JPH05234849A - 投影露光装置 - Google Patents
投影露光装置Info
- Publication number
- JPH05234849A JPH05234849A JP3830092A JP3830092A JPH05234849A JP H05234849 A JPH05234849 A JP H05234849A JP 3830092 A JP3830092 A JP 3830092A JP 3830092 A JP3830092 A JP 3830092A JP H05234849 A JPH05234849 A JP H05234849A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- circuit
- wafer
- motor
- wafer stage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は，半導体分野における投影露光装置
に係り，特にウェハステージの制御回路に関し，ウェハ
ステージのステッピング精度の向上を目的とする。 【構成】 ウェハステージ16の駆動制御を行うサーボド
ライブ回路１において,モーター11に駆動電圧を与える
サーボアンプ３の帰還回路４に双方向の働きをする二個
のダイオード２が付加されている制御回路を有するよう
に構成する。
に係り，特にウェハステージの制御回路に関し，ウェハ
ステージのステッピング精度の向上を目的とする。 【構成】 ウェハステージ16の駆動制御を行うサーボド
ライブ回路１において,モーター11に駆動電圧を与える
サーボアンプ３の帰還回路４に双方向の働きをする二個
のダイオード２が付加されている制御回路を有するよう
に構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は，半導体分野における投
影露光装置に係り，特にウェハステージの制御回路に関
する。
影露光装置に係り，特にウェハステージの制御回路に関
する。
【０００２】近年，電子部品の高集積，微細化にともな
い，リソグラフィ工程における露光装置の位置合わせ精
度もますます高度なものが要求され，それに相応した制
御方式の開発が必要となる。
い，リソグラフィ工程における露光装置の位置合わせ精
度もますます高度なものが要求され，それに相応した制
御方式の開発が必要となる。
【０００３】
【従来の技術】図３は従来例の説明図である。図におい
て，１はサーボドライブ回路，５は回転速度フィードバ
ック信号，６はノイズ，７はモータ駆動電圧，８は比較
指令値，９はウェハ，10はタコジェネレータ, 11はモー
タ, 12は送りねじ, 13は比較回路, 14は情報処理回路,
15は回転速度フィードバック回路, 16はウェハステー
ジ, 17は位置検出器, 18は位置検出信号フィードバック
回路, 19はＹステージ，20はＸステージ，21はＺステー
ジ，22はθテーブル，23は逆の電圧である。
て，１はサーボドライブ回路，５は回転速度フィードバ
ック信号，６はノイズ，７はモータ駆動電圧，８は比較
指令値，９はウェハ，10はタコジェネレータ, 11はモー
タ, 12は送りねじ, 13は比較回路, 14は情報処理回路,
15は回転速度フィードバック回路, 16はウェハステー
ジ, 17は位置検出器, 18は位置検出信号フィードバック
回路, 19はＹステージ，20はＸステージ，21はＺステー
ジ，22はθテーブル，23は逆の電圧である。
【０００４】従来の技術においては, 図３にシステム構
成図で示すように，投影露光装置のウエハステージ16
は, フルクローズドループ方式で制御している。即ち,
投影露光装置の情報処理回路14から出された指令値は,
比較回路13でウェハステージ16の位置を監視している位
置検出器17のフィードバック信号18と比較された後, 比
較結果がサーボドライブ回路１に入る。サーボドライブ
回路１ではウェハステージ16を駆動しているモーター11
と直結しているタコジェネレータ10から出力される回転
速度フィードバック信号15との差が増幅されて, モータ
ー11に駆動電圧として供給される。
成図で示すように，投影露光装置のウエハステージ16
は, フルクローズドループ方式で制御している。即ち,
投影露光装置の情報処理回路14から出された指令値は,
比較回路13でウェハステージ16の位置を監視している位
置検出器17のフィードバック信号18と比較された後, 比
較結果がサーボドライブ回路１に入る。サーボドライブ
回路１ではウェハステージ16を駆動しているモーター11
と直結しているタコジェネレータ10から出力される回転
速度フィードバック信号15との差が増幅されて, モータ
ー11に駆動電圧として供給される。
