JPH07190741A - 測定誤差補正法 - Google Patents
測定誤差補正法Info
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- JPH07190741A JPH07190741A JP33301793A JP33301793A JPH07190741A JP H07190741 A JPH07190741 A JP H07190741A JP 33301793 A JP33301793 A JP 33301793A JP 33301793 A JP33301793 A JP 33301793A JP H07190741 A JPH07190741 A JP H07190741A
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- Japan
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- stage
- measured
- axis
- measuring
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Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、ステージとリニアエンコーダを組み
合わせた簡単な構成で測定精度を大幅に改善することが
可能な測定誤差補正法を提供することを目的とする。 【構成】本発明は、撮像用光学系１、ステージ６，８，
１０および制御用パソコンを含んで構成される光学的測
定法において、該撮像用光学系１を搭載したステージ
６，８，１０の移動で生じる該撮像用光学系１で捕らえ
た像に対し、該ステージ６，８，１０の位置とその位置
における像の関係を予め測定し、この関係により測定に
おける誤差を制御用パソコンで除去することを特徴とす
る。
合わせた簡単な構成で測定精度を大幅に改善することが
可能な測定誤差補正法を提供することを目的とする。 【構成】本発明は、撮像用光学系１、ステージ６，８，
１０および制御用パソコンを含んで構成される光学的測
定法において、該撮像用光学系１を搭載したステージ
６，８，１０の移動で生じる該撮像用光学系１で捕らえ
た像に対し、該ステージ６，８，１０の位置とその位置
における像の関係を予め測定し、この関係により測定に
おける誤差を制御用パソコンで除去することを特徴とす
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は画像処理とステージを組
み合わせた光学的測定法において、簡易な装置構成によ
り高精度測定を可能にするための測定誤差補正法に関す
るものである。
み合わせた光学的測定法において、簡易な装置構成によ
り高精度測定を可能にするための測定誤差補正法に関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、高精度で広い範囲を対象とする測
定装置では、被測定物の像情報等を得る測定手段（例え
ば撮像用光学系と画像処理を行う光学的方法）と被測定
物又は測定手段を移動するための高精度ステージの組合
せは必須で、さらに測定を自動化するためにパソコン等
を用いた構成となっている。このような装置の高精度測
定では、レーザ干渉計やリニアエンコーダでステージの
移動方向における移動量を高精度で測定する方法が採用
されていたが、ステージの移動に伴う姿勢の変化に依存
した測定誤差の影響については、その補正が行われてい
なかった。
定装置では、被測定物の像情報等を得る測定手段（例え
ば撮像用光学系と画像処理を行う光学的方法）と被測定
物又は測定手段を移動するための高精度ステージの組合
せは必須で、さらに測定を自動化するためにパソコン等
を用いた構成となっている。このような装置の高精度測
定では、レーザ干渉計やリニアエンコーダでステージの
移動方向における移動量を高精度で測定する方法が採用
されていたが、ステージの移動に伴う姿勢の変化に依存
した測定誤差の影響については、その補正が行われてい
なかった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ステージの移動で生じ
るステージ姿勢の変化による測定誤差への影響を図２に
示す。ここで、ステージ２の姿勢ベクトルをＰ、撮像用
