JPH0521140B2 - - Google Patents

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JPH0521140B2
JPH0521140B2 JP19119384A JP19119384A JPH0521140B2 JP H0521140 B2 JPH0521140 B2 JP H0521140B2 JP 19119384 A JP19119384 A JP 19119384A JP 19119384 A JP19119384 A JP 19119384A JP H0521140 B2 JPH0521140 B2 JP H0521140B2
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Japan
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carbon atoms
polymer
reaction
carried out
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Shiro Konotsune
Hiromi Azuma
Masaki Wada
Kazuyuki Tsuji
Hiroshi Maehara
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Chisso Corp
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  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

「産業上の利用分野」 本発明は新規な含けい素ポリマーに関するもの
である。更に詳しくは耐熱性、塗膜性、透明性な
どの高性能を有し電子材料として有用な含けい素
ポリマーに関する。 「従来の技術」 従来電子材料分野で耐熱絶縁材料としてシリ
カ、ポリイミドなどが使用されているが、加工性
や性能などの面で必ずしも満足のいく材料とは云
えない。そこで、本発明者らはポリシロキサンを
主体とする耐熱絶縁油、シリカ(SiO2)に見ら
れるように耐熱絶縁性をもつシロキサン結合を含
むポリマーに着目した。これらのポリマーの性状
に関しては、前者は油状ないし低融点の材料で固
体の耐熱絶縁材として使用し難く、一方、後者は
絶縁膜などの形成にはCVD(Chemical Vapour
Deposition)法などによらねばならずこの方法は
ガス反応によるもので生産性が低い。そこで、こ
れらの問題を解決する方向としてシロキサン結合
含有のラダーポリマーに着目した。ラダーポリマ
ーは、ポリマーの溶解性、耐熱性などを改良する
一つの方法であることが知られている。 しかし、シロキサン結合含有のラダーポリマー
として、一般式 のような全シロキサンラダーポリマーが発表され
ている(特開56−49540号)が、合成法が難しく、
また塗膜に亀裂が生じ易いなどの問題があり未だ
実用化されていない。 また一般式 のような含シロキサンラダーポリマーも発表され
ている(米国特許第3485857号明細書)が、分子
量が低く塗膜に亀裂が入り易いなど塗膜性に問題
がある。 「発明が解決しようとする問題点」 本発明の目的は、これら含けい素ラダーポリマ
ーの欠点を改善し、溶媒溶解性をもち、かつ耐熱
絶縁性及び塗膜性のすぐれた新規な含けい素ポリ
マーを提供することである。 「問題点を解決するための手段」 本発明は、 下記一般式()で表わされる単位 および下記一般式()で表わされる単位 を含む下記一般式()で表わされる繰り返し高
分子鎖 が、下記一般式()で表わされる単位 により結合されてなり、ゲルパーミエイシヨンク
ロマトグラフ法により測定される重量平均分子量
が3.0×103〜6.5×105の範囲にある(上記各式中、
R1は炭化水素基又は弗素置換炭化水素基であり、
R2は水素又はトリアルキルシロキシ基、R3とR4
は互に同一又は異なることのある炭化水素基又弗
素置換炭化水素基であり、R5とR6は水素又はビ
ニル重合開始剤の炭化水素残基であり、(r+
s):tは(5〜100):1、pは1〜5かつ(r
+s+t):pは(5〜100):1の範囲にある)
ことを特徴とするけい素含有ステツプラダーポリ
マー及びその製造法である。 前記R1の炭素原子数は1〜10が好ましい。R1
は更に好ましくは炭素原子数1〜4のアルキル基
もしくは弗素置換アルキル基又はフエニル基であ
る。R1の炭素原子数が大きくなると、本発明の
シリコーン含有ステツプラダーポリマーの耐熱性
が低下してくるし、また、該ポリマーの合成反応
において立体障害を現わすので好ましくない。但
しフエニル基のように芳香族系の炭化水素は耐熱
性を低下させる傾向が小さい。 前記R2は、これがトリアルキルシリル基であ
るときはそのアルキル基の炭素原子数は1〜10が
好ましく、更に好ましくは1〜4である。この炭
素原子数が大きい程本発明に係るけい素含有ステ
ツプラダーポリマー合成反応におけるシラノール
基(Si−OH)のトリアルキルシリル化反応の速
度が低下し、また耐熱性を低下させるので好まし
くない。 前記R3及びR4の炭素原子数は1〜10が好まし
い。R3及びR4は更に好ましくは炭素原子数1〜
4のアルキル基もしくは弗素置換アルキル基又は
フエニル基である。R3及びR4の炭素原子数が大
きくなると、本発明のけい素含有ステツプラダー
ポリマーの耐熱性が低下してくるし、また該ポリ
マーの合成反応において立体障害を現わすので好
ましくない。但しフエニル基のように芳香族系の
炭化水素は耐熱性を低下させる傾向が小さい。 前記単位()/単位()の比率が5より小
さいと本発明のけい素含有ステツプラダーポリマ
ーの耐熱性が低く好ましくない。この比率が100
を越えると本発明のステツプラダーポリマーの接
着機能が低下し、好ましくない。 前記単位()と単位()の合計量対単位
()の量(モル比)が5より小さいと本発明の
けい素含有ステツプラダーポリマーの耐熱性が悪
くなり、一方100より大きい場合ステツプラダー
ポリマーの合成が困難である。 単位()及び単位()から選ばれた単位か
ら構成されるラダー構造の単位連鎖は該単位
()及び()の5ないし100個からなつている
のが好ましい。5個より小さいと本発明のけい素
含有ステツプラダーポリマーの耐熱性が悪くな
り、一方100個より大きい連鎖は合成が困難であ
る。本発明のステツプラダーポリマーは、前記単
位連鎖が単位()又はその5以下の連鎖によつ
て結合し高分子化されたものであることが好まし
い。単位()の連鎖はなるべく短い方が好まし
い。5を越えると本発明のステツプラダーポリマ
ーの耐熱性が低下し好ましくない。 本発明のステツプラダーポリマーの分子量は
GPC(ゲルパーミエイシヨンクロマトグラフ)法
による測定で重量平均分子量が3.0×103ないし6.5
×105であることが好ましい。この分子量が3.0×
103より小さいと本発明ステツプラダーポリマー
の膜にきれつが入り易く、一方6.5×105より大き
いと塗膜性が悪くなり作業性が悪くなり、好まし
くない。本発明のステツプラダーポリマーの分子
量分布(重量平均分子量/数平均分子量)は2.5
以上であることが好しい。2.5より小さいと本発
明のステツプラダーポリマーの塗膜性が低く、膜
にきれつが入り易くなるからである。 本発明のけい素含有ステツプラダーポリマーは
1,5−ジシルピラン環連鎖個有の赤外吸収スペ
クトルを波数960cm-1の位置に示す。又それは前
記単位()のシロキサン結合個有の赤外吸収ス
ペクトルが1020〜1090cm-1の波数領域に存在す
る。波数960cm-1に対する波数1080の吸光度比
(A1080/A960)は0.05〜0.3であるのが好まし
い。該吸光度比は0.05より小さいと単位()に
よる高分子化が不充分であり、一方0.3より大き
いとラダー構造の分率が小さくなり、本発明ステ
ツプラダーポリマーの耐熱性が低下し好ましくな
い。 本発明のけい素含有ステツプラダーポリマーは
典型的には次のような構造を持つ。 A−Z〔―B−Z―〕oA′ ここにAは次のような構造を持つ。 ここにR5及びR6は水素又はビニル重合開始剤
の炭化水素残基であり、一方が水素のときは一方
が前記炭化水素残基であり;r≧1、s≧1、r
+s+t=4〜99、tは整数でt/(r+s)=
0.01〜0.2である。 A′は次のような構造を持つ。 ここにR5、R6、r、t及びsは前記と同じ意
味を持つ。 Bは次のような構造を持つ。 ここにR5、R6、r、t及びsは前記と同じ意
味を持つ。 Zは次のような構造を持つ。 ここにpは1から5までの整数である。 前記nは約0〜1300である。 上記例は典形的な例であるが、まれにBが、特
にこれが重合度6以下のような短鎖の場合、Zの
代用をすることがある。またBが2つつながつた
ものが上記Zを介して他のBにつながつている場
合もある。 本発明“ステツプ”ラダーポリマーなる名称は
前記単位()のくり返しにより形成されるラダ
ー構造を主とする単位連鎖A,A′及びBが−O
−SiR3R4−O−又は−O−をステツプとして連
結されていることに由来する。 本発明のけい素含有ステツプラダーポリマーを
製造するには、先ず一般式CH2=CHSiR1X2(こ
こにR1は上記のものと同じ意味を表わし、Xは
炭素原子数4以下のアルキルから構成されるジア
ルキルアミノ基、塩素、臭素、よう素、炭素原子
数7以下のアルコキシ基又は炭素原子数7以下の
チオアルコキシ基を表わす。)で表わされるビニ
ルシラン誘導体を触媒を用いてビニル重合するこ
とにより、一般式 で表わされるポリビニルシランプレポリマー(こ
こにR1及びXは上記のものと同じ意味を表わし、
R5及びR6は水素又はビニル重合開始剤の炭化水
素残基を表わし、mは5〜100の整数を表わす。)
を製造する。 前記ビニルシラン誘導体CH2=CHSiR1X2のビ
ニル重合は置換基Xの種類によりラジカル重合及
びイオン重合などが選択される。例えばXがジア
ルキルアミノ基の場合にはアルキルリチウム、ア
ルキルアルミニウムなどの有機金属を触媒とする
アニオン重合が可能であり、またXがアルコキシ
基、ハロゲン基、又はチオアルコキシ基の場合に
はアゾビスイソブチロニトリル等のアゾニトリ
ル、ベンゾイルパーオキサイド、ラウロイルパー
オキサイド等の過酸化物、その他ジカーボネート
触媒などのラジカル重合触媒を使用するラジカル
重合が可能である。 前記Xがジアルキルアミノ基であるビニルシラ
ン誘導体のアニオン重合は、例えばn−ヘキサ
ン、n−ヘプタン、n−オクタン等の脂肪族炭化
水素又はベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香
族炭化水素中で、n−ブチルリチウムのn−ヘキ
サン溶液やジエチルアルミニウムクロライドのn
−ヘキサン溶液などの触媒を必要量添加し、比較
的低温で実施される。この重合温度は、通常、−
10〜90℃好ましくは−5〜50℃が採用される。 前記Xがハロゲン基、アルコキシ基又はチオア
ルコキシ基であるビニルシラン誘導体のラジカル
