JPH05213818A - エステル化ベンゾフェノン誘導体、合成および使用方法、これを含むポリマー組成物 - Google Patents
エステル化ベンゾフェノン誘導体、合成および使用方法、これを含むポリマー組成物Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
- C07C69/02—Esters of acyclic saturated monocarboxylic acids having the carboxyl group bound to an acyclic carbon atom or to hydrogen
- C07C69/22—Esters of acyclic saturated monocarboxylic acids having the carboxyl group bound to an acyclic carbon atom or to hydrogen having three or more carbon atoms in the acid moiety
- C07C69/24—Esters of acyclic saturated monocarboxylic acids having the carboxyl group bound to an acyclic carbon atom or to hydrogen having three or more carbon atoms in the acid moiety esterified with monohydroxylic compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
- C07C69/007—Esters of unsaturated alcohols having the esterified hydroxy group bound to an acyclic carbon atom
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 有機ポリマー中で紫外線吸収剤として作用す
るベンゾフェノン誘導体、その合成および使用方法、こ
れを含むポリマー組成物。 【構成】 エステル結合を有する一般式Ｉのベンゾキノ
ン、特に好ましくは分子量が６００以上である、１，３
−ジ（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノキシ）−
２−プロパノールのカルボン酸エステル、例えばデカン
酸エステル。又これの合成方法、及びこれを単独または
これより分子量が小さい公知のベンゾフェノン、たとえ
ば２−ヒドロキシ−４−アルコキシベンゾフェノンとと
もに紫外線吸収剤として使用する方法。 （式中、ｎ＝１または２；Ｒ１はｎ＝１のときＣ
５〜３０直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基等を、ｎ＝２
のとき、Ｃ１〜２４直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン
基、Ｃ６直鎖もしくは分枝鎖のアルキル置換基２個を有
するオルトジオクタメチレンシクロヘキサン基等であ
る。）
るベンゾフェノン誘導体、その合成および使用方法、こ
れを含むポリマー組成物。 【構成】 エステル結合を有する一般式Ｉのベンゾキノ
ン、特に好ましくは分子量が６００以上である、１，３
−ジ（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノキシ）−
２−プロパノールのカルボン酸エステル、例えばデカン
酸エステル。又これの合成方法、及びこれを単独または
これより分子量が小さい公知のベンゾフェノン、たとえ
ば２−ヒドロキシ−４−アルコキシベンゾフェノンとと
もに紫外線吸収剤として使用する方法。 （式中、ｎ＝１または２；Ｒ１はｎ＝１のときＣ
５〜３０直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基等を、ｎ＝２
のとき、Ｃ１〜２４直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン
基、Ｃ６直鎖もしくは分枝鎖のアルキル置換基２個を有
するオルトジオクタメチレンシクロヘキサン基等であ
る。）
Description
【０００１】本発明はエステル化された新規なヒドロキ
シベンゾフェノン誘導体、その合成方法、およびこの化
合物を有機ポリマー中の紫外線吸収剤として使用する方
法、およびこれを含むポリマー組成物に関する。２−ヒ
ドロキシベンゾフェノンは、光線の悪影響に対してポリ
マーを保護するために盛んに使用される紫外線吸収剤で
ある。この化合物は有効な化合物であるが、生成すると
き、またはポリマーの使用方法によっては、揮発性が過
剰であり、ポリマーを長時間露光するときに極めて急速
に除去される問題がある。
シベンゾフェノン誘導体、その合成方法、およびこの化
合物を有機ポリマー中の紫外線吸収剤として使用する方
法、およびこれを含むポリマー組成物に関する。２−ヒ
ドロキシベンゾフェノンは、光線の悪影響に対してポリ
マーを保護するために盛んに使用される紫外線吸収剤で
ある。この化合物は有効な化合物であるが、生成すると
き、またはポリマーの使用方法によっては、揮発性が過
剰であり、ポリマーを長時間露光するときに極めて急速
に除去される問題がある。
【０００２】特開昭６４−９６２５９号（１９８９）
に、ポリシロキサン鎖に２−ヒドロキシベンゾフェノン
単位をグラフトする方法が提案されている。しかしこの
化合物の合成は比較的複雑であり、２−ヒドロキシベン
ゾフェノン単位のグラフトを所望の程度に正確に達成す
ることは何時も容易であるとは限らない。
