JPH0521769A - 固体撮像素子 - Google Patents
固体撮像素子Info
- Publication number
- JPH0521769A JPH0521769A JP3174167A JP17416791A JPH0521769A JP H0521769 A JPH0521769 A JP H0521769A JP 3174167 A JP3174167 A JP 3174167A JP 17416791 A JP17416791 A JP 17416791A JP H0521769 A JPH0521769 A JP H0521769A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens layer
- solid
- width
- substrate
- lens
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F77/00—Constructional details of devices covered by this subclass
- H10F77/40—Optical elements or arrangements
- H10F77/413—Optical elements or arrangements directly associated or integrated with the devices, e.g. back reflectors
Landscapes
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 固体撮像素子における光の集中度及び感度を
向上させる。 【構成】 第１のレンズ層３の上に第２のレンズ層４が
軟化処理を施されて形成されている。第１のレンズ層３
を帯状に形成し、その長手方向の一部に重畳する状態で
第２のレンズ層４を形成しておき、第２のレンズ層４を
軟化させる際に、第１のレンズ層３の幅方向両側で垂ら
した状態にさせ、第１のレンズ層３の長手方向両側は第
１のレンズ層３の上に留まるようにする。これにより第
２のレンズ層４の一方向断面における曲面が平坦な基板
１上に形成され、他の方向断面における曲面が平坦な第
１のレンズ層３の上に形成される。よって、２方向にお
けるマイクロレンズの基板１からの高さが同一であって
も、第１のレンズ層３の厚みを変えることにより、一つ
の方向における曲率が決まる第２のレンズ層４の高さを
変えることができる。第２のレンズ層２の高さを前記一
つの方向の曲率に関連する幅に応じた値にすることによ
り、その幅が他の一つの方向における幅と異なっても２
方向の曲率を同一に揃えることができる。
向上させる。 【構成】 第１のレンズ層３の上に第２のレンズ層４が
軟化処理を施されて形成されている。第１のレンズ層３
を帯状に形成し、その長手方向の一部に重畳する状態で
第２のレンズ層４を形成しておき、第２のレンズ層４を
軟化させる際に、第１のレンズ層３の幅方向両側で垂ら
した状態にさせ、第１のレンズ層３の長手方向両側は第
１のレンズ層３の上に留まるようにする。これにより第
２のレンズ層４の一方向断面における曲面が平坦な基板
１上に形成され、他の方向断面における曲面が平坦な第
１のレンズ層３の上に形成される。よって、２方向にお
けるマイクロレンズの基板１からの高さが同一であって
も、第１のレンズ層３の厚みを変えることにより、一つ
の方向における曲率が決まる第２のレンズ層４の高さを
変えることができる。第２のレンズ層２の高さを前記一
つの方向の曲率に関連する幅に応じた値にすることによ
り、その幅が他の一つの方向における幅と異なっても２
方向の曲率を同一に揃えることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばムービー用撮像
器、スチルカメラ、ファックス及びワープロ等の画像入
力手段に使用され、透明な樹脂などからなるマイクロレ
ンズを一体的に備えた固体撮像素子に関する。
器、スチルカメラ、ファックス及びワープロ等の画像入
力手段に使用され、透明な樹脂などからなるマイクロレ
ンズを一体的に備えた固体撮像素子に関する。
【０００２】
【従来の技術】上記固体撮像素子としては、図８に示す
構造のものが知られている。この固体撮像素子は、基板
１１の上層部に設けた画素としてのフォトダイオード１
２の上方に透明な樹脂からなるマイクロレンズ１３が形