重合は、例えばトルエン、キシレン等の炭化水素
溶媒中又は無溶媒で前記ラジカル重合触媒を用い
て、通常50〜200℃好ましくは80〜150℃の温度で
実施することができる。 これらのビニル重合方法自体に関してはすでに
多くの文献が存在し、本発明におけるビニル重合
はその公知方法を適用することができ、特に上記
の方法に限定されない。 次にこのビニル重合体(プレポリマー)をステ
ツプラダーポリマーにする。 その方法の1つは、前記ビニル重合体()に
おけるXが前記アルキルアミノ基、塩素、臭素又
はよう素である場合、これらのXを予めR7COO
−(ここにR7は炭素原子数4以下のアルキル基を
表わす。)で表わされるアシロキシ基で置換し、
次いで化学量論量(Siに対する)の水により、プ
レポリマーの分子内加水分解縮合と、プレポリマ
ーとステツプ剤としての一般式R3R4Si
(OCOR72(ここにR3、R4及びR7は上に述べたも
のと同じものを表わす。)との加水分解縮合を行
なわせることである。 前記プレポリマー()のアシロキシ化は、該
プレポリマーの官能基Xがジアルキルアミノ基で
ある場合、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの
不活性芳香族炭化水素溶媒中で、該ポリマーに、
一般式R7COOH(ここにR7は上記のものと同じも
のを表わす。)で示される有機酸を加えて反応さ
せる。この場合の反応温度は、−5〜70℃好まし
くは10〜50℃を採用することができる。該酸の量
は、前記プレポリマーのSiに対して3〜5モル
倍、好ましくは4〜4.5モル倍を採用することが
できる。 前記プレポリマーの官能基Xがハロゲン基であ
る場合は、ベンゼン、トルエン、キシレン等の不
活性芳香族炭化水素溶媒中で、該ポリマーに、一
般式(R7CO)2O(ここにR7は上記のものと同じも
のを表わす。)で表わされる酸無水物を加えて、
生成する有機酸ハロゲノイドを留去しながらアシ
ロキシ化反応を行なう。この場合の反応温度は、
20〜150℃、好ましくは40〜120℃を採用すること
ができる。該酸無水物の量は、前記プレポリマー
のSiに対して1.5〜2.5モル倍、好ましくは2〜2.3
モル倍を採用することができる。 アシロキシ化されたプレポリマーは、目的とす
るラダー構造(単位()のくり返し構造)を優
先的に形成させる目的から、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の不活性芳香族炭化水素溶媒中
で、比較的低いポリマー濃度、例えば1〜30重量
%好ましくは3〜15重量%の濃度で、加水分解縮
合が実施される。本発明のステツプラダーポリマ
ーを得るために、加水分解縮合反応は、(1)アシロ
キシ化されたプレポリマーをステツプ剤R3R4Si
(OCOR72の共存下に加水分解縮合する方法、ま
たは(2)プレポリマーの分子内加水分解縮合を行つ
た後ステツプ剤R3R4Si(OCOR7)を添加し加水
分解縮合反応を行なう方法のいずれかで実施され
る。いずれの方法においても加水分解縮合反応
は、反応に関与するSiに対し等モルないし100モ
ルの水を加えて実施することができる。この反応
をより温和に、かつ目的とするラダー構造を優先
的に形成させるために、加える水はSiに対し等モ
ルないし10モル好ましくは等モルないし3モルの
量であるのがよい。この水は適当な触媒の存在下
又は非存在下に徐々に滴下し反応させるのがよ
い。ここで適当な触媒しては、塩酸、硫酸などの
無機酸、酢酸などの有機酸及び水酸化ナトリウ
ム、アミンなどの塩基を例示することができる。
この加水分解縮合反応は、比較的温和な条件で、
例えば−5〜80℃好ましくは20〜60℃で行なわれ
る。 前記ビニル重合体(プレポリマー)をステツプ
ラダーポリマーにする他の方法は、該ビニル重合
体()におけるXが前記アルコキシ基又はチオ
アルコキシ基である場合、ステツプ剤としての
R3R4SiY2(ここにR3及びR4は前記のものと同じ
ものを表わし、Yは炭素原子数2〜5のアシロキ
シ基、炭素原子数1〜4のアルコキシ基又は炭素
原子数1〜4のチオアルコキシ基を表わす。)で
表わされる化合物の存在下に前記ビニル重合体を
一般式(R7CO)2Oで表わされる酸無水物と反応
させる方法である。 この場合の反応温度として30〜170℃、好まし
くは50〜130℃、更に好ましくは50〜200mmHgの
減圧下に50〜90℃を採用することができる。前記
酸無水物の量は、前記ビニル重合体及びステツプ
剤(このYがアルコキシ基又はチオアルコキシ基
の場合)のSiに対し1〜3モル倍、好ましくは
1.2〜2モル倍を採用することができる。 この反応の間、生成する酢酸エステルを溜去し
ながら、この反応を行わせるのがよい。 この反応において、前記ビニル重合体のXの一
部がアシロキシ基と置換され、このアシロキシ基
と未置換アルコキシ基等との間に脱エステル化反
応が起こつてすでに目的とするラダー構造の少な
くとも相当部分が形成されている。この反応の後
に水を加えて加水分解又は加水分解縮合及び加水
分解を行なつてもよいが、前記生成ポリマーに残
留しているアシル基を除いて該ポリマーを安定化
させるための補助反応又は目的とするラダー構造
の完成と前記安定化のための反応としての意味を
持つことになる。この場合の加水分解又は加水分
解縮合の反応温度は比較的温和な条件で、例えば
−5〜80℃好ましくは20〜60℃で行なうことがで
きる。加える水の量は前記ビニル重合体のSiに対
し等モル以下が好ましい。この水の量が多過ぎる
とポリマーの架橋が起こるおそれがあり好ましく
ない。 前記プレポリマーをステツプラダーポリマーに
するいずれの方法においても、それらの方法にお
いて採用される加水分解縮合反応は、前記のよう
に比較的低温で実施されるが、反応をより進行さ
せ高分子化する目的で、生成反応液を50〜150℃
好ましくは70〜120℃に加熱し、0.5〜5時間熟成
させてもよい。 このようにして合成されたけい素含有ステツプ
ラダーポリマーはポリマーはポリマーの立体構造
および反応条件に起因する少量のシラノール基
(Si−OH)を含有している。このため、ポリマ
ー溶液を濃縮したり、又は長期間保存する場合、
ポリマー鎖間の架橋を生じ、ゲル化現象が起こる
場合がある。この現象を抑制し、生成ポリマーを
安定化するために一般式R8 3Si−NH−SiR8 3で表
わされるヘキサアルキルシラザン又は一般式
R8 3Si−OCOR9で表わされるトリアルキルアシロ
キシシラン(ここにR8は炭素原子数1〜10のア
ルキル基を表わし、R9は炭素原子数1〜4のア
ルキル基を表わす。)などのシリル化剤を添加反
応させることもできる。この反応によつて前記シ
ラノール基の水酸基がトリアルキルシロキシ基に
置き代わつた形となつてポリマーが安定化され
る。このシリル化反応自体は一般のポリシロキサ
ン又は有機けい素化合物の反応においてよく知ら
れている方法であり、本発明に公知の方法が適用
でき、本発明において特別の方法に限定されるも
のではない。 一方、本発明によるけい素含有ステツプラダー
ポリマーは用途の1つとして電子材料用絶縁ワニ
スがあり、この場合には接着機能が必要であり、
シラノール基(SiOH)のある程度の存在が望ま
しい。この場合は、前記安定化の反応は目的に応
じて条件を調整し、生成ポリマーのシラノール基
含有量を〔OH〕:〔Si〕のモル比の値として
0.0005〜0.25に制御するのが好ましい。 本発明に係るポリマーはn−ヘキサン、n−ヘ
プタンなどの脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエ
ンなどの芳香族炭化水素、プロピルアセテート、
エチルアセテートなどのエステル類をはじめ多く
の溶媒に可溶であり、使用目的に応じて溶媒の選
択が可能である。 「発明の効果」 次に本発明のポリマーの性質および用途につい
て述べる。このポリマーは前記のように溶媒に易
溶性であり、塗膜性が良好である。また塗膜の熱
硬化処理温度が150〜200℃で良く膜に亀裂の発生
がなく、熱分解開始温度が300℃であり、490℃ま
で加熱したときの重量減少も15%以下という良好
な耐熱性を示す。さらにこのポリマーは無色であ
る。これらの特性は一般に使用される耐熱絶縁ポ
リマーとして代表的なポリイミド樹脂に比して作
業性(生産性)および性能において優位な点が多
い。この様な優位性から、本発明に係わるポリマ
ーは液晶表示セルの液晶配向膜、カラーフイルタ
ーの絶縁保護膜、電線コート剤などの電気、電子
機器の化学材料として広く用いることが出来る。 「実施例」 以下実施例によつて本発明を詳細に説明する。 実施例 1 (1) プレポリマーの合成: 窒素置換された300ml3つ口フラスコにメチ
ル・ビニルビス(ジメチルアミノ)シラン50gお
よびn−ヘキサン80mlを入れ、窒素気流中室温に
て11mmolのn−ブチルリチウムをn−ヘキサン
溶液の状態で添加し撹拌下に重合を行つた。40℃
の温度で3時間重合反応を行つたのち、反応溶液
をメタノール中に滴下しポリマーを沈殿させた。
このポリマーをメタノーールによる洗滌・過を
3〜4回繰り返し実施したのち真空乾燥した。得
られたポリマーは23.3gでGPC(ゲル・パーミエ
ーシヨン・クロマトグラフイー)法による分子量
測定から平均重合度は12.5であつた。 (2) ステツプラダーポリマーの合成 窒素置換された500ml3つ口フラスコ中で300ml
のトルエンに(1)で得られたプレポリマー20gを投
入し、溶解した。溶解後窒素気流中撹拌下に氷酢
酸30mlを室温で滴下反応せしめた。1時間反応し
たのち、ジメチル・ジ・アセトキシシランの1.5
gを添加し15分間撹拌を継続し、ついで2.5mlの
水を10分間にわたり滴下反応し、室温で1時間撹
拌下に反応を継続した。反応後、生成溶液を分液
ロートに移しジエチルエーテルを200ml加えた後、
水を添加し振盪法により水洗し水層を分離した。
この水洗操作を3回繰り返した後、有機層を分離
し無水炭酸カリを投入し一夜乾燥した。炭酸カリ
を別した後、溶液をフラスコに移し、湯溶によ
り加熱しエーテルを留去した。残つた溶液を75〜
80℃に加熱し減圧下にトルエンを留去し溶液を濃
縮した。約10%のポリマー溶液になるまで濃縮し
た。 この溶液の一部を採取し、赤外吸収スペクトル
分析およびGPC法による分子量測定に供した。
赤外吸収スペクトル分析はKBr板に溶液を塗布
し70℃にて乾燥した後測定した。得られた吸収ス
ペクトルは図1に示したようにラダー構造(単位
()のくり返し構造)を構成するシロキサン結
合の特性吸収スペクトルを960cm-1に、またステ
ツプ結合(単位())を構成するシロキサン結
合による吸収スペクトルを1020および1080cm-1
示した。このスペクトルの吸光度比すなわち
A1080/A960の値は0.1であつた。また分子量測
定の結果から重量平均分子量は1.7×104で、15ケ
のプレポリマーの加水分解縮合物から成るステツ
プラダーポリマーが生成している。さらに赤外吸
収スペクトル測定の結果シラノール基(Si−
OH)の存在が見られたが、この量は、G.E.
