JPH05210882A - 光ディスク - Google Patents
光ディスクInfo
- Publication number
- JPH05210882A JPH05210882A JP4014463A JP1446392A JPH05210882A JP H05210882 A JPH05210882 A JP H05210882A JP 4014463 A JP4014463 A JP 4014463A JP 1446392 A JP1446392 A JP 1446392A JP H05210882 A JPH05210882 A JP H05210882A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- coat layer
- power
- sensitivity
- optical disk
- Prior art date
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- Pending
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 最適記録パワーの高感度化を図ったときに、
問題となる立上り感度を抑えて再生パワーマージンを広
げることである。 【構成】 少なくとも基板1の一面に光再生面7が形成
された光ディスクにおいて、前記光再生面7側に表面コ
ート層8を形成し、この表面コート層8の屈折率nと前
記基板1の屈折率n0 とがn>n0なる関係を満たすよ
うにするか、或いは、表面コート層8側の表面反射率R
0 が5%<R0<18%であるようにした。
問題となる立上り感度を抑えて再生パワーマージンを広
げることである。 【構成】 少なくとも基板1の一面に光再生面7が形成
された光ディスクにおいて、前記光再生面7側に表面コ
ート層8を形成し、この表面コート層8の屈折率nと前
記基板1の屈折率n0 とがn>n0なる関係を満たすよ
うにするか、或いは、表面コート層8側の表面反射率R
0 が5%<R0<18%であるようにした。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、少なくとも基板の一面
に光再生面が形成された光ディスクに関するものであ
る。
に光再生面が形成された光ディスクに関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】従来、光ディスク、特に、光磁気ディス
クは、通常の磁気ドライブ(FDD、HDD)に比較し
て数十倍の記録容量を有しているために、データファイ
ルや文書、画像ファイルとして利用されている。
クは、通常の磁気ドライブ(FDD、HDD)に比較し
て数十倍の記録容量を有しているために、データファイ
ルや文書、画像ファイルとして利用されている。
【0003】このような光磁気ファイルの表面に、帯電
防止の目的や表面保護の目的で表面コート層を形成する
ことが行われている。例えば、特開昭60−21284
1号公報には、帯電防止のために表面コートをすること
が記載されており、特開昭60−197964号公報・
特開昭61−280054号公報には、傷の発生等を防
止するための表面保護の目的で表面コートをすることが
記載されており、さらに、特開昭62−192049号
公報には、複屈折の位相差をなくすために表面コートを
することが記載されている。
防止の目的や表面保護の目的で表面コート層を形成する
ことが行われている。例えば、特開昭60−21284
1号公報には、帯電防止のために表面コートをすること
が記載されており、特開昭60−197964号公報・
特開昭61−280054号公報には、傷の発生等を防
止するための表面保護の目的で表面コートをすることが
記載されており、さらに、特開昭62−192049号
公報には、複屈折の位相差をなくすために表面コートを
することが記載されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】現在、使用されている
光磁気ドライブの回転数は、1800〜2400rpm
であり、データの転送速度を向上させるために、360
0rpm程度の高速化が検討されている。光磁気ドライ
ブの高速化に対応して記録メディア(光磁気ディスク)