成され、このマイクロレンズ１３を介して光をフォトダ
イオード１２に集中して入射させ、感度を向上させる構
成となっている。なお、１６はＣＣＤ（電荷転送素子）
を構成するレジスタ部であり、ハッチングで示す１７は
フォトダイオード１２、レジスタ部１６等が形成された
基板１１の上表面の凹凸を平坦化する平坦化膜である。
構造のものが知られている。この固体撮像素子は、基板
１１の上層部に設けた画素としてのフォトダイオード１
２の上方に透明な樹脂からなるマイクロレンズ１３が形
成され、このマイクロレンズ１３を介して光をフォトダ
イオード１２に集中して入射させ、感度を向上させる構
成となっている。なお、１６はＣＣＤ（電荷転送素子）
を構成するレジスタ部であり、ハッチングで示す１７は
フォトダイオード１２、レジスタ部１６等が形成された
基板１１の上表面の凹凸を平坦化する平坦化膜である。
【０００３】上記マイクロレンズ１３としては、図９
（ａ）、（ｂ）に示すように、帯状をしたマイクロレン
ズ１４や長方形状をしたマイクロレンズ１５が存在す
る。これらマイクロレンズ１４、１５は、それぞれ次の
ようにして形成される。まず、図１０（ａ）、（ｂ）に
示すように、フォトダイオード及びレジスタ部が形成さ
れ、かつ平坦化膜により上表面が平坦化された基板１１
上に、樹脂又はレジストを用いてフォトエッチング等に
より帯状又は長方形状のパターン１４ａ、１５ｂを形成
する。その後、加熱等により、前記パターン１４ａ、１
５ｂを軟化させ、表面張力によって凸状の曲面形状とす
ることにより形成される。
（ａ）、（ｂ）に示すように、帯状をしたマイクロレン
ズ１４や長方形状をしたマイクロレンズ１５が存在す
る。これらマイクロレンズ１４、１５は、それぞれ次の
ようにして形成される。まず、図１０（ａ）、（ｂ）に
示すように、フォトダイオード及びレジスタ部が形成さ
れ、かつ平坦化膜により上表面が平坦化された基板１１
上に、樹脂又はレジストを用いてフォトエッチング等に
より帯状又は長方形状のパターン１４ａ、１５ｂを形成
する。その後、加熱等により、前記パターン１４ａ、１
５ｂを軟化させ、表面張力によって凸状の曲面形状とす
ることにより形成される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した２
種類のマイクロレンズのうち長方形状をしたマイクロレ
ンズ１５は、図１１に示すようにフォトダイオード１２
との位置関係に応じて配列ピッチが決定され、しかも感
度の向上を図るためには隣合うもの同士の間隔をできる
だけ狭くして大きな面積とすべく、長方形状に形成され
る。なお、このマイクロレンズ１５を正方形に形成した
場合には、面積が小さくなって感度が若干低下するもの
となる。
種類のマイクロレンズのうち長方形状をしたマイクロレ
ンズ１５は、図１１に示すようにフォトダイオード１２
との位置関係に応じて配列ピッチが決定され、しかも感
度の向上を図るためには隣合うもの同士の間隔をできる
だけ狭くして大きな面積とすべく、長方形状に形成され
る。なお、このマイクロレンズ１５を正方形に形成した
場合には、面積が小さくなって感度が若干低下するもの
となる。
【０００５】したがって、マイクロレンズ１５は上述し
たように長方形状をなしているために、図１２に示す高
さＨは同一であるが、幅Ｗが図１１に示すように縦方向
ａと横方向ｂで異なっている。このため、マイクロレン
ズ１５の曲率はａ方向とｂ方向において異なる。この状
態において、例えばａ方向の幅Ｗが大、ｂ方向の幅Ｗが
小となっていると仮定した場合、ａ方向について幅Ｗが
適当な寸法となっていて図１３（ａ）に示すように良好
な集光状態が得られているときは、ｂ方向については幅
Ｗが短いものとなって同図（ｂ）に示すように不良な集
光状態となる。よって、従来の場合には、光の集中度お
よび感度を十分なレベルまで高くできず、改良の余地が
残されていた。
たように長方形状をなしているために、図１２に示す高
さＨは同一であるが、幅Ｗが図１１に示すように縦方向
ａと横方向ｂで異なっている。このため、マイクロレン
ズ１５の曲率はａ方向とｂ方向において異なる。この状
態において、例えばａ方向の幅Ｗが大、ｂ方向の幅Ｗが
小となっていると仮定した場合、ａ方向について幅Ｗが
適当な寸法となっていて図１３（ａ）に示すように良好
な集光状態が得られているときは、ｂ方向については幅
Ｗが短いものとなって同図（ｂ）に示すように不良な集
