JPH0521582A - ウエハーホルダ - Google Patents
ウエハーホルダInfo
- Publication number
- JPH0521582A JPH0521582A JP3168563A JP16856391A JPH0521582A JP H0521582 A JPH0521582 A JP H0521582A JP 3168563 A JP3168563 A JP 3168563A JP 16856391 A JP16856391 A JP 16856391A JP H0521582 A JPH0521582 A JP H0521582A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- holder
- outer frame
- held
- diameter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ウエハーホルダに関し，小さな径のウエハー
をそれより大きい径の製造ラインで流すことを可能にす
るウエハーホルダの提供を目的とする。 【構成】 被保持ウエハー４より径の大きいウエハーの
外周に等しい外周及び被保持ウエハー４が収容可能な内
周を有するホルダ外枠１と, ホルダ外枠１の内周に固定
された少なくとも３組のウエハー保持部を有し，各ウエ
ハー保持部は被保持ウエハー４の端を支える爪３と, 爪
３とホルダ外枠１を接続する金具２を有するウエハーホ
ルダにより構成する。また，ホルダ外枠１及び爪３は石
英製であるように構成する。
をそれより大きい径の製造ラインで流すことを可能にす
るウエハーホルダの提供を目的とする。 【構成】 被保持ウエハー４より径の大きいウエハーの
外周に等しい外周及び被保持ウエハー４が収容可能な内
周を有するホルダ外枠１と, ホルダ外枠１の内周に固定
された少なくとも３組のウエハー保持部を有し，各ウエ
ハー保持部は被保持ウエハー４の端を支える爪３と, 爪
３とホルダ外枠１を接続する金具２を有するウエハーホ
ルダにより構成する。また，ホルダ外枠１及び爪３は石
英製であるように構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はウエハーホルダに関す
る。近年，シリコンウエハーは大口径化される傾向にあ
り，工場における半導体装置の量産ラインのあらゆる装
置が大口径ウエハー対応のものに変わりつつある。
る。近年，シリコンウエハーは大口径化される傾向にあ
り，工場における半導体装置の量産ラインのあらゆる装
置が大口径ウエハー対応のものに変わりつつある。
【０００２】しかし，生産の柔軟性において，大口径ウ
エハー対応の装置により，これまでに使用されている，
より小さいサイズの各種のウエハーが取り扱えることが
望ましい。
エハー対応の装置により，これまでに使用されている，
より小さいサイズの各種のウエハーが取り扱えることが
望ましい。
【０００３】
【従来の技術】従来，工場における半導体装置の製造で
は，製造ラインにより取り扱えるウエハーサイズが限定
されるのが一般である。したがって，ある工場の製造ラ
インは例えば６インチウエハーラインであり，ある工場
の製造ラインは例えば５インチウエハーラインであると
いった場合，お互いに異なるサイズのウエハーを融通し
あって製造を続けるということができず，製造装置の稼
働率の低下を来したり，手待ち時間の増加を来したりし
て不便であった。
は，製造ラインにより取り扱えるウエハーサイズが限定
されるのが一般である。したがって，ある工場の製造ラ
インは例えば６インチウエハーラインであり，ある工場
の製造ラインは例えば５インチウエハーラインであると
いった場合，お互いに異なるサイズのウエハーを融通し
あって製造を続けるということができず，製造装置の稼
働率の低下を来したり，手待ち時間の増加を来したりし
て不便であった。
【０００４】シリコンウエハーは大口径化される傾向に
あり，製造ラインのあらゆる装置が大口径ウエハー対応
のものに変わりつつある現状では，もし大口径ウエハー
対応の装置で，より小さいサイズのウエハーを取り扱え
れば極めて便利であり，生産性も向上する。
あり，製造ラインのあらゆる装置が大口径ウエハー対応
のものに変わりつつある現状では，もし大口径ウエハー
対応の装置で，より小さいサイズのウエハーを取り扱え
れば極めて便利であり，生産性も向上する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は，上記の問題
に鑑み，大口径ウエハーを用いる製造ラインで，より小
さなサイズのウエハーを取り扱えるように工夫を施した
ウエハーホルダを提供することを目的とする。
に鑑み，大口径ウエハーを用いる製造ラインで，より小
さなサイズのウエハーを取り扱えるように工夫を施した
ウエハーホルダを提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】図１(a) , (b) は本発明
のウエハーホルダの平面図と断面図である。上記課題
は，被保持ウエハー４より径の大きいウエハーの外周に
等しい外周及び該被保持ウエハー４が収容可能な内周を