も高感度化を図る必要があるが、それに伴って後述する
ような副作用が生じる。本発明は、光磁気ディスクの高
感度化を図った際に問題となる再生パワーマージンにつ
いて対策を施したものである。
光磁気ドライブの回転数は、1800〜2400rpm
であり、データの転送速度を向上させるために、360
0rpm程度の高速化が検討されている。光磁気ドライ
ブの高速化に対応して記録メディア(光磁気ディスク)
も高感度化を図る必要があるが、それに伴って後述する
ような副作用が生じる。本発明は、光磁気ディスクの高
感度化を図った際に問題となる再生パワーマージンにつ
いて対策を施したものである。
【0005】図2は、光磁気ディスクの高感度化を説明
するためのC/Nと記録パワーとの関係を例示したもの
である。図において、横軸は信号記録するためのレーザ
のパワーを示し、縦軸は記録された信号を所定のレーザ
パワー(再生パワー)で再生した時のC/N比を示した
ものである。
するためのC/Nと記録パワーとの関係を例示したもの
である。図において、横軸は信号記録するためのレーザ
のパワーを示し、縦軸は記録された信号を所定のレーザ
パワー(再生パワー)で再生した時のC/N比を示した
ものである。
【0006】ここで、C/N比が立ち上がるしきい値の
記録パワーをメディアの立上り感度Pthと称する。ま
た、C/N比の最大値をC/N max、その時の記録パワ
ーを最適記録パワーPwと称する。
記録パワーをメディアの立上り感度Pthと称する。ま
た、C/N比の最大値をC/N max、その時の記録パワ
ーを最適記録パワーPwと称する。
【0007】実際のドライブでは、最適記録パワーPw
を設定し記録する。例えば、1800rpmでは、7〜
8mW程度にその最適記録パワーPwを設定している。
ここで、3600rpm等の高速化を図ると、最適記録
パワーPwは線速vが大きくなった分、高パワー側にシ
フトする。一般には、最適記録パワーPwは線速vの平
方根に比例する。つまり、1800rpmと3600r
pmとを比較すると、最適記録パワーPwは、1.41
4倍大きくなってしまう。1800rpmで、Pw =
7.0 mWであると、3600rpmでは、Pw =9.
9 mWとなり、1800rpmで、Pw =8.0 mW
であると、3600rpmでは、Pw =11.0m とな
り、高パワーが必要となる。そのため、出力の大きなレ
ーザダイオードに変更するか、光磁気ディスクを高感度
化する必要がある。しかしながら、高出力レーザは高価
であるため、メディアの改良の方が妥当である。
を設定し記録する。例えば、1800rpmでは、7〜
8mW程度にその最適記録パワーPwを設定している。
ここで、3600rpm等の高速化を図ると、最適記録
パワーPwは線速vが大きくなった分、高パワー側にシ
フトする。一般には、最適記録パワーPwは線速vの平
方根に比例する。つまり、1800rpmと3600r
pmとを比較すると、最適記録パワーPwは、1.41
4倍大きくなってしまう。1800rpmで、Pw =
7.0 mWであると、3600rpmでは、Pw =9.
9 mWとなり、1800rpmで、Pw =8.0 mW
であると、3600rpmでは、Pw =11.0m とな
り、高パワーが必要となる。そのため、出力の大きなレ
ーザダイオードに変更するか、光磁気ディスクを高感度
化する必要がある。しかしながら、高出力レーザは高価
であるため、メディアの改良の方が妥当である。
【0008】図3には、同一評価条件で測定したときの
高速対応光磁気ディスクと通常の光磁気ディスクとを比
較したものを示した。これは最適記録パワーPwが、
5.0〜5.7mW程度になるように高感度化した例であ
るが、この状態で3600rpmドライブでは、7〜8
mW程度のPw で動作する。このように約40%の高感
度化が必要である。
高速対応光磁気ディスクと通常の光磁気ディスクとを比
較したものを示した。これは最適記録パワーPwが、
5.0〜5.7mW程度になるように高感度化した例であ
るが、この状態で3600rpmドライブでは、7〜8
mW程度のPw で動作する。このように約40%の高感
度化が必要である。
【0009】しかして、光ディスクに記録された信号
は、出力を2mW程度に低パワーにしたレーザ光で再生