光状態となる。よって、従来の場合には、光の集中度お
よび感度を十分なレベルまで高くできず、改良の余地が
残されていた。
【０００６】本発明は、このような課題を解決するため
になされたものであり、光の集中度及び感度を更に向上
させ得る固体撮像素子を提供することを目的とする。
になされたものであり、光の集中度及び感度を更に向上
させ得る固体撮像素子を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の固体撮像素子
は、基板上に形成された受光部の上方にマイクロレンズ
が設けられた固体撮像素子において、該マイクロレンズ
が基板上に形成された第１のレンズ層と、該第１のレン
ズ層の上に形成された第２のレンズ層とで構成され、少
なくとも該第２のレンズ層が軟化処理を施されており、
そのことによって上記目的が達成される。
は、基板上に形成された受光部の上方にマイクロレンズ
が設けられた固体撮像素子において、該マイクロレンズ
が基板上に形成された第１のレンズ層と、該第１のレン
ズ層の上に形成された第２のレンズ層とで構成され、少
なくとも該第２のレンズ層が軟化処理を施されており、
そのことによって上記目的が達成される。
【０００８】
【作用】本発明にあっては、第１のレンズ層の上に第２
のレンズ層が軟化処理を施されて形成されている。この
ため、第１のレンズ層を帯状に形成し、その長手方向の
一部に重畳する状態で第２のレンズ層を形成しておき、
第２のレンズ層を軟化させる際に、第１のレンズ層の幅
方向両側で垂らした状態にさせ、第１のレンズ層の長手
方向両側は第１のレンズ層の上に留まるようにする。こ
れにより、第２のレンズ層の一方向断面における曲面が
平坦な基板上に形成され、他の方向断面における曲面が
平坦な第１のレンズ層の上に形成される。よって、２方
向におけるマイクロレンズの基板からの高さが同一であ
っても、第１のレンズ層の厚みを変えることにより、一
つの方向における曲率が決まる第２のレンズ層の高さを
変えることができる。このため、第２のレンズ層の高さ
を前記一つの方向の曲率に関連する幅に応じた値にする
ことにより、その幅が他の一つの方向における幅と異な
っていても２方向の曲率を同一に揃えることが可能とな
る。
のレンズ層が軟化処理を施されて形成されている。この
ため、第１のレンズ層を帯状に形成し、その長手方向の
一部に重畳する状態で第２のレンズ層を形成しておき、
第２のレンズ層を軟化させる際に、第１のレンズ層の幅
方向両側で垂らした状態にさせ、第１のレンズ層の長手
方向両側は第１のレンズ層の上に留まるようにする。こ
れにより、第２のレンズ層の一方向断面における曲面が
平坦な基板上に形成され、他の方向断面における曲面が
平坦な第１のレンズ層の上に形成される。よって、２方
向におけるマイクロレンズの基板からの高さが同一であ
っても、第１のレンズ層の厚みを変えることにより、一
つの方向における曲率が決まる第２のレンズ層の高さを
変えることができる。このため、第２のレンズ層の高さ
を前記一つの方向の曲率に関連する幅に応じた値にする
ことにより、その幅が他の一つの方向における幅と異な
っていても２方向の曲率を同一に揃えることが可能とな
る。
【０００９】
【実施例】本発明の実施例について以下に説明する。
【００１０】図１（ａ）は本発明の固体撮像素子を示す
正面図、同図（ｂ）はその側面図である。この固体撮像
素子は、基板１と、基板１の上に形成した平坦化膜２
と、平坦化膜２の上に形成した第１のレンズ層３と、第
１のレンズ層３の上に形成した第２のレンズ層４とを備
える。前記基板１は、上層部に図示しないフォトダイオ
ード、レジスタ部等が形成され、上表面が凹凸状をなし
ている。その上の平坦化膜２は基板１の上表面を平坦化
すべく形成され、この平坦化膜２により基板１上は平坦
とされている。
正面図、同図（ｂ）はその側面図である。この固体撮像
素子は、基板１と、基板１の上に形成した平坦化膜２
と、平坦化膜２の上に形成した第１のレンズ層３と、第
１のレンズ層３の上に形成した第２のレンズ層４とを備
える。前記基板１は、上層部に図示しないフォトダイオ
ード、レジスタ部等が形成され、上表面が凹凸状をなし
ている。その上の平坦化膜２は基板１の上表面を平坦化
すべく形成され、この平坦化膜２により基板１上は平坦
とされている。
【００１１】前記第１、第２のレンズ層３、４は、共に
同一の透明樹脂からなり、両レンズ層３、４の重畳部に