有するホルダ外枠１と, 該ホルダ外枠１の内周に固定さ
れた少なくとも３組のウエハー保持部を有し，各ウエハ
ー保持部は該被保持ウエハー４の端を支える爪３と, 該
爪３と該ホルダ外枠１を接続する金具２を有するウエハ
ーホルダによって解決される。
のウエハーホルダの平面図と断面図である。上記課題
は，被保持ウエハー４より径の大きいウエハーの外周に
等しい外周及び該被保持ウエハー４が収容可能な内周を
有するホルダ外枠１と, 該ホルダ外枠１の内周に固定さ
れた少なくとも３組のウエハー保持部を有し，各ウエハ
ー保持部は該被保持ウエハー４の端を支える爪３と, 該
爪３と該ホルダ外枠１を接続する金具２を有するウエハ
ーホルダによって解決される。
【０００７】また，前記ホルダ外枠１及び前記爪３は石
英製であるウエハーホルダによって解決される。
英製であるウエハーホルダによって解決される。
【０００８】
【作用】本発明では，ウエハーホルダの外周を被保持ウ
エハー４より径の大きいウエハーの外周に等しくしてい
る。ウエハーホルダの外周を大口径ウエハーを用いる製
造ラインで流すウエハーの外周に等しくしておくことに
より，そこに保持された径の小さいウエハーをあたかも
大口径ウエハーであるかのように見なして流すことがで
きるから，生産の融通性が高くなる。
エハー４より径の大きいウエハーの外周に等しくしてい
る。ウエハーホルダの外周を大口径ウエハーを用いる製
造ラインで流すウエハーの外周に等しくしておくことに
より，そこに保持された径の小さいウエハーをあたかも
大口径ウエハーであるかのように見なして流すことがで
きるから，生産の融通性が高くなる。
【０００９】ウエハー保持部は被保持ウエハー４の端を
支える爪３と, 爪３とホルダ外枠１を接続する金具２を
有するから，保持しようとするウエハーのサイズに応じ
て爪３と金具２の長さを選択すれば各種のサイズのウエ
ハーに対応できる。
支える爪３と, 爪３とホルダ外枠１を接続する金具２を
有するから，保持しようとするウエハーのサイズに応じ
て爪３と金具２の長さを選択すれば各種のサイズのウエ
ハーに対応できる。
【００１０】金具２を例えばばねにして，爪３を被保持
ウエハーの端に押しつけるような構造にすれば，ウエハ
ーの挿入が簡単でしかも確実に保持できる。ウエハー保
持部を３組以上設ければ，安定に保持できる。
ウエハーの端に押しつけるような構造にすれば，ウエハ
ーの挿入が簡単でしかも確実に保持できる。ウエハー保
持部を３組以上設ければ，安定に保持できる。
【００１１】また，半導体装置の製造工程では高温を必
要とする工程があり，ウエハーの汚染は極力避けねばな
らない。ホルダ外枠１と爪３を石英製にすることによっ
て，それらに対処することができる。
要とする工程があり，ウエハーの汚染は極力避けねばな
らない。ホルダ外枠１と爪３を石英製にすることによっ
て，それらに対処することができる。
【００１２】
【実施例】図１は本発明のウエハーホルダの平面図と断
面図であり，(a) は平面図，(b)はＡ−Ａ断面図であ
り，１はホルダ外枠，２はねじ，３は爪，４はウエハ
ー，５はオリエンテーションフラットを表す。
面図であり，(a) は平面図，(b)はＡ−Ａ断面図であ
り，１はホルダ外枠，２はねじ，３は爪，４はウエハ
ー，５はオリエンテーションフラットを表す。
【００１３】一例として，６インチウエハーラインで４
インチウエハーを取り扱う場合について述べる。ホルダ
外枠１は石英製で，その外周は６インチウエハーに等し
く，外径ｄ1 は150 mm, 内径ｄ2 は140 mmである。ホル
ダ外枠の断面は５mm×５mmである。
インチウエハーを取り扱う場合について述べる。ホルダ
外枠１は石英製で，その外周は６インチウエハーに等し
く，外径ｄ1 は150 mm, 内径ｄ2 は140 mmである。ホル
ダ外枠の断面は５mm×５mmである。
【００１４】４インチウエハー４の径ｄW は100 mmで，
その端は３箇所で保持される。ウエハー保持部はオリエ
ンテーションフラット５に１組，その両側に約 120度の
開きをもって１組づつ配置する。爪３は石英製で，爪３
とホルダ外枠１の内周はねじ２で接続する。
その端は３箇所で保持される。ウエハー保持部はオリエ
ンテーションフラット５に１組，その両側に約 120度の
開きをもって１組づつ配置する。爪３は石英製で，爪３
とホルダ外枠１の内周はねじ２で接続する。
【００１５】このように４インチウエハー４を保持した
ウエハーホルダを６インチウエハーラインに設置して，
製造工程に流す。ウエハーホルダは高温処理に耐える耐
熱性と，さらにウエハーを汚染しないことが要求され
る。この観点からホルダ外枠１と爪３は石英製とする。
ウエハーホルダを６インチウエハーラインに設置して，
製造工程に流す。ウエハーホルダは高温処理に耐える耐
熱性と，さらにウエハーを汚染しないことが要求され
る。この観点からホルダ外枠１と爪３は石英製とする。
【００１６】ホルダ外枠１の外周と内周の径の差，ｄ1
−ｄ2 ，を１cm程度にしておき，爪３とねじ２は各種の
長さのものを予め準備しておくことにより，ホルダ外枠
１の外周と等しい外周を持つウエハーより１インチ以下
