JPH0522814Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0522814Y2 JPH0522814Y2 JP1986007621U JP762186U JPH0522814Y2 JP H0522814 Y2 JPH0522814 Y2 JP H0522814Y2 JP 1986007621 U JP1986007621 U JP 1986007621U JP 762186 U JP762186 U JP 762186U JP H0522814 Y2 JPH0522814 Y2 JP H0522814Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- axis
- coordinate values
- marker
- axis coordinate
- measurement point
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
産業上の利用分野
本考案はＸ−Ｙテーブルに被測定物を載せて寸
法の測定を行い、校正板によつてその測定値の補
正を行う演算装置を備えた寸法測定装置に関す
る。
法の測定を行い、校正板によつてその測定値の補
正を行う演算装置を備えた寸法測定装置に関す
る。
従来の技術
寸法を測定する装置は色々あつて、極めて一般
的で身近な物差がある一方で、レーザ光線を使用
した複雑な装置等があり、その使用目的と測定精
度とによつて様々に使い分けられている。寸法を
測るこれらの装置の一つにＸ、Ｙ方向に動くＸ−
Ｙテーブルと、それぞれの方向の移動量を測定す
るリニアスケールおよび位置決めを行う照準装置
等を備えた寸法測定装置がある。この装置はＸ−
Ｙテーブルに被測定物を載せ、Ｘ−Ｙテーブルを
動かして測定しようとするポイントを照準装置の
カーソルに合わせる。その時のＸ−Ｙテーブルの
Ｘ，Ｙ両方向のそれぞれの移動量を測定すること
により、被測定物の寸法を測つている。そのため
Ｘ方向に移動する時にはＹ方向の移動量は０であ
り、Ｙ方向に動く時にはＸ方向の移動量は０であ
るとの仮定の元に測定を行つている。
的で身近な物差がある一方で、レーザ光線を使用
した複雑な装置等があり、その使用目的と測定精
度とによつて様々に使い分けられている。寸法を
測るこれらの装置の一つにＸ、Ｙ方向に動くＸ−
Ｙテーブルと、それぞれの方向の移動量を測定す
るリニアスケールおよび位置決めを行う照準装置
等を備えた寸法測定装置がある。この装置はＸ−
Ｙテーブルに被測定物を載せ、Ｘ−Ｙテーブルを
動かして測定しようとするポイントを照準装置の
カーソルに合わせる。その時のＸ−Ｙテーブルの
Ｘ，Ｙ両方向のそれぞれの移動量を測定すること
により、被測定物の寸法を測つている。そのため
Ｘ方向に移動する時にはＹ方向の移動量は０であ
り、Ｙ方向に動く時にはＸ方向の移動量は０であ
るとの仮定の元に測定を行つている。
考案が解決しようとする問題点
しかし実際にはそれぞれの方向の案内レールが
僅かに曲がつていることや、完全に直交していな
い等の狂いによつて測定値に誤差が生じる。その
狂いの度合に応じて測定精度は限られていた。し
かしながらくり返し精度は測定精度より高くでき
ており、誤差の生じ方は毎回ほぼ一定である。
僅かに曲がつていることや、完全に直交していな
い等の狂いによつて測定値に誤差が生じる。その
狂いの度合に応じて測定精度は限られていた。し
かしながらくり返し精度は測定精度より高くでき
ており、誤差の生じ方は毎回ほぼ一定である。
本考案は上記の性質に着目して創案されたもの
で、Ｘ−Ｙテーブルのくり返し精度に基づいた高
い精度の測定を行うことが可能な寸法測定装置を
提供することを目的としている。
で、Ｘ−Ｙテーブルのくり返し精度に基づいた高
い精度の測定を行うことが可能な寸法測定装置を
提供することを目的としている。
問題点を解決するための手段
本考案の寸法測定装置は、本装置を校正するの
に用いられる板材であつて２次元的に配列された
複数のマーカを面上に形成してある校正板と、被