KELLUMらの方法(Anal.Chem.391623(1967))
による分析により〔OH〕/〔Si〕の比が0.1であ
つた。 実施例 2 (1) プレポリマー合成 n−ブチルリチウム触媒の使用量を10mmolお
よび23mmolに変更した以外は、実施例1と同様
にして重合し、重合度の異なる2種のポリマーを
得た。GPC測定から平均重合度は各々13.9および
6.6であつた。 (2) ステツプラダーポリマーの合成 (1)で得られた重合度13.9のプレポリマーを15g
および重合度6.6のポリマーを5g使用し、ジエ
チルジアセトキシシランの使用量を2.0gにした
以外は実施例1と同様にしてラダポリマーを合成
した。測定結果から重量平均分子量は2.5×104
赤外吸収スペクトルの吸光度比A1080/A960は
0.12であつた。 比較例 1 (1) プレポリマーの合成 実施例1と同じ条件で重合を行なつた。得られ
たプレポリマーの平均重合度は11.8であつた。 (2) ラダーポリマーの合成 (1)で得られたプレポリマー15gを230mlのトル
エンに溶解し、実施例1と同じ装置および条件で
反応を行つた。氷酢酸を22ml滴下し1時間反応せ
しめたのち、水を1.7mlを滴下反応せしめる。滴
下後1時間撹拌し反応を継続した。 水洗、乾燥および濃縮を実施例1と同様におこ
なつた。分析結果から重量平均分子量1.4×103
あり、赤外吸収スペクトルにおける吸光度比
A1080/A960は0.08であつた。また〔OH〕/
〔Si〕比は0.28であつた。 比較例 2 (1) プレポリマーの合成 メチルビニル・ジエトキシシラン15.0gを窒素
置換したフラスコに入れ、これに0.05gのアゾビ
スイソブチロニトリルをラジカル重合開始剤とし
て加え、油浴中140〜150℃で窒素気流中で6時間
重合した。重合完了後未反応モノマーを真空蒸留
により留去し、13.4gのポリマーを得た。平均重
合度は11.2であつた。 (2) ステツプラダーポリマーの合成 (1)で得られたプレポリマー10.0gに150mlのト
ルエンおよびジメチル・ジエトキシシラン0.5g
を加え容量300mlの三つ口フラスコに移しIN−塩
酸水溶液1.2ml添加し撹拌下50℃で3時間反応せ
しめた。反応液を水洗、分離を3回回繰り返した
のち、トルエン層を分離し無水炭酸カリにより乾
燥した。トルエン溶液を70℃減圧下にトルエンを
留去濃縮する。 生成液を分析した結果GPC法による重量平均
分子量が2300であり、赤外吸収スペクトルはプレ
ポリマーと較べて変化なく、960cm-1の吸収スペ
クトルは見られなかつた。 実施例 3 実施例1と同じ条件にしてステツプラダーポリ
マーを合成した。得られたポリマーは重量平均分
子量が1.6×104で〔OH〕/〔Si〕比は0.12であつ
た。ポリマー溶液をトルエン留去により濃縮し8
重量%の溶液とし、この溶液100mlにヘキサメチ
ルジシラザン(以下HMDと略記する)の0.8gを
添加し、90℃にて撹拌下に1時間反応させた。反
応後80℃にて減圧下にトルエンを留去し溶液を12
重量%まで濃縮した。得られたステツプラダーポ
リマーは重量平均分子量が2.9×104で、分析結果
から〔OH〕/〔Si〕比は0.002であつた。 実施例 4 (1)プレポリマーの合成 ビニル・メチル・ジエトキシシラン70gおよび
アゾビスイソブチロニトリル0.7gを窒素置換さ
れた200ml3つ口フラスコに入れ窒素気流中130℃
で撹拌下に10時間重合反応を実施した。反応終了
後、減圧下に未反応モノマーを留去したところ
59.1gの重合物を得た。 得られたポリマーの分子量はGPC測定結果か
ら4300であつた。 (2) ラダーポリマーの合成 上記プレポリマー50gおよびジメチル・ジエト
キシシラン2.1gを800mlの精製トルエン中に溶解
し窒素置換された蒸留器付き23つ口フラスコ
に充墳し、無水酢酸50gを添加し窒素気流中80℃
で反応せしめる。反応開始後20分経過後、蒸留器
を通して反応槽を120mmHgに減圧し生成する醋酸
エチルを留去しながら3時間反応を継続した。反
応終了後反応槽を30℃に冷却し、ついで4mlの蒸
留水を滴下反応し1時間反応を継続する。反応終
了後、反応液を分液ロートに移し水を加えて水洗
し、有機層を分離する。この水洗操作を3回繰り
返した後、有機層を無水炭酸カリウムにより脱水
乾燥する。 乾燥された有機層を蒸留器に移し、70℃の温度
で減圧下にトルエンを留去し、7%ポリマー溶液
になるまで濃縮した。 得られたポリマーの分子量はGPC法による測
定から重量平均分子量3.5×104、分子量分布は5.7
であつた。 このポリマーの赤外吸収スペクトルからラダー
構造を示す960cm-1の吸収が確認された。 実施例 5 実施例1と同様の方法で得られたステツプラダ
ーポリマーの10重量%トルエン溶液200mlにトリ
メチル・モノアセトキシシラン3.0gを添加し50
℃1時間反応した後、分液ロートに移し水洗、分
離を3回行なう。トルエン層を無水炭酸カリで脱
水乾燥した後70℃減圧下にトルエンを留去濃縮
し、14重量%のポリマー溶液を得た。 分折の結果シラノール残基の量は〔OH〕/
〔Si〕比で0.008であつた。 実施例 6 実施例1,3および比較例1,2で得られたポ
リマーの15重量%溶液をシリコンウエフアーにス
ピン塗布(回転数1000rpm)し170℃で30分間加
熱処理した後、膜の状態および電気特性を調べ
た。また、ポリマー自体の耐熱性を測定した。そ
の結果を次表に示す。
"Industrial Application Field" The present invention relates to a novel silicon-containing polymer. More specifically, the present invention relates to silicon-containing polymers that have high performance properties such as heat resistance, coating properties, and transparency and are useful as electronic materials. "Prior Art" Silica, polyimide, and the like have been used as heat-resistant insulating materials in the field of electronic materials, but these materials are not necessarily satisfactory in terms of processability and performance. Therefore, the present inventors focused on polymers containing siloxane bonds that have heat-resistant insulating properties, as seen in heat-resistant insulating oils mainly composed of polysiloxane, and silica (SiO 2 ). Regarding the properties of these polymers, the former is oily or has a low melting point and is difficult to use as a solid heat-resistant insulating material, while the latter requires chemical vapor deposition (CVD) to form insulating films.
This method uses a gas reaction and has low productivity. Therefore, we focused on ladder polymers containing siloxane bonds as a way to solve these problems. Ladder polymers are known to be one method for improving the solubility, heat resistance, etc. of polymers. However, as a ladder polymer containing siloxane bonds, the general formula All-siloxane ladder polymers such as
In addition, there are problems such as the tendency for cracks to occur in the coating film, so it has not been put into practical use yet. Also general formula A siloxane-containing ladder polymer has also been published (US Pat. No. 3,485,857), but it has problems with coating properties such as a low molecular weight and easy cracking of the coating. ``Problems to be Solved by the Invention'' The purpose of the present invention is to improve the drawbacks of these silicon-containing ladder polymers, and to develop a new silicon-containing ladder polymer that is soluble in solvents and has excellent heat-resistant insulation and coating properties. The purpose of this invention is to provide polymers. "Means for Solving the Problems" The present invention consists of a unit represented by the following general formula () and the unit expressed by the following general formula () A repeating polymer chain represented by the following general formula () containing is the unit expressed by the following general formula () The weight average molecular weight measured by gel permeation chromatography is in the range of 3.0 × 10 3 to 6.5 × 10 5 (in each of the above formulas,
R 1 is a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group,
R 2 is hydrogen or trialkylsiloxy group, R 3 and R 4
are hydrocarbon groups or fluorine-substituted hydrocarbon groups which may be the same or different from each other, R 5 and R 6 are hydrogen or hydrocarbon residues of a vinyl polymerization initiator, and (r+
s):t is (5-100):1, p is 1-5 and (r
+s+t):p is in the range of (5 to 100):1)
The present invention provides a silicon-containing step ladder polymer and a method for producing the same. The number of carbon atoms in R 1 is preferably 1 to 10. R 1
is more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a fluorine-substituted alkyl group, or a phenyl group. If the number of carbon atoms in R 1 becomes large, the heat resistance of the silicone-containing step ladder polymer of the present invention will decrease, and steric hindrance will appear in the synthesis reaction of the polymer, which is not preferable. However, aromatic hydrocarbons such as phenyl groups have little tendency to reduce heat resistance. When R 2 is a trialkylsilyl group, the alkyl group preferably has 1 to 10 carbon atoms, more preferably 1 to 4 carbon atoms. The larger the number of carbon atoms, the lower the rate of the trialkylsilylation reaction of the silanol group (Si-OH) in the silicon-containing Steps Prader polymer synthesis reaction according to the present invention, and the lower the heat resistance, which is not preferable. The number of carbon atoms in R 3 and R 4 is preferably 1 to 10. R 3 and R 4 more preferably have 1 to 1 carbon atoms.