の径を持つ各種のウエハーを取り扱うことができる。
−ｄ2 ，を１cm程度にしておき，爪３とねじ２は各種の
長さのものを予め準備しておくことにより，ホルダ外枠
１の外周と等しい外周を持つウエハーより１インチ以下
の径を持つ各種のウエハーを取り扱うことができる。
【００１７】なお，金具２はねじを用いる他にばねを使
用してもよい。
用してもよい。
【００１８】
【発明の効果】以上説明したように，本発明によれば，
大口径ウエハーを取り扱う製造ラインで，より小さなサ
イズのウエハーを取り扱えるので，生産の柔軟性が上が
り，工場間でのウエハーの融通性が上がる。
大口径ウエハーを取り扱う製造ラインで，より小さなサ
イズのウエハーを取り扱えるので，生産の柔軟性が上が
り，工場間でのウエハーの融通性が上がる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のウエハーホルダの平面図と断面図で，
(a) は平面図，(b) はＡ−Ａ断面図である。
(a) は平面図，(b) はＡ−Ａ断面図である。
１はホルダ外枠
２は金具であってねじ
３は爪
４はウエハーであって被保持ウエハー
５はオリエンテーションフラット
Claims (2)
- 【請求項１】 被保持ウエハー(4) より径の大きいウエ
ハーの外周に等しい外周及び該被保持ウエハー(4) が収
容可能な内周を有するホルダ外枠(1) と, 該ホルダ外枠
(1) の内周に固定された少なくとも３組のウエハー保持
部を有し，各ウエハー保持部は該被保持ウエハー(4) の
端を支える爪(3) と, 該爪(3) と該ホルダ外枠(1) を接
続する金具(2) を有することを特徴とするウエハーホル
ダ。 - 【請求項２】 前記ホルダ外枠(1) 及び前記爪(3) は石
英製であることを特徴とする請求項１記載のウエハーホ
ルダ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3168563A JPH0521582A (ja) | 1991-07-10 | 1991-07-10 | ウエハーホルダ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3168563A JPH0521582A (ja) | 1991-07-10 | 1991-07-10 | ウエハーホルダ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0521582A true JPH0521582A (ja) | 1993-01-29 |
Family
ID=15870356
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3168563A Withdrawn JPH0521582A (ja) | 1991-07-10 | 1991-07-10 | ウエハーホルダ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0521582A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100221651B1 (ko) * | 1996-05-10 | 1999-09-15 | 윤종용 | 스크린 프린트 장치의 웨이퍼 고정용 지그 |
| EP1136887A3 (en) * | 2000-03-16 | 2003-06-18 | ASML Netherlands B.V. | Substrate holder for lithographic apparatus |
| JP2009272464A (ja) * | 2008-05-08 | 2009-11-19 | Techno Fine:Kk | サンプル保持機構 |
| JP2012060006A (ja) * | 2010-09-10 | 2012-03-22 | Toyota Motor Corp | 半導体ウエハを支持する支持具 |
-
1991
- 1991-07-10 JP JP3168563A patent/JPH0521582A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100221651B1 (ko) * | 1996-05-10 | 1999-09-15 | 윤종용 | 스크린 프린트 장치의 웨이퍼 고정용 지그 |
| EP1136887A3 (en) * | 2000-03-16 | 2003-06-18 | ASML Netherlands B.V. | Substrate holder for lithographic apparatus |
| JP2009272464A (ja) * | 2008-05-08 | 2009-11-19 | Techno Fine:Kk | サンプル保持機構 |
| JP2012060006A (ja) * | 2010-09-10 | 2012-03-22 | Toyota Motor Corp | 半導体ウエハを支持する支持具 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19981008 |