測定物の寸法測定を行う場合と同様に、Ｘ−Ｙテ
ーブル上の所定位置に校正板を置いて複数のマー
カのＸ軸・Ｙ軸座標値Ｂを得ることを前提に、当
該座標値に基づいて測定点のＸ軸・Ｙ軸座標値Ａ
を補正する演算部とを具備しており、且つ演算部
は、複数のマーカのＸ軸・Ｙ軸座標値Ｂをマーカ
毎に記録する手段と、予め用意された複数のマー
カの正確なＸ軸・Ｙ軸座標値Ｃをマーカ毎に記録
してある記憶部と、測定点のＸ軸・Ｙ軸座標値Ａ
と複数のマーカのＸ軸・Ｙ軸座標値Ｂとを比較す
ることにより、当該測定点を取り囲むマーカＭを
特定するとともに、マーカＭのＸ軸・Ｙ軸座標値
BMを求める手段と、記録部からマーカＭの正確
なＸ軸・Ｙ軸座標値CMを読み出す手段と、マー
カＭのＸ軸・Ｙ軸座標値BMとマーカＭの正確な
Ｘ軸・Ｙ軸座標値CMとの誤差を求める手段と、
当該誤差のデータに基づいて測定点のＸ軸・Ｙ軸
座標値Ａを補正する手段とから構成されているこ
とを特徴としている。
に用いられる板材であつて２次元的に配列された
複数のマーカを面上に形成してある校正板と、被
測定物の寸法測定を行う場合と同様に、Ｘ−Ｙテ
ーブル上の所定位置に校正板を置いて複数のマー
カのＸ軸・Ｙ軸座標値Ｂを得ることを前提に、当
該座標値に基づいて測定点のＸ軸・Ｙ軸座標値Ａ
を補正する演算部とを具備しており、且つ演算部
は、複数のマーカのＸ軸・Ｙ軸座標値Ｂをマーカ
毎に記録する手段と、予め用意された複数のマー
カの正確なＸ軸・Ｙ軸座標値Ｃをマーカ毎に記録
してある記憶部と、測定点のＸ軸・Ｙ軸座標値Ａ
と複数のマーカのＸ軸・Ｙ軸座標値Ｂとを比較す
ることにより、当該測定点を取り囲むマーカＭを
特定するとともに、マーカＭのＸ軸・Ｙ軸座標値
BMを求める手段と、記録部からマーカＭの正確
なＸ軸・Ｙ軸座標値CMを読み出す手段と、マー
カＭのＸ軸・Ｙ軸座標値BMとマーカＭの正確な
Ｘ軸・Ｙ軸座標値CMとの誤差を求める手段と、
当該誤差のデータに基づいて測定点のＸ軸・Ｙ軸
座標値Ａを補正する手段とから構成されているこ
とを特徴としている。
作 用
被測定物の寸法測定を行う場合と同様に、校正
板をＸ−Ｙテーブル上に置いて複数のマーカのＸ
軸・Ｙ軸座標値Ｂを求めて予め記録しておく（マ
ーカＭのＸ軸・Ｙ軸座標値をBMとして表すとす
る）。一方で、複数のマーカの正確なＸ軸・Ｙ軸
座標値Ｃを予め用意して記録しておく（マーカＭ
の正確なＸ軸・Ｙ軸座標値をCMとして表すとす
る）。
板をＸ−Ｙテーブル上に置いて複数のマーカのＸ
軸・Ｙ軸座標値Ｂを求めて予め記録しておく（マ
ーカＭのＸ軸・Ｙ軸座標値をBMとして表すとす
る）。一方で、複数のマーカの正確なＸ軸・Ｙ軸
座標値Ｃを予め用意して記録しておく（マーカＭ
の正確なＸ軸・Ｙ軸座標値をCMとして表すとす
る）。
被測定物をＸ−Ｙテーブル上に置き、測定点の
Ｘ軸・Ｙ軸座標値Ａを求める。以下の処理により
測定点のＸ軸・Ｙ軸座標値Ａの補正を行う。
Ｘ軸・Ｙ軸座標値Ａを求める。以下の処理により
測定点のＸ軸・Ｙ軸座標値Ａの補正を行う。
まず、測定点のＸ軸・Ｙ軸座標値Ａと複数のマ
ーカのＸ軸・Ｙ軸座標値Ｂとを比較することによ
り、前記測定点を取り囲むマーカＭを特定し、マ
ーカＭのＸ軸・Ｙ軸座標値BM、マーカＭの正確
なＸ軸・Ｙ軸座標値CMを読み出す。
ーカのＸ軸・Ｙ軸座標値Ｂとを比較することによ
り、前記測定点を取り囲むマーカＭを特定し、マ
ーカＭのＸ軸・Ｙ軸座標値BM、マーカＭの正確
なＸ軸・Ｙ軸座標値CMを読み出す。
そしてマーカＭのＸ軸・Ｙ軸座標値BMとマー
カＭの正確なＸ軸・Ｙ軸座標値CMとの誤差を求
める。この誤差のデータに基づいて測定点のＸ
軸・Ｙ軸座標値Ａを補正する。
カＭの正確なＸ軸・Ｙ軸座標値CMとの誤差を求
める。この誤差のデータに基づいて測定点のＸ
軸・Ｙ軸座標値Ａを補正する。
実施例
第１図は本考案の一実施例の概略を示す斜視図
である。図においてＸ−Ｙテーブル１１は互いに
直交する向きに移動するＸ軸テーブル２６とＹ軸
テーブル２３とから構成され、Ｙ軸テーブル２３
は基板２１上に固定された平行な２本のＹ軸レー