光学系１の光軸姿勢ベクトルをＳとし、移動前と移動後
に対応する各ベクトルにはそれぞれ添字（A ）（B ）を
つけて表示した。
るステージ姿勢の変化による測定誤差への影響を図２に
示す。ここで、ステージ２の姿勢ベクトルをＰ、撮像用
光学系１の光軸姿勢ベクトルをＳとし、移動前と移動後
に対応する各ベクトルにはそれぞれ添字（A ）（B ）を
つけて表示した。
【０００４】撮像用光学系１を搭載したステージ２は、
被測定物３のマークＭA が撮像用光学系１の光軸ＳA と
一致するように位置Ａで静止していて、ステージ２の姿
勢ベクトルＰA はＹ軸と平行とする。次に、二つのマー
クＭA とＭB に対して、ＭAとＭB の間隔と同じ距離だ
け平行にステージ２が移動して位置Ｂで静止したとき、
姿勢ベクトルＰB は姿勢ベクトルＰA に対して角度θ傾
いているので、光軸ベクトルＳB はマークＭB と一致し
ない。この原因はステージ構成部品の加工精度や組立精
度の影響、荷重重心に対する駆動力の作用位置のずれ、
摺動部での摩擦力の不均一性、等の機械的要因に基づく
ステージ移動の非直線性によるものである。
被測定物３のマークＭA が撮像用光学系１の光軸ＳA と
一致するように位置Ａで静止していて、ステージ２の姿
勢ベクトルＰA はＹ軸と平行とする。次に、二つのマー
クＭA とＭB に対して、ＭAとＭB の間隔と同じ距離だ
け平行にステージ２が移動して位置Ｂで静止したとき、
姿勢ベクトルＰB は姿勢ベクトルＰA に対して角度θ傾
いているので、光軸ベクトルＳB はマークＭB と一致し
ない。この原因はステージ構成部品の加工精度や組立精
度の影響、荷重重心に対する駆動力の作用位置のずれ、
摺動部での摩擦力の不均一性、等の機械的要因に基づく
ステージ移動の非直線性によるものである。
【０００５】このときの姿勢変化による測定誤差をベク
トルで表したものを図３に示す。いま、移動前の姿勢ベ
クトルＰA はＹ軸と、光軸ベクトルＳA はＺ軸とそれぞ
れ一致しており、ステージ２の移動後の姿勢ベクトルＰ
B はベクトルＰA に対して角度θ傾き、この結果として
光軸ベクトルＳB もベクトルＳA に対して同じ角度傾斜
したとすると、マークＭB は、姿勢ベクトルＰB と光軸
ベクトルＳB との合成で決まる位置に存在するように見
える。すなわち、マークＭB の測定誤差は座標原点Ｏと
合成ベクトルの先端を結ぶ誤差ベクトルＲに等しく、こ
のときのＸ，Ｙ，Ｚ方向のずれ量は次式で与えられる。
トルで表したものを図３に示す。いま、移動前の姿勢ベ
クトルＰA はＹ軸と、光軸ベクトルＳA はＺ軸とそれぞ
れ一致しており、ステージ２の移動後の姿勢ベクトルＰ
B はベクトルＰA に対して角度θ傾き、この結果として
光軸ベクトルＳB もベクトルＳA に対して同じ角度傾斜
したとすると、マークＭB は、姿勢ベクトルＰB と光軸
ベクトルＳB との合成で決まる位置に存在するように見
える。すなわち、マークＭB の測定誤差は座標原点Ｏと
合成ベクトルの先端を結ぶ誤差ベクトルＲに等しく、こ
のときのＸ，Ｙ，Ｚ方向のずれ量は次式で与えられる。
【０００６】 ＲX ＝Ｒ cosβ sinα …（１） ＲY ＝Ｒ cosβ …（２） ＲZ ＝Ｒ cosβ cosα …（３） ここで、角度βは誤差ベクトルＲとＸＺ面の交差角を、
角度αは誤差ベクトルＲのＸＺ面への写像ベクトルＲ′
と光軸ベクトルＳA の交差角である。
角度αは誤差ベクトルＲのＸＺ面への写像ベクトルＲ′
と光軸ベクトルＳA の交差角である。
【０００７】一方、撮像用光学系を固定して被測定物を
移動させても、ステージの移動に伴う被測定物の姿勢変
化は起きる。撮像用光学系の移動と被測定物を移動させ
たときの相違は、ステージの回転中心（図２のＰ点）か
ら被測定対象までの距離（前述の誤差ベクトルＲの長さ
に対応する）が異なり、それは前者の方が後者よりも長
くなることである。測定誤差の観点からは被測定物を移
動させる方が有利であるが、反面、被測定物を移動する
ことが好ましくない場合もあるので、一概にどちらが良
いとは言えない。いずれにしても、ステージの移動に伴
う姿勢変化の影響による測定誤差は避けられない。
移動させても、ステージの移動に伴う被測定物の姿勢変
化は起きる。撮像用光学系の移動と被測定物を移動させ
たときの相違は、ステージの回転中心（図２のＰ点）か