4, a fluorine-substituted alkyl group, or a phenyl group. If the number of carbon atoms in R 3 and R 4 becomes large, the heat resistance of the silicon-containing step ladder polymer of the present invention will decrease, and steric hindrance will appear in the synthesis reaction of the polymer, which is not preferable. However, aromatic hydrocarbons such as phenyl groups have little tendency to reduce heat resistance. If the ratio of unit ()/unit () is less than 5, the heat resistance of the silicon-containing step ladder polymer of the present invention is undesirably low. This ratio is 100
If it exceeds this amount, the adhesive function of the step ladder polymer of the present invention will deteriorate, which is not preferable. If the total amount of the unit () and the unit () (mole ratio) is less than 5, the heat resistance of the silicon-containing Stepladder polymer of the present invention will be poor, while if it is larger than 100, the molar ratio of the unit () will be lower than 5. is difficult to synthesize. Preferably, the unit chain of the ladder structure composed of the unit () and the unit selected from the unit () is composed of 5 to 100 of the units () and (). If the number is less than 5, the heat resistance of the silicon-containing step ladder polymer of the present invention will be poor, while if the number is more than 100, it will be difficult to synthesize. In the step ladder polymer of the present invention, it is preferable that the unit chain is polymerized by bonding with units () or chains of five or less units. It is preferable that the chain of units () be as short as possible. When it exceeds 5, the heat resistance of the step ladder polymer of the present invention decreases, which is not preferable. The molecular weight of the Steps Prader polymer of the present invention is
The weight average molecular weight is 3.0× 103 to 6.5 as measured by GPC (gel permeation chromatography) method.
It is preferably ×10 5 . This molecular weight is 3.0×
If it is smaller than 10 3 , cracks will easily form in the film of the Steps Prader polymer of the present invention, while if it is larger than 6.5×10 5 , the coating properties will be poor and the workability will be poor, which is not preferable. The molecular weight distribution (weight average molecular weight/number average molecular weight) of the Steps Prader polymer of the present invention is 2.5
It is preferable that it is above. This is because if it is smaller than 2.5, the coating properties of the step ladder polymer of the present invention will be low, and cracks will easily occur in the film. The silicon-containing Stepprader polymer of the present invention exhibits an infrared absorption spectrum unique to the 1,5-disylpyran ring chain at a wave number of 960 cm -1 . Further, the infrared absorption spectrum unique to the siloxane bond of the unit () exists in the wave number region of 1020 to 1090 cm -1 . The absorbance ratio of wave number 1080 to wave number 960 cm -1 (A1080/A960) is preferably 0.05 to 0.3. If the absorbance ratio is less than 0.05, the polymerization by units () is insufficient, while if it is more than 0.3, the fraction of the ladder structure becomes small, which is not preferable because the heat resistance of the step ladder polymer of the present invention decreases. The silicon-containing step ladder polymer of the present invention typically has the following structure. A-Z [-B-Z-] o A' Here, A has the following structure. Here, R 5 and R 6 are hydrogen or a hydrocarbon residue of a vinyl polymerization initiator, and when one is hydrogen, one is the hydrocarbon residue; r≧1, s≧1, r
+s+t=4~99, t is an integer and t/(r+s)=
It is 0.01-0.2. A′ has the following structure. Here, R 5 , R 6 , r, t and s have the same meanings as above. B has the following structure. Here, R 5 , R 6 , r, t and s have the same meanings as above. Z has the following structure. Here, p is an integer from 1 to 5. Said n is about 0-1300. The above example is a typical example, but in rare cases, B may be substituted for Z, especially when it is a short chain with a degree of polymerization of 6 or less. Also, there are cases where two B's connected are connected to another B via the Z mentioned above. The name "Step" ladder polymer of the present invention has a ladder structure formed by repeating the above units (), in which the unit chains A, A' and B are -O
This originates from the fact that they are connected using -SiR 3 R 4 -O- or -O- as a step. In order to produce the silicon-containing Steps Prader polymer of the present invention, first, the general formula CH 2 =CHSiR 1 X 2 (where R 1 represents the same meaning as above, and A vinyl silane derivative represented by a dialkylamino group, chlorine, bromine, iodine, an alkoxy group having 7 or less carbon atoms, or a thioalkoxy group having 7 or less carbon atoms, is subjected to vinyl polymerization using a catalyst. According to the general formula A polyvinylsilane prepolymer represented by (where R 1 and X have the same meanings as above,
R 5 and R 6 represent hydrogen or a hydrocarbon residue of the vinyl polymerization initiator, and m represents an integer of 5 to 100. )
Manufacture. For the vinyl polymerization of the vinyl silane derivative CH 2 =CHSiR 1 X 2 , radical polymerization, ionic polymerization, etc. are selected depending on the type of substituent X. For example, when X is a dialkylamino group, anionic polymerization using an organometallic catalyst such as alkyl lithium or alkylaluminum is possible, and when X is an alkoxy group, halogen group, or thioalkoxy group, azobisisomerization is possible. Radical polymerization is possible using radical polymerization catalysts such as azonitrile such as butyronitrile, peroxides such as benzoyl peroxide and lauroyl peroxide, and other dicarbonate catalysts. The anionic polymerization of the vinylsilane derivative in which X is a dialkylamino group is performed, for example, in an aliphatic hydrocarbon such as n-hexane, n-heptane, or n-octane, or an aromatic hydrocarbon such as benzene, toluene, or xylene. n-hexane solution of butyl lithium and n-hexane solution of butyl lithium
- Addition of the required amount of catalyst, such as a hexane solution, and carried out at relatively low temperatures. This polymerization temperature is usually -
A temperature of 10 to 90°C, preferably -5 to 50°C is employed. The radical polymerization of the vinylsilane derivative in which X is a halogen group, an alkoxy group, or a thioalkoxy group is carried out using the radical polymerization catalyst in a hydrocarbon solvent such as toluene or xylene or without a solvent, usually at 50 to 200°C, preferably. It can be carried out at temperatures of 80-150°C. Many documents already exist regarding these vinyl polymerization methods themselves, and the vinyl polymerization in the present invention can be performed by any known method and is not particularly limited to the above-mentioned method. Next, this vinyl polymer (prepolymer) is made into a step ladder polymer. One of the methods is that when X in the vinyl polymer () is the alkylamino group, chlorine, bromine or iodine, these Xs are previously converted to R 7 COO
- (wherein R 7 represents an alkyl group having 4 or less carbon atoms), substituted with an acyloxy group,
The prepolymer is then subjected to intramolecular hydrolytic condensation with a stoichiometric (relative to Si) amount of water and the general formula R 3 R 4 Si as the prepolymer and step agent.
(OCOR 7 ) 2 (wherein R 3 , R 4 and R 7 represent the same as mentioned above). When the functional group X of the prepolymer is a dialkylamino group, the acyloxylation of the prepolymer () is carried out by adding to the polymer in an inert aromatic hydrocarbon solvent such as benzene, toluene, or xylene.
An organic acid represented by the general formula R 7 COOH (where R 7 represents the same as above) is added and reacted. In this case, the reaction temperature can be -5 to 70°C, preferably 10 to 50°C. The amount of the acid can be 3 to 5 times, preferably 4 to 4.5 times by mole, the amount of Si in the prepolymer. When the functional group X of the prepolymer is a halogen group, the polymer has the general formula (R 7 CO) 2 O (wherein R 7 represents the same as above.) Adding the acid anhydride represented by
The acyloxylation reaction is carried out while distilling off the generated organic acid halide. The reaction temperature in this case is
A temperature of 20 to 150°C, preferably 40 to 120°C can be employed. The amount of the acid anhydride is 1.5 to 2.5 times by mole, preferably 2 to 2.3 times the Si of the prepolymer.
Molar times can be adopted. For the purpose of preferentially forming the desired ladder structure (a repeating structure of units ()), acyloxylated prepolymers are used in inert aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, and xylene at a relatively low temperature. The hydrolytic condensation is carried out at a polymer concentration, for example from 1 to 30% by weight, preferably from 3 to 15% by weight. In order to obtain the step ladder polymer of the present invention, the hydrolytic condensation reaction is carried out by (1) converting the acyloxylated prepolymer into a step agent R 3 R 4 Si
(OCOR 7 ) 2 , or (2) after performing intramolecular hydrolytic condensation of the prepolymer, a step agent R 3 R 4 Si (OCOR 7 ) is added to carry out the hydrolytic condensation reaction. It is carried out in any of the following ways. In either method, the hydrolytic condensation reaction can be carried out by adding water in an amount of 1 to 100 moles relative to the Si involved in the reaction. In order to make this reaction more mild and preferentially form the desired ladder structure, the amount of water added is preferably from equimolar to 10 mol, preferably from equimolar to 3 mol, relative to Si. This water is preferably gradually added dropwise to react in the presence or absence of a suitable catalyst. Examples of suitable catalysts include inorganic acids such as hydrochloric acid and sulfuric acid, organic acids such as acetic acid, and bases such as sodium hydroxide and amines.
This hydrolysis condensation reaction is carried out under relatively mild conditions.