ル２２に案内されて、Ｘ軸テーブル２６はＹ軸テ
ーブル２３上に設けられた２本の平行なＸ軸レー
ル２５に導かれて移動する。Ｙ軸リニアスケール
１３は基板２１上に、Ｘ軸リニアスケール１２は
Ｙ軸テーブル２３に固定して取り付けられ、各テ
ーブル２３，２６の移動量を電気信号に変換す
る。この電気信号はインタフエース５３、例えば
リニアスケールカウンタ等を介して演算装置１５
に取り込まれる。演算装置１５としてはキーボー
ド５１、CRT５２等を有する小型コンピユータ
を採用している。
である。図においてＸ−Ｙテーブル１１は互いに
直交する向きに移動するＸ軸テーブル２６とＹ軸
テーブル２３とから構成され、Ｙ軸テーブル２３
は基板２１上に固定された平行な２本のＹ軸レー
ル２２に案内されて、Ｘ軸テーブル２６はＹ軸テ
ーブル２３上に設けられた２本の平行なＸ軸レー
ル２５に導かれて移動する。Ｙ軸リニアスケール
１３は基板２１上に、Ｘ軸リニアスケール１２は
Ｙ軸テーブル２３に固定して取り付けられ、各テ
ーブル２３，２６の移動量を電気信号に変換す
る。この電気信号はインタフエース５３、例えば
リニアスケールカウンタ等を介して演算装置１５
に取り込まれる。演算装置１５としてはキーボー
ド５１、CRT５２等を有する小型コンピユータ
を採用している。
Ｘ軸テーブル２６の上に被測定物３２として、
例えばPCボード等を載置した状態においてＸ−
Ｙテーブル１１を移動させ、被測定物３２の測定
点を所定の位置にもつてくるとき、精度よくそれ
を実現するための照準を与える照準装置４１とし
て、例えば光学顕微鏡等が、図示されていない支
持部によつてＸ−Ｙテーブル１１上の空間に固定
されている。そしてＸ軸テーブル２６上には被測
定物３２をＸ軸テーブル２６上の一定の位置に常
に置くことができるようにするため、当て板３１
が取り付けられている。
例えばPCボード等を載置した状態においてＸ−
Ｙテーブル１１を移動させ、被測定物３２の測定
点を所定の位置にもつてくるとき、精度よくそれ
を実現するための照準を与える照準装置４１とし
て、例えば光学顕微鏡等が、図示されていない支
持部によつてＸ−Ｙテーブル１１上の空間に固定
されている。そしてＸ軸テーブル２６上には被測
定物３２をＸ軸テーブル２６上の一定の位置に常
に置くことができるようにするため、当て板３１
が取り付けられている。
第２図は、本考案の校正板の一実施例を示す部
分図である。
分図である。
校正板１７は、校正板本体の表面にマーカを形
成したものであるが、校正板１７は精度を必要と
することから、校正板本体には、変形しにくい材
質として、例えばアルコアプラスプレートの商品
名で販売されている歪みの除去されたアルミ板が
使用されている。
成したものであるが、校正板１７は精度を必要と
することから、校正板本体には、変形しにくい材
質として、例えばアルコアプラスプレートの商品
名で販売されている歪みの除去されたアルミ板が
使用されている。
またマーカは、枡目の交点毎に形成された微小
半径の孔１によつて構成されており、各孔１は、
校正板１７をＸ軸テーブル２６に載置したとき、
当て板３１に接する角を基準位置として、Ｘ方向
およびＹ方向のそれぞれの方向において、基準位
置との位置関係を示す正確な値が、極めて精密な
測定器によつて予め測定されており、その測定値
の一覧は、校正板１７と対になるリストとして前
もつて用意されている。
半径の孔１によつて構成されており、各孔１は、
校正板１７をＸ軸テーブル２６に載置したとき、
当て板３１に接する角を基準位置として、Ｘ方向
およびＹ方向のそれぞれの方向において、基準位
置との位置関係を示す正確な値が、極めて精密な
測定器によつて予め測定されており、その測定値
の一覧は、校正板１７と対になるリストとして前
もつて用意されている。
では第３図を参照しつつ、誤差の補正の方法に
ついて説明する。４つの点１a1〜１a4は校正板１
７の孔１ａの中心位置を示している。
ついて説明する。４つの点１a1〜１a4は校正板１
７の孔１ａの中心位置を示している。
この校正板１７を、その基準位置となる角が当