ら被測定対象までの距離（前述の誤差ベクトルＲの長さ
に対応する）が異なり、それは前者の方が後者よりも長
くなることである。測定誤差の観点からは被測定物を移
動させる方が有利であるが、反面、被測定物を移動する
ことが好ましくない場合もあるので、一概にどちらが良
いとは言えない。いずれにしても、ステージの移動に伴
う姿勢変化の影響による測定誤差は避けられない。
【０００８】本発明は上記の事情に鑑みてなされたもの
で、リニアエンコーダとステージを組み合わせた従来の
簡易構成のまま、新たに高精度の基準スケールを用いて
ステージの停止位置とその位置に対応したステージの姿
勢変化を読み取ってその値をパソコンに記憶しておき、
実際の測定ではこの値を使って測定誤差を補正する測定
誤差補正法を提供することを目的とする。
で、リニアエンコーダとステージを組み合わせた従来の
簡易構成のまま、新たに高精度の基準スケールを用いて
ステージの停止位置とその位置に対応したステージの姿
勢変化を読み取ってその値をパソコンに記憶しておき、
実際の測定ではこの値を使って測定誤差を補正する測定
誤差補正法を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、撮像用光学系、ステージおよび制御用パソ
コンを含んで構成される光学的測定法において、該撮像
用光学系もしくは被測定物を搭載したステージの移動で
生じる該撮像用光学系で捕らえた像もしくは被測定物の
姿勢誤差に対し、該ステージの位置とその位置における
像もしくは被測定物の姿勢誤差の関係を予め測定し、こ
の関係により測定における誤差を制御用パソコンで除去
することを特徴とする。
に本発明は、撮像用光学系、ステージおよび制御用パソ
コンを含んで構成される光学的測定法において、該撮像
用光学系もしくは被測定物を搭載したステージの移動で
生じる該撮像用光学系で捕らえた像もしくは被測定物の
姿勢誤差に対し、該ステージの位置とその位置における
像もしくは被測定物の姿勢誤差の関係を予め測定し、こ
の関係により測定における誤差を制御用パソコンで除去
することを特徴とする。
【００１０】
【作用】上記手段により本発明は、マークＭB の測定誤
差は、Ｒと角度α，βの値が明らかになれば（１）〜
（３）式から計算で求められるが、これらの値を実測で
求めることは困難である。そこで、複数のマークを有す
る基準スケールを置いてこのマーク位置を測定すること
により、予め他の方法で高精度に測定された既知のマー
ク位置と本装置で測定したマーク位置を比較した両者の
差が、ステージの停止位置での姿勢による測定誤差とし
て求められる。
差は、Ｒと角度α，βの値が明らかになれば（１）〜
（３）式から計算で求められるが、これらの値を実測で
求めることは困難である。そこで、複数のマークを有す
る基準スケールを置いてこのマーク位置を測定すること
により、予め他の方法で高精度に測定された既知のマー
ク位置と本装置で測定したマーク位置を比較した両者の
差が、ステージの停止位置での姿勢による測定誤差とし
て求められる。
【００１１】この方法では、測定のために停止するステ
ージの位置とその位置におけるステージの姿勢が１対１
に対応しているので、ステージ停止位置をできるだけ小
さな間隔で測定することが重要である。
ージの位置とその位置におけるステージの姿勢が１対１
に対応しているので、ステージ停止位置をできるだけ小
さな間隔で測定することが重要である。
【００１２】
【実施例】以下図面を参照して本発明の一実施例を詳細
に説明する。
に説明する。
【００１３】図１は二次元配列の位置測定を行うための
装置構成で、４は二次元測定用基準スケール、５は互い
に直交する三つの角度を調整できるゴニオステージ、１
は撮像用光学系、６はＹ軸ステージ、７はＹ軸リニアエ
ンコーダ、８はＸ軸ステージ、９はＸ軸リニアエンコー
ダ、１０はＺ軸ステージ、１１はＺ軸リニアエンコー
ダ、である。
装置構成で、４は二次元測定用基準スケール、５は互い
に直交する三つの角度を調整できるゴニオステージ、１
は撮像用光学系、６はＹ軸ステージ、７はＹ軸リニアエ
ンコーダ、８はＸ軸ステージ、９はＸ軸リニアエンコー
ダ、１０はＺ軸ステージ、１１はＺ軸リニアエンコー
ダ、である。
【００１４】ステージの姿勢誤差補正を行うには、まず
始めに二次元測定用基準スケール３と撮像用光学系１の