に、ポリシロキサン鎖に２−ヒドロキシベンゾフェノン
単位をグラフトする方法が提案されている。しかしこの
化合物の合成は比較的複雑であり、２−ヒドロキシベン
ゾフェノン単位のグラフトを所望の程度に正確に達成す
ることは何時も容易であるとは限らない。
【０００３】本発明は、２−ヒドロキシベンゾフェノン
を少なくとも２単位有し、分子量が少なくとも５００の
単純な化合物である。さらに特定すれば、この化合物
は、一般式（Ｉ）で示されるベンゾフェノンである。
を少なくとも２単位有し、分子量が少なくとも５００の
単純な化合物である。さらに特定すれば、この化合物
は、一般式（Ｉ）で示されるベンゾフェノンである。
【０００４】
【化５】
【０００５】（式中、ｎ＝１または２であり、Ｒ1 は、
ｎ＝１のとき、炭素原子６〜４０個、有利には１２〜４
０個、好ましくは１４〜３０個を有するアルキル基、フ
ェニル基、あるいは炭素原子１〜６個を有する直鎖もし
くは分枝鎖のアルキル置換基１もしくは２個、および／
またはヒドロキシル基を有するフェニル基を表し、
ｎ＝１のとき、炭素原子６〜４０個、有利には１２〜４
０個、好ましくは１４〜３０個を有するアルキル基、フ
ェニル基、あるいは炭素原子１〜６個を有する直鎖もし
くは分枝鎖のアルキル置換基１もしくは２個、および／
またはヒドロキシル基を有するフェニル基を表し、
【０００６】ｎ＝２のとき、炭素原子６〜４０個、有利
には１２〜４０個、好ましくは１４〜４０個を有するア
ルキル基、オルトフェニレン、メタフェニレンまたはパ
ラフェニレン基、炭素原子１〜６個を有する直鎖もしく
は分枝鎖のアルキル置換基１もしくは２個を有するオル
トフェニレン、メタフェニレンまたはパラフェニレン
基、炭素原子１〜１２個を有する直鎖もしくは分枝鎖の
同一または相異するアルキレン基を有するオルトジアル
キレンシクロヘキサン基、オルトシクロヘキシレン、メ
タシクロヘキシレンまたはパラシクロヘキシレン基、あ
るいはさきに規定したように、炭素原子１〜６個を有す
る直鎖もしくは分枝鎖のアルキル置換基１もしくは２個
を有するシクロヘキシレンまたはジアルキレン−シクロ
ヘキサン基を表す）
には１２〜４０個、好ましくは１４〜４０個を有するア
ルキル基、オルトフェニレン、メタフェニレンまたはパ
ラフェニレン基、炭素原子１〜６個を有する直鎖もしく
は分枝鎖のアルキル置換基１もしくは２個を有するオル
トフェニレン、メタフェニレンまたはパラフェニレン
基、炭素原子１〜１２個を有する直鎖もしくは分枝鎖の
同一または相異するアルキレン基を有するオルトジアル
キレンシクロヘキサン基、オルトシクロヘキシレン、メ
タシクロヘキシレンまたはパラシクロヘキシレン基、あ
るいはさきに規定したように、炭素原子１〜６個を有す
る直鎖もしくは分枝鎖のアルキル置換基１もしくは２個
を有するシクロヘキシレンまたはジアルキレン−シクロ
ヘキサン基を表す）
【０００７】本発明のエステル結合を有する新規なベン
ゾフェノンは、特に次に規定する一般式（Ｉ）の化合物
である。（式中、ｎ＝１または２であり、Ｒ1 はｎ＝１
のとき、炭素原子５〜３０個を有する直鎖もしくは分枝
鎖のアルキル基、たとえば、ペンチル、ヘキシル、ヘプ
チル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシ
ル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘプタ
デシル、ノナデシル基を表し、
ゾフェノンは、特に次に規定する一般式（Ｉ）の化合物
である。（式中、ｎ＝１または２であり、Ｒ1 はｎ＝１
のとき、炭素原子５〜３０個を有する直鎖もしくは分枝
鎖のアルキル基、たとえば、ペンチル、ヘキシル、ヘプ
チル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシ
ル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘプタ
デシル、ノナデシル基を表し、
【０００８】ｎ＝２のとき、炭素原子１〜２４個を有す
る直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン基、たとえば、メチ
レン、エチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペン
タメチレン、ヘキサメチレン、ヘプタメチレン、オクタ
メチレン、ノナメチレン、デカメチレン、ドデカメチレ
ン、テトラデカメチレン、ヘキサデカメチレン、オクタ
デカメチレン基、あるいは炭素原子６個を有する直鎖も
しくは分枝鎖のアルキル置換基２個を有するオルトジオ
クタメチレン−シクロヘキサン基を表す）
る直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン基、たとえば、メチ
レン、エチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペン
タメチレン、ヘキサメチレン、ヘプタメチレン、オクタ
メチレン、ノナメチレン、デカメチレン、ドデカメチレ
ン、テトラデカメチレン、ヘキサデカメチレン、オクタ
デカメチレン基、あるいは炭素原子６個を有する直鎖も
しくは分枝鎖のアルキル置換基２個を有するオルトジオ
クタメチレン−シクロヘキサン基を表す）
【０００９】式（Ｉ）のエステル結合を有するベンゾフ
ェノンの限定的でない例として、下記を挙げることがで
きる。デカン酸−１，３−ジ（４−ベンゾイル−３−ヒ
ドロキシフェノキシ）−２−プロピル、ドデカン酸（ラ
ウリル酸）−１，３−ジ（４−ベンゾイル−３−ヒドロ
キシフェノキシ）−２−プロピル、ヘキサデカン酸−
１，３−ジ（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノキ
シ）−２−プロピル、オクタデカン酸（ステアリン酸）
−１，３−ジ（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノ
キシ）−２−プロピル、ドコサン酸（ベヘン酸）−１，
３−ジ（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノキシ）
−２−プロピル、（４，５−ジヘキシルシクロヘキサ
ン）−１，２−ジ（オタメチレン−カルボン酸）ビス
〔１，３−ジ（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノ
キシ）−２−プロピル〕
ェノンの限定的でない例として、下記を挙げることがで
きる。デカン酸−１，３−ジ（４−ベンゾイル−３−ヒ
ドロキシフェノキシ）−２−プロピル、ドデカン酸（ラ
ウリル酸）−１，３−ジ（４−ベンゾイル−３−ヒドロ
キシフェノキシ）−２−プロピル、ヘキサデカン酸−
１，３−ジ（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノキ
シ）−２−プロピル、オクタデカン酸（ステアリン酸）
−１，３−ジ（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノ
キシ）−２−プロピル、ドコサン酸（ベヘン酸）−１，
３−ジ（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノキシ）
−２−プロピル、（４，５−ジヘキシルシクロヘキサ
ン）−１，２−ジ（オタメチレン−カルボン酸）ビス
〔１，３−ジ（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノ
キシ）−２−プロピル〕
【００１０】式（Ｉ）のエステル結合を有するベンゾフ
ェノンは、式（II)
ェノンは、式（II)
【００１１】
【化６】
【００１２】で示される１，３−ジ（４−ベンゾイル−
３−ヒドロキシフェノキシ）−２−プロパノールを式
（III)
３−ヒドロキシフェノキシ）−２−プロパノールを式
（III)
【００１３】
【化７】
【００１４】（式中、ｎ＝１または２であり、Ｒ1 は、
式（Ｉ）の化合物について、さきに規定した基を表す）
で示される酸と、酸性触媒の存在で反応させて合成する
ことができる。
式（Ｉ）の化合物について、さきに規定した基を表す）
で示される酸と、酸性触媒の存在で反応させて合成する
ことができる。
【００１５】式（II）の１，３−ジ（４−ベンゾイル−
３−ヒドロキシフェノキシ）−２−プロパノールは、た
とえば、ソ連特許Ａ−２７７７６４号に合成方法を記載
する公知の化合物である。式（II) のアルコールを酸Ｒ
1 −（ＣＯＯＨ）n によってエステル化する反応に使用
する酸性触媒は、この型の反応に通常使用されるどの酸
性触媒でもよい。もっとも多く使用される触媒はパラト
ルエンスルホン酸である。
３−ヒドロキシフェノキシ）−２−プロパノールは、た
とえば、ソ連特許Ａ−２７７７６４号に合成方法を記載
する公知の化合物である。式（II) のアルコールを酸Ｒ
1 −（ＣＯＯＨ）n によってエステル化する反応に使用
する酸性触媒は、この型の反応に通常使用されるどの酸
性触媒でもよい。もっとも多く使用される触媒はパラト
ルエンスルホン酸である。
【００１６】一般に、この反応は、生成した水を共沸蒸
溜によって除去できる溶媒中で行う。たとえば、トルエ
ン、ベンゼンまたはキシレンを使用することができる。
この反応は、５０〜１６０℃、好ましくは６０〜１３０
℃の温度で行う。実際に、使用する溶媒の還流温度で反
応させることが便宜である。一般に多数時間反応させ
る。
溜によって除去できる溶媒中で行う。たとえば、トルエ
ン、ベンゼンまたはキシレンを使用することができる。
この反応は、５０〜１６０℃、好ましくは６０〜１３０
℃の温度で行う。実際に、使用する溶媒の還流温度で反
応させることが便宜である。一般に多数時間反応させ
る。
【００１７】式（Ｉ）のベンゾフェノンは、特に有機ポ
リマー中での紫外線吸収剤として使用することができ
る。従って、この化合物は、ポリオレフィン、ポリスチ
レン、ポリアルカジエン、ポリウレタン、ポリエーテル
スルホン、ポリエーテルケトン、アクリルポリマー、ハ
ロゲン化ポリマー、これらのコポリマー、およびこれら
の混合物中で紫外線吸収剤として使用することができ
る。
リマー中での紫外線吸収剤として使用することができ
る。従って、この化合物は、ポリオレフィン、ポリスチ
レン、ポリアルカジエン、ポリウレタン、ポリエーテル
スルホン、ポリエーテルケトン、アクリルポリマー、ハ
ロゲン化ポリマー、これらのコポリマー、およびこれら
の混合物中で紫外線吸収剤として使用することができ
る。
【００１８】本発明の他の対象は、少なくとも１つの式
（Ｉ）のベンゾフェノンの有効量で安定化した有機ポリ
マー組成物である。この応用において、分子量が６００
以上である式（Ｉ）のベンゾフェノンを使用することが
好ましい。本発明の興味ある１つの変形として、少なく
とも１つの式（Ｉ）のベンゾフェノンと、これより分子
量が小さい公知のベンゾフェノンとを併せて使用する。
本発明のこの変形は、少なくとも１つの式（Ｉ）のベン
ゾフェノンと、少なくとも１つの式（IV）
（Ｉ）のベンゾフェノンの有効量で安定化した有機ポリ
マー組成物である。この応用において、分子量が６００
以上である式（Ｉ）のベンゾフェノンを使用することが
好ましい。本発明の興味ある１つの変形として、少なく
とも１つの式（Ｉ）のベンゾフェノンと、これより分子
量が小さい公知のベンゾフェノンとを併せて使用する。
本発明のこの変形は、少なくとも１つの式（Ｉ）のベン