て板３１に接するようにＸ−Ｙテーブル１１に載
置した状態において測定を行い、その結果得られ
た値（Ｘ軸リニアスケール１２およびＹ軸リニア
スケール１３によつて与えられる値）を、４つの
点１a1〜１a4について（x1、y1）〜（x4、y4）と
おき、その各孔１a1〜１a4の正確な位置の値を
（X1、Y1）〜（X4、Y4）とおく。各測定値（x1、
y1）〜（x4、y4）には誤差があり、その誤差を示
す値である誤差値を（Δx1、Δy1）〜（Δx4、
Δy4）とおく。
て板３１に接するようにＸ−Ｙテーブル１１に載
置した状態において測定を行い、その結果得られ
た値（Ｘ軸リニアスケール１２およびＹ軸リニア
スケール１３によつて与えられる値）を、４つの
点１a1〜１a4について（x1、y1）〜（x4、y4）と
おき、その各孔１a1〜１a4の正確な位置の値を
（X1、Y1）〜（X4、Y4）とおく。各測定値（x1、
y1）〜（x4、y4）には誤差があり、その誤差を示
す値である誤差値を（Δx1、Δy1）〜（Δx4、
Δy4）とおく。
Δx1＝x1−X1
Δy1＝y1−Y1
となる。
以下Δx4、Δy4までは同じようにして得られる。
そこで、測定値が４つの点１a1〜１a4によつて
囲まれたエリア３０１内にある点２０１につい
て、その時の測定値が（ｘ、ｙ）である時、一次
近似によつて補正を行うと、点２０１のより高精
度な値である補正測定値（Ｘ、Ｙ）は Ａ＝Δx1（x2−ｘ）＋Δx2（ｘ−x1）／x2−x1 Ｂ＝Δx3（x4−ｘ）＋Δx4（ｘ−x3）／x4−x3 Ｃ＝Δy1（y1−ｙ）＋Δy3（ｙ−y3）／y3−y1 Ｄ＝Δy2（ｙ−y4）＋Δy4（y2−ｙ）／y2−y4 として Ｘ＝Ａ×（ｙ−y3）＋Ｂ×（y4−ｙ）／y1−y3 Ｙ＝Ｃ×（ｘ−x1）＋Ｄ×（x2−ｘ）／x2−x1 となる。
囲まれたエリア３０１内にある点２０１につい
て、その時の測定値が（ｘ、ｙ）である時、一次
近似によつて補正を行うと、点２０１のより高精
度な値である補正測定値（Ｘ、Ｙ）は Ａ＝Δx1（x2−ｘ）＋Δx2（ｘ−x1）／x2−x1 Ｂ＝Δx3（x4−ｘ）＋Δx4（ｘ−x3）／x4−x3 Ｃ＝Δy1（y1−ｙ）＋Δy3（ｙ−y3）／y3−y1 Ｄ＝Δy2（ｙ−y4）＋Δy4（y2−ｙ）／y2−y4 として Ｘ＝Ａ×（ｙ−y3）＋Ｂ×（y4−ｙ）／y1−y3 Ｙ＝Ｃ×（ｘ−x1）＋Ｄ×（x2−ｘ）／x2−x1 となる。
次に第１図、第２図を参照しながら動作につい
て説明する。まずPCボード３２の測定を行うに
先立つて、Ｘ−Ｙテーブル１１に校正板１７を載
せ、各孔１の位置を測定して演算装置１５に読み
込み（Ｘ軸リニアスケール１２およびＹ軸リニア
スケール１３の出力値を読み込み）、その作業と
並行してキーボード５１から校正板１７の各孔１
の基準位置との位置関係を示す正確な値を入力し
記憶させることによつて、誤差値の演算を行わせ
る。次にPCボード３２を載せて測定を行う。そ
の時得られた測定値から、PCボード３２の測定
点の位置が校正板１７上の４つの孔１ａによつて
区切られた四角のエリア３０１内にあれば、演算
装置１５は点１ａのそれぞれに対応する誤差値に
基づいて補正測定値を演算し、演算結果を出力す
る。また測定点の位置がエリア３０３内であれば
点１ｂの各値に基づく同様の演算を行う。
て説明する。まずPCボード３２の測定を行うに
先立つて、Ｘ−Ｙテーブル１１に校正板１７を載
せ、各孔１の位置を測定して演算装置１５に読み
込み（Ｘ軸リニアスケール１２およびＹ軸リニア
スケール１３の出力値を読み込み）、その作業と
並行してキーボード５１から校正板１７の各孔１
の基準位置との位置関係を示す正確な値を入力し
記憶させることによつて、誤差値の演算を行わせ
る。次にPCボード３２を載せて測定を行う。そ
の時得られた測定値から、PCボード３２の測定
点の位置が校正板１７上の４つの孔１ａによつて
区切られた四角のエリア３０１内にあれば、演算
装置１５は点１ａのそれぞれに対応する誤差値に
基づいて補正測定値を演算し、演算結果を出力す
る。また測定点の位置がエリア３０３内であれば