For example, the temperature is -5 to 80°C, preferably 20 to 60°C. Another method for converting the vinyl polymer (prepolymer) into a step ladder polymer is when X in the vinyl polymer (prepolymer) is the alkoxy group or thioalkoxy group,
R 3 R 4 SiY 2 (where R 3 and R 4 represent the same as above, Y is an acyloxy group having 2 to 5 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or 1 carbon atom This is a method in which the vinyl polymer is reacted with an acid anhydride represented by the general formula (R 7 CO) 2 O in the presence of a compound represented by (representing a thioalkoxy group of -4). In this case, the reaction temperature can be 30 to 170°C, preferably 50 to 130°C, more preferably 50 to 90°C under a reduced pressure of 50 to 200 mmHg. The amount of the acid anhydride is 1 to 3 times the mole of Si in the vinyl polymer and the stepping agent (if Y is an alkoxy group or a thioalkoxy group), preferably
1.2 to 2 moles can be used. During this reaction, it is preferable to carry out the reaction while distilling off the acetate ester produced. In this reaction, a portion of is formed. After this reaction, water may be added to perform hydrolysis or hydrolytic condensation and hydrolysis, but the purpose is an auxiliary reaction or purpose to stabilize the polymer by removing the acyl groups remaining in the resulting polymer. It has a meaning as a reaction for completing the ladder structure and stabilizing it. In this case, the reaction temperature for hydrolysis or hydrolytic condensation can be relatively mild, for example, from -5 to 80°C, preferably from 20 to 60°C. The amount of water added is preferably equal to or less than the mole of Si in the vinyl polymer. If the amount of water is too large, crosslinking of the polymer may occur, which is not preferable. In any of the methods for converting the prepolymer into a Steps Prader polymer, the hydrolytic condensation reaction employed in those methods is carried out at a relatively low temperature as described above, but it is possible to further advance the reaction and make it into a polymer. For the purpose, the generated reaction solution is heated to 50-150℃.
Preferably, it may be heated to 70 to 120°C and aged for 0.5 to 5 hours. The silicon-containing Stepladder polymer thus synthesized contains a small amount of silanol groups (Si--OH) due to the steric structure of the polymer and the reaction conditions. Therefore, when concentrating the polymer solution or storing it for a long time,
Crosslinking between polymer chains may occur, resulting in a gelation phenomenon. In order to suppress this phenomenon and stabilize the produced polymer, hexaalkylsilazane represented by the general formula R 8 3 Si-NH-SiR 8 3 or the general formula
Trialkylaciloxysilane represented by R 8 3 Si-OCOR 9 (where R 8 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and R 9 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms), etc. It is also possible to add a silylating agent to the reaction. Through this reaction, the hydroxyl group of the silanol group is replaced with a trialkylsiloxy group, thereby stabilizing the polymer. This silylation reaction itself is a well-known method for reactions of general polysiloxanes or organosilicon compounds, and any known method can be applied to the present invention, and the present invention is not limited to any particular method. . On the other hand, one of the uses of the silicon-containing step ladder polymer according to the present invention is as an insulating varnish for electronic materials, and in this case, an adhesive function is required.
Some presence of silanol groups (SiOH) is desirable. In this case, the conditions for the stabilization reaction are adjusted according to the purpose, and the silanol group content of the produced polymer is determined as the value of the molar ratio of [OH]:[Si].
It is preferable to control it to 0.0005 to 0.25. The polymer according to the present invention includes aliphatic hydrocarbons such as n-hexane and n-heptane, aromatic hydrocarbons such as benzene and toluene, propyl acetate,
It is soluble in many solvents including esters such as ethyl acetate, and the solvent can be selected depending on the purpose of use. "Effects of the Invention" Next, the properties and uses of the polymer of the present invention will be described. As mentioned above, this polymer is easily soluble in solvents and has good coating properties. In addition, the coating film can be heat cured at a temperature of 150 to 200°C without cracking, the thermal decomposition starting temperature is 300°C, and the weight loss is less than 15% when heated to 490°C. Show your gender. Furthermore, this polymer is colorless. These properties have many advantages in terms of workability (productivity) and performance over polyimide resins, which are typical heat-resistant insulating polymers that are commonly used. Due to these advantages, the polymer according to the present invention can be widely used as a chemical material for electrical and electronic devices such as liquid crystal alignment films for liquid crystal display cells, insulating protective films for color filters, and wire coating agents. "Examples" The present invention will be explained in detail below using Examples. Example 1 (1) Synthesis of prepolymer: 50 g of methyl vinylbis(dimethylamino)silane and 80 ml of n-hexane were placed in a 300 ml three-necked flask purged with nitrogen, and 11 mmol of n-butyllithium was added at room temperature in a nitrogen stream. It was added in the form of an n-hexane solution and polymerization was carried out with stirring. 40℃
After carrying out the polymerization reaction at a temperature of 3 hours, the reaction solution was dropped into methanol to precipitate the polymer.
This polymer was repeatedly washed and filtered with methanol 3 to 4 times, and then dried in vacuum. The obtained polymer weighed 23.3 g, and the average degree of polymerization was 12.5 as determined by molecular weight measurement using GPC (gel permeation chromatography) method. (2) Synthesis of Steps Prader Polymer 300ml in a 500ml three-necked flask purged with nitrogen
20 g of the prepolymer obtained in (1) was added to toluene and dissolved. After dissolution, 30 ml of glacial acetic acid was added dropwise at room temperature while stirring in a nitrogen stream to react. After reacting for 1 hour, 1.5 of dimethyl diacetoxysilane
After stirring was continued for 15 minutes, 2.5 ml of water was added dropwise over 10 minutes, and the reaction was continued at room temperature for 1 hour with stirring. After the reaction, transfer the resulting solution to a separating funnel and add 200ml of diethyl ether.
Water was added and washed by shaking to separate the aqueous layer.
After repeating this water washing operation three times, the organic layer was separated, anhydrous potassium carbonate was added thereto, and the mixture was dried overnight. After removing the potassium carbonate, the solution was transferred to a flask and heated with hot water to distill off the ether. 75~
The solution was heated to 80°C and the toluene was distilled off under reduced pressure to concentrate the solution. Concentrate to approximately 10% polymer solution. A portion of this solution was collected and subjected to infrared absorption spectrum analysis and molecular weight measurement by GPC method.
Infrared absorption spectrum analysis was performed after applying the solution to a KBr plate and drying it at 70°C. As shown in Figure 1, the obtained absorption spectra show the characteristic absorption spectrum of the siloxane bonds constituting the ladder structure (the repeating structure of units ()) at 960 cm -1 , and the characteristic absorption spectra of the siloxane bonds constituting the step bonds (units ()) at 960 cm -1. The absorption spectra due to bonding are shown at 1020 and 1080 cm -1 . The absorbance ratio of this spectrum is
The value of A1080/A960 was 0.1. Furthermore, the results of molecular weight measurement showed that the weight average molecular weight was 1.7×10 4 , and a step ladder polymer consisting of a hydrolyzed condensate of 15 prepolymers was produced. Furthermore, as a result of infrared absorption spectrum measurement, silanol groups (Si-
Although the presence of OH) was observed, this amount was
KELLUM et al.'s method (Anal.Chem.391623 (1967))
According to analysis, the [OH]/[Si] ratio was 0.1. Example 2 (1) Prepolymer synthesis Polymerization was carried out in the same manner as in Example 1, except that the amount of n-butyllithium catalyst used was changed to 10 mmol and 23 mmol, to obtain two types of polymers with different degrees of polymerization. From GPC measurements, the average degree of polymerization was 13.9 and 13.9, respectively.
It was 6.6. (2) Synthesis of Steps Prader Polymer 15g of the prepolymer with a degree of polymerization of 13.9 obtained in (1)
A RADA polymer was synthesized in the same manner as in Example 1, except that 5 g of a polymer with a polymerization degree of 6.6 was used and the amount of diethyldiacetoxysilane was 2.0 g. From the measurement results, the weight average molecular weight is 2.5×10 4 ,
The absorbance ratio of infrared absorption spectrum A1080/A960 is
It was 0.12. Comparative Example 1 (1) Synthesis of prepolymer Polymerization was carried out under the same conditions as in Example 1. The average degree of polymerization of the obtained prepolymer was 11.8. (2) Synthesis of ladder polymer 15 g of the prepolymer obtained in (1) was dissolved in 230 ml of toluene, and a reaction was carried out using the same equipment and conditions as in Example 1. After 22 ml of glacial acetic acid was added dropwise and reacted for 1 hour, 1.7 ml of water was added dropwise to react. After the dropwise addition, stirring was continued for 1 hour to continue the reaction. Washing with water, drying and concentration were performed in the same manner as in Example 1. The analysis results show that the weight average molecular weight is 1.4× 103 , and the absorbance ratio in the infrared absorption spectrum is
A1080/A960 was 0.08. Also [OH]/
[Si] ratio was 0.28. Comparative Example 2 (1) Synthesis of prepolymer 15.0 g of methylvinyl diethoxysilane was placed in a nitrogen-substituted flask, 0.05 g of azobisisobutyronitrile was added as a radical polymerization initiator, and the mixture was heated in an oil bath at 140~ Polymerization was carried out at 150°C in a nitrogen stream for 6 hours. After the polymerization was completed, unreacted monomers were removed by vacuum distillation to obtain 13.4 g of polymer. The average degree of polymerization was 11.2. (2) Synthesis of Steps Prader Polymer Add 150 ml of toluene and 0.5 g of dimethyl diethoxysilane to 10.0 g of the prepolymer obtained in (1).
The mixture was transferred to a three-necked flask with a capacity of 300 ml, and 1.2 ml of IN-hydrochloric acid aqueous solution was added thereto, followed by reaction at 50° C. for 3 hours with stirring. After the reaction solution was washed with water and separated three times, the toluene layer was separated and dried over anhydrous potassium carbonate. The toluene solution is concentrated under reduced pressure at 70°C to remove toluene. Analysis of the produced liquid showed that the weight average molecular weight by GPC method was 2300, the infrared absorption spectrum was unchanged compared to the prepolymer, and no absorption spectrum at 960 cm -1 was observed. Example 3 A step ladder polymer was synthesized under the same conditions as in Example 1. The obtained polymer had a weight average molecular weight of 1.6×10 4 and an [OH]/[Si] ratio of 0.12. The polymer solution was concentrated by distilling off toluene.