【０００５】このフルクローズドループ方式による制御
では, 位置検出器17の精度が高い場合, 正確にウェハス
テージ16の位置が決められる筈であるが, 投影露光装置
のウェハステージ16では, ウェハ９のアライメント機構
を必要とするため，幾つかのユニットで構成されてい
る。
では, 位置検出器17の精度が高い場合, 正確にウェハス
テージ16の位置が決められる筈であるが, 投影露光装置
のウェハステージ16では, ウェハ９のアライメント機構
を必要とするため，幾つかのユニットで構成されてい
る。
【０００６】例えば，Ｙステージ19, Ｘステージ20，Ｚ
ステージ21, θステージ22等があるが, 各ユニット間に
は必ず水平方向で何らかの剛性やバックラッシュの問題
が生じるため, 位置検出器17が直接監視している物体,
ここではＹステージ19の位置は正確に制御されるが, ウ
ェハ９の位置は必ずしもＹステージ19の位置とは一致し
ない。
ステージ21, θステージ22等があるが, 各ユニット間に
は必ず水平方向で何らかの剛性やバックラッシュの問題
が生じるため, 位置検出器17が直接監視している物体,
ここではＹステージ19の位置は正確に制御されるが, ウ
ェハ９の位置は必ずしもＹステージ19の位置とは一致し
ない。
【０００７】このような状況は，特にウェハステージ16
を駆動するモータ11に急な加減速が加わった場合に生じ
るが, その原因は, タコジェネレータ10にある。タコジ
ェネレータ10から出力される回転速度フィードバック信
号５にノイズ６が発生した場合，サーボドライブ回路１
はそれをカバーする様な逆の電圧23をモータ11に与え
る。そのため, モータ11は急な加減速でウェハステージ
16を動かす結果, Ｙステージ19と, その上の各ユニット
の相対関係がずれて, 位置検出器17が直接監視している
Ｙステージ19から見たウェハ９の位置は異なってしまう
という問題を生じていた。
を駆動するモータ11に急な加減速が加わった場合に生じ
るが, その原因は, タコジェネレータ10にある。タコジ
ェネレータ10から出力される回転速度フィードバック信
号５にノイズ６が発生した場合，サーボドライブ回路１
はそれをカバーする様な逆の電圧23をモータ11に与え
る。そのため, モータ11は急な加減速でウェハステージ
16を動かす結果, Ｙステージ19と, その上の各ユニット
の相対関係がずれて, 位置検出器17が直接監視している
Ｙステージ19から見たウェハ９の位置は異なってしまう
という問題を生じていた。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】特に，投影露光装置で
は，ウェハそのものの位置を直接，絶対的に監視するこ
とは不可能であり，位置検出器が監視する物体，ここで
はＹステージとの相対位置しか判別できない。
は，ウェハそのものの位置を直接，絶対的に監視するこ
とは不可能であり，位置検出器が監視する物体，ここで
はＹステージとの相対位置しか判別できない。
【０００９】従って，その相対位置，即ちウェハとＹス
テージの相対位置にずれが生じると，ウェハ内の目的と
する露光対象位置に正確な露光が出来なくなる。ウェハ
上のパターンにマスクパターンを精度良く重合わせなく
てはならない露光装置にとって，このような位置合わせ
のずれは最も大きな問題点である。
テージの相対位置にずれが生じると，ウェハ内の目的と
する露光対象位置に正確な露光が出来なくなる。ウェハ
上のパターンにマスクパターンを精度良く重合わせなく
てはならない露光装置にとって，このような位置合わせ
のずれは最も大きな問題点である。
【００１０】そこで本発明は，このようなモータの急加
減速に起因する問題点を解消することを目的として提供
されるものである。
減速に起因する問題点を解消することを目的として提供
されるものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】図１は本発明の原理説明
図である。図において，１はサーボドライブ回路，２は
ダイオード，３はサーボアンプ，４は帰還回路，５は回
転速度フィードバック信号，６はノイズ，７はモータ駆
動電圧，８は比較指令値，９はウェハ，10はタコジェネ
レータ, 11はモータ, 12は送りねじ, 13は比較回路, 14
は情報処理回路, 15は回転速度フィードバック回路, 16
はウェハステージ, 17は位置検出器, 18は位置検出信号
フィードバック回路である。
図である。図において，１はサーボドライブ回路，２は
ダイオード，３はサーボアンプ，４は帰還回路，５は回
転速度フィードバック信号，６はノイズ，７はモータ駆
動電圧，８は比較指令値，９はウェハ，10はタコジェネ