てマイクロレンズが形成されている。このマイクロレン
ズは、上述したフォトダイオードの上方に存在する位置
に配設され、光を集光してフォトダイオードへ入射させ
るようになっている。
同一の透明樹脂からなり、両レンズ層３、４の重畳部に
てマイクロレンズが形成されている。このマイクロレン
ズは、上述したフォトダイオードの上方に存在する位置
に配設され、光を集光してフォトダイオードへ入射させ
るようになっている。
【００１２】かかる固体撮像素子の製造は、次のように
行われる。まず、図２に示すように、フォトダイオー
ド、レジスタ部等が上層部に形成され、上表面が凹凸状
となった基板１の上に、平坦化膜２を形成する。なお、
必要であれば平坦化膜２の上にカラーフィルターを形成
し、更にそのカラーフィルターの表面を保護膜で覆って
もよい。
行われる。まず、図２に示すように、フォトダイオー
ド、レジスタ部等が上層部に形成され、上表面が凹凸状
となった基板１の上に、平坦化膜２を形成する。なお、
必要であれば平坦化膜２の上にカラーフィルターを形成
し、更にそのカラーフィルターの表面を保護膜で覆って
もよい。
【００１３】次いで、図３（ａ）（正面図）及び（ｂ）
（側面図）に示すように平坦化膜２の上に、第１のレン
ズ層３をストライプ状にパターン形成する。この第１の
レンズ層３は、マイクロレンズの一部を構成するため、
例えばアクリル樹脂やポリスチレン等の感光性を有し、
かつ透明度のよい材料を使用しており、その上からフォ
トマスクを用いて選択的に光を露光した後、不要部分を
除去することにより形成されている。
（側面図）に示すように平坦化膜２の上に、第１のレン
ズ層３をストライプ状にパターン形成する。この第１の
レンズ層３は、マイクロレンズの一部を構成するため、
例えばアクリル樹脂やポリスチレン等の感光性を有し、
かつ透明度のよい材料を使用しており、その上からフォ
トマスクを用いて選択的に光を露光した後、不要部分を
除去することにより形成されている。
【００１４】次いで、感光性を持ち、かつ透明度が高
く、高温処理によって軟化し、さらなる加温により硬化
させ得る材料、例えばアクリル樹脂、ノボラック樹脂、
ポリスチレン或はエポキシ樹脂等を用いて、図４（ａ）
（正面図）及び（ｂ）（側面図）に示すように、第２の
レンズ層４を島状に形成する。この形成は、例えば基板
１の上に全面にわたって第２のレンズ層４を塗布形成
し、その後フォトマスクを用いて選択的に光を露光し、
続いて不要部分を除去することにより第２のレンズ層４
を島状に残している。これにより、図５に示すストライ
プ状に形成された第１のレンズ層３の上に、図６に示す
ように島状になした第２のレンズ層４が形成される。
く、高温処理によって軟化し、さらなる加温により硬化
させ得る材料、例えばアクリル樹脂、ノボラック樹脂、
ポリスチレン或はエポキシ樹脂等を用いて、図４（ａ）
（正面図）及び（ｂ）（側面図）に示すように、第２の
レンズ層４を島状に形成する。この形成は、例えば基板
１の上に全面にわたって第２のレンズ層４を塗布形成
し、その後フォトマスクを用いて選択的に光を露光し、
続いて不要部分を除去することにより第２のレンズ層４
を島状に残している。これにより、図５に示すストライ
プ状に形成された第１のレンズ層３の上に、図６に示す
ように島状になした第２のレンズ層４が形成される。
【００１５】次いで、加熱を行って第２のレンズ層４を
軟化させる。この軟化を行うとき、図１（ａ）に示すよ
うに第２のレンズ層４が第１のレンズ層３の幅方向両側
から垂れた状態となすと共に、図１（ｂ）に示すように
第１のレンズ層３の長手方向両側では第１のレンズ層３
の上に存在する状態となす。これにより、第１のレンズ
層３と、その上の第２のレンズ層４部分及びその近傍部
分とでマイクロレンズが構成され、第２のレンズ層４の
一方向断面における曲面が平坦な基板１上に形成され、
他の方向断面における曲面が平坦な第１のレンズ層３の
上に形成される。なお、この加熱により第１のレンズ層
３も同様に軟化する場合には、第１のレンズ層３につい
ては、第２のレンズ層４を形成する前に、加熱等により
若干硬化させておくのが好ましい。
軟化させる。この軟化を行うとき、図１（ａ）に示すよ
うに第２のレンズ層４が第１のレンズ層３の幅方向両側
から垂れた状態となすと共に、図１（ｂ）に示すように
第１のレンズ層３の長手方向両側では第１のレンズ層３
の上に存在する状態となす。これにより、第１のレンズ