% by weight solution, 0.8 g of hexamethyldisilazane (hereinafter abbreviated as HMD) was added to 100 ml of this solution, and the mixture was reacted at 90° C. for 1 hour with stirring. After the reaction, toluene was distilled off under reduced pressure at 80℃ and the solution was
It was concentrated to % by weight. The obtained Stetsprader polymer had a weight average molecular weight of 2.9×10 4 , and the analysis results showed that the [OH]/[Si] ratio was 0.002. Example 4 (1) Synthesis of prepolymer 70 g of vinyl methyl diethoxysilane and 0.7 g of azobisisobutyronitrile were placed in a 200 ml three-necked flask purged with nitrogen at 130°C in a nitrogen stream.
The polymerization reaction was carried out for 10 hours under stirring. After the reaction was completed, unreacted monomers were distilled off under reduced pressure.
59.1g of polymer was obtained. The molecular weight of the obtained polymer was 4300 as determined by GPC measurement. (2) Synthesis of ladder polymer 50 g of the above prepolymer and 2.1 g of dimethyl diethoxysilane were dissolved in 800 ml of purified toluene, filled in a 23-necked flask equipped with a distiller and purged with nitrogen, and 50 g of acetic anhydride was added. 80℃ in nitrogen stream
Make it react. After 20 minutes had passed from the start of the reaction, the pressure in the reaction tank was reduced to 120 mmHg through a distiller, and the reaction was continued for 3 hours while distilling off the produced ethyl acetate. After the reaction was completed, the reaction vessel was cooled to 30°C, and then 4 ml of distilled water was added dropwise to react, and the reaction was continued for 1 hour. After the reaction is completed, the reaction solution is transferred to a separatory funnel and washed with water to separate the organic layer. After repeating this water washing operation three times, the organic layer is dehydrated and dried with anhydrous potassium carbonate. The dried organic layer was transferred to a distillation vessel, toluene was distilled off under reduced pressure at a temperature of 70°C, and the mixture was concentrated to a 7% polymer solution. The molecular weight of the obtained polymer was measured by GPC method, and the weight average molecular weight was 3.5×10 4 , and the molecular weight distribution was 5.7.
It was hot. The infrared absorption spectrum of this polymer confirmed an absorption at 960 cm -1 indicating a ladder structure. Example 5 3.0 g of trimethyl monoacetoxysilane was added to 200 ml of a 10% by weight toluene solution of Steps Prader polymer obtained in the same manner as in Example 1.
After reacting at ℃ for 1 hour, the mixture was transferred to a separatory funnel, washed with water, and separated three times. The toluene layer was dehydrated and dried over anhydrous potassium carbonate, and the toluene was distilled off and concentrated under reduced pressure at 70°C to obtain a 14% by weight polymer solution. As a result of the analysis, the amount of silanol residues was [OH]/
The [Si] ratio was 0.008. Example 6 A 15% by weight solution of the polymer obtained in Examples 1 and 3 and Comparative Examples 1 and 2 was spin-coated onto a silicon wafer (rotation speed: 1000 rpm) and heated at 170°C for 30 minutes. and the electrical properties were investigated. Additionally, the heat resistance of the polymer itself was measured. The results are shown in the table below.

【表】 これらの結果から本発明によるシリコーン含有
ステツプラダーポリマーは耐熱絶縁膜として好ま
しい性質を有することが確認された。 実施例 7 実施例1のメチル・ビニル・ビス(ジメチルア
ミノ)シランをフエニル・ビニル・ビス(ジメチ
ルアミノ)シラン70gに代えて同様の反応を実施
した。 得られたステツプラダーポリマーを分析した結
果、960cm-1における赤外吸収スペクトルが確認
され、1080cm-1の吸収に対する吸光度比A1080/
A960の値は0.15であり重量平均分子量は2.1×104
分子量分布は3.7であつた。また、シラノール基
(SiOH)は〔OH〕/〔Si〕のモル比の値で0.12
であつた。 実施例 8 実施例1のメチルビニル・ビス(ジメチルアミ
ノ)シランをトリフロロプロピル・ビニル・ビス
(ジメチルアミノ)シラン65gに代えて同様の反
応を実施した。 得られたステツプラダーポリマーを分析した結
果、960cm-1における赤外吸収スペクトルが確認
され、赤外吸収スペクトルの吸光度比A1080/
A960は0.10、重量平均分子量は1.8×104、シラノ
ール基の量は〔OH〕/〔Si〕のモル比で0.15で
あつた。 実施例 9 実施例1のステツプラダー化反応におけるジメ
チル・ジアセトキシシランの代りにメチル・フエ
ニル・ジアセトキシシランを1.7g使用した以外
は実施例1と同様に反応を行つた。 得られたステツプラダーポリマーを分析した結
果、赤外吸収スペクトルからラダー構造を示す
960cm-1における吸収が確認された。GPCによる
分子量測定の結果、重量平均分子量は2.0×104
子量分布は2.7であつた。また、シラノール基含
量は〔OH〕/〔Si〕比の値で0.14であつた。
[Table] From these results, it was confirmed that the silicone-containing step ladder polymer according to the present invention has desirable properties as a heat-resistant insulating film. Example 7 A similar reaction was carried out in Example 1 except that methyl vinyl bis(dimethylamino)silane was replaced with 70 g of phenyl vinyl bis(dimethylamino)silane. As a result of analyzing the obtained Stets Prader polymer, an infrared absorption spectrum at 960 cm -1 was confirmed, and the absorbance ratio to the absorption at 1080 cm -1 was A1080/
The value of A960 is 0.15 and the weight average molecular weight is 2.1×10 4
The molecular weight distribution was 3.7. In addition, the silanol group (SiOH) has a molar ratio of [OH]/[Si] of 0.12.
It was hot. Example 8 A similar reaction was carried out in Example 1 except that methylvinyl bis(dimethylamino)silane was replaced with 65 g of trifluoropropyl vinyl bis(dimethylamino)silane. As a result of analyzing the obtained Steps Prader polymer, an infrared absorption spectrum at 960 cm -1 was confirmed, and the absorbance ratio of the infrared absorption spectrum was A1080/
A960 was 0.10, the weight average molecular weight was 1.8×10 4 , and the amount of silanol groups was 0.15 in the molar ratio of [OH]/[Si]. Example 9 A reaction was carried out in the same manner as in Example 1, except that 1.7 g of methyl phenyl diacetoxysilane was used in place of dimethyl diacetoxysilane in the stepladderization reaction of Example 1. As a result of analyzing the obtained Steps ladder polymer, the infrared absorption spectrum shows a ladder structure.
Absorption at 960 cm -1 was confirmed. As a result of molecular weight measurement by GPC, the weight average molecular weight was 2.0×10 4 molecular weight distribution was 2.7. Further, the silanol group content was 0.14 in terms of [OH]/[Si] ratio.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は実施例1で得られた本発明に係るけい
素含有ステツプラダーポリマーの赤外吸収スペク
トルである。
FIG. 1 is an infrared absorption spectrum of the silicon-containing step ladder polymer according to the present invention obtained in Example 1.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 下記一般式()で表わされる単位 および下記一般式()で表わされる単位 を含む下記一般式()で表わされる繰り返し高