ゾフェノンと、少なくとも１つの式（IV）
【００１９】
【化８】
【００２０】（式中、Ｒ2 は炭素原子１〜３０個を有す
る直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基を表す）で示される
ベンゾフェノンとの有効量によって安定化された有機ポ
リマー組成物に関する。本発明の組成物は、通常次の成
分を含む。安定化すべきポリマーの重量に対して、式
（Ｉ）のベンゾフェノンを０．００５〜５重量％、好ま
しくは０．０１〜２重量％含むか、または安定化すべき
ポリマーの重量に対して、式（Ｉ）のベンゾフェノンと
式（IV)のベンゾフェノンとの混合物を０．００５〜５
重量％、好ましくは０．０１〜２重量％を含む。明かな
ように、安定化された有機ポリマー組成物は、多数の式
（Ｉ）の化合物の混合物を含むことができる。
る直鎖もしくは分枝鎖のアルキル基を表す）で示される
ベンゾフェノンとの有効量によって安定化された有機ポ
リマー組成物に関する。本発明の組成物は、通常次の成
分を含む。安定化すべきポリマーの重量に対して、式
（Ｉ）のベンゾフェノンを０．００５〜５重量％、好ま
しくは０．０１〜２重量％含むか、または安定化すべき
ポリマーの重量に対して、式（Ｉ）のベンゾフェノンと
式（IV)のベンゾフェノンとの混合物を０．００５〜５
重量％、好ましくは０．０１〜２重量％を含む。明かな
ように、安定化された有機ポリマー組成物は、多数の式
（Ｉ）の化合物の混合物を含むことができる。
【００２１】式（Ｉ）の化合物、または式（Ｉ）の化合
物と式（IV) の化合物との混合物は、ポリマーの合成
中、またはその後に加えることができる。式（Ｉ）のベ
ンゾフェノン、または式（Ｉ）のベンゾフェノンと式
（IV) のベンゾフェノンとの混合物を含む有機ポリマー
組成物は、他に通常使用される添加剤、および安定剤を
含むことができる。これらは次のものを挙げることがで
きる。
物と式（IV) の化合物との混合物は、ポリマーの合成
中、またはその後に加えることができる。式（Ｉ）のベ
ンゾフェノン、または式（Ｉ）のベンゾフェノンと式
（IV) のベンゾフェノンとの混合物を含む有機ポリマー
組成物は、他に通常使用される添加剤、および安定剤を
含むことができる。これらは次のものを挙げることがで
きる。
【００２２】酸化防止剤：特に３−（３，５−ジｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のエステ
ル、さらに特にテトラキス〔３−（３，５−ジｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオニルオキシメ
チル〕メタン、および３−（３，５−ジｔ−ブチル−４
−ヒドロオキシフェニル）プロピオン酸ステアリルＨａ
ｌｓ（光安定剤：ヒンダードアミン）：２，２，６，６
−テトラメチルピペリジン誘導体）、特にセバシン酸ビ
ス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル） 亜リン酸エステル、およびホスホン酸エステル、特に亜
リン酸トリス（２，４−ジｔ−ブチルフェニル）
チル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のエステ
ル、さらに特にテトラキス〔３−（３，５−ジｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオニルオキシメ
チル〕メタン、および３−（３，５−ジｔ−ブチル−４
−ヒドロオキシフェニル）プロピオン酸ステアリルＨａ
ｌｓ（光安定剤：ヒンダードアミン）：２，２，６，６
−テトラメチルピペリジン誘導体）、特にセバシン酸ビ
ス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル） 亜リン酸エステル、およびホスホン酸エステル、特に亜
リン酸トリス（２，４−ジｔ−ブチルフェニル）
【００２３】金属脱活剤 過酸化物分解剤、特にチオエーテル 核形成剤 補強剤 可塑剤 潤滑剤 乳化剤 顔料 光学的青色染料 防炎剤 静電防止剤 発泡剤 安定化されたポリマー組成物は、多様な形、たとえば、
鋳造体、膜、繊維、発泡生成物、被覆形成体として、ま
たペンキ、ワニス、ペーストもしくはセメントの成膜剤
バインダとすることができる。次に実施例によって本発
明を説明する。
鋳造体、膜、繊維、発泡生成物、被覆形成体として、ま
たペンキ、ワニス、ペーストもしくはセメントの成膜剤
バインダとすることができる。次に実施例によって本発
明を説明する。
【００２４】例１ 生成物（Ｉａ）：１，３−ジ（４−ベンゾイル−３−ヒ
ドロキシフェノキシ）−２−プロパノールのステアリン
酸エステルの合成 一般式（Ｉ）（式中、Ｒ1 ＝−（ＣＨ2 ）16−ＣＨ3 ）
の化合物 ５００cm3 の三口フラスコに、中央攪伴機、温度計およ
びコンデンサ付きディーン・スタークを設け、窒素雰囲
気中で、下記を導入した。
ドロキシフェノキシ）−２−プロパノールのステアリン
酸エステルの合成 一般式（Ｉ）（式中、Ｒ1 ＝−（ＣＨ2 ）16−ＣＨ3 ）
の化合物 ５００cm3 の三口フラスコに、中央攪伴機、温度計およ
びコンデンサ付きディーン・スタークを設け、窒素雰囲
気中で、下記を導入した。
【００２５】 式（II) のアルコール ４５．０ｇ（０．０９３モル） ステアリン酸 ２４．０ｇ（０．０８４モル） パラトルエンスルホン酸 １．０ｇ トルエン ３５０cm3
【００２６】次にトルエンを還流させながらこの混合物
を２４時間反応させた。室温に戻して、反応混合物を水
１５０cm3 で３回洗浄した。不均質な有機相を濾過し、
回収した固形物は未反応の原料アルコールと酸であっ
た。次に有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧
蒸溜した。粗生成物５０．５ｇを得、ヘキサン／酢酸エ
チル２／１溶離液を使用してシリカゲルカラムでクロマ
トグラフィを行い、生成物に含まれる残りのアルコール
と酸を除去した。
を２４時間反応させた。室温に戻して、反応混合物を水
１５０cm3 で３回洗浄した。不均質な有機相を濾過し、
回収した固形物は未反応の原料アルコールと酸であっ
た。次に有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧
蒸溜した。粗生成物５０．５ｇを得、ヘキサン／酢酸エ
チル２／１溶離液を使用してシリカゲルカラムでクロマ
トグラフィを行い、生成物に含まれる残りのアルコール
と酸を除去した。
【００２７】終りに灰黄色の固体２９．５ｇを、原料の
酸に基づく収率４７％で単離した。その構造を質量スペ
クトルおよびプロトン核磁気共鳴（ＲＭＮ1 Ｈ）によっ
て確認した。純度は９５％を超えた。物理的特性 融点：８２℃ 紫外線（溶媒ＣＨＣｌ3 ）： ε３２７ｎｍ＝１９２９０ １・mol -1・cm-1 ε２８７ｎｍ＝３０７９０ １・mol -1・cm-1
酸に基づく収率４７％で単離した。その構造を質量スペ
クトルおよびプロトン核磁気共鳴（ＲＭＮ1 Ｈ）によっ
て確認した。純度は９５％を超えた。物理的特性 融点：８２℃ 紫外線（溶媒ＣＨＣｌ3 ）： ε３２７ｎｍ＝１９２９０ １・mol -1・cm-1 ε２８７ｎｍ＝３０７９０ １・mol -1・cm-1
【００２８】例２ 生成物（Ｉｂ）：１，３−ジ（４−ベンゾイル−３−ヒ
ドロキシフェノキシ）−２−プロパノールのドコサン酸
（ベヘン酸）エステルの合成 一般式（Ｉ）（式中、Ｒ1 ＝（ＣＨ2)20−ＣＨ3 ）の化
合物 ５００cm3 の三口フラスコに、中央攪伴機、温度計およ
びコンデンサ付きディーン・スタークを設け、窒素雰囲
気中で下記を導入した。
ドロキシフェノキシ）−２−プロパノールのドコサン酸
（ベヘン酸）エステルの合成 一般式（Ｉ）（式中、Ｒ1 ＝（ＣＨ2)20−ＣＨ3 ）の化
合物 ５００cm3 の三口フラスコに、中央攪伴機、温度計およ
びコンデンサ付きディーン・スタークを設け、窒素雰囲
気中で下記を導入した。
【００２９】 式(II)のアルコール ２６．６ｇ（０．０５５モル） 工業級ベヘン酸（大部分がドコサン酸） １７．０ｇ（０．０５０モル） パラトルエンスルホン酸 １．０ｇ トルエン ２５０cm3
【００３０】次にトルエンを還流させながら、この混合
物を２４時間反応させた。室温に戻して、反応混合物を
水１５０cm3 で３回洗浄した。不均質な有機相を濾過
し、回収した固形物は未反応の原料のアルコールと酸で
あった。次に有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を
減圧蒸溜した。粗生成物３１．０ｇを得、ヘキサン／酢
酸エチル２／１溶離液を使用し、シリカゲルカラムでク
ロマトグラフィを行い、生成物に含まれる残りのアルコ
ールと酸を除去した。
物を２４時間反応させた。室温に戻して、反応混合物を
水１５０cm3 で３回洗浄した。不均質な有機相を濾過
し、回収した固形物は未反応の原料のアルコールと酸で
あった。次に有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を
減圧蒸溜した。粗生成物３１．０ｇを得、ヘキサン／酢
酸エチル２／１溶離液を使用し、シリカゲルカラムでク
ロマトグラフィを行い、生成物に含まれる残りのアルコ
ールと酸を除去した。
【００３１】終りに灰黄色の固体２０．８ｇを、原料の
酸に基づく収率５２％で単離した。その構造を質量スペ
クトルおよびプロトン核磁気共鳴（ＲＭＮ1 Ｈ）によっ
て確認した。純度は９５％を超えた。物理的特性 融点： ３０℃ 紫外線（ＣＨＣｌ3 溶媒）： ε３２７ｎｍ＝１８８５０ １・mol -1・cm-1 ε２８７ｎｍ＝３０２６５ １・mol -1・cm-1
酸に基づく収率５２％で単離した。その構造を質量スペ
クトルおよびプロトン核磁気共鳴（ＲＭＮ1 Ｈ）によっ
て確認した。純度は９５％を超えた。物理的特性 融点： ３０℃ 紫外線（ＣＨＣｌ3 溶媒）： ε３２７ｎｍ＝１８８５０ １・mol -1・cm-1 ε２８７ｎｍ＝３０２６５ １・mol -1・cm-1
【００３２】例３ 生成物（Ｉｃ）：１，３−ジ（４−ベンゾイル−３−ヒ
ドロキシフェノキシ）−２−プロパノールの式（Ｖ）の
ジカルボン酸によるエステル化
ドロキシフェノキシ）−２−プロパノールの式（Ｖ）の
ジカルボン酸によるエステル化
【００３３】
【化９】
【００３４】５００cm3 の三口フラスコに、中央攪伴
機、温度計およびコンデンサ付きディーン・スタークを
設け、窒素雰囲気中で下記を導入した。 式（II) のアルコール ２５．０ｇ（０．０５２モル） 式（Ｖ）のジカルボン酸 １３．９ （０．０２４モル） パラトルエンスルホン酸 １．０ｇ トルエン ２５０cm3
機、温度計およびコンデンサ付きディーン・スタークを
設け、窒素雰囲気中で下記を導入した。 式（II) のアルコール ２５．０ｇ（０．０５２モル） 式（Ｖ）のジカルボン酸 １３．９ （０．０２４モル） パラトルエンスルホン酸 １．０ｇ トルエン ２５０cm3
【００３５】次にトルエンを還流させながらこの混合物
を２４時間反応させた。室温に戻し、反応混合物を水１
５０cm3 で３回洗浄した。次に有機相を硫酸ナトリウム
で乾燥し、溶媒を減圧蒸溜した。粗生成物２８．７ｇを
得、ヘキサン／酢酸エチル２／１溶離液を使用し、シリ
カゲルカラムで、生成物に含まれる残りのアルコールと
酸を除去した。
を２４時間反応させた。室温に戻し、反応混合物を水１
５０cm3 で３回洗浄した。次に有機相を硫酸ナトリウム
で乾燥し、溶媒を減圧蒸溜した。粗生成物２８．７ｇを