ＸＹ走査面との平行調整、およびＸ軸（又はＹ軸）のＺ
軸（撮像用光学系１と平行）回りの回転角の調整を行
い、両者の相対的な姿勢誤差を補正する必要がある。
始めに二次元測定用基準スケール３と撮像用光学系１の
ＸＹ走査面との平行調整、およびＸ軸（又はＹ軸）のＺ
軸（撮像用光学系１と平行）回りの回転角の調整を行
い、両者の相対的な姿勢誤差を補正する必要がある。
【００１５】平行度の調整は、Ｘ軸ステージ８とＹ軸ス
テージ６を駆動して二次元測定用基準スケール４の四隅
に形成された四つのうち三つのマーク（ＭA ，ＭB ，Ｍ
c ：マーク間隔は３０ｍｍ）について、Ｚ方向の位置座
標を求める。もしマークが撮像用光学系１の焦点深度か
ら外れている場合には焦点深度内にマークをとらえるよ
うにＺ軸ステージを移動し、その移動量をＺ軸リニアエ
ンコーダで読み取る。この３つのマークのＺ座標から、
撮像用光学系１のＸＹ走査面に対する二次元測定用基準
スケール４の平行度の誤差とその方向を知ることができ
る。一方、Ｚ軸回りの回転角も、三つのマーク測定で３
０ｍｍのＸ方向（又はＹ方向）の移動で生じるＹ方向
（又はＸ方向）の位置ずれから求められる。
テージ６を駆動して二次元測定用基準スケール４の四隅
に形成された四つのうち三つのマーク（ＭA ，ＭB ，Ｍ
c ：マーク間隔は３０ｍｍ）について、Ｚ方向の位置座
標を求める。もしマークが撮像用光学系１の焦点深度か
ら外れている場合には焦点深度内にマークをとらえるよ
うにＺ軸ステージを移動し、その移動量をＺ軸リニアエ
ンコーダで読み取る。この３つのマークのＺ座標から、
撮像用光学系１のＸＹ走査面に対する二次元測定用基準
スケール４の平行度の誤差とその方向を知ることができ
る。一方、Ｚ軸回りの回転角も、三つのマーク測定で３
０ｍｍのＸ方向（又はＹ方向）の移動で生じるＹ方向
（又はＸ方向）の位置ずれから求められる。
【００１６】このようにして求められた平行度の誤差と
Ｚ軸回りの回転角は、ゴニオステージ５を駆動して二次
元測定用基準スケール４の姿勢を直接調整する。この測
定装置には、撮像用光学系１の焦点深度が約２０μｍ、
ステージの最大姿勢誤差は約２μｍ程度存在するので、
この調整段階で平行度が０．７ｍｒａｄ（２０／３００
００）、回転角は０．０２ｍｒａｄ（２／３００００）
の誤差を含むことになる。
Ｚ軸回りの回転角は、ゴニオステージ５を駆動して二次
元測定用基準スケール４の姿勢を直接調整する。この測
定装置には、撮像用光学系１の焦点深度が約２０μｍ、
ステージの最大姿勢誤差は約２μｍ程度存在するので、
この調整段階で平行度が０．７ｍｒａｄ（２０／３００
００）、回転角は０．０２ｍｒａｄ（２／３００００）
の誤差を含むことになる。
【００１７】次に、マークＭA からＸ（＋）方向に沿っ
てマークを測定していき、端のマークＭB に到達すると
Ｙ方向にマーク一つ移動して、今度はＸ（−）方向に再
びマーク位置を測定する。この操作を順次繰り返し、全
てのマーク位置を測定することによって、それぞれのマ
ークに対応した位置におけるステージの姿勢に依存した
測定誤差が求められる。
てマークを測定していき、端のマークＭB に到達すると
Ｙ方向にマーク一つ移動して、今度はＸ（−）方向に再
びマーク位置を測定する。この操作を順次繰り返し、全
てのマーク位置を測定することによって、それぞれのマ
ークに対応した位置におけるステージの姿勢に依存した
測定誤差が求められる。
【００１８】ここで用いた二次元測定用基準スケール
は、ＬＳＩ半導体プロセスで使われているホトマスクと
同じ方法で作製し、２５０μｍ間隔で二次元に配列され
ているマークの位置は高精度のレーザ干渉計で０．１μ
ｍの精度で測定されたものである。この基準スケールを
用いたステージの姿勢による具体的な測定誤差の求め方
は、次のようにして行う。
は、ＬＳＩ半導体プロセスで使われているホトマスクと
同じ方法で作製し、２５０μｍ間隔で二次元に配列され
ているマークの位置は高精度のレーザ干渉計で０．１μ
ｍの精度で測定されたものである。この基準スケールを
用いたステージの姿勢による具体的な測定誤差の求め方
は、次のようにして行う。
【００１９】最初のマークＭA が撮像用光学系１の中心
と一致するように位置決めして、この位置における測定
誤差のない基準点とする。次に２番目のマークＭ2 を測
定するためにステージはＸ（＋）方向に２５０μｍ移動