分子鎖 が、下記一般式()で表わされる単位 により結合されてなり、ゲルパーミエイシヨンク
ロマトグラフ法により測定される重量平均分子量
が3.0×103〜6.5×105の範囲にある(上記各式中、
R1は炭化水素基又は弗素置換炭化水素基であり、
R2は水素又はトリアルキルシロキシ基、R3とR4
は互に同一又は異なることのある炭化水素基又は
弗素置換炭化水素基であり、R5とR6は水素又は
ビニル重合開始剤の炭化水素残基であり、(r+
s):tは(5〜100):1、pは1〜5かつ(r
+s+t):pは(5〜100):1の範囲にある)
ことを特徴とするけい素含有ステツプラダーポリ
マー。 2 前記単位()のシロキサン結合個有の赤外
線吸収スペクトルが1020〜1090cm-1の波数領域に
存在し、前記反復単位()の反復により形成さ
れうる環構造すなわち1,3−ジシルプロピレン
の分子内シロキシ縮合により形成される1,5−
ジシルピラン環の個有の波数960cm-1の赤外線吸
収スペクトルを示し、波数1080cm-1の吸収の波数
960cm-1の吸収に対する吸光度比(A1080/
A960)が0.05ないし0.3である特許請求の範囲第
1項に記載のポリマー。 3 前記R1の炭素原子数が1〜10であり;前記
R2が水素又は炭素原子数1〜10のアルキルから
構成されるトリアルキルシリル基であり;前記
R3及びR4の炭素原子数が1〜10であることを特
徴とする特許請求の範囲第1ないし2項のいずれ
かに記載のポリマー。 4 前記R1が炭素原子数1〜4のアルキル基も
しくは弗素置換アルキル基又はフエニル基であ
り;R2が水素又は炭素原子数1〜4のアルキル
から構成されるトリアルキルシリル基であり;
R3及びR4が炭素原子数1〜4のアルキル基もし
くは弗素置換アルキル基又はフエニル基であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第3項に記載のポ
リマー。 5 前記R1がメチル基、トリフロロプロピル基
又はフエニル基であり;R2が水素又はトリメチ
ルシリル基であり;R3及びR4がメチル基又はフ
エニル基であることを特徴とする特許請求の範囲
第4項に記載のポリマー。 6 前記ビニル重合開始剤の炭化水素残基の炭素
原子数が2〜18であることを特徴とする特許請求
の範囲第1項に記載のポリマー。 7 一般式 で表わされるポリビニルシランプレポリマー(こ
こにR1は炭化水素基又は弗素置換炭化水素基で
あり、X1は炭素原子数4以下のアルキルから構
成されるジアルキルアミノ基、塩素、臭素又はよ
う素であり、R5及びR6は水素又はビニル重合開
始剤の炭化水素残基であり、mは5〜100の整数
を表わす。)におけるX1をR7COO−(ここにR7
炭素原子数4以下のアルキル基である。)で表わ
されるアシロキシ基で置換し、次いで化学量論量
(Siに対する)の水により、プレポリマーの分子
内加水分解縮合と、プレポリマーとステツプ剤と
しての一般式R3R4Si(OCOR72(ここにR3及びR4
は炭化水素基又は弗素置換炭化水素基であり、
R3とR4は同一の基であつても異なつた基であつ
てもよく、R7は炭素原子数1〜4のアルキル基
である。)との加水分解縮合を行なわせることを
特徴とするけい素含有ステツプラダーポリマーの
製造方法。 8 前記R1の炭素原子数が1〜10であり;前記
R3及びR4の炭素原子数が1〜10であり;前記ビ
ニル重合開始剤残基の炭素数が2〜18であること
を特徴とする特許請求の範囲第7項に記載の方
法。 9 前記R1が炭素原子数1〜4のアルキル基、
炭素原子数1〜4の弗素置換アルキル基又はフエ
ニル基であり;R3及びR4が炭素原子数1〜4の
アルキル基もしくは弗素置換アルキル基又はフエ
ニル基であることを特徴とする特許請求の範囲第
8項に記載の方法。 10 前記R1がメチル基、トリフロロプロピル
基又はフエニル基であり;R3及びR4がメチル基
又はフエニル基であることを特徴とする特許請求
の範囲第9項に記載の方法。 11 前記R7がメチル基であることを特徴とす
る特許請求の範囲第7ないし10項のいずれかに
記載の方法。 12 前記X1がジアルキルアミノ基であり、前
記アシロキシ化を、不活性芳香族炭化水素溶媒中
で、前記プレポリマーに一般式R7COOH(ここに
R7は前記のものと同じものを表わす。)で表わさ
れる有機酸を加えて反応させることにより、行な
うことを特徴とする特許請求の範囲第7ないし1
1項のいずれかに記載の方法。 13 前記反応を−5〜70℃好ましくは10〜50℃
で行なわせることを特徴とする特許請求の範囲第
12項に記載の方法。 14 前記加える酸の量を、前記プレポリマーの
Siに対して3〜5モル倍、好ましくは4〜4.5モ
ル倍とすることを特徴とする特許請求の範囲第1
2又は13項に記載の方法。 15 前記X1が塩素、臭素又はよう素であり、
前記アシロキシ化を不活性炭化水素溶媒中で、前
記プレポリマーに一般式(R7CO)2O(ここにR7
上記のものと同じものを表わす。)で表わされる
酸無水物を加えて反応させることにより行なうこ
とを特徴とする特許請求の範囲第7項に記載の方
法。 16 前記反応を20〜150℃好ましくは40〜120℃
で行なわせることを特徴とする特許請求の範囲1
5項に記載の方法。 17 前記加える酸無水物の量を、前記プレポリ
マーのSiに対して1.5〜2.5モル倍、好ましくは2
〜2.3モル倍とすることを特徴とする特許請求の
範囲第15又は16項に記載の方法。 18 前記アシロキシ化されたプレポリマーの加
水分解縮合を、不活性芳香族炭化水素溶媒中で、
該アシロキシ化されたプレポリマーの濃度を1〜
30重量%好ましくは3〜15重量%の濃度で行なう
ことを特徴とする特許請求の範囲第7ないし17
項のいずれかに記載の方法。 19 前記加水分解縮合のために、反応に関与す
るSiに対し、等モルないし100モル、好ましくは
等モルないし10モル、更に好ましくは等モルない
し3モルの水を加えて該加水分解縮合を行なうこ
とを特徴とする特許請求の範囲第7ないし18項
のいずれかに記載の方法。 20 前記加水分解を酸又は塩基の存在下に行な
うことを特徴とする特許請求の範囲第19項に記
載の方法。 21 前記加水分解縮合を−5〜80℃好ましくは
20〜60℃の温度下に行なうことを特徴とする特許
請求の範囲第7ないし20項のいずれかに記載の
方法。 22 前記アシロキシ化されたプレポリマーを前
記ステツプ剤R3R4Si(OCOR72の共存下に加水分
解することを特徴とする特許請求の範囲第7ない
し21項のいずれかに記載のけい素含有ステツプ
ラダーポリマーの製造方法。 23 前記アシロキシ化されたプレポリマーの分
子内加水分解縮合を行なつた後、前記ステツプ剤
R3R4Si(OCOR7)を添加し、加水分解縮合を行
なうことを特徴とする特許請求の範囲第7ないし
21項のいずれかに記載のけい素含有ステツプラ
ダーポリマーの製造方法。 24 前記加水分解縮合の反応の後、該反応生成
液を50〜150℃、好ましくは70〜120℃に0.5〜5
時間加熱することを特徴とする特許請求の範囲第
7ないし23項のいずれかに記載の方法。 25 前記加水分解縮合を行なつた後、生成ポリ
マーに一般式R8 2Si−NH−SiR8 3(ここにR8は炭
素原子数1〜10のアルキル基である。)で表わさ
れるヘキサアルキルシラザン又は一般式R8 3Si−
OCOR9(ここにR8は前記のものと同じ意味であ
り、R9は炭素原子数1〜4のアルキル基であ
る。)で表わされるトリアルキルアシロキシシラ
ンを添加反応させることを特徴とする特許請求の
範囲第7ないし24項のいずれかに記載の方法。 26 一般式 で表わされるポリビニルシランプレポリマー(こ
こにR1は炭化水素又は弗素置換炭化水素基であ
り、X2は炭素原子数7以下のアルコキシ基又は
炭素原子数7以下のチオアルコキシ基であり、
R5及びR6は水素又はビニル重合開始剤の炭化水
素残基であり、mは5〜100の整数を表わす。)を
ステツプ剤としての一般式R3R4SiY2(ここにR3
及びR4は炭化水素基又は弗素置換炭化水素基で
あり、R3とR4は同一の基であつても異なつた基
であつてもよく、Yは炭素原子数2〜5のアシロ
キシ基、炭素原子数1〜4のアルコキシ基又は炭
素原子数1〜4のチオアルコキシ基である。)で
表わされる化合物の存在下に、一般式
(R7CO)2Oで表わされる酸無水物(ここにR7は炭
素原子数1〜4のアルキル基である。)と反応さ
せることを特徴とするけい素含有ステツプラダー
ポリマーの製造方法。 27 前記R1の炭素原子数が1〜10であり;前
記R3及びR4の炭素原子数が1〜10であり;前記
ビニル重合開始剤残基の炭素数が2〜18であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第26項に記載の
方法。 28 前記R1が炭素原子数1〜4のアルキル基
もしくは弗素置換アルキル基又はフエニル基を表
わし;R3及びR4が炭素原子数1〜4のアルキル
基もしくは弗素置換アルキル基又はフエニル基を
表わすことを特徴とする特許請求の範囲第27項
に記載の方法。 29 前記R1がメチル基、トリフロロプロピル
基又はフエニル基であり;R3及びR4がメチル基
又はフエニル基であり;Yがエトキシ基であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第28項に記載の
方法。 30 前記R7がメチル基であることを特徴とす
る特許請求の範囲第26ないし29項のいずれか
に記載の方法。 31 前記反応を30〜170℃、好ましくは50〜130
℃、更に好ましくは50〜200mmHgの減圧下に50〜
90℃で行うことを特徴とする特許請求の範囲第2
6ないし30項のいずれかに記載の方法。 32 前記Yが前記アシロキン基であり、前記酸
無水物の量が前記ビニル重合体のSiに対して1〜
3モル倍好ましくは1.2〜2モル倍として前記反
応をさせることを特徴とする特許請求の範囲第2
6ないし31項のいずれかに記載の方法。 33 前記Yが前記アルコキシ基又はチオアルコ
キシ基であり、前記酸無水物の量が前記ビニル重
合体及びステツプ剤のSiに対して1〜3モル倍好
ましくは1.2〜2モル倍として前記反応をさせる
ことを特徴とする特許請求の範囲第26ないし3
1項のいずれかに記載の方法。 34 前記反応の後に水を加えて加水分解又は加
水分解縮合及び加水分解を行なうことを特徴とす
る特許請求の範囲第26ないし33項のいずれか
に記載の方法。 35 前記水を加えて加水分解又は加水分解縮合
及び加水分解を行なうときの反応温度を−5〜80
℃好ましくは20〜60℃で行なうことを特徴とする
特許請求の範囲第34項に記載の方法。 36 前記加える水の量を前記ビニル重合体のSi
に対し等モル以下とすることを特徴とする特許請
求の範囲第34又は35項に記載の方法。 37 前記加水分解縮合の反応の後、該反応生成
液を50〜150℃、好ましくは70〜120℃に0.5〜5
時間加熱することを特徴とする特許請求の範囲第
34,35又は36項に記載の方法。 38 前記加水分解又は加水分解縮合及び加水分
解を行なつた後、生成ポリマーに一般式R8 3Si−
NH−SiR8 3で表わされるヘキサアルキルシラザ
ン(ここにR8は炭素原子数1〜10のアルキル基
を表わす。)又は一般式R8 3Si−OCOR9(ここにR8
は前記のものと同じ意味であり、R9は炭素原子
数1〜4のアルキル基である。)で表わされるト
リアルキルアシロキシシランを添加反応させるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第34ないし37
項のいずれかに記載の方法。
[Claims] 1. A unit represented by the following general formula () and the unit expressed by the following general formula () A repeating polymer chain represented by the following general formula () containing is the unit expressed by the following general formula () The weight average molecular weight measured by gel permeation chromatography is in the range of 3.0 × 10 3 to 6.5 × 10 5 (in each of the above formulas,
R 1 is a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group,
R 2 is hydrogen or trialkylsiloxy group, R 3 and R 4
are hydrocarbon groups or fluorine-substituted hydrocarbon groups which may be the same or different from each other, R 5 and R 6 are hydrogen or hydrocarbon residues of a vinyl polymerization initiator, and (r+
s):t is (5-100):1, p is 1-5 and (r
+s+t):p is in the range of (5 to 100):1)
A silicon-containing stepladder polymer characterized by: 2 The infrared absorption spectrum unique to the siloxane bond of the unit () exists in the wave number region of 1020 to 1090 cm -1 , and a ring structure that can be formed by repeating the repeating unit (), that is, a molecule of 1,3-disylpropylene 1,5- formed by endosiloxy condensation
Shows the infrared absorption spectrum of the disylpyran ring with a unique wave number of 960 cm -1 , and the absorption wave number of 1080 cm -1 .