レータ, 11はモータ, 12は送りねじ, 13は比較回路, 14
は情報処理回路, 15は回転速度フィードバック回路, 16
はウェハステージ, 17は位置検出器, 18は位置検出信号
フィードバック回路である。
【００１２】上記の問題点を解決するために，本発明に
おいては，位置合わせの制御システムの中で，サーボド
ライブ回路１の帰還回路４の両端にダイオード２を二個
付加させることによって位置ずれの原因となるモータ11
の急な加減速をなくす手段とする。
おいては，位置合わせの制御システムの中で，サーボド
ライブ回路１の帰還回路４の両端にダイオード２を二個
付加させることによって位置ずれの原因となるモータ11
の急な加減速をなくす手段とする。
【００１３】即ち，本発明の目的は，図１（ａ）に示す
システム構成図の中で，ウェハステージ16の駆動制御を
行うサーボドライブ回路１において, 図１（ｂ）に示す
ように，モータ11に駆動電圧を与えるサーボアンプ３の
帰還回路４に双方向の働きをする二個のダイオード２が
付加されている制御回路を有することにより達成され
る。
システム構成図の中で，ウェハステージ16の駆動制御を
行うサーボドライブ回路１において, 図１（ｂ）に示す
ように，モータ11に駆動電圧を与えるサーボアンプ３の
帰還回路４に双方向の働きをする二個のダイオード２が
付加されている制御回路を有することにより達成され
る。
【００１４】
【作用】本発明では，比較回路13の帰還回路４両端に付
加されたダイオード２は，回転速度フィードバック信号
５に発生したノイズ６を，ダイオード２の持つ電圧クラ
ンプ効果でカットしてしまう。
加されたダイオード２は，回転速度フィードバック信号
５に発生したノイズ６を，ダイオード２の持つ電圧クラ
ンプ効果でカットしてしまう。
【００１５】よって，サーボドライブ回路１からはノイ
ズ６をカバーする様な位置検出器17が直接監視している
ウェハステージ16と相対関係にあるウェハ９の位置はい
つでも一致していることとなる。
ズ６をカバーする様な位置検出器17が直接監視している
ウェハステージ16と相対関係にあるウェハ９の位置はい
つでも一致していることとなる。
【００１６】
【実施例】図２は本発明の一実施例の説明図である。図
において，１はサーボドライブ回路，２はダイオード，
３はサーボアンプ，４は帰還回路，５は回転速度フィー
ドバック信号，６はノイズ，７はモータ駆動電圧，８は
比較指令値，９はウェハ，10はタコジェネレータ, 11は
モータ, 12は送りねじ, 16はウェハステージ, 17は位置
検出器, 18は位置検出信号フィードバック回路, 19はＹ
ステージ，20はＸステージ，21はＺステージ，22はθテ
ーブルである。
において，１はサーボドライブ回路，２はダイオード，
３はサーボアンプ，４は帰還回路，５は回転速度フィー
ドバック信号，６はノイズ，７はモータ駆動電圧，８は
比較指令値，９はウェハ，10はタコジェネレータ, 11は
モータ, 12は送りねじ, 16はウェハステージ, 17は位置
検出器, 18は位置検出信号フィードバック回路, 19はＹ
ステージ，20はＸステージ，21はＺステージ，22はθテ
ーブルである。
【００１７】投影露光装置のウェハステージ16をフルク
ローズドループ方式で制御している実施例である。本実
施例では, ウェハステージ16がＹステージ19, Ｘステー
ジ20, Ｚステージ21, θテーブル22の各ユニットで構成
されており, 一番下のＹステージ19を位置検出器17が監
視している。
ローズドループ方式で制御している実施例である。本実
施例では, ウェハステージ16がＹステージ19, Ｘステー
ジ20, Ｚステージ21, θテーブル22の各ユニットで構成
されており, 一番下のＹステージ19を位置検出器17が監
視している。
【００１８】この位置検出器17はレーザ干渉方式を取っ
ており, 0.01μｍの最小分解能を持っている。ウェハス
テージ16を動かしているモータ11はＤＣサーボモータを
使用している。このモータ11には, 回転速度のフィード
バック信号５を得るためのタコジェネレータ10が直結さ
れている。サーボドライブ回路１のサーボアンプ３の帰
還回路４の両端には二個のダイオード２が双方向で付加
されている。種類は発光ダイオードである。
ており, 0.01μｍの最小分解能を持っている。ウェハス
テージ16を動かしているモータ11はＤＣサーボモータを
使用している。このモータ11には, 回転速度のフィード
バック信号５を得るためのタコジェネレータ10が直結さ
れている。サーボドライブ回路１のサーボアンプ３の帰
還回路４の両端には二個のダイオード２が双方向で付加
されている。種類は発光ダイオードである。
【００１９】本実施例では，タコジェネレータ10の回転
