライフィルム １６ 第１の露光 １７ ネガマスク １８ 第２の露光 １９ レジスト層 ２０ インデックス蛍光体
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 色選別電極の一面に反射膜を有するフィ
ルム状感光膜を被着し、前記フィルム状感光膜に対して
前記色選別電極の他面から第１の露光を行ってビーム透
過孔より広い領域を露光し、 前記反射膜を除去して前記フィルム状感光膜に対して前
記色選別電極の一面から所定パターンのマスクを介して
第２の露光を行い、 現像後、現像で除去された部分にインデックス用蛍光体
を形成することを特徴とするカラー陰極線管の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3146290A JPH0521009A (ja) | 1991-06-18 | 1991-06-18 | カラー陰極線管の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3146290A JPH0521009A (ja) | 1991-06-18 | 1991-06-18 | カラー陰極線管の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0521009A true JPH0521009A (ja) | 1993-01-29 |
Family
ID=15404342
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3146290A Pending JPH0521009A (ja) | 1991-06-18 | 1991-06-18 | カラー陰極線管の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0521009A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61249503A (ja) * | 1985-04-25 | 1986-11-06 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 親水性ポリテトラフルオロエチレン濾過膜及びその製造方法 |
-
1991
- 1991-06-18 JP JP3146290A patent/JPH0521009A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61249503A (ja) * | 1985-04-25 | 1986-11-06 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 親水性ポリテトラフルオロエチレン濾過膜及びその製造方法 |
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