して、撮像用光学系１でマークＭ2 の位置座標（Ｘ2 ，
Ｙ2 ）を測定する。この位置座標（Ｘ2 ，Ｙ2 ）には、
Ｚ軸回りの回転角の調整で除去できなかった誤差０．０
２ｍｒａｄの影響が含まれているが、その量は約０．０
２μｍ（２５０μｍ×２／３００００）と小さく問題に
はならない。マークＭ2 の位置座標（Ｘ2 ，Ｙ2 ）を二
次元測定用基準スケールを予め高精度のレーザ干渉計で
測定しておいた座標（ｘ2 ，ｙ2 ）と比較し、両者の差
Δx2（＝Ｘ2 −ｘ2 ），Δy2（＝Ｙ2 −ｙ2 ）が前記
（１）〜（３）式で説明したステージの姿勢による測定
誤差Ｒx ，Ｒy と同じである。３番目以降のマークにつ
いても同様にして、それぞれの位置（Ｘn ，Ｙn ）とそ
の位置に対応した測定誤差（ΔXn，ΔYn）が求められ
る。この位置座標（Ｘn ，Ｙn）と測定誤差（ΔXn，Δ
Yn）を１セットにして、全てのマークについてこれらの
値をパソコンに記憶する。
と一致するように位置決めして、この位置における測定
誤差のない基準点とする。次に２番目のマークＭ2 を測
定するためにステージはＸ（＋）方向に２５０μｍ移動
して、撮像用光学系１でマークＭ2 の位置座標（Ｘ2 ，
Ｙ2 ）を測定する。この位置座標（Ｘ2 ，Ｙ2 ）には、
Ｚ軸回りの回転角の調整で除去できなかった誤差０．０
２ｍｒａｄの影響が含まれているが、その量は約０．０
２μｍ（２５０μｍ×２／３００００）と小さく問題に
はならない。マークＭ2 の位置座標（Ｘ2 ，Ｙ2 ）を二
次元測定用基準スケールを予め高精度のレーザ干渉計で
測定しておいた座標（ｘ2 ，ｙ2 ）と比較し、両者の差
Δx2（＝Ｘ2 −ｘ2 ），Δy2（＝Ｙ2 −ｙ2 ）が前記
（１）〜（３）式で説明したステージの姿勢による測定
誤差Ｒx ，Ｒy と同じである。３番目以降のマークにつ
いても同様にして、それぞれの位置（Ｘn ，Ｙn ）とそ
の位置に対応した測定誤差（ΔXn，ΔYn）が求められ
る。この位置座標（Ｘn ，Ｙn）と測定誤差（ΔXn，Δ
Yn）を１セットにして、全てのマークについてこれらの
値をパソコンに記憶する。
【００２０】この後は実際に測定を行い、例えばステー
ジが位置座標（Ｘj ，Ｙj ）で測定値（ｘj ，ｙj ）を
得たとすると、この位置座標に対応する測定誤差
（ΔXj，ΔYj）を測定値（ｘj ，ｙj ）に加えた補正値
（ｘj ＋ΔXj，ｙj ＋ΔYj）が、ステージの姿勢による
測定誤差を除去した測定値となる。ステージが測定のた
めに停止する位置が、予め測定したマークの位置座標と
一致しない場合、例えば実際の測定位置座標（Ｘi ，Ｙ
i ）がマークＭj ［（Ｘj ，Ｙj ）（ΔXj，ΔYj）］と
ＭK ［（Ｘk ，Ｙk ）（ΔXk，ΔYk）］の間で、マーク
Ｍj とＭk の間隔をｍ対ｎに内分する位置であるとすれ
ば、内挿法により測定位置座標（Ｘi ，Ｙi ）の測定誤
差（ΔXi，ΔYi）は次の式で与えられる。
ジが位置座標（Ｘj ，Ｙj ）で測定値（ｘj ，ｙj ）を
得たとすると、この位置座標に対応する測定誤差
（ΔXj，ΔYj）を測定値（ｘj ，ｙj ）に加えた補正値
（ｘj ＋ΔXj，ｙj ＋ΔYj）が、ステージの姿勢による
測定誤差を除去した測定値となる。ステージが測定のた
めに停止する位置が、予め測定したマークの位置座標と
一致しない場合、例えば実際の測定位置座標（Ｘi ，Ｙ
i ）がマークＭj ［（Ｘj ，Ｙj ）（ΔXj，ΔYj）］と
ＭK ［（Ｘk ，Ｙk ）（ΔXk，ΔYk）］の間で、マーク
Ｍj とＭk の間隔をｍ対ｎに内分する位置であるとすれ
ば、内挿法により測定位置座標（Ｘi ，Ｙi ）の測定誤
差（ΔXi，ΔYi）は次の式で与えられる。
【００２１】ΔXi＝｛ｍ／（ｍ＋ｎ）｝×ΔXk＋｛ｎ／
（ｍ＋ｎ）｝×ΔXj …（４）ΔYi＝｛ｍ／（ｍ＋
ｎ）｝×ΔYk＋｛ｎ／（ｍ＋ｎ）｝×ΔYj …（５）
図４は試作した測定装置の姿勢変化による測定誤差の影
響を補正した場合としない場合の二次元配列（図は一次
元表示で、Ｘ方向の移動に対するＹ成分の測定値）の測
定結果の一例である。ステージの姿勢による測定誤差の
補正を行わない場合の精度は±１μｍであるが、本補正
法では±０．３μｍの精度が得られ、測定精度の改善効
果が確認された。
（ｍ＋ｎ）｝×ΔXj …（４）ΔYi＝｛ｍ／（ｍ＋
ｎ）｝×ΔYk＋｛ｎ／（ｍ＋ｎ）｝×ΔYj …（５）