得、ヘキサン／酢酸エチル２／１溶離液を使用し、シリ
カゲルカラムで、生成物に含まれる残りのアルコールと
酸を除去した。
【００３６】粘稠な灰黄色の液体２３．５ｇを、原料の
酸に対する収率６４％で単離した。その構造を質量スペ
クトルとプロトン核磁気共鳴（ＲＭＮ1 Ｈ）によって確
めた。純度は９０％。物理的特性 紫外線（ＣＨ3 Ｃｌ溶媒）： ε３２７ｎｍ＝３６３１０ １・mol -1・cm-1 ε２８７ｎｍ＝５８３２０ １・mol -1・cm-1
酸に対する収率６４％で単離した。その構造を質量スペ
クトルとプロトン核磁気共鳴（ＲＭＮ1 Ｈ）によって確
めた。純度は９０％。物理的特性 紫外線（ＣＨ3 Ｃｌ溶媒）： ε３２７ｎｍ＝３６３１０ １・mol -1・cm-1 ε２８７ｎｍ＝５８３２０ １・mol -1・cm-1
【００３７】例４ 生成物（Ｉａ）または（Ｉｂ）を単独、または登録商品
名ＲｈｏｄｉａｌｕｘＰとして市販される２−ヒドロキ
シ−４−オクチルオキシベンゾフェノンとともに使用し
て、ポリプロピレン（ＰＰ）の加速老化試験を行った。
名ＲｈｏｄｉａｌｕｘＰとして市販される２−ヒドロキ
シ−４−オクチルオキシベンゾフェノンとともに使用し
て、ポリプロピレン（ＰＰ）の加速老化試験を行った。
【００３８】組成物の調製 次の重量組成の混合物各１００ｇを攪伴器内で緩かに調
製した。 ＰＰ Ａｐｐｒｙｌ ３０３０ ＡＰ： １００ｇ ステアリン酸カルシウム： ０．１ｇ 酸化防止剤登録商標Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６： ０．０５ｇ 評価すべき紫外線吸収剤：表１に示す
製した。 ＰＰ Ａｐｐｒｙｌ ３０３０ ＡＰ： １００ｇ ステアリン酸カルシウム： ０．１ｇ 酸化防止剤登録商標Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６： ０．０５ｇ 評価すべき紫外線吸収剤：表１に示す
【００３９】登録商標Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６として市
販される酸化防止剤は、３−（４−ヒドロキシ−３，５
−ジｔ−ブチルフェニル）−プロピオン酸オクタデシル
である。
販される酸化防止剤は、３−（４−ヒドロキシ−３，５
−ジｔ−ブチルフェニル）−プロピオン酸オクタデシル
である。
【００４０】加圧成膜 混合物はＣａｒｖｅｒ加圧機で２回加圧した。第１回
は、５分間、そのうち３分間は３０ＭＰａ（３００ｂａ
ｒ）で加圧し、第２回は５分間、そのうち３分間は３５
ＭＰａ（３５０ｂａｒ）で加圧した。これにより、厚さ
５０μｍの膜を得た。この膜から１２×３０mmの試料を
切取った。
は、５分間、そのうち３分間は３０ＭＰａ（３００ｂａ
ｒ）で加圧し、第２回は５分間、そのうち３分間は３５
ＭＰａ（３５０ｂａｒ）で加圧した。これにより、厚さ
５０μｍの膜を得た。この膜から１２×３０mmの試料を
切取った。
【００４１】老化試験 この試料を、ＭＡＺＤＡ ＭＡ ４００Ｗ型の中圧水銀
ランプ４個を備え、６０℃に加熱されたＭＰＣ／ＳＥＰ
ＡＰ１２／２４内に置いた。ポリプロピレン膜の劣化
は、赤外領域に１７２０cm-1のカルボニルバンドが現れ
ることによって認めた。結果は表１に示す。時間で表す
寿命は、所与の吸収を達成するのに要した時間に対応す
る。この試験ではｌｏｇ（Ｉｏ／Ｉ）＝０．３と一定に
した。
ランプ４個を備え、６０℃に加熱されたＭＰＣ／ＳＥＰ
ＡＰ１２／２４内に置いた。ポリプロピレン膜の劣化
は、赤外領域に１７２０cm-1のカルボニルバンドが現れ
ることによって認めた。結果は表１に示す。時間で表す
寿命は、所与の吸収を達成するのに要した時間に対応す
る。この試験ではｌｏｇ（Ｉｏ／Ｉ）＝０．３と一定に
した。
【００４２】
【表１】
【００４３】例５ 生成物（Ｉａ）または（Ｉｃ）をＲｈｏｄｉａｌｕｘ
ＰおよびＴｉｎｕｖｉｎ７７０（デカン酸ビス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）ととも
に使用して、ポリプロピレンの加速老化試験を行った。組成物の調製 次の重量組成の混合物各１００ｇを混合器内で緩かに調
製した。
ＰおよびＴｉｎｕｖｉｎ７７０（デカン酸ビス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）ととも
に使用して、ポリプロピレンの加速老化試験を行った。組成物の調製 次の重量組成の混合物各１００ｇを混合器内で緩かに調
製した。
【００４４】 ＰＰ Ａｐｐｒｙｌ ３０３０ ＡＰ： １００ｇ ステアリン酸カルシウム： ０．１ｇ 酸化防止剤登録商標Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６： ０．０５ｇ Ｈａｌｓ登録商標 Ｔｉｎｕｖｉｎ７７０： ０．１５ｇ 生成物（Ｉａ）、（Ｉｂ）およびＲｈｏｄｉａｌｕｘ
Ｐ：表２に示す
Ｐ：表２に示す
【００４５】加圧成膜および試料の老化試験は例４と同
様に行った。結果は表２に示す。時間で表す寿命は所与
の吸収を達成するのに要した時間に対応する。この試験
ではｌｏｇ（Ｉｏ／Ｉ）＝０．３と一定にした。
様に行った。結果は表２に示す。時間で表す寿命は所与
の吸収を達成するのに要した時間に対応する。この試験
ではｌｏｇ（Ｉｏ／Ｉ）＝０．３と一定にした。
【００４６】
【表２】
Claims (11)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、ｎ＝１または２であり、Ｒ1 は、ｎ＝１のと
き、炭素原子６〜４０個、有利には１２〜４０個、好ま
しくは１４〜３０個を有するアルキル基、 フェニル基、あるいは炭素原子１〜６個を有する直鎖も