Absorbance ratio (A1080/
A960) is from 0.05 to 0.3. 3 The number of carbon atoms in R 1 is 1 to 10;
R 2 is a trialkylsilyl group composed of hydrogen or alkyl having 1 to 10 carbon atoms;
3. The polymer according to claim 1, wherein R3 and R4 have 1 to 10 carbon atoms. 4 R 1 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a fluorine-substituted alkyl group, or a phenyl group; R 2 is a trialkylsilyl group composed of hydrogen or an alkyl having 1 to 4 carbon atoms;
4. The polymer according to claim 3, wherein R3 and R4 are an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a fluorine-substituted alkyl group, or a phenyl group. 5 Claims characterized in that R 1 is a methyl group, trifluoropropyl group, or phenyl group; R 2 is hydrogen or a trimethylsilyl group; R 3 and R 4 are a methyl group or a phenyl group Polymer according to item 4. 6. The polymer according to claim 1, wherein the hydrocarbon residue of the vinyl polymerization initiator has 2 to 18 carbon atoms. 7 General formula A polyvinylsilane prepolymer represented by (where R 1 is a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group, and R 5 and R 6 are hydrogen or a hydrocarbon residue of a vinyl polymerization initiator, and m represents an integer from 5 to 100 . 4 or less alkyl group), and then intramolecular hydrolytic condensation of the prepolymer with a stoichiometric amount (relative to Si) of water, and the general formula of the prepolymer and step agent. R 3 R 4 Si(OCOR 7 ) 2 (where R 3 and R 4
is a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group,
R 3 and R 4 may be the same group or different groups, and R 7 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. ) A method for producing a silicon-containing Stepladder polymer, the method comprising carrying out hydrolytic condensation with the polymer. 8 The number of carbon atoms in R 1 is 1 to 10;
8. The method according to claim 7, wherein R3 and R4 have 1 to 10 carbon atoms; and the vinyl polymerization initiator residue has 2 to 18 carbon atoms. 9 R 1 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms,
A fluorine-substituted alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a phenyl group; R 3 and R 4 are an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a fluorine-substituted alkyl group, or a phenyl group; The method described in Scope Item 8. 10. The method according to claim 9, wherein the R 1 is a methyl group, a trifluoropropyl group, or a phenyl group; and R 3 and R 4 are a methyl group or a phenyl group. 11. The method according to any one of claims 7 to 10, wherein R 7 is a methyl group. 12 The X 1 is a dialkylamino group, and the acyloxylation is performed on the prepolymer in an inert aromatic hydrocarbon solvent with the general formula R 7 COOH (wherein
R 7 represents the same as above. ) Claims 7 to 1 are characterized in that the method is carried out by adding and reacting an organic acid represented by
The method described in any of Item 1. 13 The reaction is carried out at -5 to 70°C, preferably 10 to 50°C.
13. The method according to claim 12, characterized in that the method is carried out by: 14 Adjust the amount of the acid added to the amount of the prepolymer.
Claim 1 characterized in that the amount is 3 to 5 times, preferably 4 to 4.5 times by mole relative to Si.
2 or 13. 15 said X 1 is chlorine, bromine or iodine,
The acyloxylation is carried out in an inert hydrocarbon solvent by adding an acid anhydride represented by the general formula (R 7 CO) 2 O (where R 7 is the same as above) to the prepolymer. The method according to claim 7, characterized in that it is carried out by reacting. 16 The reaction is carried out at 20-150°C, preferably 40-120°C.
Claim 1 characterized in that
The method described in Section 5. 17 The amount of the acid anhydride to be added is 1.5 to 2.5 times the mole of Si in the prepolymer, preferably 2
17. The method according to claim 15 or 16, characterized in that the amount is increased by ~2.3 moles. 18 Hydrolytic condensation of the acyloxylated prepolymer in an inert aromatic hydrocarbon solvent,
The concentration of the acyloxylated prepolymer is 1 to 1.
Claims 7 to 17 characterized in that it is carried out in a concentration of 30% by weight, preferably 3 to 15% by weight.
The method described in any of the paragraphs. 19 For the hydrolytic condensation, water is added in an amount of 1 to 100 mol, preferably 1 to 10 mol, and more preferably 3 mol to the Si involved in the reaction. A method according to any one of claims 7 to 18, characterized in that: 20. The method according to claim 19, characterized in that the hydrolysis is carried out in the presence of an acid or a base. 21 The hydrolytic condensation is preferably carried out at -5 to 80°C.
The method according to any one of claims 7 to 20, characterized in that the method is carried out at a temperature of 20 to 60°C. 22. The polymer according to any one of claims 7 to 21, characterized in that the acyloxylated prepolymer is hydrolyzed in the coexistence of the step agent R3R4Si(OCOR7 ) 2 . A method for producing an element-containing Steps Prader polymer. 23 After performing intramolecular hydrolytic condensation of the acyloxylated prepolymer, the step agent
22. The method for producing a silicon-containing step ladder polymer according to any one of claims 7 to 21, characterized in that R 3 R 4 Si (OCOR 7 ) is added and hydrolysis condensation is carried out. 24 After the hydrolytic condensation reaction, the reaction product liquid is heated to 50 to 150 °C, preferably 70 to 120 °C for 0.5 to 5
The method according to any one of claims 7 to 23, characterized in that heating is performed for a period of time. 25 After performing the hydrolytic condensation, the resulting polymer contains hexaalkyl represented by the general formula R 8 2 Si-NH-SiR 8 3 (where R 8 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms). Silazane or general formula R 8 3 Si−
OCOR 9 (herein, R 8 has the same meaning as above, and R 9 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.) A patent characterized in that a trialkylaciloxysilane represented by the formula OCOR 9 is subjected to an addition reaction. A method according to any one of claims 7 to 24. 26 General formula A polyvinylsilane prepolymer represented by
R 5 and R 6 are hydrogen or a hydrocarbon residue of the vinyl polymerization initiator, and m represents an integer of 5 to 100. ) with the general formula R 3 R 4 SiY 2 (where R 3
and R 4 is a hydrocarbon group or a fluorine-substituted hydrocarbon group, R 3 and R 4 may be the same group or different groups, Y is an acyloxy group having 2 to 5 carbon atoms, It is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or a thioalkoxy group having 1 to 4 carbon atoms. ) is reacted with an acid anhydride represented by the general formula (R 7 CO) 2 O (where R 7 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms). A method for producing a silicon-containing Stepsprader polymer. 27 R 1 has 1 to 10 carbon atoms; R 3 and R 4 have 1 to 10 carbon atoms; and the vinyl polymerization initiator residue has 2 to 18 carbon atoms. 27. The method of claim 26, characterized in: 28 R 1 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a fluorine-substituted alkyl group, or a phenyl group; R 3 and R 4 represent an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a fluorine-substituted alkyl group, or a phenyl group 28. A method according to claim 27, characterized in that: 29 Claim 28, wherein R 1 is a methyl group, trifluoropropyl group, or phenyl group; R 3 and R 4 are a methyl group or phenyl group; and Y is an ethoxy group. The method described in. 30. The method according to any one of claims 26 to 29, wherein the R 7 is a methyl group. 31 The reaction is carried out at 30-170°C, preferably 50-130°C.
℃, more preferably 50 to 200 mmHg under reduced pressure
Claim 2 characterized in that the process is carried out at 90°C.
The method according to any one of Items 6 to 30. 32 The above Y is the above acyloquine group, and the amount of the acid anhydride is 1 to 1 with respect to Si of the vinyl polymer.
Claim 2, characterized in that the reaction is carried out at a ratio of 3 moles, preferably 1.2 to 2 times.
The method according to any one of Items 6 to 31. 33 The Y is the alkoxy group or the thioalkoxy group, and the reaction is carried out in an amount of the acid anhydride of 1 to 3 times, preferably 1.2 to 2 times, the amount of Si in the vinyl polymer and the step agent. Claims 26 to 3 are characterized in that:
The method described in any of Item 1. 34. The method according to any one of claims 26 to 33, characterized in that water is added after the reaction to perform hydrolysis or hydrolytic condensation and hydrolysis. 35 The reaction temperature when adding the water and performing hydrolysis or hydrolytic condensation and hydrolysis is -5 to 80°C.
35. A process according to claim 34, characterized in that it is carried out at a temperature of preferably 20 to 60<0>C. 36 Adjust the amount of water to be added to the Si of the vinyl polymer.
36. The method according to claim 34 or 35, characterized in that the amount is equal to or less than equimolar. 37 After the hydrolytic condensation reaction, the reaction product liquid is heated to 50 to 150°C, preferably 70 to 120°C by 0.5 to 5
37. A method according to claim 34, 35 or 36, characterized in that heating is performed for a period of time. 38 After the above-mentioned hydrolysis or hydrolytic condensation and hydrolysis, the resulting polymer has the general formula R 8 3 Si-
Hexaalkylsilazane represented by NH-SiR 8 3 (here R 8 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms) or the general formula R 8 3 Si-OCOR 9 (here R 8
has the same meaning as above, and R 9 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. ) Claims 34 to 37 are characterized in that a trialkylaciloxysilane represented by:
The method described in any of the paragraphs.
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WO2005068538A1 (en) * 2004-01-16 2005-07-28 Jsr Corporation Method for producing polymer, polymer, composition for forming insulating film, method for producing insulating film, and insulating film
EP1705208B1 (en) * 2004-01-16 2013-03-20 JSR Corporation Composition for forming insulating film, method for producing same, silica insulating film, and method for forming same
JP2005272816A (en) * 2004-02-26 2005-10-06 Jsr Corp POLYMER AND METHOD FOR PRODUCING SAME, COMPOSITION FOR FORMING INSULATING FILM, AND INSULATING FILM AND METHOD FOR FORMING THE SAME
JP5110238B2 (en) * 2004-05-11 2012-12-26 Jsr株式会社 Insulating film forming composition and method for producing the same, and silica-based insulating film and method for forming the same

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