速度フィードバック信号５にノイズ６が発生しても，サ
ーボアンプ３の帰還回路４の両端に付加したダイオード
２でカットし，モータ11にノイズ６をカバーする様な逆
電圧を与えない回路になっている。
速度フィードバック信号５にノイズ６が発生しても，サ
ーボアンプ３の帰還回路４の両端に付加したダイオード
２でカットし，モータ11にノイズ６をカバーする様な逆
電圧を与えない回路になっている。
【００２０】従って，Ｙステージ19とウェハ９の相対関
係はいつでも一致している。よって，従来の回路方式に
比べ，ウェハ９とウェハステージ16との相対関係におい
て信頼正が高くなる。
係はいつでも一致している。よって，従来の回路方式に
比べ，ウェハ９とウェハステージ16との相対関係におい
て信頼正が高くなる。
【００２１】
【発明の効果】以上説明したように，本発明によれば，
サーボアンプ３の帰還回路４の両端に双方向で二個のダ
イオードを付加してあり，モータノイズをカバーするた
めの逆電圧が与えられず，ウェハステージとウェハの相
対関係がいつでも一致しており，露光装置の位置合わせ
精度の向上に寄与するところが大きい。
サーボアンプ３の帰還回路４の両端に双方向で二個のダ
イオードを付加してあり，モータノイズをカバーするた
めの逆電圧が与えられず，ウェハステージとウェハの相
対関係がいつでも一致しており，露光装置の位置合わせ
精度の向上に寄与するところが大きい。
【図１】 本発明の原理説明図
【図２】 本発明の一実施例の説明図
【図３】 従来例の説明図
１ サーボドライブ回路 ２ ダイオード ３ サーボアンプ ４ 帰還回路 ５ 回転速度フィードバック信号 ６ ノイズ ７ モーター駆動電圧 ８ 比較指令値 ９ ウェハ 10 タコジェネレータ 11 モータ 12 送りねじ 13 比較回路 14 情報処理回路 15 回転速度フィードバック回路 16 ウェハステージ 17 位置検出器 18 位置検出信号フィードバック回路 19 Ｙステージ 20 Ｘステージ 21 Ｚステージ 22 θテーブル
Claims (1)
- 【請求項１】 ウェハステージ(16)の駆動制御を行うサ
ーボドライブ回路(1) において, モータ(11)に駆動電圧
を与えるサーボアンプ(3) の帰還回路(4)に双方向の働
きをする二個のダイオード(2) が付加されている制御回
路を有することを特徴とする投影露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3830092A JPH05234849A (ja) | 1992-02-26 | 1992-02-26 | 投影露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3830092A JPH05234849A (ja) | 1992-02-26 | 1992-02-26 | 投影露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05234849A true JPH05234849A (ja) | 1993-09-10 |
Family
ID=12521460
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3830092A Pending JPH05234849A (ja) | 1992-02-26 | 1992-02-26 | 投影露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05234849A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5814534A (ja) * | 1981-07-17 | 1983-01-27 | Hitachi Ltd | 試料移動制御装置 |
| JPS58103888A (ja) * | 1981-12-12 | 1983-06-21 | Akai Electric Co Ltd | ２相ブラシレスモータの駆動回路 |
-
1992
- 1992-02-26 JP JP3830092A patent/JPH05234849A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5814534A (ja) * | 1981-07-17 | 1983-01-27 | Hitachi Ltd | 試料移動制御装置 |
| JPS58103888A (ja) * | 1981-12-12 | 1983-06-21 | Akai Electric Co Ltd | ２相ブラシレスモータの駆動回路 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19971209 |