しくは分枝鎖のアルキル置換基１もしくは２個、および
／またはヒドロキシル基を有するフェニル基を表し、 ｎ＝２のとき、炭素原子６〜４０個、有利には１２〜４
０個、好ましくは１４〜４０個を有するアルキル基、 オルトフェニレン、メタフェニレンまたはパラフェニレ
ン基、 炭素原子１〜６個を有する直鎖もしくは分枝鎖のアルキ
ル置換基１もしくは２個を有するオルトフェニレン、メ
タフェニレンまたはパラフェニレン基、 炭素原子１〜１２個を有する直鎖もしくは分枝鎖の同一
または相異するアルキレン基を有するオルトジアルキレ
ンシクロヘキサン基、 オルトシクロヘキシレン、メタシクロヘキシレンまたは
パラシクロヘキシレン基、あるいはさきに規定したよう
に、炭素原子１〜６個を有する直鎖もしくは分枝鎖のア
ルキル置換基１もしくは２個を有するシクロヘキシレン
またはジアルキレン−シクロヘキサン基を表す）で示さ
れるベンゾフェノン。 - 【請求項２】 一般式（Ｉ） （式中、ｎ＝１または２であり、Ｒ1 は、ｎ＝１のと
き、炭素原子５〜３０個を有する直鎖もしくは分枝鎖の
アルキル基を表し、 ｎ＝２のとき、炭素原子１〜２４個を有する直鎖もしく
は分枝鎖のアルキレン基、あるいは炭素原子６個を有す
る直鎖もしくは分枝鎖のアルキル置換基２個を有するオ
ルトジオクタメチレンシクロヘキサン基を表す）で示さ
れる請求項１に記載のベンゾフェノン。 - 【請求項３】 デカン酸−１，３−ジ（４−ベンゾイル
−３−ヒドロキシフェノキシ）−２−プロピルエステ
ル、 ドデカン酸（ラウリン酸）−１，３−ジ（４−ベンゾイ
ル−３−ヒドロキシフェノキシ）−２−プロピルエステ
ル、 ヘキサデカン酸−１，３−ジ（４−ベンゾイル−３−ヒ
ドロキシフエノキシ）−２−プロピルエステル、 オクタデカン酸（ステアリン酸）−１，３−ジ（４−ベ
ンゾイル−３−ヒドロキシフェノキシ）−２−プロピル
エステル、 ドコサン酸（ベヘン酸）−１，３−ジ（４−ベンゾイル
−３−ヒドロキシフェノキシ）−２−プロピルエステ
ル、 （４，５−ジヘキシルシクロヘキサン）−１，２−ジ
（オクタメチレンカルボン酸）ビス〔１，３−ジ（４−
ベンゾイル−３−ヒドロキシ−２−プロピル〕エステル
から選ぶ請求項１または２記載の一般式（Ｉ）のベンゾ
フェノン。 - 【請求項４】 式（II) 【化２】 で示される１，３−ジ（４−ベンゾイル−３−ヒドロキ
シフェノキシ）−２−プロパノールを一般式（III) 【化３】 （式中、ｎ＝１または２であり、Ｒ1 は、一般式（Ｉ）
の化合物についてさきに記載した基を表す）で示される
酸と、酸触媒の存在で反応させることを特徴とする請求
項１〜３のいずれかに記載のベンゾフェノンの合成方
法。 - 【請求項５】 生成した水を共沸蒸溜によって除去でき
る溶媒、たとえばトルエン、ベンゼンまたはキシレンの
中で反応を行う請求項４に記載の方法。 - 【請求項６】 温度５０〜１６０℃、好ましくは６０〜
１３０℃で反応を行う請求項４または５に記載の方法。 - 【請求項７】 有機ポリマー、たとえばポリオレフィ
ン、ポリスチレン、ポリアルカジエン、ポリウレタン、
ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、アクリル
ポリマー、ハロゲン化ポリマー、これらのコポリマー、
およびこれらのポリマーが少なくとも１／３、好ましく
は少なくとも１／２存在する混合物中で、基Ｒ1 が炭素
原子を有利には少なくとも１２個、好ましくは１４個有
する請求項１〜３のいずれかに記載の式（Ｉ）で示され
るベンゾフェノンを紫外線吸収剤として使用する方法。 - 【請求項８】 分子量が好ましくは６００以上である請
求項１〜３のいずれかに記載の式（Ｉ）で示される少な
くとも１つのベンゾフェノンの有効量で安定化された有
機ポリマー組成物。 - 【請求項９】 式（Ｉ）で示される少なくとも１つのベ
ンゾフェノンと、一般式（IV) 【化４】 （式中、Ｒ2 は炭素原子１〜３０個を有する直鎖もしく
は分枝鎖のアルキル基を表す）で示される少なくとも１
つのベンゾフェノンとの有効量によって安定化された請
求項８に記載の組成物。 - 【請求項１０】 安定化すべきポリマーの重量に対し
て、式（Ｉ）のベンゾフェノンを０．００５〜５重量
％、好ましくは０．０１〜２重量％含むか、または安定
化すべきポリマーの重量に対して、式（Ｉ）のベンゾフ
ェノンと、式（IV) のベンゾフェノンとの混合物を０．
００５〜５重量％、好ましくは０．０１〜２重量％含む
請求項８または９に記載の組成物。 - 【請求項１１】 ポリマーが、ポリオレフィン（ポリス
チレンを含む）を重量で少なくとも１／３、有利には１
／２含み、かつ基Ｒ1 が炭素原子を有利には少なくとも
１２個、好ましくは１４個有する請求項８〜１０のいず
れかに記載の組成物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9109694A FR2679553B1 (fr) | 1991-07-25 | 1991-07-25 | Nouvelles benzophenones a fonction ester et leur utilisation dans les polymeres. |
| FR9109694 | 1991-07-25 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05213818A true JPH05213818A (ja) | 1993-08-24 |
Family
ID=9415741
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4198643A Pending JPH05213818A (ja) | 1991-07-25 | 1992-07-24 | エステル化ベンゾフェノン誘導体、合成および使用方法、これを含むポリマー組成物 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5281645A (ja) |