層３と、その上の第２のレンズ層４部分及びその近傍部
分とでマイクロレンズが構成され、第２のレンズ層４の
一方向断面における曲面が平坦な基板１上に形成され、
他の方向断面における曲面が平坦な第１のレンズ層３の
上に形成される。なお、この加熱により第１のレンズ層
３も同様に軟化する場合には、第１のレンズ層３につい
ては、第２のレンズ層４を形成する前に、加熱等により
若干硬化させておくのが好ましい。
【００１６】したがって、このように構成された固体撮
像素子においては、縦横２方向における集光状態を同一
に揃えることが可能となる。即ち、図７に示すごとく、
マイクロレンズの平坦化膜２と接する側の一方向断面に
おける高さはＨ１となり、平坦化膜２とは非接触で第１
のレンズ層３と接触している側の他の方向断面において
実質的にレンズとして機能する部分の高さはＨ２とな
る。このＨ２は、第１のレンズ層３の厚みｔを変えるこ
とにより調整される。このとき、前記高さＨ１、一方向
断面における幅Ｗ１及び他の方向断面における幅Ｗ２に
基づいて厚みｔを決定することにより、高さＨ１をもつ
一方向断面の曲面と、高さＨ２をもつ他の方向断面の曲
面を図示のように一致した状態にすることが可能とな
る。つまり、縦横２方向における曲率を同一に揃えるこ
とが可能となる。よって、集光状態を２方向で同一にな
して感度を十分なレベルにまで向上させ得る。
像素子においては、縦横２方向における集光状態を同一
に揃えることが可能となる。即ち、図７に示すごとく、
マイクロレンズの平坦化膜２と接する側の一方向断面に
おける高さはＨ１となり、平坦化膜２とは非接触で第１
のレンズ層３と接触している側の他の方向断面において
実質的にレンズとして機能する部分の高さはＨ２とな
る。このＨ２は、第１のレンズ層３の厚みｔを変えるこ
とにより調整される。このとき、前記高さＨ１、一方向
断面における幅Ｗ１及び他の方向断面における幅Ｗ２に
基づいて厚みｔを決定することにより、高さＨ１をもつ
一方向断面の曲面と、高さＨ２をもつ他の方向断面の曲
面を図示のように一致した状態にすることが可能とな
る。つまり、縦横２方向における曲率を同一に揃えるこ
とが可能となる。よって、集光状態を２方向で同一にな
して感度を十分なレベルにまで向上させ得る。
【００１７】なお、上記実施例では第２のレンズ層４を
第１のレンズ層３の上に島状に形成し軟化させるように
しているが、第２のレンズ層４は島状に形成する必要は
必ずしもなく、例えば図５に示すようにストライプ状に
形成した第１のレンズ層３の上に、これとは直交する方
向に第２のレンズ層４をストライプ状に形成し、その状
態で軟化させてマイクロレンズを形成するようにしても
よい。
第１のレンズ層３の上に島状に形成し軟化させるように
しているが、第２のレンズ層４は島状に形成する必要は
必ずしもなく、例えば図５に示すようにストライプ状に
形成した第１のレンズ層３の上に、これとは直交する方
向に第２のレンズ層４をストライプ状に形成し、その状
態で軟化させてマイクロレンズを形成するようにしても
よい。
【００１８】また、上記実施例では第２のレンズ層４を
軟化させるべく加熱させているが、この軟化は加熱に限
らず、マイクロ波照射、ＩＲ照射、紫外線照射、遠紫外
線照射又は電子ビーム照射等を用いてもよく、その場合
に用いる材料としては、上述するマイクロ波照射などに
より軟化する材料を使用する。但し、このような材料を
使用する場合は、その後硬化させる処理を行っておく。
軟化させるべく加熱させているが、この軟化は加熱に限
らず、マイクロ波照射、ＩＲ照射、紫外線照射、遠紫外
線照射又は電子ビーム照射等を用いてもよく、その場合
に用いる材料としては、上述するマイクロ波照射などに
より軟化する材料を使用する。但し、このような材料を
使用する場合は、その後硬化させる処理を行っておく。
【００１９】
【発明の効果】本発明の固体撮像素子の場合には、上述
したように縦横２方向におけるマイクロレンズの集光状
態を同一にできるので、感度を従来よりも数１０％向上
させることが可能となった。
したように縦横２方向におけるマイクロレンズの集光状
態を同一にできるので、感度を従来よりも数１０％向上
させることが可能となった。
【図１】（ａ）は本発明の固体撮像素子の正面図、
（ｂ）はその側面図。
（ｂ）はその側面図。
【図２】（ａ）は本発明の固体撮像素子の正面図、
（ｂ）はその側面図。
（ｂ）はその側面図。