点１ｂの各値に基づく同様の演算を行う。
より測定の精度を高めるには上記の演算の他に
２次以上の高次の曲線によつて近似を行う演算も
可能であるが、実施例では各孔１の互いの間隔を
短くするという方法を採用している。またこの補
正法による精度はＸ−Ｙテーブル１１の有するく
り返し精度とほぼ等しい精度まで測定の精度を上
げることが可能である。
２次以上の高次の曲線によつて近似を行う演算も
可能であるが、実施例では各孔１の互いの間隔を
短くするという方法を採用している。またこの補
正法による精度はＸ−Ｙテーブル１１の有するく
り返し精度とほぼ等しい精度まで測定の精度を上
げることが可能である。
校正板１７の孔の位置は枡目状に限定されず、
ランダムに孔を配置し、測定点の近傍の４点の孔
を選び、これらの孔に対応する誤差値に基づいて
補正の演算を行わせるようにすることが可能であ
り、マーカは校正板１７にあけられた孔に限定さ
れずその他の形状、例えば校正板１７の表面に描
かれた十字線等にすることが可能である。
ランダムに孔を配置し、測定点の近傍の４点の孔
を選び、これらの孔に対応する誤差値に基づいて
補正の演算を行わせるようにすることが可能であ
り、マーカは校正板１７にあけられた孔に限定さ
れずその他の形状、例えば校正板１７の表面に描
かれた十字線等にすることが可能である。
また本考案は被測定物のＸ線の透過像によつて
Ｘ−Ｙテーブルの位置決めを行い、その寸法を測
定するＸ線非破壊検査装置等に適用することが可
能であり、その場合には照準装置としてはＸ線テ
レビカメラ等を使用する。
Ｘ−Ｙテーブルの位置決めを行い、その寸法を測
定するＸ線非破壊検査装置等に適用することが可
能であり、その場合には照準装置としてはＸ線テ
レビカメラ等を使用する。
考案の効果
本考案の寸法測定装置は、マーカの位置を示す
正確な値が知られている校正板を用いることによ
つて、Ｘ−Ｙテーブルの誤差を示す誤差値を得る
と共に、この誤差値に基づいて測定値の補正を行
わせる構成としているので、その測定精度はＸ−
Ｙテーブルの繰り返し精度に匹敵する精度となる
ため、高い精度の測定を行うことが可能となる。
正確な値が知られている校正板を用いることによ
つて、Ｘ−Ｙテーブルの誤差を示す誤差値を得る
と共に、この誤差値に基づいて測定値の補正を行
わせる構成としているので、その測定精度はＸ−
Ｙテーブルの繰り返し精度に匹敵する精度となる
ため、高い精度の測定を行うことが可能となる。
第１図は本考案の一実施例の概略を示す斜視
図、第２図は本考案の校正板の一実施例を示す部
分図、第３図は校正板を使つた補正の方法を説明
するための図である。 １２……Ｘ軸リニアスケール、１３……Ｙ軸リ
ニアスケール、１５……演算装置、１７……校正
板、４１……照準装置。
図、第２図は本考案の校正板の一実施例を示す部
分図、第３図は校正板を使つた補正の方法を説明
するための図である。 １２……Ｘ軸リニアスケール、１３……Ｙ軸リ
ニアスケール、１５……演算装置、１７……校正
板、４１……照準装置。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 Ｘ−Ｙテーブルと照準装置とを備えており、Ｘ
−Ｙテーブルを動作させると、当該テーブル上の
所定位置に置かれた被測定物の照準装置に対する
相対的な位置が変化する一方、Ｘ軸・Ｙ軸リニア
スケールにより測定点のＸ軸・Ｙ軸座標値Ａを求
め、当該座標値に基づいて被測定物の寸法を求め
る寸法測定装置において、 当該装置を校正するのに用いられる板材であつ
て２次元的に配列された複数のマーカを面上に形
成してある校正板と、 被測定物の寸法測定を行う場合と同様に、Ｘ−
Ｙテーブル上の所定位置に校正板を置いて複数の
マーカのＸ軸・Ｙ軸座標値Ｂを得ることを前提
に、 当該座標値に基づいて測定点のＸ軸・Ｙ軸座標
値Ａを補正する演算装置とを具備しており、 且つ演算装置は、 複数のマーカのＸ軸・Ｙ軸座標値Ｂをマーカ毎
に記録する手段と、予め用意された複数のマーカ
の正確なＸ軸・Ｙ軸座標値Ｃをマーカ毎に記録し
てある記憶部と、測定点のＸ軸・Ｙ軸座標値Ａと