| EP (1) | EP0527067A1 (ja) |
| JP (1) | JPH05213818A (ja) |
| CA (1) | CA2074650A1 (ja) |
| FR (1) | FR2679553B1 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB9615354D0 (en) * | 1996-07-22 | 1996-09-04 | Clariant Int Ltd | Organic compounds |
| US6059991A (en) | 1997-12-12 | 2000-05-09 | Troy Technology Corporation, Inc. | Stabilized composition containing halopropynyl compounds |
| US5938825A (en) * | 1998-05-21 | 1999-08-17 | Troy Technology Corporation Inc. | Stabilized antimicrobial compositions containing halopropynyl compounds |
| US6472424B1 (en) | 2000-06-07 | 2002-10-29 | Troy Technology Corporation, Inc. | Stabilized antimicrobial compositions containing halopropynyl compounds and benzylidene camphors |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3580927A (en) * | 1967-11-24 | 1971-05-25 | Minnesota Mining & Mfg | Ultraviolet light inhibitors |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3644485A (en) * | 1969-04-14 | 1972-02-22 | Eastman Kodak Co | 2-hydroxy-4-(2 - hydroxyethoxy) benzophenone esters and their use as stabilizers |
| US4261912A (en) * | 1979-08-01 | 1981-04-14 | Gaf Corporation | Ester of ω,ω-bis(dialkylhydroxyphenyl) alkanols as effective antioxidants |
| DE3438190A1 (de) * | 1984-10-18 | 1986-04-24 | Riedel-De Haen Ag, 3016 Seelze | Uv-licht-stabilisator auf benzophenon-basis |
| DE3930516A1 (de) * | 1989-09-13 | 1991-03-21 | Riedel De Haen Ag | Benzophenonether-ester, verfahren zu ihrer herstellung, sowie ihre verwendung zur verbesserung der lichtstabilitaet von polyesterfaerbungen |
-
1991
- 1991-07-25 FR FR9109694A patent/FR2679553B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1992
- 1992-06-29 EP EP92401834A patent/EP0527067A1/fr not_active Withdrawn
- 1992-07-24 US US07/917,893 patent/US5281645A/en not_active Expired - Fee Related
- 1992-07-24 JP JP4198643A patent/JPH05213818A/ja active Pending
- 1992-07-24 CA CA002074650A patent/CA2074650A1/fr not_active Abandoned
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3580927A (en) * | 1967-11-24 | 1971-05-25 | Minnesota Mining & Mfg | Ultraviolet light inhibitors |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2679553B1 (fr) | 1995-08-11 |
| EP0527067A1 (fr) | 1993-02-10 |
| FR2679553A1 (fr) | 1993-01-29 |
| CA2074650A1 (fr) | 1993-01-26 |
| US5281645A (en) | 1994-01-25 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
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