する。ここで、課題となるのが再生レーザパワーと記録
しきい値、つまり、立上り感度Pthとの差(マージン)で
ある。例えば、立上り感度Pthが3.0 mWで、再生パ
ワーPrが2.0 mWの場合、その差は、1mWしかな
く、ドライブ内温度が上昇し50℃程度になった場合や
レーザの出力変動が生じた場合など、再生パワーによっ
て記録信号が除去されるおそれが生じる。光磁気ディス
クの高感度化を図るためには、記録磁性層のキューリ温
度を20〜30℃程度低下させる。例としてTbFeCo
ではCo 量を減少させたり、Dy を添加させたTbDyF
eCo等でキューリー温度を低下させる。さらには、後述
する図1の示す構成で各層の膜厚の熱設計を行うなどの
方策をとる。いずれの方策をとっても最適記録パワーP
wを低パワー側へシフトさせると、立上り感度Pthもシ
フトすることとなり、再生パワーマージンが小さくな
る。
は、出力を2mW程度に低パワーにしたレーザ光で再生
する。ここで、課題となるのが再生レーザパワーと記録
しきい値、つまり、立上り感度Pthとの差(マージン)で
ある。例えば、立上り感度Pthが3.0 mWで、再生パ
ワーPrが2.0 mWの場合、その差は、1mWしかな
く、ドライブ内温度が上昇し50℃程度になった場合や
レーザの出力変動が生じた場合など、再生パワーによっ
て記録信号が除去されるおそれが生じる。光磁気ディス
クの高感度化を図るためには、記録磁性層のキューリ温
度を20〜30℃程度低下させる。例としてTbFeCo
ではCo 量を減少させたり、Dy を添加させたTbDyF
eCo等でキューリー温度を低下させる。さらには、後述
する図1の示す構成で各層の膜厚の熱設計を行うなどの
方策をとる。いずれの方策をとっても最適記録パワーP
wを低パワー側へシフトさせると、立上り感度Pthもシ
フトすることとなり、再生パワーマージンが小さくな
る。
【0010】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
少なくとも基板の一面に光再生面が形成された光ディス
クにおいて、前記光再生面側に表面コート層を形成し、
この表面コート層の屈折率nと前記基板の屈折率n0 と
が n>n0 なる関係を満たす表面コート層であることを特徴とす
る。
少なくとも基板の一面に光再生面が形成された光ディス
クにおいて、前記光再生面側に表面コート層を形成し、
この表面コート層の屈折率nと前記基板の屈折率n0 と
が n>n0 なる関係を満たす表面コート層であることを特徴とす
る。
【0011】請求項2記載の発明は、少なくとも基板の
一面に光再生面が形成された光ディスクにおいて、前記
光再生面側に表面コート層を形成し、この表面コート層
側の表面反射率R0 が 5%<R0<18% であることを特徴とする。
一面に光再生面が形成された光ディスクにおいて、前記
光再生面側に表面コート層を形成し、この表面コート層
側の表面反射率R0 が 5%<R0<18% であることを特徴とする。
【0012】
【作用】レーザ光が入射される基板の光再生面に表面コ
ート層を形成し、その表面コート層の屈折率を基板の屈
折率より大きくすることで結局は表面反射率をコントロ
ールし、これにより、最適記録パワーPwの高感度化を
図った時に立上り感度Pthのシフトを抑え、再生パワー
マージンを実施上、支障がないようにマージンを広げら
れるようにし、かつ、高感度化がそのまま維持されると
ともに表面のキズの発生等も防止できて光ディスクの信
頼性を高め得るようにしたものである。
ート層を形成し、その表面コート層の屈折率を基板の屈
折率より大きくすることで結局は表面反射率をコントロ
ールし、これにより、最適記録パワーPwの高感度化を
図った時に立上り感度Pthのシフトを抑え、再生パワー
マージンを実施上、支障がないようにマージンを広げら
れるようにし、かつ、高感度化がそのまま維持されると
ともに表面のキズの発生等も防止できて光ディスクの信
頼性を高め得るようにしたものである。
【0013】
【実施例】本発明の一実施例を図1に基づいて説明す
る。まず、ガラスやプラスチックスからなる基板1が設
けられ、この基板1の一面には、SiN やSiAlON、
SiO等の透明な下地保護層2が形成され、この下地保
護層2の上には、垂直磁気を示す磁性膜3が積層形成さ