複数のマーカのＸ軸・Ｙ軸座標値Ｂとを比較する
ことにより、当該測定点を取り囲むマーカＭを特
定するとともに、マーカＭのＸ軸・Ｙ軸座標値
BMを求める手段と、記録部からマーカＭの正確
なＸ軸・Ｙ軸座標値CMを読み出す手段と、マー
カＭのＸ軸・Ｙ軸座標値BMとマーカＭの正確な
Ｘ軸・Ｙ軸座標値CMとの誤差を求める手段と、
当該誤差のデータに基づいて測定点のＸ軸・Ｙ軸
座標値Ａを補正する手段とから構成されているこ
とを特徴とする寸法測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986007621U JPH0522814Y2 (ja) | 1986-01-21 | 1986-01-21 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986007621U JPH0522814Y2 (ja) | 1986-01-21 | 1986-01-21 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62119607U JPS62119607U (ja) | 1987-07-29 |
| JPH0522814Y2 true JPH0522814Y2 (ja) | 1993-06-11 |
Family
ID=30791244
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1986007621U Expired - Lifetime JPH0522814Y2 (ja) | 1986-01-21 | 1986-01-21 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0522814Y2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20210080537A (ko) * | 2018-12-21 | 2021-06-30 | 오므론 가부시키가이샤 | 리니어 스케일의 검출값의 보정 방법 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10015157A1 (de) * | 2000-03-27 | 2001-10-18 | P A L M Gmbh | Verfahren zur Bearbeitung einer biologischen Masse und Steuersystem für eine Vorrichtung zur Bearbeitung einer biologischen Masse |
| JP2015112671A (ja) * | 2013-12-11 | 2015-06-22 | 松本 清 | 加工装置 |
| JP7310541B2 (ja) | 2019-10-28 | 2023-07-19 | オムロン株式会社 | 位置測定方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5779509A (en) * | 1980-11-04 | 1982-05-18 | Mutoh Ind Ltd | Coordinate reading and plotting device |
-
1986
- 1986-01-21 JP JP1986007621U patent/JPH0522814Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20210080537A (ko) * | 2018-12-21 | 2021-06-30 | 오므론 가부시키가이샤 | 리니어 스케일의 검출값의 보정 방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62119607U (ja) | 1987-07-29 |
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