図４は試作した測定装置の姿勢変化による測定誤差の影
響を補正した場合としない場合の二次元配列（図は一次
元表示で、Ｘ方向の移動に対するＹ成分の測定値）の測
定結果の一例である。ステージの姿勢による測定誤差の
補正を行わない場合の精度は±１μｍであるが、本補正
法では±０．３μｍの精度が得られ、測定精度の改善効
果が確認された。
【００２２】
【発明の効果】以上、説明したように本発明の補正法を
用いれば、ステージとリニアエンコーダを組み合わせた
簡単な構成で測定精度を大幅に改善することが可能で、
これは装置の小型化や製作費の軽減に効果が期待でき
る。
用いれば、ステージとリニアエンコーダを組み合わせた
簡単な構成で測定精度を大幅に改善することが可能で、
これは装置の小型化や製作費の軽減に効果が期待でき
る。
【図１】本発明の一実施例に係り、二次元配列の測定で
姿勢変化による測定誤差補正法を検討するために試作し
た装置構成を示す斜視図である。
姿勢変化による測定誤差補正法を検討するために試作し
た装置構成を示す斜視図である。
【図２】従来の測定装置に係り、ステージの移動に伴う
姿勢変化による測定誤差への影響を示す斜視図である。
姿勢変化による測定誤差への影響を示す斜視図である。
【図３】従来の姿勢変化による測定誤差をベクトルで表
示した説明図である。
示した説明図である。
【図４】補正法の有無による測定結果を比較した特性図
である。
である。
１…撮像用光学系、２…ステージ、３…被測定物、４…
二次元測定用基準スケール、５…ゴニオステージ、６…
Ｙ軸ステージ、７…Ｙ軸リニアエンコーダ、８…Ｘ軸ス
テージ、９…Ｘ軸リニアエンコーダ、１０…Ｚ軸ステー
ジ、１１…Ｚ軸リニアエンコーダ。
二次元測定用基準スケール、５…ゴニオステージ、６…
Ｙ軸ステージ、７…Ｙ軸リニアエンコーダ、８…Ｘ軸ス
テージ、９…Ｘ軸リニアエンコーダ、１０…Ｚ軸ステー
ジ、１１…Ｚ軸リニアエンコーダ。
Claims (1)
- 【請求項１】 撮像用光学系、ステージおよび制御用パ
ソコンを含んで構成される光学的測定法において、該撮
像用光学系もしくは被測定物を搭載したステージの移動
で生じる該撮像用光学系で捕らえた像もしくは被測定物
の姿勢誤差に対し、該ステージの位置とその位置におけ
る像もしくは被測定物の姿勢誤差の関係を予め測定し、
この関係により測定における誤差を制御用パソコンで除
去することを特徴とする測定誤差補正法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33301793A JPH07190741A (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | 測定誤差補正法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33301793A JPH07190741A (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | 測定誤差補正法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07190741A true JPH07190741A (ja) | 1995-07-28 |
Family
ID=18261363
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33301793A Pending JPH07190741A (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | 測定誤差補正法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07190741A (ja) |
Cited By (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0899536A3 (de) * | 1997-09-01 | 1999-11-03 | Carl Zeiss | Koordinatenmessgerät oder Bearbeitungsmaschine |
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