れている。この磁性膜3は、希土類(Gd,Tb,Dy
等)−遷移金属(Fe,Co)合金からなっている。この
ような磁性膜3の上には、前述の下地保護層2と同様な
材質による保護膜4が形成され、この保護膜4の上に
は、Al,Al-Ti,Au,Al-Ta等の高反射率を示す金
属反射膜5が形成され、この金属反射膜5の上に有機系
(アクリル、エポキシ系)のUV硬化樹脂層6が形成さ
れている。一方、前記基板1の他面は、光再生面7とさ
れ、この光再生面7には表面コート層8が形成されてい
る。
る。まず、ガラスやプラスチックスからなる基板1が設
けられ、この基板1の一面には、SiN やSiAlON、
SiO等の透明な下地保護層2が形成され、この下地保
護層2の上には、垂直磁気を示す磁性膜3が積層形成さ
れている。この磁性膜3は、希土類(Gd,Tb,Dy
等)−遷移金属(Fe,Co)合金からなっている。この
ような磁性膜3の上には、前述の下地保護層2と同様な
材質による保護膜4が形成され、この保護膜4の上に
は、Al,Al-Ti,Au,Al-Ta等の高反射率を示す金
属反射膜5が形成され、この金属反射膜5の上に有機系
(アクリル、エポキシ系)のUV硬化樹脂層6が形成さ
れている。一方、前記基板1の他面は、光再生面7とさ
れ、この光再生面7には表面コート層8が形成されてい
る。
【0014】これらの各層の形成手段について説明す
る。まず、基板1は、φ86mmのポリカボネート(P
C)基板であり、この基板1の上に、まず、スパッタリ
ングでSi ターゲットのN2 反応性スパッタリングでS
iN の下地保護層2を900Å作製した。次いで、真空
を維持したまま、次のスタッパチャンバーに移し、Si
N上に磁性層3のTb12Oy12Fe70Co6 を200Åスパ
ッタ作製した。さらに、その上に上部の保護層4を下地
保護層2と同様な方法で300Å作製した。最後に、A
l ターゲットから500Åの金属反射膜5を作製し、4
層積層のディスク構成のサンプルディスクを作製した。
成膜後、真空室から取りだし、アクリル系のUV樹脂を
スピナーで塗布し、その後、UV光を照射して硬化させ
た。そのUV硬化樹脂層6の厚みは約10μmである。
このように作製したサンプルディスクをもう一度、真空
チャンバーにセットし、表1のサンプルに示すような表
面コート層8を種々の材料と膜厚とで作製した。
る。まず、基板1は、φ86mmのポリカボネート(P
C)基板であり、この基板1の上に、まず、スパッタリ
ングでSi ターゲットのN2 反応性スパッタリングでS
iN の下地保護層2を900Å作製した。次いで、真空
を維持したまま、次のスタッパチャンバーに移し、Si
N上に磁性層3のTb12Oy12Fe70Co6 を200Åスパ
ッタ作製した。さらに、その上に上部の保護層4を下地
保護層2と同様な方法で300Å作製した。最後に、A
l ターゲットから500Åの金属反射膜5を作製し、4
層積層のディスク構成のサンプルディスクを作製した。
成膜後、真空室から取りだし、アクリル系のUV樹脂を
スピナーで塗布し、その後、UV光を照射して硬化させ
た。そのUV硬化樹脂層6の厚みは約10μmである。
このように作製したサンプルディスクをもう一度、真空
チャンバーにセットし、表1のサンプルに示すような表
面コート層8を種々の材料と膜厚とで作製した。
【0015】
【表1】
【0016】表面コート層8のサンプル例を以下に説明
する。表面コート層8として、サンプル1〜サンプル7
に示すように、In2O3、SiN、SiO、無機フィラー
添加樹脂膜は、PCよりなる基板1の屈折率n0=1.5
8より小さい材料としてMgF2、さらにIn2O3、SiN
の膜厚の比較的厚い場合も比較例として効果の程度を確
認した。サンプル作製時に表面反射率R0 を各々で求め
るためブランクの基板1上に併せて表面コート層8を設
け、分光光度計で予め反射率を測定した。しかして、図
1のディスク構成において、表面コート層8の効果を調
べた。サンプルの表面反射率R0 、デスクミラー反射
率、立上り感度Pth、C/N max、及びその時の最適記
録パワーPwを示す。
する。表面コート層8として、サンプル1〜サンプル7
に示すように、In2O3、SiN、SiO、無機フィラー
添加樹脂膜は、PCよりなる基板1の屈折率n0=1.5