【図３】（ａ）は本発明の固体撮像素子の正面図、
（ｂ）はその側面図。
（ｂ）はその側面図。
【図４】（ａ）は本発明の固体撮像素子の正面図、
（ｂ）はその側面図。
（ｂ）はその側面図。
【図５】第１のレンズ層３を基板１を上に形成した状態
を示す斜視図。
を示す斜視図。
【図６】第２のレンズ層４を第１のレンズ層３の上に形
成した状態を示す斜視図。
成した状態を示す斜視図。
【図７】図１に示す固体撮像素子の集光状態の説明図。
【図８】従来の固体撮像素子を示す正面断面図。
【図９】（ａ）は従来の帯状をしたマイクロレンズを示
す斜視図、（ｂ）は従来の長方形状をしたマイクロレン
ズを示す斜視図。
す斜視図、（ｂ）は従来の長方形状をしたマイクロレン
ズを示す斜視図。
【図１０】（ａ）は図９（ａ）のマイクロレンズの製造
途中を示す斜視図、（ｂ）は図９（ｂ）のマイクロレン
ズの製造途中を示す斜視図。
途中を示す斜視図、（ｂ）は図９（ｂ）のマイクロレン
ズの製造途中を示す斜視図。
【図１１】従来の固体撮像素子の平面図。
【図１２】マイクロレンズの曲率の説明図。
【図１３】（ａ）は良好な集光状態を示す図、（ｂ）は
不良な集光状態を示す図。
不良な集光状態を示す図。
１ 基板 ２ 平坦化膜 ３ 第１のレンズ層 ４ 第２のレンズ層
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】基板上に形成された受光部の上方にマイク
ロレンズが設けられた固体撮像素子において、 該マイクロレンズが基板上に形成された第１のレンズ層
と、該第１のレンズ層の上に形成された第２のレンズ層
とで構成され、少なくとも該第２のレンズ層が軟化処理
を施された固体撮像素子。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3174167A JPH0521769A (ja) | 1991-07-15 | 1991-07-15 | 固体撮像素子 |
| EP92301672A EP0523825B1 (en) | 1991-07-15 | 1992-02-27 | A solid-state imaging device provided with microlenses |
| US07/843,891 US5293267A (en) | 1991-07-15 | 1992-02-27 | Solid-state imaging device |
| DE69222814T DE69222814T2 (de) | 1991-07-15 | 1992-02-27 | Festkörperbildsensor mit Mikrolinsen |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3174167A JPH0521769A (ja) | 1991-07-15 | 1991-07-15 | 固体撮像素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0521769A true JPH0521769A (ja) | 1993-01-29 |
Family
ID=15973880
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3174167A Withdrawn JPH0521769A (ja) | 1991-07-15 | 1991-07-15 | 固体撮像素子 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5293267A (ja) |
| EP (1) | EP0523825B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0521769A (ja) |
| DE (1) | DE69222814T2 (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05335531A (ja) * | 1992-05-27 | 1993-12-17 | Sharp Corp | 固体撮像装置 |
| KR0147401B1 (ko) * | 1994-02-23 | 1998-08-01 | 구본준 | 고체촬상소자 및 그 제조방법 |
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