8より小さい材料としてMgF2、さらにIn2O3、SiN
の膜厚の比較的厚い場合も比較例として効果の程度を確
認した。サンプル作製時に表面反射率R0 を各々で求め
るためブランクの基板1上に併せて表面コート層8を設
け、分光光度計で予め反射率を測定した。しかして、図
1のディスク構成において、表面コート層8の効果を調
べた。サンプルの表面反射率R0 、デスクミラー反射
率、立上り感度Pth、C/N max、及びその時の最適記
録パワーPwを示す。
【0017】ここで、さらに再生リードパワーマージン
(ΔPr)を評価した、この再生リードパワーマージン
(ΔPr)を説明する。図3は横軸に再生リードパワ
ー、縦軸にノイズ(N)レベルを示す、リードパワー
(Pr)が大きくなったときに、記録マークが消去され
始めるとノイズが上昇する。所定のNレベルを設け、そ
れを再生リードパワーマージン(ΔPr)とした。表2
にサンプルの特性表を示す。
(ΔPr)を評価した、この再生リードパワーマージン
(ΔPr)を説明する。図3は横軸に再生リードパワ
ー、縦軸にノイズ(N)レベルを示す、リードパワー
(Pr)が大きくなったときに、記録マークが消去され
始めるとノイズが上昇する。所定のNレベルを設け、そ
れを再生リードパワーマージン(ΔPr)とした。表2
にサンプルの特性表を示す。
【0018】
【表2】
【0019】表2において、表面反射率R0 は基板1上
に表面コート層8のみを膜厚の項で示す厚さに作製し、
分光光度計で測定したものである。サンプル1〜7は、
サンプル11の表面コート層なしと比較すると、最適記
録パワーPwとC/N maxは同等で変化しないものの立
上り感度Pthが11で2.0 mWであったものが高パワ
ー側へシフトし、その結果、再生リードパワーマージン
ΔPrが広くなっている。これらのサンプル1〜7の材
料は、基板1の屈折率n0 より大きいものである。サン
プル8は、MgF2で基板1の屈折率n0 より小さい場合
であるが、表面反射が減っている分だけ光が有効に利用
され、立上り感度Pthが1.5mW と表面コート層なし
の状態よりかえって高感度となっている。また、サンプ
ル9,10は、サンプル1〜7よりも膜厚が厚くなって
いるが、その分、表面反射率R0が大きくなってミラー
反射率が小さくなると同時に立上り感度Pthシフトや最
適記録パワーPwが高パワー側にシフトし過ぎ、高感度
化した効果が失われている。
に表面コート層8のみを膜厚の項で示す厚さに作製し、
分光光度計で測定したものである。サンプル1〜7は、
サンプル11の表面コート層なしと比較すると、最適記
録パワーPwとC/N maxは同等で変化しないものの立
上り感度Pthが11で2.0 mWであったものが高パワ
ー側へシフトし、その結果、再生リードパワーマージン
ΔPrが広くなっている。これらのサンプル1〜7の材
料は、基板1の屈折率n0 より大きいものである。サン
プル8は、MgF2で基板1の屈折率n0 より小さい場合
であるが、表面反射が減っている分だけ光が有効に利用
され、立上り感度Pthが1.5mW と表面コート層なし
の状態よりかえって高感度となっている。また、サンプ
ル9,10は、サンプル1〜7よりも膜厚が厚くなって
いるが、その分、表面反射率R0が大きくなってミラー
反射率が小さくなると同時に立上り感度Pthシフトや最
適記録パワーPwが高パワー側にシフトし過ぎ、高感度
化した効果が失われている。
【0020】このように、表面反射率R0 をコントロー
ルすることによって再生リードパワーマージンΔPrが
広げられると同時に高感度化がそのまま維持できる。さ
らなる効果として、表面コート層8は表面キズやホコリ
等を防止する効果があり、光ディスクの信頼性も確保で
きるものである。
ルすることによって再生リードパワーマージンΔPrが
広げられると同時に高感度化がそのまま維持できる。さ
らなる効果として、表面コート層8は表面キズやホコリ
等を防止する効果があり、光ディスクの信頼性も確保で
きるものである。
【0021】
【発明の効果】本発明は上述のように、少なくとも基板
の一面に光再生面が形成された光ディスクにおいて、前
記光再生面側に表面コート層を形成し、この表面コート
層の屈折率nと前記基板の屈折率n0 とが n>n0 なる関係を満たす表面コート層であるようにするか、或
いは、少なくとも基板の一面に光再生面が形成された光
ディスクにおいて、前記光再生面側に表面コート層を形
成し、この表面コート層側の表面反射率R0 が 5%<R0<18% であるようにしたので、レーザ光が入射される基板の光
再生面に表面コート層を形成し、その表面コート層の屈
曲率を基板の屈曲率より大きくすることで結局は表面反
射率をコントロールし、これにより、最適記録パワーP
wの高感度化を図った時に立上り感度Pthのシフトを抑
え、再生パワーマージンを実施上、支障がないようにマ
ージンを広げられるようにし、かつ、高感度化がそのま
ま維持されるとともに表面のキズの発生等も防止できて
光ディスクの信頼性を高め得る等の効果を有する。
の一面に光再生面が形成された光ディスクにおいて、前
記光再生面側に表面コート層を形成し、この表面コート
層の屈折率nと前記基板の屈折率n0 とが n>n0 なる関係を満たす表面コート層であるようにするか、或
いは、少なくとも基板の一面に光再生面が形成された光
ディスクにおいて、前記光再生面側に表面コート層を形
成し、この表面コート層側の表面反射率R0 が 5%<R0<18% であるようにしたので、レーザ光が入射される基板の光
再生面に表面コート層を形成し、その表面コート層の屈
曲率を基板の屈曲率より大きくすることで結局は表面反
射率をコントロールし、これにより、最適記録パワーP
wの高感度化を図った時に立上り感度Pthのシフトを抑
え、再生パワーマージンを実施上、支障がないようにマ
ージンを広げられるようにし、かつ、高感度化がそのま
ま維持されるとともに表面のキズの発生等も防止できて
光ディスクの信頼性を高め得る等の効果を有する。
【図1】本発明の一実施例を示すサンプルの断面図であ
る。
る。
【図2】記録レーザパワーとC/N比との関係を示す特
性図である。
性図である。
【図3】高速対応光磁気ディスクと通常の光磁気ディス
クとの記録サンプルパワーとC/N比との関係を示す特
性図である。
クとの記録サンプルパワーとC/N比との関係を示す特
性図である。
【図4】再生パワーとノイズレベルとの関係を示す特性
図である。
図である。
1 基板 7 光再生面 8 表面コート層
Claims (2)
- 【請求項1】 少なくとも基板の一面に光再生面が形成
された光ディスクにおいて、前記光再生面側に表面コー
ト層を形成し、この表面コート層の屈折率nと前記基板
の屈折率n0 とが n>n0 なる関係を満たす表面コート層であることを特徴とする
光ディスク。 - 【請求項2】 少なくとも基板の一面に光再生面が形成
された光ディスクにおいて、前記光再生面側に表面コー
ト層を形成し、この表面コート層側の表面反射率R0 が 5%<R0<18% であることを特徴とする光ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4014463A JPH05210882A (ja) | 1992-01-30 | 1992-01-30 | 光ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4014463A JPH05210882A (ja) | 1992-01-30 | 1992-01-30 | 光ディスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05210882A true JPH05210882A (ja) | 1993-08-20 |
Family
ID=11861752
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4014463A Pending JPH05210882A (ja) | 1992-01-30 | 1992-01-30 | 光ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05210882A (ja) |
-
1992
- 1992-01-30 JP JP4014463A patent/JPH05210882A/ja active Pending
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